[go: up one dir, main page]

KR100729699B1 - 클린 박스 개폐 장치를 구비하는 클린 장치 - Google Patents

클린 박스 개폐 장치를 구비하는 클린 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR100729699B1
KR100729699B1 KR1020057021722A KR20057021722A KR100729699B1 KR 100729699 B1 KR100729699 B1 KR 100729699B1 KR 1020057021722 A KR1020057021722 A KR 1020057021722A KR 20057021722 A KR20057021722 A KR 20057021722A KR 100729699 B1 KR100729699 B1 KR 100729699B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
cover
clean
latch
clean box
opening
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
KR1020057021722A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20060011872A (ko
Inventor
도시히꼬 미야지마
시게끼 이시야마
Original Assignee
티디케이가부시기가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2003137026A external-priority patent/JP4094987B2/ja
Priority claimed from JP2003154078A external-priority patent/JP2004356478A/ja
Application filed by 티디케이가부시기가이샤 filed Critical 티디케이가부시기가이샤
Publication of KR20060011872A publication Critical patent/KR20060011872A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100729699B1 publication Critical patent/KR100729699B1/ko
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H01L21/67751Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber vertical transfer of a single workpiece
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67126Apparatus for sealing, encapsulating, glassing, decapsulating or the like
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67763Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
    • H01L21/67772Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading involving removal of lid, door, cover
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S414/00Material or article handling
    • Y10S414/135Associated with semiconductor wafer handling
    • Y10S414/14Wafer cassette transporting

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

종래의 클린 장치의 로드 포트부에서는 벨로우즈의 마모에 의해 발생된 먼지에 의해 클린도가 저하되고, 또한 덮개가 자중에 의해 본체로부터 떨어지지 않는 경우가 있다. 이러한 경우에 대처하기 위해 클린 장치를, 클린 박스의 덮개는 비원형의 수용 구멍을 구비하고, 클린 장치의 로드 포트부가 상기 수용 구멍에 끼움 삽입 가능한 돌기를 구비하는 개폐 기구와, 버퍼 챔버를 갖고 버퍼 챔버의 벨로우즈의 일단부는 상기 버퍼 챔버의 바닥면과 연결되고, 상기 벨로우즈의 타단부는 상기 버퍼 챔버의 외측에 있어서 포트 도어의 승강 수단에 대해 고정된 구성으로 한다.
개폐 기구, 버퍼 챔버, 로드 포트부, 덮개, 포트 도어

Description

클린 박스 개폐 장치를 구비하는 클린 장치{CLEAN DEVICE WITH CLEAN BOX-OPENING/CLOSING DEVICE}
본 발명은 반도체 제품 등의 기판 등 고청정도가 요구되는 처리의 대상물인 기판을 내부에 수납하고 덮개와 본체로 밀폐하여 내부를 고청정도로 유지한 클린 박스로부터 기판의 출납을 실행하는 기판 처리 장치에 있어서, 기판의 출납시에 상기 덮개를 연직 방향으로 이동시켜 덮개의 개폐를 행하는 SMIF 방식 클린 박스의 덮개의 개폐를 위한 개폐 기구와 그것을 갖는 클린 장치의 로드 포트부에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 반도체, 플랫 패널 디스플레이용 패널, 광디스크 등 고청정 환경하에서 그 프로세스가 행해지는 물품의 제조 공정에 있어서, 상기 물품 혹은 상기 물품과 함께 이용되는 각종 물품을 수용하기 위해 이용되는 물품 수용 용기에도 관한 것이다. 보다 상세하게는, 연직 방향에 개구부를 갖는 상기 수용 용기 본체 및 상기 개구부를 폐쇄하는 덮개의 구조에도 관한 것이다.
반도체 제품 등의 기판의 처리 공정은 고청정도가 보증된 환경하에서 행하는 것이 필요하여, 방 전체가 고청정도로 유지된 클린룸 내에서 행해지는 것이 일반적이었다. 그러나, 큰 부피를 차지하는 방 전체를 고청정도로 유지하기 위해서는 큰 설비 투자와 유지비를 필요로 하고, 또한 일단 설비 투자를 행하면 제조 공정의 변경에 수반되는 방 레이아웃 변경시에 다시 큰 설비 투자가 필요해져 경제적이지 않았다.
또한, 실리콘 웨이퍼 등의 기판의 대형화에 수반하여 이와 같은 대처법으로는 필요한 청정 환경을 얻는 것이 비용상 문제가 되어 왔다.
그래서 최근에는, 일본 특허 제3167970호 명세서에 개시된 바와 같이 방 전체를 고청정도로 유지하는 것이 아닌 반도체 등의 기판을 처리하기 위한 기판 처리 장치의 내부를 미소 환경 공간[이하, 미니 인바이론먼트(mini environment)부라 함]으로서 고청정도로 유지함으로써 방 전체를 고청정도로 유지하였을 때와 같은 효과를 얻는 수법이 알려져 있다(이하, 이러한 기판 처리 장치를 클린 장치라 함).
