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KR100850170B1 - 착색층 형성용 감방사선성 조성물, 컬러 필터 및 컬러 액정표시 패널 - Google Patents

착색층 형성용 감방사선성 조성물, 컬러 필터 및 컬러 액정표시 패널 Download PDF

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KR100850170B1
KR100850170B1 KR1020050066584A KR20050066584A KR100850170B1 KR 100850170 B1 KR100850170 B1 KR 100850170B1 KR 1020050066584 A KR1020050066584 A KR 1020050066584A KR 20050066584 A KR20050066584 A KR 20050066584A KR 100850170 B1 KR100850170 B1 KR 100850170B1
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KR
South Korea
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acid
pigment
meth
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colored layer
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다까요시 고야마
다까히로 이이지마
도미오 나가쯔까
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제이에스알 가부시끼가이샤
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Abstract

본 발명은 착색제, 알칼리 가용성 수지, 다관능성 단량체 및 0-아실옥심형 광라디칼 발생제를 함유하는 착색층 형성용 감방사선성 조성물에 관한 것이다. 이 조성물은 현상시에 미용해물이 잔존하거나 패턴 엣지에 이물을 발생시키지 않으며, 저노광량에서도 패턴 엣지의 깨짐 및 언더 컷트가 발생하지 않는 화소 및 블랙 매트릭스를 제공하기 때문에, 컬러 필터의 착색층을 형성하는 데 사용된다.
착색층, 감방사선성 조성물, 컬러 필터, 컬러 액정 표시 패널

Description

착색층 형성용 감방사선성 조성물, 컬러 필터 및 컬러 액정 표시 패널{Radiation Sensitive Composition for Forming a Colored Layer, Color Filter and Color Liquid Crystal Display Panel}
[문헌 1] 일본 특허 공개 (평)2-144502호 공보
[문헌 2] 일본 특허 공개 (평)3-53201호 공보
[문헌 3] 일본 특허 공개 (평)8-259876호 공보
본 발명은 착색층 형성용 감방사선성 조성물, 컬러 필터 및 컬러 액정 표시 패널에 관한 것이다. 보다 자세하게는, 투과형 또는 반사형의 컬러 액정 표시 장치, 컬러 촬상관 소자 등에 사용되는 컬러 필터의 제조에 유용한 착색층, 예를 들면 화소 및(또는) 블랙 매트릭스의 형성에 사용되는 감방사선성 조성물, 이 감방사선성 조성물로 형성된 착색층을 구비한 컬러 필터, 및 이 컬러 필터를 구비한 컬러 액정 표시 패널에 관한 것이다.
종래, 착색 감방사선성 조성물을 사용하여 컬러 필터를 제조하는 데에 있어서는, 기판 상 또는 미리 소정 패턴의 차광층을 형성한 기판 상에 착색 감방사선성 조성물을 도포하여 건조한 후, 건조 도막을 소정의 패턴 형상으로 방사선을 조사(이하, "노광"이라고 함)하여 현상함으로써, 각 색의 화소를 얻는 방법이 알려져 있다(일본 특허 공개 (평)2-144502호 공보 및 일본 특허 공개 (평)3-53201호 공보 참조).
또한, 최근 컬러 필터의 기술 분야에서는 노광량을 낮춤으로써 택트 타임(tact time)을 단축시키는 움직임이 주류가 되고 있지만, 종래의 착색 감방사선성 조성물에서는 현상시에 패턴 엣지의 깨짐이나 언더 컷트를 일으키기 쉽기 때문에, 택트 타임을 단축시키면서 양호한 패턴 형상의 화소 및 블랙 매트릭스를 얻는 것이 곤란하였다.
본 발명의 목적은 우수한 현상성을 나타내는 착색층 형성용 감방사선성 조성물, 보다 구체적으로는 현상시에 미용해물이 잔존하거나 패턴 엣지에 이물을 발생시키지 않으며, 저노광량에서도 패턴 엣지의 깨짐이나 언더 컷트가 발생하지 않는 화소 및 블랙 매트릭스를 제공할 수 있는 신규한 착색층 형성용 감방사선성 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 상기 조성물로부터 형성된 착색층을 구비한 컬러 필터 및 이를 구비한 컬러 액정 표시 패널을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적 및 이점은 이하의 설명에서 밝혀질 것이다.
첫째, 본 발명에 따르면 본 발명의 상기 목적 및 이점은 (A) 착색제, (B) 알 칼리 가용성 수지, (C) 다관능성 단량체 및 (D) 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 광라디칼 발생제를 함유하는 것을 특징으로 하는 착색층 형성용 감방사선성 조성물에 의해 달성된다.
Figure 112005039864380-pat00001
여기서, R1 및 R2 중 하나는 수소 원자, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 8의 시클로알킬기, 페닐기(이 페닐기는 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 탄소수 1 내지 6의 알콕시기, 페닐기 및 할로겐 원자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개 이상의 치환기로 치환될 수도 있음), 탄소수 7 내지 20의 지환족기(상기 시클로알킬기를 제외함), 탄소수 4 내지 20의 산소 함유 복소환기, 탄소수 4 내지 20의 질소 함유 복소환기 또는 탄소수 4 내지 20의 황 함유 복소환기이고, 또한 R1 및 R2 중 다른 하나는 탄소수 13 내지 20의 알킬기, 탄소수 7 내지 20의 지환족기(상기 시클로알킬기를 제외함), 탄소수 4 내지 20의 산소 함유 복소환기, 탄소수 4 내지 20의 질소 함유 복소환기 또는 탄소수 4 내지 20의 황 함유 복소환기이며, R3은 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 12의 직쇄상, 분지상 또는 환상 알킬기를 나타내고, R4, R5 및 R6은 서로 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 직쇄상, 분지상 또는 환상 알킬기를 나타낸다.
둘째, 본 발명에 따르면 본 발명의 상기 목적 및 이점은 본 발명의 상기 착색층 형성용 감방사선성 조성물로부터 형성된 착색층을 구비하는 것을 특징으로 하는 컬러 필터에 의해 달성된다.
마지막으로, 본 발명에 따르면 본 발명의 상기 목적 및 이점은 본 발명의 상기 컬러 필터를 구비하여 이루어지는 컬러 액정 표시 패널에 의해 달성된다.
<발명의 바람직한 실시 형태>
이하, 본 발명에 대해 상세하게 설명한다.
착색층 형성용 감방사선성 조성물
-(A) 착색제-
본 발명의 착색제는 색조가 특별히 한정되는 것은 아니고, 얻어지는 컬러 필터의 용도에 따라 적절하게 선정되며, 안료, 염료 또는 천연 색소 중 어떤 것일 수도 있다.
컬러 필터에는 고정밀한 발색과 내열성이 요구된다는 점에서, 본 발명의 착색제로서는 발색성이 높고, 또한 내열성이 높은 착색제, 특히 내열 분해성이 높은 착색제가 바람직하고, 통상 안료가 사용되며, 특히 바람직하게는 유기 안료, 카본 블랙이 사용된다.
상기 유기 안료로서는, 예를 들면 컬러 인덱스(C.I.; The Society of Dyers and Colourists사 발행)에 있어서 피그먼트(Pigment)로 분류되어 있는 화합물, 구체적으로는 하기와 같은 컬러 인덱스(C.I.) 번호가 부여된 것을 들 수 있다.
C.I.피그먼트 옐로우 1, C.I.피그먼트 옐로우 3, C.I.피그먼트 옐로우 12, C.I.피그먼트 옐로우 13, C.I.피그먼트 옐로우 14, C.I.피그먼트 옐로우 15, C.I.피그먼트 옐로우 16, C.I.피그먼트 옐로우 17, C.I.피그먼트 옐로우 20, C.I.피그먼트 옐로우 24, C.I.피그먼트 옐로우 31, C.I.피그먼트 옐로우 55, C.I.피그먼트옐로우 60, C.I.피그먼트 옐로우 61, C.I.피그먼트 옐로우 65, C.I.피그먼트 옐로우 71, C.I.피그먼트 옐로우 73, C.I.피그먼트 옐로우 74, C.I.피그먼트 옐로우 81, C.I.피그먼트 옐로우 83, C.I.피그먼트 옐로우 93, C.I.피그먼트 옐로우 95, C.I.피그먼트 옐로우 97, C.I.피그먼트 옐로우 98, C.I.피그먼트 옐로우 100, C.I.피그먼트 옐로우 101, C.I.피그먼트 옐로우 1O4, C.I.피그먼트 옐로우 106, C.I.피그먼트 옐로우 108, C.I.피그먼트 옐로우 109, C.I.피그먼트 옐로우 110, C.I.피그먼트 옐로우 113, C.I.피그먼트 옐로우 114, C.I.피그먼트 옐로우 116, C.I.피그먼트 옐로우 117, C.I.피그먼트 옐로우 119, C.I.피그먼트옐로우 120, C.I.피그먼트 옐로우 126, C.I.피그먼트 옐로우 127, C.I.피그먼트 옐로우 128, C.I.피그먼트 옐로우 129, C.I.피그먼트 옐로우 138, C.I.피그먼트 옐로우 139, C.I.피그먼트 옐로우 150, C.I.피그먼트 옐로우 151, C.I.피그먼트 옐로우 152, C.I.피그먼트 옐로우 153, C.I.피그먼트 옐로우 154, C.I.피그먼트 옐로우 155, C.I.피그먼트 옐로우 156, C.I.피그먼트 옐로우 166, C.I.피그먼트 옐로우 168, C.I.피그먼트 옐로우 175, C.I.피그먼트 옐로우 180, C.I.피그먼트 옐로우 185;
C.I.피그먼트 오렌지 1, C.I.피그먼트 오렌지 5, C.I.피그먼트 오렌지 13, C.I.피그먼트 오렌지 14, C.I.피그먼트 오렌지 16, C.I.피그먼트 오렌지 17, C.I.피그먼트 오렌지 24, C.I.피그먼트 오렌지 34, C.I.피그먼트오렌지 36, C.I.피그먼트 오렌지 38, C.I.피그먼트 오렌지 40, C.I.피그먼트 오렌지 43, C.I.피그먼트 오렌지 46, C.I.피그먼트 오렌지 49, C.I.피그먼트 오렌지 51, C.I.피그먼트 오렌지 61, C.I.피그먼트 오렌지 63, C.I.피그먼트 오렌지 64, C.I.피그먼트 오렌지 71, C.I.피그먼트 오렌지 73;
C.I.피그먼트 바이올렛 1, C.I.피그먼트 바이올렛 19, C.I.피그먼트 바이올렛 23, C.I.피그먼트 바이올렛 29, C.I.피그먼트 바이올렛 32, C.I.피그먼트 바이올렛 36, C.I.피그먼트 바이올렛 38;
C.I.피그먼트 레드 1, C.I.피그먼트 레드 2, C.I.피그먼트 레드 3, C.I.피그먼트 레드 4, C.I.피그먼트 레드 5, C.I.피그먼트 레드 6, C.I.피그먼트 레드 7, C.I.피그먼트 레드 8, C.I.피그먼트 레드 9, C.I.피그먼트 레드 10, C.I.피그먼트 레드 11, C.I.피그먼트 레드 12, C.I.피그멘트 레드 14, C.I.피그먼트 레드 15, C.I.피그먼트 레드 16, C.I.피그먼트 레드 17, C.I.피그먼트 레드 18, C.I.피그먼트 레드 19, C.I.피그먼트 레드 21, C.I.피그먼트 레드 22, C.I.피그먼트 레드 23, C.I.피그먼트 레드 30, C.I.피그먼트 레드 31, C.I.피그먼트 레드 32, C.I.피그먼트 레드 37, C.I.피그먼트 레드 38, C.I.피그먼트 레드 40, C.I.피그먼트 레드 41, C.I.피그먼트 레드 42, C.I.피그먼트 레드 48:1, C.I.피그먼트 레드 48:2, C.I.피그먼트 레드 48:3, C.I.피그먼트 레드 48:4, C.I.피그먼트 레드 49:1, C.I.피그먼 트 레드 49:2, C.I.피그먼트 레드 50:1, C.I.피그먼트 레드 52:1, C.I.피그먼트 레드 53:1, C.I.피그먼트 레드 57, C.I.피그먼트 레드 57:1, C.I.피그먼트 레드 57:2, C.I.피그먼트 레드 58:2, C.I.피그먼트 레드 58:4, C.I.피그먼트 레드 60:1, C.I.피그먼트 레드 63:1, C.I.피그먼트 레드 63:2, C.I.피그먼트 레드 64:1, C.I.피그먼트 레드 81:1, C.I.피그먼트 레드 83, C.I.피그먼트 레드 88, C.I.피그먼트 레드 90:1, C.I.피그먼트 레드 97,
C.I.피그먼트 레드 101, C.I.피그먼트 레드 102, C.I.피그먼트 레드 104, C.I.피그먼트 레드 105, C.I.피그먼트 레드 106, C.I.피그먼트 레드 108, C.I.피그먼트 레드 112, C.I.피그먼트 레드 113, C.I.피그먼트 레드 114, C.I.피그먼트 레드 122, C.I.피그먼트 레드 123, C.I.피그먼트 레드 144, C.I.피그먼트 레드 146, C.I.피그먼트 레드 149, C.I.피그먼트 레드 150, C.I.피그먼트 레드 151, C.I.피그먼트 레드 166, C.I.피그먼트 레드 168, C.I.피그먼트 레드 170, C.I.피그먼트 레드 171, C.I.피그먼트 레드 172, C.I.피그먼트 레드 174, C.I.피그먼트 레드 175, C.I.피그먼트 레드 176, C.I.피그먼트 레드 177, C.I.피그먼트 레드 178, C.I.피그먼트 레드 179, C.I.피그먼트 레드 180, C.I.피그먼트 레드 185, C.I.피그먼트 레드 187, C.I.피그먼트 레드 188, C.I.피그먼트 레드 190, C.I.피그먼트 레드 193, C.I.피그먼트 레드 194, C.I.피그먼트 레드 202, C.I.피그먼트 레드 206, C.I.피그먼트 레드 207, C.I.피그먼트 레드 208, C.I.피그먼트 레드 209, C.I.피그먼트 레드 215, C.I.피그먼트 레드 216, C.I.피그먼트 레드 220, C.I.피그먼트 레드 224, C.I.피그먼트 레드 226, C.I.피그먼트 레드 242, C.I.피그먼트 레드 243, C.I.피그 먼트 레드 245, C.I.피그먼트 레드 254, C.I.피그먼트 레드 255, C.I.피그먼트 레드 264, C.I.피그먼트 레드 265;
C.I.피그먼트 블루 15, C.I.피그먼트 블루 15:3, C.I.피그먼트 블루 15:4, C.I.피그먼트 블루 15:6, C.I.피그먼트 블루 60;
C.I.피그먼트 그린 7, C.I.피그먼트 그린 36,
C.I.피그먼트 브라운 23, C.I.피그먼트 브라운 25;
C.I.피그먼트 블랙 1, C.I.피그먼트 블랙 7.
