KR100854983B1 - 1,1-디클로로에탄의 정제방법 및 그 방법을 사용한1,1-디플루오로에탄의 제조방법 - Google Patents
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- 안정제로서 니트로 메탄, 니트로 에탄, 니트로 크레졸, 니트로 톨루엔, 니트로 페놀, 페놀, 크레졸, 2,6-디-부틸-p-크레졸 및 아미노메틸페놀로 이루어지는 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 함유하는 1,1-디클로로에탄을 평균 세공크기가 3.4~11Å인 제올라이트 및 평균 세공크기가 3.4~11Å인 탄소질 흡착제 중 하나 이상에 액상으로 접촉시켜 안정제를 감소시키는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 1,1-디클로로에탄의 정제방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제올라이트의 Si/Al비(원자비)가 0 초과 2 이하인 것을 특징으로 하는 1,1-디클로로에탄의 정제방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제올라이트는 분자체 4A, 분자체 5A, 분자체 10X 및 분자체 13X로 이루어지는 군에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 1,1-디클로로에탄의 정제방법.
- 제1항에 있어서, 상기 탄소질 흡착제는 분자체탄소 4A 및 분자체탄소 5A 중 하나 이상인 것을 특징으로 하는 1,1-디클로로에탄의 정제방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안정제로서 니트로 메탄, 니트로 에탄, 니트로 크레졸, 니트로 톨루엔, 니트로 페놀, 페놀, 크레졸, 2,6-디-부틸-p-크레졸 및 아미노메틸페놀로 이루어지는 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 함유하는 1,1-디클로로에탄을 상기 제올라이트 및 탄소질 흡착제 중 하나 이상에 접촉시키는 온도가 -20~+60℃ 범위 내인 것을 특징으로 하는 1,1-디클로로에탄의 정제방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 안정제로서 니트로 메탄, 니트로 에탄, 니트로 크레졸, 니트로 톨루엔, 니트로 페놀, 페놀, 크레졸, 2,6-디-부틸-p-크레졸 및 아미노메틸페놀로 이루어지는 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 함유하는 1,1-디클로로에탄을 상기 제올라이트 및 탄소질 흡착제 중 하나 이상에 접촉시키는 압력이 0~1MPa 범위 내인 것을 특징으로 하는 1,1-디클로로에탄의 정제방법.
- 삭제
- 하기 3단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 1,1-디플루오로에탄의 제조방법:(1) 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 정제방법을 사용하여 1,1-디클로로에탄 내에 안정제로서 포함된 니트로 메탄, 니트로 에탄, 니트로 크레졸, 니트로 톨루엔, 니트로 페놀, 페놀, 크레졸, 2,6-디-부틸-p-크레졸 및 아미노메틸페놀로 이루어지는 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 감소시키는 단계;(2) (1)단계 후에 니트로 메탄, 니트로 에탄, 니트로 크레졸, 니트로 톨루엔, 니트로 페놀, 페놀, 크레졸, 2,6-디-부틸-p-크레졸 및 아미노메틸페놀로 이루어지는 군에서 선택된 1종 이상의 화합물의 양이 감소된 1,1-디클로로에탄을 불소화 촉매의 존재하에 불화수소와 기상으로 반응시켜 1,1-디플루오로에탄을 주로 함유하는 가스 혼합물을 얻는 단계; 및(3) (2)단계에서 얻은 1,1-디플루오로에탄을 주로 함유하는 가스 혼합물을 분리하고, 미반응물의 적어도 일부를 (2)단계로 재순환시키는 단계.
- 제8항에 있어서, 상기 (2)단계는 (1)단계에서 얻은 니트로 메탄, 니트로 에탄, 니트로 크레졸, 니트로 톨루엔, 니트로 페놀, 페놀, 크레졸, 2,6-디-부틸-p-크레졸 및 아미노메틸페놀로 이루어지는 군에서 선택된 1종 이상의 화합물의 총함유량이 30질량ppm 이하로 감소된 1,1-디클로로에탄을 사용해서 행하는 것을 특징으로 하는 1,1-디플루오로에탄의 제조방법.
- 제8항에 있어서, 상기 (2)단계는 (1)단계에서 얻은 니트로 메탄, 니트로 에탄, 니트로 크레졸, 니트로 톨루엔, 니트로 페놀, 페놀, 크레졸, 2,6-디-부틸-p-크레졸 및 아미노메틸페놀로 이루어지는 군에서 선택된 1종 이상의 화합물의 총함유량이 10질량ppm 이하로 감소된 1,1-디클로로에탄을 사용해서 행하는 것을 특징으로 하는 1,1-디플루오로에탄의 제조방법.
- 삭제
- 제8항에 있어서, 상기 (2)단계에서 사용되는 불소화 촉매는 Cu, Mg, Zn. Pb, Cr, Al, In, Bi, Co 및 Ni로 이루어지는 군에서 선택된 1종 이상의 원소를 함유하고, 접촉온도는 100~350℃인 것을 특징으로 하는 1,1-디플루오로에탄의 제조방법.