즉, 기판의 제조가 행해지는 방에 상기 기판 처리 장치를 레이아웃하여 내부를 고청정도로 유지한 기판의 보관 용기(이하, 클린 박스라 함)로 상기 클린 장치간의 반송을 행한다. 그리고, 외부로부터 먼지가 침입하지 않도록 클린 박스를 기판 처리 장치에 설치한 기판을 위한 소정의 출납구에 연결시키고, 이 소정의 출납구를 거쳐서 기판의 인도를 행하면 제조가 행해지는 방의 청정도를 높게 하지 않고도 기판이 노출되는 환경을 모두 고청정도로 유지할 수 있다고 하는 것이다. 이에 의해 방 전체를 클린룸화한 경우와 같은 효과를 얻는 것이 가능해져, 설비 투자나 유지비를 삭감하여 효율적인 생산 공정을 실현할 수 있다. 또한, 이 명세서 중에 있어서 기판이라 함은, 예를 들어 노광용 마스크(레티클) 및 반도체 웨이퍼 등을 포함하는 의미로서 이용한다. 따라서, 기판 처리 장치는 레티클 처리 장치 및 반 도체 웨이퍼 처리 장치를 포함하는 의미로서 이용한다.
또한, 상술한 바와 같이 연직 방향 하방에 개구부를 갖고, 또한 덮개를 연직 방향으로 이동시킴으로써 개구부의 개폐를 행하는 타입의 포드를, 표준 기계식 인터페이스(SMIF) 타입의 포드라 총칭하고 있으며, 본 발명은 이 SMIF 타입의 포드에 관한 것이다. 이와 같이, 약간의 공간만을 고청정화하는 이른바 미니 인바이론먼트 방식을 채용함으로써 공장 전체를 클린룸화한 경우와 같은 효과를 얻어, 설비 투자나 유지비를 삭감하여 효율적인 생산 공정을 실현하고 있다.
도9를 참조하여 클린 장치(1)에 대해 설명한다. 도9는 클린 장치(1)의 전체의 단면을 도시한 도면이다. 클린 장치(1)는 처리실(60)과 반송실(50)과 로드 포트부(10)를 구비하고 있다.
처리실(60)은 클린 장치(1)에 있어서 실행되는 각종 기판 처리를 실행하는 부분이다.
반송실(50)은 외부와 차단된 밀폐 공간을 내부에 갖는 실(室)이며, 그 내부에는 기판을 반송하기 위한 로봇 아암(55)이 배치되어 있다.
로드 포트부(10)는 기판을 클린 장치(1)의 처리실(60)로 반입하기 위해 클린 박스(2)를 적재하는 부위이며, 클린 박스(2)의 본체(2a)로부터 덮개(2b)를 떼어내는 기능을 구비하고 있다.
로드 포트부(10)의 내부에는 대략 수평으로 유지된 포트 도어(3)가 배치되어 있다. 포트 도어(3)는 연직 방향으로 승강한다(예를 들어, 일본 특허 공개 제2001-203253호 공보 참조). 도9의 상태에서는 포트 도어(3)는 하강한 상태로 되어 있다. 포트 도어(3)는 포트 도어(3)를 사방으로부터 둘러싸는 벽면과 포트 도어(3)의 하면과 대략 평행하게 위치하는 바닥부에 의해 둘러싸여 있고, 이 벽면과 바닥부에 의해 로드 포트부(10)의 내부에 버퍼 챔버(6)를 구성한다. 버퍼 챔버(6)의 상방은 개방되고, 포트 도어(3)의 크기와 거의 동일한 어세스 개구(5)를 구성한다. 따라서, 어세스 개구(5)로부터 보면 소정의 깊이를 갖는 버퍼 챔버(6)로 되어 있다. 어세스 개구(5)의 크기는 클린 박스(2)의 개구가 둘러싸는 영역과 거의 동일하거나 또는 그 이하의 크기이며, 포트 도어(3)는 버퍼 챔버(6)의 벽면에 따라 상승 또는 하강을 행한다. 클린 박스(2)를 로드 포트부(10)에 적재하였을 때에 어세스 개구(5)는 도9에 도시한 바와 같이 클린 박스(2)의 본체(2a)로 덮여 있어, 덮개(2b)를 떼어내도 로드 포트부(10)의 버퍼 챔버(6)의 밀폐 상태가 유지된다.
또한, 본 예에 있어서 상기 포드(2)는 기판이 아닌 반도체 처리 공정에 있어서 이용되는 이른바 레티클이라 불리워지는 포토 마스크를 수용하는 것으로 한다. 물품 수용시, 포드(2) 내부는 통상 고청정으로 유지된 건조 질소 등의 가스에 의해 채워져 있고, 포드(2) 내부가 이 가스로 대기압과 동등하거나 혹은 대기압보다 고압으로 유지함으로써 주위 환경으로부터 발생될 수 있는 내부 오염의 저감을 도모하고 있다.
로드 포트부(10)의 내부의 버퍼 챔버(6)와 반송실(50)의 내부(50a)는 반송용 개구(51)에 의해, 반송실(50)의 내부(50a)와 처리실(60)의 내부(60a)는 반송용 개구(52)에 의해 연통되어 있다. 로드 포트부(10)의 내부와 반송실(50)의 내부(50a)와 처리실(60)의 내부는 밀폐되어 외부 환경으로부터 차단된 상태에 있어 미니 인 바이론먼트부를 형성한다.