이들 유기 안료는, 예를 들면 황산 재결정법, 용매 세정법이나 이들 조합 등에 의해 정제하여 사용할 수 있다.
또한, 무기 안료로서는, 예를 들면 산화티탄, 황산 바륨, 탄산 칼슘, 아연화, 황산납, 황색납, 아연황, 철단(적색 산화철 (III)), 카드뮴 적(赤), 군청, 감청, 산화크롬 녹(綠), 코발트 녹(綠), 호박, 티탄 블랙, 합성 철흑, 카본 블랙 등을 들 수 있다.
블랙 매트릭스의 형성에 사용되는 카본 블랙으로서는, 예를 들면 SAF, SAF-HS, ISAF, ISAF-LS, ISAF-HS, HAF, HAF-LS, HAF-HS, NAF, FEF, FEF-HS, SRF, SRF-LM, SRF-LS, GPF, ECF, N-339, N-351 등과 같은 퍼니스 블랙; FT, MT 등과 같은 서멀 블랙; 아세틸렌 블랙 등을 들 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 유기 안료 및 무기 안료는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있고, 또한 유기 안료와 무기 안료를 병용할 수 있다. 화소를 형성할 때에는 1종 이상의 유기 안료가 사용되는 것이 바람직하고, 블랙 매 트릭스를 형성할 때에는 2종 이상의 유기 안료 및(또는) 카본 블랙을 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명에서의 상기 각 안료는 목적에 따라 그 입자 표면을 중합체로 개질하여 사용할 수 있다. 안료의 입자 표면을 개질하는 중합체로서는, 예를 들면 일본 특허 공개 (평)8-259876호 공보 등에 기재된 중합체나, 시판되는 각종 안료 분산용의 중합체 또는 올리고머 등을 들 수 있다.
또한, 본 발명에서의 착색제는 목적에 따라 분산제와 함께 사용할 수 있다.
상기 분산제로서는, 예를 들면 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양쪽성, 실리콘계, 불소계 등과 같은 계면활성제를 들 수 있다.
상기 계면활성제로서는, 예를 들면 폴리옥시에틸렌라우릴에테르, 폴리옥시에틸렌스테아릴에테르, 폴리옥시에틸렌올레일에테르와 같은 폴리옥시에틸렌알킬에테르; 폴리옥시에틸렌 n-옥틸페닐에테르, 폴리옥시에틸렌 n-노닐페닐에테르와 같은 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르; 폴리에틸렌글리콜디라우레이트, 폴리에틸렌글리콜디스테아레이트와 같은 폴리에틸렌글리콜디에스테르; 소르비탄 지방산 에스테르; 지방산 변성 폴리에스테르; 3급 아민 변성 폴리우레탄; 폴리에틸렌이민류 등 외, 이하 상품명으로 KP(신에츠 가가꾸 고교(주) 제조), 폴리플로우(교에이샤 가가꾸(주) 제조), 에프톱(토켐 프로덕츠사 제조), 메가팩(다이닛본 잉크 가가꾸 고교(주) 제조), 플로우라이드(스미또모 쓰리엠(주) 제조), 아사히가드, 서프론(이상, 아사히 가라스(주) 제조), 디스퍼비크(Disperbyk)-101, -103, -107, -110, -111, -115, -130, -160, -161, -162, -163, -164, -165, -166, -170, -180, -182, -2000, -2001(이상, 빅케미ㆍ재팬(주) 제조), 솔스파스S5000, -S12000, -S13240, -S13940, -S17000, -S20000, -S22000, -S24000, -S24000GR, -S26000, -S27000, -S28000(이상, 아베시아(주) 제조), EFKA46, -47, -48, -745, -4540, -4550, -6750, EFKA LP4008, -4009, -4010, -4015, -4050, -4055, -4560, -4800, EFKA 폴리머400, -401, -402, -403, -450, -451, -453(이상, 에프카 케미칼즈(주) 제조) 등을 들 수 있다.
이들 계면활성제는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
계면활성제의 사용량은 착색제 100 중량부에 대해 바람직하게는 50 중량부 이하, 보다 바람직하게는 0 내지 30 중량부이다.
-(B) 알칼리 가용성 수지-
본 발명에서의 알칼리 가용성 수지로는 (A) 착색제에 대해 결합제로서 작용하고, 또한 컬러 필터를 제조할 때 그 현상 처리 공정에서 사용되는 현상액, 바람직하게는 알칼리 현상액에 대해 가용성을 갖는 것이면 특별히 한정되는 것은 아니다. 그 중에서도 카르복실기를 갖는 알칼리 가용성 수지가 바람직하고, 특히 1개 이상의 카르복실기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체(이하, "카르복실기 함유 불포화 단량체"라고 함)와 다른 공중합 가능한 에틸렌성 불포화 단량체(이하, "공중합성 불포화 단량체"라고 함)와의 공중합체(이하, "카르복실기 함유 공중합체"라고 함)가 바람직하다.
카르복실기 함유 불포화 단량체로서는, 예를 들면
(메트)아크릴산, 크로톤산, α-클로로아크릴산, 신남산과 같은 불포화 모노 카르복실산;
말레산, 말레산 무수물, 푸마르산, 이타콘산, 이타콘산 무수물, 시트라콘산, 시트라콘산 무수물, 메사콘산과 같은 불포화 디카르복실산 또는 그의 무수물;
3가 이상의 불포화 다가 카르복실산 또는 그의 무수물;
숙신산모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸], 프탈산모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]과 같은 2가 이상의 다가 카르복실산의 모노[(메트)아크릴로일옥시알킬]에스테르;
ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메트)아크릴레이트와 같은 양쪽 말단에 카르복시기와 수산기를 갖는 중합체의 모노(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
이들 카르복실기 함유 불포화 단량체 중, 숙신산모노(2-아크릴로일옥시에틸) 및 프탈산모노(2-아크릴로일옥시에틸)은 각각 M-5300 및 M-5400(도아 고세이(주)제조)의 상품명으로 시판되고 있다.
상기 카르복실기 함유 불포화 단량체는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
또한, 공중합성 불포화 단량체로서는 예를 들면
스티렌, α-메틸스티렌, o-비닐톨루엔, m-비닐톨루엔, p-비닐톨루엔, p-클로로스티렌, o-메톡시스티렌, m-메톡시스티렌, p-메톡시스티렌, o-비닐벤질메틸에테르, m-비닐벤질메틸에테르, p-비닐벤질메틸에테르, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르와 같은 방향족 비닐 화합물;
인덴, 1-메틸인덴과 같은 인덴;
메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, n-프로필(메트)아크릴레이트, i-프로필(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, i-부틸(메트)아크릴레이트, sec-부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 3-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 3-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 알릴(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 페닐(메트)아크릴레이트, 2-메톡시에틸(메트)아크릴레이트, 2-페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 메톡시프로필렌글리콜(메트)아크릴레이트, 메톡시디프로필렌글리콜(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타디에닐(메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메트)아크릴레이트, 글리세롤모노(메트)아크릴레이트와 같은 불포화 카르복실산에스테르;
2-아미노에틸(메트)아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 2-아미노프로필(메트)아크릴레이트, 2-디메틸아미노프로필(메트)아크릴레이트, 3-아미노프로필(메트)아크릴레이트, 3-디메틸아미노프로필(메트)아크릴레이트와 같은 불포화 카르복실산아미노알킬에스테르;
글리시딜(메트)아크릴레이트와 같은 불포화 카르복실산글리시딜에스테르;
(메트)아크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴, 시안화비닐리덴과 같은 시안화비닐 화합물;
(메트)아크릴아미드, α-클로로아크릴아미드, N-2-히드록시에틸(메트)아크릴아미드와 같은 불포화 아미드;
말레이미드, N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드와 같은 불포화 이미드;
아세트산비닐, 프로피온산비닐, 부티르산비닐, 벤조산비닐과 같은 카르복실산비닐에스테르;
비닐메틸에테르, 비닐에틸에테르, 알릴글리시딜에테르와 같은 불포화 에테르;
1,3-부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌과 같은 지방족 공액 디엔;
폴리스티렌, 폴리메틸(메트)아크릴레이트, 폴리-n-부틸(메트)아크릴레이트, 폴리실록산과 같은 중합체 분자쇄의 말단에 모노(메트)아크릴로일기를 갖는 거대 단량체 등을 들 수 있다.