- 제8항에 있어서, 상기 (3)단계에서 (2)단계로 재순환되는 미반응물은 1-클로로-1-플루오로에탄, 1,1-디클로로에탄 및 불화수소로 이루어지는 군에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 1,1-디플루오로에탄의 제조방법.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004129917 | 2004-04-26 | ||
JPJP-P-2004-00129917 | 2004-04-26 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20070002022A KR20070002022A (ko) | 2007-01-04 |
KR100854983B1 true KR100854983B1 (ko) | 2008-08-28 |
Family
ID=37869146
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020067019583A KR100854983B1 (ko) | 2004-04-26 | 2005-04-13 | 1,1-디클로로에탄의 정제방법 및 그 방법을 사용한1,1-디플루오로에탄의 제조방법 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20070197843A1 (ko) |
KR (1) | KR100854983B1 (ko) |
CN (1) | CN1946658B (ko) |
TW (1) | TW200540141A (ko) |
WO (1) | WO2005102970A1 (ko) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7795480B2 (en) * | 2007-07-25 | 2010-09-14 | Honeywell International Inc. | Method for producing 2-chloro-3,3,3,-trifluoropropene (HCFC-1233xf) |
CN102417435A (zh) * | 2011-12-26 | 2012-04-18 | 天津市康科德科技有限公司 | 一种色谱级有机溶剂1,2-二氯乙烷的纯化方法 |
US20150259267A1 (en) | 2014-03-14 | 2015-09-17 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | PROCESS FOR THE REDUCTION OF RfC=CX IMPURITIES IN FLUOROOLEFINS |
US10995047B2 (en) | 2013-03-15 | 2021-05-04 | The Chemours Company Fc, Llc | Process for the reduction of RƒC≡CX impurities in fluoroolefins |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06228021A (ja) * | 1993-01-29 | 1994-08-16 | Central Glass Co Ltd | 1,1−ジフルオロエタンの製造法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4192823A (en) * | 1978-03-06 | 1980-03-11 | Ppg Industries, Inc. | Vapor phase chlorination of 1,1-dichloroethane |
FR2492813A1 (fr) * | 1980-10-23 | 1982-04-30 | Solvay | Compositions stabilisees de solvants chlores |
DE3609426C2 (de) * | 1986-03-20 | 1997-04-24 | Kali Chemie Ag | Lösungsmittelgemische |
FR2676066B1 (fr) * | 1991-05-02 | 1993-07-23 | Atochem | Composition a base de 1,1-dichloro-1-fluoroethane, de 1,1,1,3,3-pentafluorobutane et de methanol, pour le nettoyage et/ou le sechage de surfaces solides. |
JPH0570381A (ja) * | 1991-09-11 | 1993-03-23 | Central Glass Co Ltd | 1,1−ジクロロ−1−フルオロエタンの精製方法 |
US6274782B1 (en) * | 1997-04-16 | 2001-08-14 | Showa Denko K.K. | Method for purifying hexafluoroethane |
US6967260B2 (en) * | 2000-04-28 | 2005-11-22 | Showa Denko K.K. | Method for purification of tetrafluoromethane and use thereof |
CN1315765C (zh) * | 2001-07-06 | 2007-05-16 | 昭和电工株式会社 | 纯化四氯乙烯的方法和生产氢氟烃的方法 |
US6544319B1 (en) * | 2002-01-16 | 2003-04-08 | Air Products And Chemicals, Inc. | Purification of hexafluoro-1,3-butadiene |
WO2004005226A1 (en) * | 2002-07-02 | 2004-01-15 | Showa Denko K. K. | Process for purifying pentafluoroethane, process for producing the same, and use thereof |
CN1195578C (zh) * | 2003-05-15 | 2005-04-06 | 大连理工大学 | 沸石分子筛膜用于二氯乙烷和氮气混合物的分离方法 |
JP4484572B2 (ja) * | 2003-08-21 | 2010-06-16 | 昭和電工株式会社 | ヘキサフルオロエタンの製造方法およびその用途 |
US7696392B2 (en) * | 2003-11-10 | 2010-04-13 | Showa Denko K.K. | Purification method of 1,1-difluoroethane |
-
2005
- 2005-04-13 KR KR1020067019583A patent/KR100854983B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2005-04-13 CN CN2005800130786A patent/CN1946658B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2005-04-13 US US10/593,289 patent/US20070197843A1/en not_active Abandoned
- 2005-04-13 WO PCT/JP2005/007492 patent/WO2005102970A1/en active Application Filing
- 2005-04-18 TW TW094112294A patent/TW200540141A/zh unknown
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06228021A (ja) * | 1993-01-29 | 1994-08-16 | Central Glass Co Ltd | 1,1−ジフルオロエタンの製造法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200540141A (en) | 2005-12-16 |
US20070197843A1 (en) | 2007-08-23 |
CN1946658B (zh) | 2010-06-23 |
CN1946658A (zh) | 2007-04-11 |
KR20070002022A (ko) | 2007-01-04 |
WO2005102970A1 (en) | 2005-11-03 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A201 | Request for examination | ||
PA0105 | International application |
Patent event date: 20060922 Patent event code: PA01051R01D Comment text: International Patent Application |
|
PA0201 | Request for examination | ||
PG1501 | Laying open of application | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20070622 Patent event code: PE09021S01D |
|
E90F | Notification of reason for final refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
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E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20080529 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
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PR1002 | Payment of registration fee |
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