또한, 반송용 개구(51)는 개폐용 게이트 밸브(53a)에 의해 구동되는 개폐 도어(53)에 의해 개폐되고, 한편 반송용 개구(52)는 개폐용 게이트 밸브(54a)에 의해 구동되는 개폐 도어(54)에 의해 개폐된다.
계속해서 도10을 참조하여, 로드 포트부(10)에 대해 상세하게 설명한다. 도10은 도9 중 로드 포트부(10)를 특히 확대하여 도시한 도면이다. 도10에서는, 도9와 달리 포트 도어(3)는 상승한 상태를 나타내고 있다. 또한, 도10은 덮개(2b)가 포트 도어(3) 상에 적재되어 있는 상태이다. 또한, 도10에 있어서 이점 쇄선에 의해 나타낸 상태가 하강 상태의 포트 도어(3)의 위치이다. 포트 도어(3)에는 승강 수단(4)이 접속되어 있다. 승강 수단(4)은 래치 개폐축(4a)과 래치 개폐축 내에 액튜에이터를 보유 지지하기 위한 프레임(4b)과 승강 샤프트(4c)와 전동 액튜에이터(7)를 구비하고 있다. 래치 개폐축(4a)은 연직 방향으로 연장되는 막대 형상의 부재로 포트 도어(3)의 내면인 하방의 면에 그 일단부가 접합되어 있어 승강 수단(4)의 승강 동작을 직접 포트 도어(3)에 전달하는 책임을 감당하고 있다. 래치 개폐축(4a)의 포트 도어(3)와 반대측의 단부는 프레임(4b)에 접합되고, 또한 프레임(4b)은 승강 샤프트(4c)에 접속되어 있다. 승강 샤프트(4c)는 전동 액튜에이터(7)에 접속되어 있어, 이에 의해 승강 수단(4)으로서 포트 도어(3)의 승강 동작을 환기시킨다. 버퍼 챔버(6)의 하방 중앙에는 래치 개폐축(4a)이 관통하는 관통 구멍이 배치되어 있다. 관통 구멍은 래치 개폐축(4a)의 크기와 거의 동일하거나 또는 그 이하이다.
래치 개폐축(4a)의 내부에는 래치 개폐축(4a)의 중심 주위로 회전 가능한 회전 샤프트(33)가 부착되어 있다. 회전 샤프트(33)의 선단부에는 포트 도어(3)의 면으로부터 연직 방향으로 돌출하도록 배치된 막대 형상의 래치 핀(32)이 배치되어 있다. 래치 핀(32)은 회전 샤프트(33)의 회전축을 중심으로 하는 원주 상의 임의의 위치에 배치되어 있다. 또한, 래치 핀(32)은 원주 상에 점대칭으로 배치된 원형의 구멍으로 하는 것이 바람직하다.
포트 도어(3)는 어세스 개구(5)의 형상과 거의 대응하는 형상인 직사각형의 평판 형상이며, 상승하였을 때에 포트 도어(3)가 어세스 개구(5)에 끼움 삽입되어 도10에 도시한 바와 같이 어세스 개구(5)를 폐쇄하여 버퍼 챔버(6)를 외계로부터 차단하여 밀폐하도록 되어 있다. 로드 포트부(10)의 외면측에 닿는 포트 도어(3)의 상면측에는 클린 박스(2)의 덮개(2b)의 위치를 맞추기 위해 포트 도어(3)의 상면으로부터 대략 수직으로 돌출한 돌기인 위치 결정 핀(3c)이 배치되어 있다. 클린 박스(2)의 덮개(2b)에는 위치 결정 핀(3c)에 대응한 구멍이 배치되어 있다. 클린 박스(2)가 로드 포트부(10)에 적재되고, 포트 도어(3)가 상승하여 클린 박스(2)의 덮개(2b)에 접촉하였을 때에는 이 위치 결정 핀(3c)이 구멍에 끼움 삽입되어 포트 도어(3)의 정확한 위치에 덮개(2b)가 위치하도록 되어 있다.
포트 도어(3)의 하방은 어세스 개구(5)의 크기보다도 큰 플랜지(3a)를 구성하고 있다. 플랜지(3a)에는 밀봉 부재(3b)가 끼움 삽입되어 있다. 전동 액튜에이터(7)를 구동하여 래치 개폐축(4a)을 상승시켜 포트 도어(3)를 어세스 개구(5)에 끼움 삽입하면 어세스 개구(5)의 모서리부(5a)에 플랜지(3a)가 접촉하여 버퍼 챔버 (6)가 밀폐 상태가 된다. 한편, 반대로 전동 액튜에이터(7)를 구동하여 래치 개폐축(4a)을 하강하여 포트 도어(3)를 하강시키면 어세스 개구(5)가 크게 개방된 상태가 된다.
포트 도어(3)의 하측의 면으로부터 버퍼 챔버(6)의 내부에 있어서의 적어도 래치 개폐축(4a)의 외주에는 벨로우즈(31)가 부착되어 있다(예를 들어, 일본 특허 공개 제2001-203253호 공보 또는 일본 특허 공개 평6-268046호 공보 참조). 전동 액튜에이터(7)를 구동하여 래치 개폐축(4a)이 상승한 경우에는 포트 도어(3)가 바닥면으로부터 멀어지므로 벨로우즈(31)는 신장되고, 전동 액튜에이터(7)를 구동하여 래치 개폐축(4a)이 하강한 경우에는 포트 도어(3)에 근접해지므로 벨로우즈(31)가 수축된다.