이들 공중합성 불포화 단량체는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
본 발명의 카르복실기 함유 공중합체로서는 (메트)아크릴산을 필수 성분으로 하고, 경우에 따라 숙신산모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸] 및 ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메트)아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물을 더 함유하는 카르복실기 함유 불포화 단량체 성분과, 스티렌, 메틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 알릴(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 글리세롤모노(메트)아크릴레이트, N-페닐말레이미드, 폴리스티렌 거대 단량체 및 폴리메틸메타크릴레이트 거대 단량체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상과의 공중합체(이하, "카르복실기 함유 공중합체 (B1)"이라고 함)가 바람직하다.
카르복실기 함유 공중합체 (B1)의 구체적인 예로서는,
(메트)아크릴산/메틸(메트)아크릴레이트 공중합체,
(메트)아크릴산/벤질(메트)아크릴레이트 공중합체,
(메트)아크릴산/2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트 공중합체,
(메트)아크릴산/메틸(메트)아크릴레이트/폴리스티렌 거대 단량체 공중합체,
(메트)아크릴산/메틸(메트)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 거대 단량체 공중합체,
(메트)아크릴산/벤질(메트)아크릴레이트/폴리스티렌 거대 단량체 공중합체,
(메트)아크릴산/벤질(메트)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 거대 단량체 공중합체,
(메트)아크릴산/2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트/폴리스티렌 거대 단량체 공중합체,
(메트)아크릴산/2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 거대 단량체 공중합체,
메타크릴산/스티렌/벤질(메트)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체,
(메트)아크릴산/숙신산모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]/스티렌/벤질(메트) 아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체,
(메트)아크릴산/숙신산모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]/스티렌/알릴(메트)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체,
(메트)아크릴산/스티렌/벤질(메트)아크릴레이트/글리세롤모노(메트)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체,
(메트)아크릴산/ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메트)아크릴레이트/스티렌/벤질(메트)아크릴레이트/글리세롤모노(메트)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체 등을 들 수 있다.
카르복실기 함유 공중합체에 있어서의 카르복실기 함유 불포화 단량체의 공중합 비율은 5 내지 50 중량%가 바람직하고, 10 내지 40 중량%가 보다 바람직하다. 이 경우, 상기 공중합 비율이 5 중량% 미만이면 얻어지는 감방사선성 조성물의 알칼리 현상액에 대한 용해성이 저하되는 경향이 있고, 한편 50 중량%를 초과하면 알칼리 현상액에 대한 용해성이 너무 커지고, 알칼리 현상액으로 현상할 때, 착색층의 기판으로부터의 탈락이나 착색층 표면의 막 거칠어짐을 초래하기 쉬워지는 경향이 있다.
본 발명에서의 알칼리 가용성 수지의 겔 투과 크로마토그래피(GPC, 용출 용매: 테트라히드로푸란)로 측정한 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량(이하, "Mw"라고 함)은 3,000 내지 300,000이 바람직하고, 5,000 내지 100,000이 보다 바람직하다.
또한, 본 발명에서의 알칼리 가용성 수지의 겔 투과 크로마토그래피(GPC, 용 출 용매: 테트라히드로푸란)로 측정한 폴리스티렌 환산 수평균 분자량(이하, "Mn"이라고 함)은 3,000 내지 60,000이 바람직하고, 5,000 내지 25,000이 보다 바람직하다.
본 발명에서는 이러한 특정한 Mw 및 Mn을 갖는 알칼리 가용성 수지를 사용함으로써, 현상성이 우수한 감방사선성 조성물이 얻어지고, 그에 따라 뚜렷한 패턴 엣지를 갖는 화소 및 블랙 매트릭스를 형성할 수 있음과 동시에, 현상시에 미노광부의 기판 상 및 차광층 상에 잔사, 바탕 오염, 막 잔여물 등이 발생하기 어렵다.
또한, 본 발명에서의 알칼리 가용성 수지의 Mw와 Mn의 비 (Mw/Mn)는 1 내지 5가 바람직하고, 1 내지 4가 특히 바람직하다.
본 발명에 있어서, 알칼리 가용성 수지는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
본 발명에서의 알칼리 가용성 수지의 사용량은 (A) 착색제 100 중량부에 대해 바람직하게는 10 내지 1,000 중량부, 보다 바람직하게는 20 내지 500 중량부이다. 이 경우, 알칼리 가용성 수지의 사용량이 10 중량부 미만이면, 예를 들면 알칼리 현상성이 저하되거나, 미노광부의 기판 상 또는 차광층 상에 바탕 오염이나 막 잔여물이 발생할 우려가 있고, 한편 1,O00 중량부를 초과하면 상대적으로 착색제 농도가 저하되기 때문에, 박막으로서 목적하는 농도를 달성하는 것이 곤란해질 우려가 있다.
-(C) 다관능성 단량체-
본 발명의 다관능성 단량체는 2개 이상의 중합성 불포화 결합을 갖는 단량체 를 포함한다.
다관능성 단량체로서는, 예를 들면
에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜과 같은 알킬렌글리콜의 디(메트)아크릴레이트;
폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜과 같은 폴리알킬렌글리콜의 디(메트)아크릴레이트;
글리세린, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨과 같은 3가 이상의 다가 알코올의 폴리(메트)아크릴레이트나 이들의 디카르복실산 변성물;
폴리에스테르, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 알키드 수지, 실리콘 수지, 스피란 수지 등과 같은 올리고(메트)아크릴레이트;
양쪽 말단 히드록시폴리-1,3-부타디엔, 양쪽 말단 히드록시폴리이소프렌, 양쪽 말단 히드록시폴리카프로락톤 등과 같은 양쪽 말단 히드록실화 중합체의 디(메트)아크릴레이트나,
트리스[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]포스페이트 등을 들 수 있다.
이들 다관능성 단량체 중, 3가 이상의 다가 알코올의 폴리(메트)아크릴레이트나 이들의 디카르복실산 변성물, 구체적으로는 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리메타크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리메타크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사메타 크릴레이트,
하기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되는 화합물 등이 바람직하다. 특히, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트 및 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트가, 착색층의 강도가 높고, 착색층의 표면 평활성이 우수하고, 또한 미노광부의 기판 상 및 차광층 상에 바탕 오염, 막 잔여물 등을 생성하기 어렵다는 점에서 바람직하다.
Figure 112005039864380-pat00002
Figure 112005039864380-pat00003
상기 다관능성 단량체는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
본 발명의 다관능성 단량체의 사용량은 (B) 알칼리 가용성 수지 100 중량부에 대해 바람직하게는 5 내지 500 중량부, 보다 바람직하게는 20 내지 300 중량부이다. 이 경우, 다관능성 단량체의 사용량이 5 중량부 미만이면, 착색층의 강도나 표면 평활성이 저하되는 경향이 있고, 한편 500 중량부를 초과하면, 예를 들면 알 칼리 현상성이 저하되거나 미노광부의 기판 상 또는 차광층 상에 바탕 오염, 막 잔여물 등이 발생하기 쉬운 경향이 있다.
또한, 본 발명에서는 다관능성 단량체와 함께 중합성 불포화 결합을 1개 갖는 단관능성 단량체를 병용할 수 있다.
상기 단관능성 단량체로서는, 예를 들면 상기 (B) 알칼리 가용성 수지에 대해 예시한 상기 카르복실기 함유 불포화 단량체나 공중합성 불포화 단량체와 동일한 화합물 이외에, N-(메트)아크릴로일모르폴린, N-비닐피롤리돈, N-비닐-ε-카프로락탐 이외에, 시판품으로서 M-5600(상품명, 도아 고세이(주) 제조) 등을 들 수 있다.
이들 단관능성 단량체는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 단관능성 단량체의 사용 비율은 다관능성 단량체와 단관능성 단량체의 합계에 대해 바람직하게는 90 중량% 이하, 보다 바람직하게는 50 중량% 이하이다. 이 경우, 단관능성 단량체의 사용 비율이 90 중량%를 초과하면 얻어지는 착색층의 강도나 표면 평활성이 불충분해질 우려가 있다.
본 발명의 다관능성 단량체와 단관능성 단량체와의 합계 사용량은 (B) 알칼리 가용성 수지 100 중량부에 대해 바람직하게는 5 내지 500 중량부, 보다 바람직하게는 20 내지 300 중량부이다. 이 경우, 상기 합계 사용량이 5 중량부 미만이면 착색층의 강도나 표면 평활성이 저하되는 경향이 있고, 한편 500 중량부를 초과하면, 예를 들면 알칼리 현상성이 저하하되나, 미노광부의 기판 상 또는 차광층 상에 바탕 오염이나 막 잔여물 등이 발생되기 쉬울 우려가 있다.
-(D) 광라디칼 발생제-
본 발명의 (D) 성분은 O-아실옥심형 광라디칼 발생제, 특히 상기 화학식 1로 표시되는 화합물(이하, "광라디칼 발생제 (D1)"이라고 함)을 필수 성분으로 하고, 가시광선, 자외선, 원자외선, 하전 입자선, X선 등과 같은 방사선에 의한 노광에 의해, (C) 다관능성 단량체 및 경우에 따라 사용되는 단관능성 단량체의 중합을 개시할 수 있는 라디칼을 발생하는 성분을 포함한다.
화학식 1에 있어서, R1 및 R2 중 하나는 수소 원자, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 8의 시클로알킬기, 페닐기(이 페닐기는 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 탄소수 1 내지 6의 알콕시기, 페닐기 및 할로겐 원자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 치환기로 치환될 수도 있음), 탄소수 7 내지 20의 지환족기(상기 시클로알킬기를 제외함), 탄소수 4 내지 20의 산소 함유 복소환기, 탄소수 4 내지 20의 질소 함유 복소환기, 또는 탄소수 4 내지 20의 황 함유 복소환기이고, 또한 R1 및 R2 중 다른 하나는 탄소수 13 내지 20의 알킬기, 탄소수 7 내지 20의 지환족기(상기 시클로알킬기를 제외함), 탄소수 4 내지 20의 산소 함유 복소환기, 탄소수 4 내지 20의 질소 함유 복소환기 또는 탄소수 4 내지 20의 황 함유 복소환기이며, R3은 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 12의 직쇄상, 분지상 또는 환상 알킬기를 나타내고, R4, R5 및 R6은 서로 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 직쇄상, 분지상 또는 환상 알킬기를 나타낸다.
탄소수 7 내지 20의 지환족기(상기 시클로알킬기를 제외함)로서는, 예를 들면 비시클로알킬기, 트리시클로알킬기, 스피로알킬기, ter-시클로알킬기, 테르펜 골격 함유기, 아다만틸 골격 함유기 등을 들 수 있다.
탄소수 4 내지 20의 질소 함유 복소환기, 탄소수 4 내지 20의 산소 함유 복소환기, 탄소수 4 내지 20의 황 함유 복소환기로서는, 예를 들면 티오라닐, 아제피닐, 디히드로아제피닐, 디옥소라닐, 트리아지닐, 옥사티아닐, 티아졸릴, 옥사디아졸릴, 디옥사인다닐, 디히아나프탈레닐, 푸라닐, 티오페닐, 피롤릴, 옥사졸릴, 이소옥사졸릴, 티아졸릴, 이소티아졸릴, 피라졸릴, 푸라지닐, 피라닐, 피리디닐, 피리다지닐, 피리미딜, 피라지닐, 피롤리닐, 모르포닐, 피페라지닐, 퀴누클리디닐, 인돌릴, 이소인돌릴, 벤조푸라닐, 벤조티오페닐, 인돌리디닐, 크로메닐, 퀴놀리닐, 이소퀴놀리닐, 푸리닐, 퀴나졸리닐, 신놀리닐, 프탈라지닐, 프테리디닐, 카르바졸릴, 아크리디닐, 페난트리디닐, 티옥산테닐, 페나디닐, 페노시아디닐, 페녹사티이닐, 페녹사디닐, 티안트레닐 등을 들 수 있다.