클린 박스(2)의 본체(2a)와 덮개(2b)는 래치 기구에 의해 운반시에 있어서의 덮개(2b)의 탈락 방지가 강구되어 있다. 도11은 덮개(2b) 내부의 래치 기구를 도시한 도면이다.
종래의 래치 기구는 대표적으로는 하기의 구조로 되어 있다. 덮개(2b)의 대략 중심의 위치에는 회전 가능하게 배치된 원형의 회전 캠판(21)을 갖고 있다. 회전 캠판(21)에는 회전 캠판(21)의 중심으로 하는 원주 상의 임의의 위치에 배치된 래치 구멍(21a)이 형성되어 있다. 또한, 래치 구멍(21a)은 원주 상에 점대칭으로 배치된 원형의 구멍으로 하는 것이 바람직하다. 래치 구멍(21a)은 래치 핀(32)과 걸어 맞추어지는 구멍이며, 래치 핀(32)을 수용 가능한 형상의 구멍인 동시에 그 위치도 래치 핀(32)의 위치와 대응하도록 배치되어 있다.
회전 캠판(21)의 래치 구멍(21a)의 외측에는 회전 캠판(21)의 중심에 대해 점대칭의 관계에 있는 2개의 캠홈(23)이 배치되어 있다. 캠홈(23)의 각각의 일단부를 시점(始点)(23a)이라 하고 타단부를 종점(終点)(23b)이라 하면, 캠홈(23)의 시점(23a)과 회전 캠판(21)의 중심의 거리가 가장 짧고, 한편 캠홈(23)의 종점(23b)측에서 캠홈(23)의 중심과 회전 캠판(21)의 중심으로부터의 거리가 가장 긴 상태가 된다. 한편, 덮개(2b)에는 덮개(2b)의 면을 따라 평행하게 이동 가능한 래치 부재(26)를 갖고 있다. 래치 부재(26)의 회전 캠판(21)측에는 종동 핀(24)이 배치되어 있다. 이 종동 핀(24)은 캠홈(23)과 걸어 맞추어져 있다. 또한, 래치 부재(26)는 덮개(2a)의 측면으로부터 돌출하는 선단부를 포함하고 있다.
덮개(2b)가 적재되는 포트 도어(3)의 래치 개폐축(4) 내의 회전 샤프트(33)의 선단부에 배치된 래치 핀(32)이 래치 구멍(21a)에 끼움 삽입되고, 회전 샤프트(33)를 회전함으로써 회전 캠판(21)을 회전하면 래치 부재(26)의 종동 핀(24)이 캠홈(23b)의 시점(23a)으로부터 종점(23b)을 향해 캠홈(23)을 따라 이동한다. 그에 따라서, 종동 핀(24)의 위치는 회전 캠판(21)의 중심으로부터 회전 캠판(21)의 외측을 향해 이동한다. 그 이동 거리에 따라서 래치 부재(26)의 선단부(22a)가 덮개(2b)의 외측을 향해 이동한다. 종동 핀(24)이 시점(23a)에 위치할 때에는 래치 부재(26a)가 덮개(2b) 내에 수납되고, 종동 핀(24)이 종점(23b)에 위치할 때에는 덮개(2b)로부터 돌출하도록 설정한다. 한편, 클린 박스(2)의 본체(2a)의 덮개(2b)와 접촉하는 위치에 래치 부재(26a)와 걸어 맞추어지는 래치 구멍(30)이 배치되어 있으므로, 회전 캠판(21)을 회전시킴으로써 덮개(2b)를 클린 박스(2)에 고정할 수 있 다.
포트 도어(3)의 상면에는 개폐 기구로서 회전 캠판(21)의 캠홈(23)에 걸어 맞추어져 회전 가능한 래치 핀(32)이 배치되어 있다. 래치 핀(32)은 래치 개폐축(4a)의 내부에 배치되는 회전 샤프트(33)와 결합하고 있다. 회전 샤프트(33)는 회전 수단인 로터리 액튜에이터(34)와 연결되어 있다.
계속해서, 클린 장치(1)에 있어서 로드 포트부(10)와 반송실(50)과 처리실(60) 사이에서 기판(9)을 어떻게 교환할지에 대해 설명한다.
클린 박스(2)는 우선 도9와 같이 로드 포트부에 적재되어 고정된다. 이 때, 기판(9)은 덮개(2b) 상에 적재되어 있다. 전동 액튜에이터(7)를 구동하여 래치 개폐축(4a)을 상승시키면 벨로우즈(31)가 신장하면서 포트 도어(3)가 상승하고, 포트 도어(3)의 상면으로부터 돌출하는 래치 핀(32)은 래치 구멍(21a)에 삽입된다. 그리고 포트 도어(3)는 클린 박스(2)의 덮개(2b)에 접촉한다. 이 단계에서 로터리 액튜에이터(34)를 회전시키면 회전 샤프트(33)가 회전하고, 그에 대응하여 래치 핀(32)이 래치 구멍(21a)의 둘레를 눌러 회전 캠판(21)을 회전시킨다. 회전 캠판(21)이 회전하면 종동 핀(24)이 회전하여 래치 부재(26)가 도어(2b)의 내부에 수납된다. 이 상태에서 덮개(2b)는 클린 박스(2)의 본체(2a)에 대한 고정이 해제된다.
여기서 전동 액튜에이터(7)를 구동하여 래치 개폐축(4a)을 하강시키면, 포트 도어(3)도 벨로우즈(31)가 수축하면서 하강하고, 그에 수반하여 덮개(2b)는 자중에 의해 포트 도어(3)의 하강에 따라서 클린 박스(2)의 본체(2a)로부터 떨어진다. 포트 도어(3)가 완전히 하강한 단계에서 버퍼 챔버(6)의 바닥부에 기판(9)을 적재한 덮개(2b)가 위치하는 상태가 된다. 이 상태에서 로봇 아암(55)에 의한 반송 동작이 가능해진다.
반송용 개구(51)를 로드 포트부(10)의 내부의 버퍼 챔버(6)와 반송실(50)의 내부(50a)는 반송용 개구(51)에 의해, 반송실(50)의 내부(50a)와 처리실(60)의 내부(60a)는 반송용 개구(52)에 의해 연통되어 있다. 로드 포트부(10)의 내부와 반송실(50)의 내부(50a)와 처리실(60)의 내부는 밀폐되어 외부 환경으로부터 차단된 상태에 있어 미니 인바이론먼트부를 형성한다.
또한, 개폐용 게이트 밸브(53a)를 구동하여 개폐 도어(53)를 개방하면 로드 포트부(10)의 내부의 버퍼 챔버(6)와 반송실(50)의 내부(50a)가 연통된다. 로봇 아암(55)을 조작하여 로드 포트부(10)의 내부의 버퍼 챔버(6)로부터 기판(9)을 반출한다. 또한, 개폐용 게이트 밸브(54a)를 구동하여 개폐 도어(54)를 개방하여 반송실(50)의 내부(50a)와 처리실(60)의 내부(60a)가 연통된다. 로봇 아암(55)을 조작하여 반송실(50)로부터 처리실(60)로 기판(9)을 반입한다.
또한, 이들 구성에 관해 관련되는 선행 기술 문헌으로서는, 전술한 일본 특허 공개 제2001-203253호 공보 및 일본 특허 공개 평6-268046호 공보 외에, 일본 특허 제3084827호 명세서 및 일본 특허 제2960540호 명세서가 예시된다.
또한, SMIF 타입의 용기에 있어서는 덮개에 배치된 래치 부재 혹은 그 선단부가, 본체에 형성된 구멍 혹은 홈과 걸어 맞추어짐으로써 포드 본체에 대한 덮개의 고정이 이루어져 있다. 즉, 이 고정은 래치 부재가 본체측에 형성된 래치 부재를 받치는 면과 접촉하고, 상기 면으로부터 덮개 중앙부를 향하는 방향의 부하와 본체측을 향하는 방향의 부하를 부여함으로써 행해진다. 이 경우, 일본 특허 제3167970호 명세서에 있어서도 서술된 바와 같이 상술한 부하를 얻기 위해 래치 부재 표면과 래치 부재의 받침면 사이에서 물리적인「마찰」이 생겨, 파티클을 발생할 가능성이 있다. 단일의 작업에 관해 보면 상기 파티클의 발생 빈도는 매우 적지만 수십 공정 이상에 미치는 가공 공정에 있어서는 무시할 수 없는 파티클 발생량이 될 우려가 있다.
이러한 파티클의 발생 요인을 저감하기 위해 상술한 일본 특허 제2960540호 명세서에 있어서는, 래치 부재에 대해 다른 방향으로 작용하는 2개의 캠면을 도입하고 있다. 즉, 래치 선단부가 본체부의 홈 등 내부에 대해 전진 혹은 후퇴할 때에는 래치 선단부가 래치 받침면과 접촉하지 않는 위치를 이동하는 것으로 하고, 걸어 맞춤시에 있어서는 래치 선단부는 래치 받침면에 대해 대략 수직인 방향으로 이동하는 것으로 하고 있다. 따라서, 상기 문헌에 개시되는 구성에 있어서는 래치 선단부와 래치 받침면이 서로 마찰 이동하는 상태는 거의 발생하지 않는다. 이로 인해, 본 구성에 있어서는 종래부터 문제가 되고 있는 래치 선단부의 마찰 이동에 수반한 파티클의 발생은 저감 가능하다고 생각된다. 그러나, 래치 선단부는 통상 덮개 전체를 본체부에 압박하기 위한 지지점으로서 작용한다. 이로 인해, 전술한 구성과 같이 래치 선단부의 대략 수직 방향의 이동에 의해 접점을 얻은 경우에는, 그 접점에 대해 하중의 집중이 생기기 쉬워 하중 집중에 기인하는 국부적으로 큰 마모가 발생될 우려가 있다. 이 경우, 종래와는 약간 다른 원인에 의한 파티클의 발생이 문제가 될 것이라 생각된다.
또한, 포드 내부 및 로드 포트에 있어서의 버퍼 챔버 내부는, 일반적으로는 청정 가스에 의해 대기압 혹은 대기압 이상의 압력으로 유지되어 있다. 이로 인해, 가령 전술한 파티클 등이 발생한 경우라도 이들 파티클이 이들 포드 내부 등에 침입하는 일은 매우 드물었다.