화학식 1에 있어서, R3의 탄소수 1 내지 12의 직쇄상, 분지상 또는 환상 알킬기로서는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, n-노닐기, n-데실기, n-운데실기, n-도데실기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등을 들 수 있다.
또한, R4, R5 및 R6의 탄소수 1 내지 6의 직쇄상, 분지상 또는 환상 알킬기로서는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등을 들 수 있다.
이들 화합물 (D)의 구체적인 예로서는,
1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-비시클로헵틸메탄-1-온옥심-O-벤조에이트,
1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-비시클로헵틸-1-온옥심-O-아세테이트,
1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-아다만틸메탄-1-온옥심-O-벤조에이트,
1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-아다만틸메탄-1-온옥심-O-아세테이트,
1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-테트라히드로푸라닐메탄-1-온옥심-O-벤조에이트,
1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-테트라히드로푸라닐메탄-1-온옥심-O-아세테이트,
1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-티오페닐메탄-1-온옥심-O-벤조에이트,
1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-티오페닐메탄-1-온옥심-O-아세테이트,
1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-모르포닐메탄-1-온옥심-O-벤조에이트,
1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-모르포닐메탄-1-온옥심-O-아세테이트,
1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-비시클로헵탄카르복실레이트,
1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-트리시클로데칸카르복실레이트,
1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-아다만탄카르복실레이트 등을 들 수 있다.
이들 (D) 광라디칼 발생제는 동시에 2종 이상을 사용할 수도 있다.
(D) 광라디칼 발생제로서 상기 화학식 1 이외에 O-아실옥심형 광라디칼 발생제(이하, "광라디칼 발생제 (D2)"라고 함)도 병용할 수 있다.
이들 광라디칼 발생제 (D2)의 구체적인 예로서는 1,2-옥타디온-1-[4-(페닐티오)페닐]-2-(O-벤조일옥심), 1,2-부탄디온-1-[4-(페닐티오)페닐]-2-(O-벤조일옥심), 1,2-부탄디온-1-[4-(페닐티오)페닐]-2-(O-아세틸옥심), 1,2-옥타디온-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-(O-벤조일옥심), 1,2-옥타디온-1-[4-(페닐티오)페닐]-2-(O-(4-메틸벤조일옥심)) 등을 들 수 있다. 이들 중에서, 특히 1,2-옥타디온-1-[4-(페닐티오)페닐]-2-(O-벤조일옥심)이 바람직하다.
또한, 본 발명에서는 O-아실옥심형 광라디칼 발생제와 함께 다른 광라디칼 발생제를 병용할 수도 있다.
상기 다른 광라디칼 발생제로서는, 예를 들면 하기 화학식 4a, 4b 또는 4c로 표시되는 주요 골격을 1종 이상 갖는 비이미다졸계 화합물, 벤조인계 화합물, 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, α-디케톤계 화합물, 다핵 퀴논계 화합물, 크산톤계 화합물, 포스핀계 화합물, 트리아진계 화합물 등을 들 수 있다.
Figure 112005039864380-pat00004
Figure 112005039864380-pat00005
Figure 112005039864380-pat00006
상기 비이미다졸계 화합물로서는, 예를 들면
2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2'-비이미다졸,
2,2'-비스(2-브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2'-비이미다졸,
2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸,
2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸,
2,2'-비스(2,4,6-트리클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸,
2,2'-비스(2-브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸,
2,2'-비스(2,4-디브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸,
2,2'-비스(2,4,6-트리브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 등을 들 수 있다.
이들 비이미다졸계 화합물 중, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 및 2,2'-비스(2,4,6-트리클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸이 바람직하고, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸이 특히 바람직하다.
상기 비이미다졸계 화합물은 용매에 대한 용해성이 우수하고, 미용해물, 석출물 등과 같은 이물을 발생시키는 일이 없고, 게다가 감도가 높으며, 적은 에너지량의 노광으로 경화 반응을 충분히 진행시킴과 동시에, 콘트라스트가 높고, 미노광부에서 경화 반응을 발생시키는 일이 없기 때문에, 노광 후의 도막은 현상액에 대해 불용성인 경화 부분과, 현상액에 대해 높은 용해성을 갖는 미경화 부분으로 명확하게 구분되고, 이에 따라 언더 컷트가 없는 화소 패턴 및 블랙 매트릭스 패턴이 소정의 서열에 따라 배치된 고정밀한 패턴 어레이를 형성할 수 있다.
-수소 공여체-
또한, 본 발명에서는 광라디칼 발생제로서 비이미다졸계 화합물을 병용하는 경우, 하기하는 수소 공여체를 병용하는 것이 감도를 더 개량할 수 있다는 점에서 바람직하다.
여기서 말하는 "수소 공여체"란, 노광으로 인해 비이미다졸계 화합물로부터 발생한 라디칼에 대해 수소 원자를 공여할 수 있는 화합물을 의미한다.
이러한 수소 공여체로서는 하기에서 정의하는 머캅탄계 화합물, 아민계 화합물 등이 바람직하다.
상기 머캅탄계 화합물은 벤젠환 또는 복소환을 모핵으로 하고, 상기 모핵에 직접 결합된 머캅토기를 1개 이상, 바람직하게는 1 내지 3개, 더욱 바람직하게는 1 내지 2개 갖는 화합물(이하, "머캅탄계 수소 공여체"라고 함)을 포함한다.
또한, 상기 아민계 화합물은 벤젠환 또는 복소환을 모핵으로 하고, 상기 모핵에 직접 결합된 아미노기를 1개 이상, 바람직하게는 1 내지 3개, 더욱 바람직하게는 1 내지 2개 갖는 화합물(이하, "아민계 수소 공여체"라고 함)을 포함한다.
또한, 이들 수소 공여체는 머캅토기와 아미노기를 동시에 가질 수도 있다.
이하, 수소 공여체에 대해 보다 구체적으로 설명한다.
머캅탄계 수소 공여체는 벤젠환 또는 복소환을 각각 1개 이상 가질 수 있고, 또한 벤젠환과 복소환 모두를 가질 수도 있다. 이들 환을 2개 이상 갖는 경우, 축합환을 형성하거나 형성하지 않을 수도 있다.
또한, 머캅탄계 수소 공여체는 머캅토기를 2개 이상 갖는 경우, 1개 이상의 유리(遊離) 머캅토기가 잔존하는 한, 나머지 머캅토기의 1개 이상이 알킬, 아랄킬 또는 아릴기로 치환되어 있을 수도 있고, 또한 1개 이상의 유리 머캅토기가 잔존하는 한, 2개의 황 원자가 알킬렌기 등의 2가의 유기기를 개재하여 결합한 구조 단위, 또는 2개의 황 원자가 디술피드의 형태로 결합한 구조 단위를 가질 수 있다.
또한, 머캅탄계 수소 공여체는 머캅토기 이외의 부분에서 카르복실기, 치환 또는 비치환의 알콕시카르보닐기, 치환 또는 비치환의 페녹시카르보닐기, 니트릴기 등에 의해 치환될 수도 있다.
이러한 머캅탄계 수소 공여체의 구체적인 예로서는 2-머캅토벤조티아졸, 2-머캅토벤조옥사졸, 2-머캅토벤조이미다졸, 2,5-디머캅토-1,3,4-티아디아졸, 2-머캅토-2,5-디메틸아미노피리딘 등을 들 수 있다.
이들 머캅탄계 수소 공여체 중, 2-머캅토벤조티아졸, 2-머캅토벤조옥사졸이 바람직하고, 2-머캅토벤조티아졸이 특히 바람직하다.
이어서, 아민계 수소 공여체는 벤젠환 또는 복소환을 각각 1개 이상 가질 수 있고, 또한 벤젠환과 복소환 모두를 가질 수도 있으며, 이들 환을 2개 이상 갖는 경우, 축합환을 형성하거나 형성하지 않을 수도 있다.
또한, 아민계 수소 공여체는 아미노기 1개 이상이 알킬기 또는 치환 알킬기로 치환될 수도 있고, 또한 아미노기 이외의 부분에서 카르복실기, 치환 또는 비치환의 알콕시카르보닐기, 치환 또는 비치환의 페녹시카르보닐기, 니트릴기 등에 의해 치환될 수도 있다.
이러한 아민계 수소 공여체의 구체적인 예로서는 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4-디에틸아미노아세토페논, 4-디메틸아 미노프로피오페논, 4-디메틸아미노벤조산염에틸, 4-디메틸아미노벤조산i-아밀, 4-디메틸아미노벤조산, 4-디메틸아미노벤조니트릴 등을 들 수 있다.
이들 아민계 수소 공여체 중, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이 바람직하고, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이 특히 바람직하다. 또한, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논이나 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논은 비이미다졸계 화합물이 존재하지 않는 경우에도 단독으로 광라디칼 개시제로서 작용할 수 있다.
본 발명에서의 수소 공여체는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 1종 이상의 머캅탄계 수소 공여체와 1종 이상의 아민계 수소 공여체를 조합하여 사용하는 것이, 형성된 착색층이 현상시에 기판으로부터 탈락하기 어렵고, 또한 착색층의 강도 및 감도도 높다는 점에서 바람직하다.
머캅탄계 수소 공여체와 아민계 수소 공여체와의 바람직한 조합의 구체적인 예로서는 2-머캅토벤조티아졸/4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 2-머캅토벤조티아졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2-머캅토벤조옥사졸/4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 2-머캅토벤조옥사졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있고, 보다 바람직한 조합은 2-머캅토벤조티아졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2-머캅토벤조옥사졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이며, 특히 바람직한 조합은 2-머캅토벤조티아졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이다.
머캅탄계 수소 공여체와 아민계 수소 공여체와의 조합에서의 머캅탄계 수소 공여체와 아민계 수소 공여체와의 중량비는 1:1 내지 1:4가 바람직하고, 1:1 내지 1:3이 보다 바람직하다.
또한, 상기 벤조인계 화합물로서는, 예를 들면 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 2-벤조일벤조산메틸 등을 들 수 있다.
또한, 상기 아세토페논계 화합물로서는, 예를 들면 2,2-디메톡시아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-(4-i-프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 2-메틸-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노-1-프로판-1-온, 4-(2-히드록시에톡시)페닐-(2-히드록시-2-프로필)케톤, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온 등을 들 수 있다.
또한, 상기 벤조페논계 화합물로서는, 예를 들면 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있다.
또한, 상기 α-디케톤계 화합물로서는, 예를 들면 디아세틸, 디벤조일, 메틸벤조일포르메이트 등을 들 수 있다.
또한, 상기 다핵 퀴논계 화합물로서는, 예를 들면 안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논, 1,4-나프토퀴논 등을 들 수 있다.
또한, 상기 크산톤계 화합물로서는, 예를 들면 크산톤, 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤 등을 들 수 있다.
또한, 상기 포스핀계 화합물로서는, 예를 들면 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥시드, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드 등을 들 수 있다.
또한, 상기 트리아진계 화합물로서는, 예를 들면 2,4,6-트리스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-메틸-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(푸란-2-일)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-n-부톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진,
하기 화학식 5 및 6으로 표시되는 화합물 등과 같은 할로메틸기를 갖는 화합물 등을 들 수 있다.
Figure 112005039864380-pat00007
Figure 112005039864380-pat00008
상기 다른 광라디칼 발생제는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
다른 광라디칼 발생제의 사용 비율은 O-아실옥심형 광라디칼 발생제 (D1)와 다른 광라디칼 발생제와의 합계에 대해 바람직하게는 50 중량% 이하, 더욱 바람직하게는 1 내지 30 중량%이다. 이 경우, 다른 광라디칼 발생제의 사용 비율이 50 중량%을 초과하면, 본 발명의 소기의 효과가 손상될 우려가 있다.