따라서, 일본 특허 제2960540호 명세서에 개시되는 구성이라도 어느 정도 이상의 파티클 저감 효과를 얻는 것이 가능하였다. 그러나, 예를 들어 레티클을 수용하는 경우 등 특정 용도용 SIMF 타입의 용기에 있어서는 포드 내부는 통상 감압된 상태로 유지되어 있고, 수용 물품인 레티클의 취출 조작도 버퍼 챔버 내부를 감압하여 이를 행하는 것으로 하고 있다. 이 경우, 발생한 파티클이 포드의 내부 등에 침입할 가능성은 매우 커진다.
상술한 상황에 비춘 구성으로서, 래치 기구를 이용하는 것이 아닌, 덮개에 있어서의 본체측의 면에 진공 공간을 형성하고, 상기 진공 공간의 존재에 의해 덮개에 부하되는 대기압을 이용하여 상기 덮개와 본체의 밀착 및 내부 공간의 밀폐를 도모하는 구성이 있다. 본 구성에 따르면, 래치 기구를 이용할 필요는 없으며, 따라서 상기 기구에 의한 파티클의 발생은 전혀 고려하지 않아도 된다. 또한, 상기 구성은, 이른바 FOUP 등 측면에 개구를 갖는 타입의 용기에 적응한 경우라면, 가령 진공 공간이 어떠한 상황에 의해 대기압이 된 경우라도 덮개가 떨어질 가능성은 낮으며, 이러한 상황에 대응하는 것도 비교적 용이하다. 그러나 이러한 구성을, 예를 들어 SMIF 타입의 포드 등 연직 방향 하면에 개구를 갖는 용기에 적응한 경우, 상기 공간에 있어서의 진공의 파괴는 덮개의 낙하를 초래할 수도 있으므로 적당한 대응이 요망된다. 이 경우, 대응 수단으로서 상술한 래치 기구를 이용한 경우 전술한 파티클의 저감도 동시에 도모할 필요가 있었다.
상기한 바와 같이, 종래의 클린 장치(1)는 이하의 과제가 있었다.
(1) 종래의 클린 장치(1)에 있어서의 로드 포트부(10)의 포트 도어(3)에 배치되어 있는 개폐 기구는 덮개(2b)의 고정 장치인 래치 기구의 해제를 행하지만 덮개(2b) 자체를 보유 지지하는 데 그치며, 덮개(2b)를 포트 도어(3)에 대해 고정하면서 클린 박스(2)의 본체(2a)로부터 강제적으로 떼어내는 것은 아니다. 자중에 의해 클린 박스(2)의 본체(2a)로부터 자연히 떨어지는 것을 예정하는 것이다.
통상 클린 박스(2) 내는 불활성 가스를 충만시킨 상태이며 내압도 거의 대기압이고, 또한 기판(9)도 포함하여 덮개(2b) 자체가 중력에 의해 클린 박스(2a)로부터 자연히 떨어질 수 있을 만큼의 중량을 갖고 있기 때문이다.
그러나, 기판 처리의 경우에서도 특히 레티클의 처리 등에서는, 처리실(60)과 반송실(50)을 포함하는 클린 장치(1) 전체를 단순히 고청정도로 유지할 뿐만 아니라 진공 상태로, 또한 클린 박스(2)의 내부를 진공으로 할 필요가 있다. 이러한 경우에는, 자중에 의해 덮개(2b)가 클린 박스(2)의 본체(2a)로부터 떨어지지 않는 경우가 있다. 또한, 진공으로 유지하기 위해 클린 박스(2)의 본체(2a)와 덮개(2b)의 접합부에 배치한 밀봉재가 충분한 밀봉 효과를 가질수록 밀봉 부재와 클린 박스(2)의 밀착성이 좋아져, 클린 박스(2)로부터 덮개(2b)가 떨어지기 어려워진다. 이는 특히, 기판(9)이 적재되어 있지 않은 경우 등에 현저해진다.
(2) 또한, 종래의 클린 장치(1)에 있어서의 로드 포트부(10)에서는 포트 도어(3)의 하측의 면과 버퍼 챔버(6)의 바닥부 사이의 버퍼 챔버(6) 내에 벨로우즈(31)가 부착되어 있다. 포트 도어(3)가 하강하였을 때에 버퍼 챔버(6)는 진공화가 이루어지지만, 벨로우즈(31)의 신축 동작에 수반되는 벨로우즈(31)의 마모에 의해 먼지를 발생시켜 버퍼 챔버(6) 내의 클린도를 저하시킨다는 문제가 있었다.