본 발명에서의 광라디칼 발생제의 합계 사용량은, (C) 다관능성 단량체와 경우에 따라 사용되는 단관능성 단량체와의 합계 100 중량부에 대해 바람직하게는 0.01 내지 200 중량부, 보다 바람직하게는 1 내지 120 중량부, 특히 바람직하게는 1 내지 100 중량부이다. 이 경우, 광라디칼 발생제의 합계 사용량이 O.01 중량부 미만이면 노광에 의한 경화가 불충분해지며, 화소 패턴 또는 블랙 매트릭스 패턴이 소정의 서열에 따라 배치된 패턴 어레이를 얻는 것이 곤란해질 우려가 있고, 한편 200 중량부를 초과하면 형성된 착색층이 현상시에 기판으로부터 탈락되기 쉽고, 또한 미노광부의 기판 상 또는 차광층 상에 바탕 오염이나 막 잔여물 등을 생성하기 쉬워진다.
또한, 본 발명에서는 상기 광라디칼 발생제와 함께 필요에 따라 증감제, 경화 촉진제 또는 고분자 광가교·증감제를 1종 이상 병용할 수도 있다.
-첨가제-
본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물은 필요에 따라 여러가지 첨가제를 함유할 수도 있다.
상기 첨가제로서는 감방사선성 조성물의 알칼리 현상액에 대한 용해 특성을 보다 개선하고, 또한 현상 후의 미용해물의 잔존을 보다 억제하는 작용 등을 나타내는 유기산 또는 유기 아미노 화합물(단, 상기 수소 공여체를 제외함) 등을 들 수 있다.
상기 유기산으로서는 분자 중에 1개 이상의 카르복실기를 갖는 지방족 카르복실산 또는 페닐기 함유 카르복실산이 바람직하다.
상기 지방족 카르복실산으로서는, 예를 들면
포름산, 아세트산, 프로피온산, 부티르산, 발레르산, 피발산, 카프로산, 디에틸아세트산, 에난트산, 카프릴산과 같은 모노카르복실산;
옥살산, 말론산, 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 피메린산, 스페린산, 아젤라산, 세박산, 브라실산, 메틸말론산, 에틸말론산, 디메틸말론산, 메틸숙신산, 테트라메틸숙신산, 시클로헥산디카르복실산, 이타콘산, 시트라콘산, 말레산, 푸마르산, 메사콘산과 같은 디카르복실산;
트리카르바릴산, 아코니트산, 캄포론산과 같은 트리카르복실산 등을 들 수 있다.
또한, 상기 페닐기 함유 카르복실산으로서는, 예를 들면 카르복실기가 직접페닐기에 결합된 화합물, 카르복실기가 탄소쇄를 통해 페닐기에 결합된 카르복실산 등을 들 수 있다.
페닐기 함유 카르복실산의 예로서는,
벤조산, 톨루일산, 쿠민산, 헤메리트산, 메시틸렌산과 같은 방향족 모노 카르복실산;
프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산과 같은 방향족 디카르복실산;
트리멜리트산, 트리메신산, 멜로판산, 피로멜리트산과 같은 3가 이상의 방향족 폴리카르복실산이나,
페닐아세트산, 히드로아트로프산, 히드로신남산, 만델산, 페닐숙신산, 아트로프산, 신남산, 신나밀리덴산, 쿠말산, 움벨산 등을 들 수 있다.
이들 유기산 중, 알칼리 용해성, 후술하는 용매에 대한 용해성, 미노광부의 기판 상 또는 차광층 상에서의 바탕 오염이나 막 잔여물의 방지 등과 같은 관점에서, 지방족 카르복실산으로서는 지방족 디카르복실산이 바람직하고, 특히 말론산, 아디프산, 이타콘산, 시트라콘산, 푸마르산, 메사콘산 등이 특히 바람직하다. 또한, 페닐기 함유 카르복실산으로서는 방향족 디카르복실산이 바람직하고, 그 중에서도 프탈산이 특히 바람직하다.
상기 유기산은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
유기산의 사용량은 감방사선성 조성물 전체에 대해 바람직하게는 15 중량% 이하, 보다 바람직하게는 10 중량% 이하이다. 이 경우, 유기산의 사용량이 15 중량%를 초과하면 형성된 착색층의 기판에 대한 밀착성이 저하되는 경향이 있다.
또한, 상기 유기 아미노 화합물로서는 분자 중에 1개 이상의 아미노기를 갖는 지방족 아민 또는 페닐기 함유 아민이 바람직하다.
상기 지방족 아민의 예로서는,
n-프로필아민, i-프로필아민, n-부틸아민, i-부틸아민, sec-부틸아민, t-부틸아민, n-펜틸아민, n-헥실아민, n-헵틸아민, n-옥틸아민, n-노닐아민, n-데실아 민, n-운데실아민, n-도데실아민, 시클로헥실아민, 2-메틸시클로헥실아민, 3-메틸시클로헥실아민, 4-메틸시클로헥실아민, 2-에틸시클로헥실아민, 3-에틸시클로헥실아민, 4-에틸시클로헥실아민과 같은 모노(시클로)알킬아민;
메틸에틸아민, 디에틸아민, 메틸n-프로필아민, 에틸n-프로필아민, 디-n-프로필아민, 디-i-프로필아민, 디-n-부틸아민, 디-i-부틸아민, 디-sec-부틸아민, 디-t-부틸아민, 디-n-펜틸아민, 디-n-헥실아민, 메틸시클로헥실아민, 에틸시클로헥실아민, 디시클로헥실아민와 같은 디(시클로)알킬아민;
디메틸에틸아민, 메틸디에틸아민, 트리에틸아민, 디메틸n-프로필아민, 디에틸n-프로필아민, 메틸디-n-프로필아민, 에틸디-n-프로필아민, 트리-n-프로필아민, 트리-i-프로필아민, 트리-n-부틸아민, 트리-i-부틸아민, 트리-sec-부틸아민, 트리-t-부틸아민, 트리-n-펜틸아민, 트리-n-헥실아민, 디메틸시클로헥실아민, 디에틸시클로헥실아민, 메틸디시클로헥실아민, 에틸디시클로헥실아민, 트리시클로헥실아민과 같은 트리(시클로)알킬아민;
2-아미노에탄올, 3-아미노-1-프로판올, 1-아미노-2-프로판올, 4-아미노-1-부탄올, 5-아미노-1-펜탄올, 6-아미노-1-헥산올, 4-아미노-1-시클로헥산올과 같은 모노(시클로)알칸올아민;
디에탄올아민, 디-n-프로판올아민, 디-i-프로판올아민, 디-n-부탄올아민, 디-i-부탄올아민, 디-n-펜탄올아민, 디-n-헥산올아민, 디(4-시클로헥산올)아민과 같은 디(시클로)알칸올아민;
트리에탄올아민, 트리-n-프로판올아민, 트리-i-프로판올아민, 트리-n-부탄올 아민, 트리-i-부탄올아민, 트리-n-펜탄올아민, 트리-n-헥산올아민, 트리(4-시클로헥산올)아민과 같은 트리(시클로)알칸올아민;
3-아미노-1,2-프로판디올, 2-아미노-1,3-프로판디올, 4-아미노-1,2-부탄디올, 4-아미노-1,3-부탄디올, 4-아미노-1,2-시클로헥산디올, 4-아미노-1,3-시클로헥산디올, 3-디메틸아미노-1,2-프로판디올, 3-디에틸아미노-1,2-프로판디올, 2-디메틸아미노-1,3-프로판디올, 2-디에틸아미노-1,3-프로판디올과 같은 아미노(시클로)알칸디올;
1-아미노시클로펜탄메탄올, 4-아미노시클로펜탄메탄올, 1-아미노시클로헥산메탄올, 4-아미노시클로헥산메탄올, 4-디메틸아미노시클로펜탄메탄올, 4-디에틸아미노시클로펜탄메탄올, 4-디메틸아미노시클로헥산메탄올, 4-디에틸아미노시클로헥산메탄올과 같은 아미노기 함유 시클로알칸메탄올;
β-알라닌, 2-아미노부티르산, 3-아미노부티르산, 4-아미노부티르산, 2-아미노이소부티르산, 3-아미노이소부티르산, 2-아미노발레르산, 5-아미노발레르산, 6-아미노카프로산, 1-아미노시클로프로판카르복실산, 1-아미노시클로헥산카르복실산, 4-아미노시클로헥산카르복실산과 같은 아미노카르복실산 등을 들 수 있다.
또한, 상기 페닐기 함유 아민으로서는, 예를 들면 아미노기가 직접 페닐기에 결합한 화합물, 아미노기가 탄소쇄를 통해 페닐기에 결합한 화합물 등을 들 수 있다.
페닐기 함유 아민의 예로서는,
아닐린, 2-메틸아닐린, 3-메틸아닐린, 4-메틸아닐린, 4-에틸아닐린, 4-n-프 로필아닐린, 4-i-프로필아닐린, 4-n-부틸아닐린, 4-t-부틸아닐린, 1-나프틸아민, 2-나프틸아민, N,N-디메틸아닐린, N,N-디에틸아닐린, 4-메틸-N,N-디메틸아닐린과 같은 방향족 아민;
2-아미노벤질알코올, 3-아미노벤질알코올, 4-아미노벤질알코올, 4-디메틸아미노벤질알코올, 4-디에틸아미노벤질알코올과 같은 아미노벤질알코올류;
2-아미노페놀, 3-아미노페놀, 4-아미노페놀, 4-디메틸아미노페놀, 4-디에틸아미노페놀과 같은 아미노페놀류 등을 들 수 있다.
이들 유기 아미노 화합물 중, 후술하는 용매에 대한 용해성, 미노광부의 기판 상 또는 차광층 상에서의 바탕 오염이나 막 잔여물의 방지 등의 관점에서, 지방족 아민으로서는 모노(시클로)알칸올아민류 및 아미노(시클로)알칸디올이 바람직하고, 특히 2-아미노에탄올, 3-아미노-1-프로판올, 5-아미노-1-펜탄올, 3-아미노-1,2-프로판디올, 2-아미노-1,3-프로판디올, 4-아미노-1,2-부탄디올 등이 특히 바람직하다. 또한, 페닐기 함유 아민으로서는 아미노페놀류가 바람직하고, 특히 2-아미노페놀, 3-아미노페놀, 4-아미노페놀 등이 특히 바람직하다.
상기 유기 아미노 화합물은 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
유기 아미노 화합물의 사용량은 감방사선성 조성물 전체에 대해 바람직하게는 15 중량% 이하, 보다 바람직하게는 10 중량% 이하이다. 이 경우, 유기 아미노 화합물의 사용량이 15 중량%를 초과하면 형성된 착색층의 기판에 대한 밀착성이 저하되는 경향이 있다.
또한, 상기 유기산 및 유기 아미노 화합물 이외의 첨가제로서는, 예를 들면 구리프탈로시아닌 유도체 등과 같은 청색 안료 유도체나 황색 안료 유도체 등과 같은 분산 보조제; 유리, 알루미나 등과 같은 충전제;
폴리비닐알코올, 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르, 폴리(플루오로알킬아크릴레이트) 등의 고분자 화합물;
비이온계, 양이온계, 음이온계 등과 같은 계면활성제;
비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란 등과 같은 밀착 촉진제;
2,2'-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-디-t-부틸페놀 등과 같은 산화 방지제;
2-(3-t-부틸-5-메틸-2-히드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 알콕시벤조페논류 등과 같은 자외선 흡수제;
폴리아크릴산나트륨 등과 같은 응집 방지제;
1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴), 2-페닐아조-4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴 등과 같은 열라디칼 발생제 등을 들 수 있다.
용매
본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물은 상기 (A) 내지 (D) 성분을 필수 성분으로 하며, 경우에 따라 상기 첨가제 성분을 함유하지만, 통상 용매를 배합하여 액상 조성물로서 제조된다.