본 발명에서는, 덮개와 본체를 갖고 내부가 고청정도로 유지되고 상기 내부에 기판이 보관된 클린 박스로부터 상기 기판을 수취하여 기판을 처리하기 위해 외부의 환경보다도 내부의 환경이 고청정도로 유지된 클린 장치이며, 상기 클린 장치는 상기 클린 박스를 적재하여 상기 덮개를 상기 본체로부터 분리 또는 상기 본체에 결합하기 위해 회전 가능한 래치 핀을 갖는 개폐 기구를 구비한 로드 포트부를 구비하고, 상기 클린 박스의 덮개는 상기 래치 핀과 걸어 맞춤 가능하며 상기 래치 핀의 상기 회전에 따라서 작동하는 캠판과, 상기 캠판의 작동에 따라서 덮개의 밖으로 돌출하여 상기 클린 박스 본체의 래치 구멍에 걸어 맞추어지거나 또는 덮개 내에 수납됨으로써 상기 클린 박스 본체의 래치 구멍으로부터 빠지는 래치 부재를 갖고, 상기 클린 박스의 덮개는, 비원형의 수용 구멍을 더 구비하고, 상기 개폐 기구는 상기 수용 구멍에 끼움 삽입 가능한 돌기를 더 구비하여, 상기 클린 박스가 상기 로드 포트에 적재되었을 때에 상기 래치 핀이 상기 캠판과 걸어 맞춤 가능한 상태가 되는 동시에 상기 개폐 기구의 돌기가 상기 클린 박스의 덮개에 끼움 삽입되고, 상기 래치 핀의 회전에 따라서 돌기와 상기 수용 구멍이 걸어 맞춤 가능해지는 것을 특징으로 하는 클린 장치에 의해 상기 문제를 해결한다. 이에 의해 클린 장치에 있어서, 포트 도어가 상기 덮개를 고정하는 것이 가능해지므로 덮개의 자중에만 의하는 일 없이 덮개를 클린 박스의 본체로부터 적극적으로 떨어뜨리는 것이 가능해진다.
또한 본 발명에서는, 덮개와 본체를 갖고 내부가 고청정도로 유지되고 상기 내부에 기판이 보관된 클린 박스로부터 상기 기판을 수취하여 기판을 처리하기 위해 외부의 환경보다도 내부의 환경이 고청정도로 유지된 클린 장치이며, 상기 클린 장치는 상기 클린 박스로부터 기판을 수취하기 위해 상기 클린 박스를 적재하여 상기 덮개를 상기 본체로부터 분리 또는 상기 본체에 결합하기 위한 로드 포트부를 구비하고, 상기 로드 포트부는 일면에 상기 덮개가 적재되어 승강하는 포트 도어와, 상기 포트 도어의 상기 승강 영역에 있어서 상기 포트 도어의 외주를 둘러싸도록 배치되는 벽면과 상기 포트 도어의 다른 면에 대향하여 배치되는 바닥면으로 구획되는 버퍼 챔버와, 상기 포트 도어에 접합되어 상기 포트 도어의 면과 수직인 방향을 따라 상기 포트 도어를 승강시키는 승강 수단과, 상기 승강 수단의 외주에 배치되는 벨로우즈를 구비하고, 상기 벨로우즈의 일단부는 상기 버퍼 챔버의 바닥면과 연결되고, 상기 벨로우즈의 타단부는 상기 버퍼 챔버의 외측에 있어서 상기 승강 수단에 대해 고정되어 있는 것을 특징으로 하는 클린 장치에 의해 해결한다. 즉, 클린 장치에 있어서 먼지를 발생시키는 일 없이 포트 도어의 승강 동작을 행하는 것이 가능해진다.
또한 본 발명에서는, 덮개와 본체를 갖고 내부가 고청정도로 유지되고 상기 내부에 기판이 보관된 클린 박스로부터 상기 기판을 수취하여 기판을 처리하기 위해 외부의 환경보다도 내부의 환경이 고청정도로 유지된 클린 장치를 이용하여 클린 박스의 본체로부터 덮개를 분리하여 기판의 취출을 위한 준비를 행하는 방법이며, 상기 클린 장치는 상기 클린 박스를 적재하여 상기 덮개를 상기 본체로부터 분리 또는 상기 본체에 결합하기 위해 회전 가능한 래치 핀을 갖는 개폐 기구를 구비한 로드 포트부를 구비하고, 상기 로드 포트부는 일면에 상기 덮개의 외면이 접하도록 적재되어 승강 가능한 포트 도어와, 상기 포트 도어의 상기 승강 영역에 있어서 상기 포트 도어의 외주를 둘러싸도록 배치되는 벽면과 상기 포트 도어의 다른 면에 대향하여 배치되는 바닥면으로 구획되는 버퍼 챔버를 갖고, 상기 클린 박스의 덮개는 상기 래치 핀과 걸어 맞춤 가능하며 상기 래치 핀의 상기 회전에 따라서 작동하는 캠판과, 상기 캠판의 작동에 따라서 덮개의 밖으로 돌출하여 상기 클린 박스 본체의 래치 구멍에 걸어 맞추어지거나 또는 덮개 내에 수납됨으로써 상기 클린 박스 본체의 래치 구멍으로부터 빠지는 래치 부재를 갖고, 상기 클린 박스의 덮개는 비원형의 수용 구멍을 더 구비하고, 상기 개폐 기구는 상기 수용 구멍에 끼움 삽입 가능한 돌기를 더 구비하고, 상기 클린 장치는 상기 버퍼 챔버 중 포트 도어의 근방에 배치되는 제1 배기구와, 버퍼 챔버의 제1 배기구로부터 떨어져 배치되는 제2 배기구를 구비하고, 상기 방법은 상기 클린 박스가 상기 로드 포트에 적재되었을 때에 상기 래치 핀을 상기 캠판과 걸어 맞춤 가능한 상태로 하는 동시에 상기 개폐 기구의 돌기를 상기 클린 박스의 덮개에 끼움 삽입하는 공정과, 상기 제1 배기구로부터 상기 포트 도어와 상기 덮개가 접합하는 계면 부분을 배기하는 공정과, 상기 제2 배기구로부터 상기 버퍼 챔버를 배기하는 공정과, 그 후 상기 포트 도어를 강하시켜 상기 버퍼 챔버 내로 기판을 이송하는 공정을 특징으로 하는 방법도 제공한다. 이 방법에 의해, 덮개와 본체를 갖고 내부가 고청정도로 유지되고 상기 내부에 기판이 보관된 클린 박스로부터 상기 기판을 수취하여 기판을 처리하기 위해 외부의 환경보다도 내부의 환경이 고청정도로 유지된 클린 장치에 있어서 클린 박스의 본체로부터 덮개를 분리하여 기판의 취출을 용이하고 확실하게 행할 수 있다.