상기 용매로서는 감방사선성 조성물을 구성하는 (A) 내지 (D) 성분이나 첨가제 성분을 분산 또는 용해시키고, 또한 이들 성분과 반응하지 않고 적합한 휘발성을 갖는 것이면 적당히 선택하여 사용할 수 있다.
이러한 용매로서는 예를 들면
에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노-n-프로필에테르, 에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-프로필에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노-n-프로필에테르, 프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노-n-프로필에테르, 디프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노메틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노에틸에테르와 같은 (폴리)알킬렌글리콜모노알킬에테르;
에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테 르아세테이트와 같은 (폴리)알킬렌글리콜모노알킬에테르아세테이트;
디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 테트라히드로푸란과 같은 다른 에테르;
메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 2-헵타논, 3-헵타논과 같은 케톤;
락트산메틸, 락트산에틸과 같은 락트산알킬에스테르;
2-히드록시-2-메틸프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 에톡시아세트산에틸, 히드록시아세트산에틸, 2-히드록시-3-메틸부탄산메틸, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸프로피오네이트, 아세트산에틸, 아세트산n-프로필, 아세트산i-프로필, 아세트산n-부틸, 아세트산i-부틸, 포름산n-아밀, 아세트산i-아밀, 프로피온산n-부틸, 부티르산에틸, 부티르산n-프로필, 부티르산i-프로필, 부티르산 n-부틸, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 피루브산n-프로필, 아세토아세트산메틸, 아세토아세트산에틸, 2-옥소부탄산에틸과 같은 다른 에스테르;
톨루엔, 크실렌과 같은 방향족 탄화수소;
N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세토아미드, N-메틸피롤리돈과 같은 아미드 등을 들 수 있다.
이들 용매 중, 용해성, 안료 분산성, 도포성 등의 관점에서 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 시클로헥사논, 2-헵타논, 3-헵타논, 락 트산에틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메틸-3-메톡시부틸프로피오네이트, 아세트산n-부틸, 아세트산i-부틸, 포름산n-펜틸, 아세트산i-펜틸, 프로피온산n-부틸, 부티르산에틸, 부티르산i-프로필, 부티르산n-부틸, 피루브산에틸 등이 바람직하다.
상기 용매는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
또한, 상기 용매와 함께, 벤질에틸에테르, 디-n-헥실에테르, 아세토닐아세톤, 이소포론, 카프론산, 카프릴산, 1-옥탄올, 1-노난올, 벤질알코올, 아세트산벤질, 벤조산에틸, 옥살산디에틸, 말레산디에틸, γ-부티로락톤, 탄산에틸렌, 탄산프로필렌, 에틸렌글리콜모노페닐에테르아세테이트 등과 같은 고비점 용매를 병용할 수 있다.
이들 고비점 용매는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
용매의 사용량은 특별히 한정되는 것이 아니지만 얻어지는 감방사선성 조성물의 도포성, 안정성 등의 관점에서 해당 조성물의 용매를 제외한 각 성분의 합계 농도가 바람직하게는 5 내지 50 중량%, 더욱 바람직하게는 10 내지 40 중량%가 되는 양이 바람직하다.
컬러 필터
본 발명의 컬러 필터는 본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물로부터 형성된 착색층을 구비하는 것이다.
이하에 본 발명의 컬러 필터를 형성하는 방법에 대해 설명한다.
우선, 필요에 따라, 기판의 표면 상에 필요에 따라 화소를 형성하는 부분을 구획하도록 차광층을 형성하고, 이 기판 상에, 예를 들면 적색의 안료가 분산된 감방사선성 조성물의 액상 조성물을 도포한 후, 예비 소성을 행하여 용매를 증발시켜 도막을 형성한다. 이어서, 이 도막에 포토마스크를 통해 노광한 후, 알칼리 현상액을 사용하여 현상하고, 도막의 미노광부를 용해 제거하고, 그 후 후소성함으로써 적색의 화소 패턴이 소정의 서열로 배치된 화소 어레이를 형성한다.
그 후, 녹색 또는 청색의 안료가 분산된 각 감방사선성 조성물의 액상 조성물을 사용하여 상기와 같이 하고, 각 액상 조성물의 도포, 예비 소성, 노광, 현상 및 후소성를 행하여, 녹색의 화소 어레이 및 청색의 화소 어레이를 동일 기판 상에 차례로 형성함으로써, 적색, 녹색 및 청색의 3 원색의 화소 어레이가 기판 상에 배치된 컬러 필터를 얻을 수 있다. 단, 본 발명에서는 각 색의 화소 어레이를 형성하는 순서는 상기 것에 한정되지 않는다.
또한, 블랙 매트릭스는 본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물을 사용하여 상기 화소 형성의 경우와 동일하게 하여 형성할 수 있다.
화소 및(또는) 블랙 매트릭스를 형성할 때에 사용되는 기판으로서는, 예를 들면 유리, 실리콘, 폴리카르보네이트, 폴리에스테르, 방향족 폴리아미드, 폴리아미드이미드, 폴리이미드 등을 들 수 있다.
또한, 이들 기판에는 목적에 따라 실란 커플링제 등에 의한 약품 처리, 플라즈마 처리, 이온 플레이팅, 스퍼터링, 기상 반응법, 진공 증착 등과 같은 적절한 전처리를 실시할 수 있다.
감방사선성 조성물의 액상 조성물을 기판에 도포할 때에는 분무법, 롤 코팅 법, 회전 도포법(스핀 코팅법), 슬릿 다이 도포법, 바 도포법, 잉크 젯트법 등과 같은 적절한 도포법을 이용할 수 있지만, 이 중 스핀 코팅법, 슬릿 다이 도포법이 특히 바람직하다.
도포 두께는 건조 후의 막 두께로서 바람직하게는 O.1 내지 1O ㎛, 보다 바람직하게는 0.2 내지 8.0 ㎛, 특히 바람직하게는 0.2 내지 6.0 ㎛이다.
화소 및(또는) 블랙 매트릭스를 형성할 때에 사용되는 방사선으로서는, 예를 들면 가시광선, 자외선, 원자외선, 전자선, X선 등을 사용할 수 있지만, 파장이 190 내지 450 nm의 범위에 있는 방사선이 바람직하다.
방사선의 노광량은 10 내지 10,000 J/㎡가 바람직하다.
또한, 상기 알칼리 현상액으로서는, 예를 들면 탄산나트륨, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 테트라메틸암모늄히드록시드, 콜린, 1,8-디아자비시클로-[5.4.0]-7-운데센, 1,5-디아자비시클로-[4.3.0]-5-노넨 등과 같은 수용액이 바람직하다.
상기 알칼리 현상액에는, 예를 들면 메탄올, 에탄올 등과 같은 수용성 유기 용매나 계면활성제 등을 적당량 첨가할 수도 있다. 또한, 알칼리 현상 후에는 통상 수세한다.
현상 처리법으로서는 샤워 현상법, 분무 현상법, 딥(침지) 현상법, 패들 현상법 등을 적용할 수 있다. 현상 조건은 상온에서 5 내지 300 초가 바람직하다.
이와 같이 하여 얻어지는 본 발명의 컬러 필터는, 예를 들면 투과형 또는 반사형의 컬러 액정 표시 장치, 컬러 촬상관 소자, 컬러 센서 등에 매우 유용하다.
컬러 액정 표시 패널
본 발명의 컬러 액정 표시 패널은 본 발명의 컬러 필터를 구비한 것이다.
또한, 본 발명의 컬러 액정 표시 패널의 1개의 실시 형태로서, 본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물을 사용하고, 박막 트랜지스터 기판 어레이 상에 상술한 바와 같이 하여 화소 및(또는) 블랙 매트릭스를 형성함으로써, 특히 우수한 특성을 갖는 컬러 액정 표시 패널을 제조할 수 있다.
본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물은 상기 (A) 내지 (D) 성분을 필수 성분으로서 함유하는 것이고, 특히 바람직한 조성물을 보다 구체적으로 예시하면 하기 (가) 내지 (라)와 같다.
(가) (B) 알칼리 가용성 수지가 카르복실기 함유 공중합체 (B1)을 포함하는 착색층 형성용 감방사선성 조성물.
(나) (C) 다관능성 단량체가 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트 및 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 상기 (가)의 착색층 형성용 감방사선성 조성물.
(다) O-아실옥심형 광라디칼 발생제 (D1)이 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-비시클로헵틸메탄-1-온옥심-O-벤조에이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-비시클로헵틸-1-온옥심-O-아세테이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-아다만틸메탄-1-온옥심-O-벤조에이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-아다만틸메탄-1-온옥심-O-아세테이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-테트라히드로푸라닐메탄-1- 온옥심-O-벤조에이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-테트라히드로푸라닐메탄-1-온옥심-O-아세테이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-티오페닐메탄-1-온옥심-O-벤조에이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-티오페닐메탄-1-온옥심-O-아세테이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-모르포닐메탄-1-온옥심-O-벤조에이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-모르포닐메탄-1-온옥심-O-아세테이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-비시클로헵탄카르복실레이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-트리시클로데칸카르복실레이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-아다만탄카르복실레이트의 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 상기 (나)의 착색층 형성용 감방사선성 조성물.
(라) (A) 착색제가 유기 안료 및(또는) 카본 블랙을 포함하는 상기 (가), (나) 또는 (다)의 착색층 형성용 감방사선성 조성물.
또한, 본 발명의 바람직한 컬러 필터는
(마) 상기 (가), (나), (다) 또는 (라)의 착색층 형성용 감방사선성 조성물로부터 형성된 화소 및(또는) 블랙 매트릭스를 구비하고 있다.
또한, 본 발명의 바람직한 컬러 액정 표시 패널은
(바) 상기 (마)의 컬러 필터를 구비하고,
본 발명의 보다 바람직한 컬러 액정 표시 패널은
(사) 박막 트랜지스터 기판 어레이 상에, 상기 (가), (나), (다) 또는 (라) 의 착색층 형성용 감방사선성 조성물로부터 형성된 화소 및(또는) 블랙 매트릭스를 구비하고 있다.
본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물은 상기한 바와 같이, 방사선에 대한 감도가 높은 O-아실옥심형 광라디칼 발생제 (D1)을 필수 성분으로 하는 광라디칼 발생제를 사용함으로써, 안료를 고농도로 포함하는 경우에도 현상시에 미노광부의 기판 상 및 차광층 상에 미용해물이 잔존하거나 화소 패턴 및 블랙 매트릭스 패턴의 엣지에 이물을 발생시키지 않으며, 게다가 저노광량에서도 패턴 엣지의 깨짐이나 언더 컷트가 없는 양호한 화소 패턴 및 블랙 매트릭스 패턴을 형성할 수 있다.
또한, 본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물을 사용하여 형성된 화소 및 블랙 매트릭스는 표면 평활성이 높고, 기판과의 밀착성도 우수하다.
따라서, 본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물은 전자 공업 분야에서의 컬러 액정 표시 패널용 컬러 필터를 비롯한 각종 컬러 필터의 제조에 매우 바람직하게 사용할 수 있다.
<실시예>
이하, 실시예를 들어 본 발명의 실시 형태를 더욱 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명이 하기 실시예로 한정되는 것은 아니다.
여기서, 부 및 %는 중량 기준이다.
<(B) 알칼리 가용성 수지의 제조>
<합성예 1>
냉각관 및 교반기를 구비한 플라스크에 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 1 부 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 200 부를 넣고, 이어서 메타크릴산 15 부, 스티렌 15 부, 벤질메타크릴레이트 35 부, 글리세롤모노메타크릴레이트 10 부, N-페닐말레이미드 25 부 및 연쇄 이동제 α-메틸스티렌다이머 2.5 부를 넣어 질소 치환한 후, 서서히 교반하여 반응 용액을 80 ℃로 승온시키고, 이 온도를 유지하여 3 시간 중합하였다. 그 후, 반응 용액을 100 ℃로 승온시켜서 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 0.5 부를 첨가하고, 1 시간 더 중합함으로써 수지 용액(고형분 농도=33.0 %)을 얻었다.
얻어진 수지는 Mw=17,000, Mn=8,000이었다. 이 수지를 "수지 (B-1)"이라고 하였다.
<합성예 2>
냉각관 및 교반기를 구비한 플라스크에 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 1 부 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 200 부를 넣고, 이어서 메타크릴산 15 부, 스티렌 15 부, 벤질메타크릴레이트 30 부, 글리세롤모노메타크릴레이트 15 부, N-페닐말레이미드 25 부 및 연쇄 이동제 α-메틸스티렌다이머 2.5 부를 넣어 질소 치환한 후, 서서히 교반하여 반응 용액을 80 ℃로 승온시키고, 이 온도를 유지하여 3 시간 중합하였다. 그 후, 반응 용액을 100 ℃로 승온시켜서 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴)을 0.5 부 첨가하고, 1 시간 더 중합함으로써 수지 용액(고형분 농도=32.9 %)을 얻었다.
얻어진 수지는 Mw=19,000, Mn=9,000이었다. 이 수지를 "수지 (B-2)"라고 하 였다.
<합성예 3>
냉각관 및 교반기를 구비한 플라스크에 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 1 부 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 200 부를 넣고, 이어서 메타크릴산 15 부, 스티렌 15 부, 벤질메타크릴레이트 30 부, 글리세롤모노메타크릴레이트 10 부, N-페닐말레이미드 30 부 및 연쇄 이동제 α-메틸스티렌다이머 2.5 부를 넣어 질소 치환한 후, 서서히 교반하여 반응 용액을 80 ℃로 승온시키고, 이 온도를 유지하여 3 시간 중합하였다. 그 후, 반응 용액을 100 ℃로 승온시켜서 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴)을 0.5 부 첨가하고, 1 시간 더 중합함으로써 수지 용액(고형분 농도=33.2 %)을 얻었다.
얻어진 수지는 Mw=15,000, Mn=7,000이었다. 이 수지를 "수지 (B-3)"이라고 하였다.
<합성예 4>
냉각관 및 교반기를 구비한 플라스크에 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 3 부 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 200 부를 넣고, 이어서 메타크릴산 15 부, 아세나프틸렌 30 부, 벤질메타크릴레이트 35 부, 2-히드록시에틸메타크릴레이트 10 부, ω-카르복시폴리카프로락톤모노아크릴레이트 10 부 및 연쇄 이동제 α-메틸스티렌다이머 5 부를 넣어 질소 치환한 후, 서서히 교반하여 반응 용액을 80 ℃로 승온시키고, 이 온도를 유지하여 3 시간 중합하였다. 그 후, 반응 용액을 100 ℃로 승온시켜서 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴)을 0.5 부 첨 가하고, 1 시간 더 중합함으로써 수지 용액(고형분 농도=31.0 %)을 얻었다.
얻어진 수지는 Mw=10,000, Mn=6,000이었다. 이 수지를 "수지 (B-4)"라고 하였다.
<실시예 1>
<액상 조성물의 제조>
(A) 착색제로서 C.I.피그먼트 레드 254와 C.I.피그먼트 레드 177과의 80/20(중량비) 혼합물 85 부, (B) 알칼리 가용성 수지로서 수지 (B-1) 80 부, (C) 다관능성 단량체로서 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 80 부, (D) 광라디칼 발생제로서 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-비시클로헵틸-1-온옥심-O-아세테이트 10 부, 및 용매로서 3-에톡시프로피온산에틸과 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트와의 70/30(중량비) 혼합물 1,000 부를 혼합하여, 감방사선성 조성물의 액상 조성물 (R1)을 제조하였다.
또한, 액상 조성물 (R1)은 하기와 같은 순서로 제조하였다.
우선, (A) 착색제로서 C.I.피그먼트 레드 254/C.I.피그먼트 레드 177=80/20(중량비) 혼합물 15 중량부, 분산제로서 디스퍼비크-2001을 4 중량부(고형분 환산), (B) 알칼리 가용성 수지로서 (B-1) 6 중량부 및 (E) 용매로서 3-에톡시프로피온산에틸 75 중량부를 비즈 밀로 처리하여, 예비 분산액 (R1-1)을 제조하였다.
이어서, 예비 분산액 (R1-1) 567 중량부, (B) 알칼리 가용성 수지로서 수지 (B-1) 46 중량부, (C) 다관능성 단량체로서 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 80 중량부, (D) 광라디칼 발생제로서 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3- 일]-비시클로헵틸-1-온옥심-O-아세테이트 10 중량부, 및 (E) 용매로서 3-에톡시프로피온산에틸 275 중량부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 300 중량부를 혼합하여, 액상 조성물 (R1)을 제조하였다.
<착색층의 형성>
액상 조성물 (R1)을, 표면에 나트륨 이온의 용출을 방지하는 SiO2막이 형성된 소다 유리 기판에 스핀 코팅을 이용하여 도포한 후, 90 ℃의 핫 플레이트 상에서 2 분간 예비 소성을 행하여, 막 두께 1.7 ㎛의 도막을 형성하였다.
이어서, 기판을 실온으로 냉각한 후, 고압 수은 램프를 이용하여 포토마스크(슬릿 폭 30 ㎛)를 통해, 도막에 365 nm, 405 nm 및 436 nm의 각 파장을 포함하는 자외선을 노광하였다. 이 때의 노광량은 400 J/㎡였다. 그 후, 기판을 23 ℃의 0.04 % 수산화칼륨 수용액에 1 분간 침지하여 현상한 후, 초순수로 세정하여 통풍 건조하였다. 그 후, 220 ℃의 청정 오븐 내에서 30 분간 후소성을 행하여, 기판 상에 적색의 스트라이프형 화소 패턴이 배열된 화소 어레이를 형성하였다.
<평가>
기판 상의 화소 어레이를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 미노광부의 기판 상에 현상 잔여물이 확인되지 않았고, 또한 화소 패턴의 엣지에서 이물 및 깨짐은 확인되지 않았다.
또한, 화소 패턴의 단면을 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 결과, 언더 컷트는 확인되지 않았다.
<비교예 1>
<액상 조성물의 제조 및 착색층의 형성>
(D) 성분을 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논 30 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 감방사선성 조성물 (r1)을 제조하였다.
이어서, 액상 조성물 (R1) 대신에 액상 조성물 (r1)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 적색의 스트라이프형 화소 패턴이 배열된 화소 어레이를 형성하였다.
<평가>
기판 상의 화소 어레이를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 미노광부의 기판 상에 현상 잔여물이 확인되지 않았지만, 화소 패턴의 엣지의 깨짐이 확인되었다.
또한, 화소 패턴의 단면을 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 결과, 언더 컷트가 확인되었다.
<실시예 2>
<액상 조성물의 제조 및 착색층의 형성>
(A) 착색제로서 C.I.피그먼트 그린 36과 C.I.피그먼트 옐로우 150과의 60/40(중량비) 혼합물 95 부, (B) 알칼리 가용성 수지로서 수지 (B-2) 70 부, (C) 다관능성 단량체로서 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 80 부, (D) 광라디칼 발생제로서 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-테트라히드로푸라닐메탄-1-온옥심-O-아세테이트 12 부, 첨가제로서 말론산 1 부, 및 용매로서 3-메톡시부틸 아세테이트와 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트와의 50/50(중량비) 혼합물900 부를 혼합하여 감방사선성 조성물의 액상 조성물 (G1)을 제조하였다.
이어서, 액상 조성물 (R1) 대신에 액상 조성물 (G1)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 녹색의 스트라이프형 화소 패턴이 배열된 화소 어레이를 형성하였다.
<평가>
기판 상의 화소 어레이를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 미노광부의 기판 상에 현상 잔여물이 확인되지 않았고, 또한 화소 패턴의 엣지에서 이물 및 깨짐은 확인되지 않았다.
또한, 화소 패턴의 단면을 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 결과, 언더 컷트는 확인되지 않았다.
<실시예 3>
<액상 조성물의 제조 및 착색층의 형성>
(A) 착색제로서 C.I.피그먼트 블루 15:6과 C.I.피그먼트 바이올렛 23과의 95/5(중량비) 혼합물 70 부, (B) 알칼리 가용성 수지로서 수지 (B-3) 60 부, (C) 다관능성 단량체로서 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 90 부, (D) 광라디칼 발생제로서 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-비시클로헵탄카르복실레이트 20 부, 첨가제로서 A-60(상품명, 카오(주) 제조의 비이온계 계면활성제) 5 부, 및 용매로서 3-에톡시프로피온산에틸과 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트와의 60/40(중량비) 혼합물 900 중량부를 혼합하여 감방사선성 조 성물의 액상 조성물 (B1)을 제조하였다.
이어서, 액상 조성물 (R1) 대신에 액상 조성물 (B1)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 청색의 스트라이프형 화소 패턴이 배열된 화소 어레이를 형성하였다.
<평가>
기판 상의 화소 어레이를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 미노광부의 기판 상에 현상 잔여물이 확인되지 않았고, 또한 화소 패턴의 엣지에서 이물 및 깨짐은 확인되지 않았다.
또한, 화소 패턴의 단면을 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 결과, 언더 컷트는 확인되지 않았다.
<실시예 4>
<액상 조성물의 제조 및 착색층의 형성>
(A) 착색제로서 카본 블랙(미꾸니 세끼소(주) 제조) 250 부, (B) 알칼리 가용성 수지로서 수지 (B-4) 75 부, (C) 다관능성 단량체로서 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 75 부, (D) 광라디칼 발생제로서 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-비시클로헵틸-1-온옥심-O-아세테이트 10 부, 및 용매로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트와 시클로헥사논과의 50/50(중량비) 혼합물 1,000 부를 혼합하여 감방사선성 조성물의 액상 조성물 (BK1)을 제조하였다.
이어서, 액상 조성물 (R1) 대신에 액상 조성물 (BK1)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 흑색의 스트라이프형 화소 패턴이 배열된 화 소 어레이를 형성하였다.
<평가>
기판 상의 화소 어레이를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 미노광부의 기판 상에 현상 잔여물이 확인되지 않았고, 또한 화소 패턴의 엣지에서 이물 및 깨짐은 확인되지 않았다.
또한, 화소 패턴의 단면을 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 결과, 언더 컷트는 확인되지 않았다.
<실시예 5>
<액상 조성물의 제조 및 착색층의 형성>
(D) 성분을 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-테트라히드로푸라닐메탄-1-온옥심-O-아세테이트 10 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 4와 동일하게 하여 감방사선성 조성물 (BK2)를 제조하였다.
이어서, 액상 조성물 (R1) 대신에 액상 조성물 (BK2)를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 흑색의 스트라이프형 화소 패턴이 배열된 화소 어레이를 형성하였다.
<평가>
기판 상의 화소 어레이를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 미노광부의 기판 상에 현상 잔여물이 확인되지 않았고, 또한 화소 패턴의 엣지에서 이물 및 깨짐은 확인되지 않았다.
또한, 화소 패턴의 단면을 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 결과, 언더 컷트는 확인되지 않았다.
<실시예 6>
<액상 조성물의 제조 및 착색층의 형성>
(D) 성분을 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-비시클로헵탄카르복시레이트 10 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 4와 동일하게 하여 감방사선성 조성물 (BK3)을 제조하였다.
이어서, 액상 조성물 (R1) 대신에 액상 조성물 (BK3)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 흑색의 스트라이프형 화소 패턴이 배열된 화소 어레이를 형성하였다.
<평가>
기판 상의 화소 어레이를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 미노광부의 기판 상에 현상 잔여물이 확인되지 않았고, 또한 화소 패턴의 엣지에서 이물 및 깨짐은 확인되지 않았다.
또한, 화소 패턴의 단면을 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 결과, 언더 컷트는 확인되지 않았다.
<실시예 7>
<액상 조성물의 제조 및 착색층의 형성>
(D) 성분을 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-트리시클로데칸카르복실레이트 10 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 4와 동일하게 하여 감방사선성 조성물 (BK4)를 제조하였다.
이어서, 액상 조성물 (R1) 대신에 액상 조성물 (BK4)를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 흑색의 스트라이프형 화소 패턴이 배열된 화소 어레이를 형성하였다.
<평가>
기판 상의 화소 어레이를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 미노광부의 기판 상에 현상 잔여물이 확인되지 않았고, 또한 화소 패턴의 엣지에서 이물 및 깨짐은 확인되지 않았다.
또한, 화소 패턴의 단면을 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 결과, 언더 컷트는 확인되지 않았다.
<실시예 8>
<액상 조성물의 제조 및 착색층의 형성>
(D) 성분을 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-아다만탄카르복실레이트 10 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 4와 동일하게 하여 감방사선성 조성물 (BK5)를 제조하였다.
이어서, 액상 조성물 (R1) 대신에 액상 조성물 (BK5)를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 흑색의 스트라이프형 화소 패턴이 배열된 화소 어레이를 형성하였다.
<평가>
기판 상의 화소 어레이를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 미노광부의 기판 상에 현상 잔여물이 확인되지 않았고, 또한 화소 패턴의 엣지에서 이물 및 깨짐은 확 인되지 않았다.
또한, 화소 패턴의 단면을 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 결과, 언더 컷트는 확인되지 않았다.
<실시예 9>
<액상 조성물의 제조 및 착색층의 형성>
(D) 성분을 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-테트라히드로푸라닐메탄-1-온옥심-O-비시클로헵탄카르복실레이트 10 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 4와 동일하게 하여 감방사선성 조성물 (BK6)을 제조하였다.
이어서, 액상 조성물 (R1) 대신에 액상 조성물 (BK6)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 흑색의 스트라이프형 화소 패턴이 배열된 화소 어레이를 형성하였다.
<평가>
기판 상의 화소 어레이를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 미노광부의 기판 상에 현상 잔여물이 확인되지 않았고, 또한 화소 패턴의 엣지에서 이물 및 깨짐은 확인되지 않았다.
또한, 화소 패턴의 단면을 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 결과, 언더 컷트는 확인되지 않았다.
<실시예 10>
<액상 조성물의 제조 및 착색층의 형성>
용매로서 3-에톡시프로피온산에틸과 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이 트와의 70/30(중량비) 혼합물 1,500 중량부를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 감방사선성 조성물 (R2)를 제조하였다.
이어서, 액상 조성물 (R1) 대신에 액상 조성물 (R2)를 사용하고, 스핀 코팅 대신에 슬릿 다이 코터를 사용하여 도포한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 적색의 스트라이프형 화소 패턴이 배열된 화소 어레이를 형성하였다.
<평가>
기판 상의 화소 어레이를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 미노광부의 기판 상에 현상 잔여물이 확인되지 않았고, 또한 화소 패턴의 엣지에서 이물 및 깨짐은 확인되지 않았다.
또한, 화소 패턴의 단면을 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 결과, 언더 컷트는 확인되지 않았다.
<실시예 11>
<액상 조성물의 제조 및 착색층의 형성>
(A) 착색제로서 티탄 블랙(질화티탄)((주)잼코 제조) 600 부, (B) 알칼리 가용성 수지로서 수지 (B-4) 75 부, (C) 다관능성 단량체로서 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 75 부, (D) 광라디칼 발생제로서 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.일카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-아다만탄카르복실레이트 10 부, 및 용매로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트와 시클로헥사논과의 50/50(중량비) 혼합물 1,000 부를 혼합하여 감방사선성 조성물의 액상 조성물 (BK7)을 제조하였다.
이어서, 액상 조성물 (R1) 대신에 액상 조성물 (BK7)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 흑색의 스트라이프형 화소 패턴이 배열된 화소 어레이를 형성하였다.
<평가>
기판 상의 화소 어레이를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 미노광부의 기판 상에 현상 잔여물이 확인되지 않았고, 또한 화소 패턴의 엣지에서 이물 및 깨짐은 확인되지 않았다.
또한, 화소 패턴의 단면을 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 결과, 언더컷트는 확인되지 않았다.
본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물은 안료를 고농도로 포함하는 경우에도 현상시에 미노광부의 기판 상 및 차광층 상에 미용해물이 잔존하거나 화소 패턴 및 블랙 매트릭스 패턴의 엣지에 이물을 발생시키지 않으며, 게다가 저노광량에서도 패턴 엣지의 깨짐이나 언더 컷트가 없는 양호한 화소 패턴 및 블랙 매트릭스 패턴을 형성할 수 있다.
또한, 본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물을 사용하여 형성된 화소 및 블랙 매트릭스는 표면 평활성이 높고, 기판과의 밀착성도 우수하다.
따라서, 본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물은 전자 공업 분야에서의 컬러 액정 표시 패널용 컬러 필터를 비롯한 각종 컬러 필터의 제조에 매우 바람직하게 사용할 수 있다.

Claims (3)

  1. (A) 착색제, (B) 알칼리 가용성 수지, (C) 다관능성 단량체 및 (D) 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-비시클로헵틸-1-온옥심-O-아세테이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-테트라히드로푸라닐메탄-1-온옥심-O-아세테이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-비시클로헵탄카르복실레이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-트리시클로데칸카르복실레이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-아다만탄카르복실레이트 및 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-테트라히드로푸라닐메탄-1-온옥심-O-비시클로헵탄카르복실레이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 광라디칼 발생제를 함유하는 것을 특징으로 하는 착색층 형성용 감방사선성 조성물.
  2. 제1항에 따른 착색층 형성용 감방사선성 조성물로부터 형성된 착색층을 구비한 것을 특징으로 하는 컬러 필터.
  3. 제2항에 따른 컬러 필터를 구비하여 이루어진 컬러 액정 표시 패널.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10488756B2 (en) 2012-05-09 2019-11-26 Basf Se Oxime ester photoinitiators

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4633582B2 (ja) 2005-09-06 2011-02-16 東京応化工業株式会社 感光性組成物
SG140559A1 (en) * 2006-08-31 2008-03-28 Jsr Corp Radiation sensitive resin composition for forming a colored layer and color filter
CN101595406B (zh) * 2007-01-12 2011-05-04 凸版印刷株式会社 着色组合物、滤色器及其制造方法
JP5056025B2 (ja) * 2007-01-22 2012-10-24 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物およびカラーフィルタ
JP4947294B2 (ja) * 2007-02-23 2012-06-06 Jsr株式会社 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子
JP5024107B2 (ja) * 2007-03-13 2012-09-12 Jsr株式会社 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子
CN101681102B (zh) * 2007-12-19 2014-04-02 东洋油墨制造株式会社 着色组合物、滤色器的制造方法和滤色器
JP5189392B2 (ja) * 2008-03-28 2013-04-24 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、遮光性カラーフィルター及びその製造方法、並びに、固体撮像素子
JP5254650B2 (ja) * 2008-03-28 2013-08-07 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、遮光性カラーフィルター及びその製造方法、並びに、固体撮像素子
JP5241289B2 (ja) * 2008-03-31 2013-07-17 富士フイルム株式会社 重合性組成物、遮光性カラーフィルタ、および固体撮像素子
JP5189395B2 (ja) * 2008-03-31 2013-04-24 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、遮光性カラーフィルター及びその製造方法、並びに、固体撮像素子
JP5528677B2 (ja) 2008-03-31 2014-06-25 富士フイルム株式会社 重合性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子および固体撮像素子用遮光性カラーフィルタの製造方法
JP5512095B2 (ja) * 2008-04-28 2014-06-04 富士フイルム株式会社 感光性組成物、固体撮像素子用感光性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタ、及び固体撮像素子
CN103329043B (zh) 2010-11-19 2016-06-29 株式会社Lg化学 包含丙烯酸酯化合物的光敏组合物
WO2017130786A1 (ja) * 2016-01-26 2017-08-03 積水化学工業株式会社 液晶表示素子用シール剤、上下導通材料、及び、液晶表示素子
TWI818456B (zh) * 2021-03-05 2023-10-11 日商旭化成股份有限公司 感光性樹脂積層體及其製造方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040007700A (ko) * 2001-06-11 2004-01-24 시바 스페셜티 케미칼스 홀딩 인크. 결합된 구조를 가지는 옥심 에스테르 광개시제
KR20040038687A (ko) * 2002-10-28 2004-05-08 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 광중합성 조성물 및 이를 사용한 컬러 필터
WO2004050653A2 (en) 2002-12-03 2004-06-17 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Oxime ester photoinitiators with heteroaromatic groups
KR20050021902A (ko) * 2003-08-28 2005-03-07 신닛테츠가가쿠 가부시키가이샤 감광성 수지조성물 및 그것을 사용한 컬러필터
US20050158659A1 (en) 2004-01-19 2005-07-21 Chun-Hsien Lee Photosensitive resin composition for black matrix
KR20060045608A (ko) * 2004-04-13 2006-05-17 제이에스알 가부시끼가이샤 착색층 형성용 감방사선성 조성물, 컬러 필터 및 컬러 액정표시 패널

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4442292B2 (ja) * 2003-06-10 2010-03-31 三菱化学株式会社 光重合性組成物、カラーフィルター及び液晶表示装置
JP2005202252A (ja) * 2004-01-16 2005-07-28 Dainippon Printing Co Ltd 固体撮像素子カラーフィルター用感光性着色組成物、固体撮像素子カラーフィルター、固体撮像素子、及び固体撮像素子カラーフィルターの製造方法
JP4830310B2 (ja) * 2004-02-23 2011-12-07 三菱化学株式会社 オキシムエステル系化合物、光重合性組成物及びこれを用いたカラーフィルター
JP4448381B2 (ja) * 2004-05-26 2010-04-07 東京応化工業株式会社 感光性組成物

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040007700A (ko) * 2001-06-11 2004-01-24 시바 스페셜티 케미칼스 홀딩 인크. 결합된 구조를 가지는 옥심 에스테르 광개시제
KR20040038687A (ko) * 2002-10-28 2004-05-08 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 광중합성 조성물 및 이를 사용한 컬러 필터
WO2004050653A2 (en) 2002-12-03 2004-06-17 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Oxime ester photoinitiators with heteroaromatic groups
KR20050021902A (ko) * 2003-08-28 2005-03-07 신닛테츠가가쿠 가부시키가이샤 감광성 수지조성물 및 그것을 사용한 컬러필터
US20050158659A1 (en) 2004-01-19 2005-07-21 Chun-Hsien Lee Photosensitive resin composition for black matrix
KR20060045608A (ko) * 2004-04-13 2006-05-17 제이에스알 가부시끼가이샤 착색층 형성용 감방사선성 조성물, 컬러 필터 및 컬러 액정표시 패널

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10488756B2 (en) 2012-05-09 2019-11-26 Basf Se Oxime ester photoinitiators
US11204554B2 (en) 2012-05-09 2021-12-21 Basf Se Oxime ester photoinitiators
US11209733B2 (en) 2012-05-09 2021-12-28 Basf Se Oxime ester photoinitiators
US11209734B2 (en) 2012-05-09 2021-12-28 Basf Se Oxime ester photoinitiators

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Publication number Publication date
JP2006039140A (ja) 2006-02-09
TW200625007A (en) 2006-07-16
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KR20060046569A (ko) 2006-05-17

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