또한 본 발명에서는, 본체와 기판이 적재되어 상기 본체에 끼워 맞추어지는 덮개를 포함하는 클린 박스가 적재되고, 그 내부로부터 상기 기판을 취출하기 위한 기판 처리 장치용 로드 포트이며, 상기 기판 처리 장치용 로드 포트는 외면에 상기 덮개가 적재되는 포트 도어와, 상기 포트 도어의 외주를 둘러싸도록 배치되는 벽면과 상기 포트 도어의 내면에 대향하여 배치되는 바닥면으로 구획되는 버퍼 챔버와, 상기 포트 도어의 내면에 접합되어 상기 포트 도어의 면과 수직인 방향을 따라 상기 포트 도어를 승강시키는 승강 수단과, 상기 승강 수단의 외주에 배치되는 벨로우즈를 구비하고, 상기 벨로우즈의 일단부는 상기 버퍼 챔버의 바닥면과 연결되고, 상기 벨로우즈의 타단부는 상기 버퍼 챔버의 외측에 있어서 상기 승강 수단에 대해 고정되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치용 로드 포트에 의해 상기 문제를 해결한다. 즉, 먼지를 발생시키는 일 없이 포트 도어의 승강 동작을 행하는 것이 가능해진다.
또한 본 발명에서는, 캠판 및 상기 캠판에 의해 덮개로부터 돌출하거나 또는 상기 덮개에 수용하는 이동을 행하는 래치 부재를 갖고 기판이 적재 가능한 덮개와, 상기 래치 부재가 상기 덮개로부터 돌출하였을 때에는 상기 래치 부재의 선단부를 수용하는 래치 구멍에 의해 상기 덮개와 결합하는 본체를 갖는 클린 박스로부터 상기 기판을 취출하여 기판 처리 장치에서 상기 기판의 처리를 행하기 위해 상기 기판 처리 장치에 배치되는 개폐 기구이며, 상기 개폐 기구는 상기 캠판과 걸어 맞추어져 회전이 가능한 래치 핀을 구비하고, 상기 덮개는 비원형의 수용 구멍을 더 구비하고, 상기 개폐 기구는 상기 수용 구멍에 끼움 삽입 가능한 돌기를 구비하여, 상기 돌기와 상기 수용 구멍이 걸어 맞추어짐으로써 상기 개폐 기구가 상기 덮개와 연결되어 상기 클린 박스로부터 상기 덮개를 떼어내는 것을 특징으로 하는 개폐 기구에 의해 상기 문제를 해결한다. 즉, 이에 의해 포트 도어가 상기 덮개를 고정하는 것이 가능해지므로 덮개의 자중에만 의하는 일 없이 덮개를 클린 박스의 본체로부터 적극적으로 떨어뜨리는 것이 가능해진다.
또한, 본 발명은 상술한 상황에 비추어 이루어진 것으로, 예를 들어 SIMF 타입의 포드에 있어서 진공 파괴시에 있어서의 덮개의 낙하 등을 방지하는 동시에 래치 기구에 기인하는 파티클 등의 발생을 저감한 포드 등 물품 수용 용기의 제공을 목적으로 하는 것이다. 보다 상세하게는, 용기 내부가 대기압보다도 낮은 압력(감압하)에 있는 경우에 래치 기구에 기인하는 파티클 등의 발생을 저감하고, 또한 용기 내부로의 파티클 등의 침입을 방지할 수 있는 물품 수용 용기의 제공을 목적으로 하는 것이다.
상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명에 관한 물품 수용 용기는 물품을 수용 가능한 내부 공간 및 내부 공간의 연직 하방에 마련된 개구를 갖는 본체와, 개구를 폐지(閉止)하여 내부 공간을 밀폐하는 덮개로 이루어지는 물품 수용 용기이며, 본체와 덮개 사이에는 감압 공간이 배치되고, 덮개는 덮개의 외주로부터 돌출 가능한 낙하 방지 부재를 갖고, 본체는 낙하 방지 부재가 덮개의 외주로부터 돌출하였을 때에 낙하 방지 부재와 접촉하는 일이 없도록 이를 수용하는 오목부를 갖고, 낙하 방지 부재가 덮개의 외주로부터 돌출한 상태에서 덮개로 내부 공간을 밀폐시키는 감압 공간의 감압 상태가 파괴되었을 때에는 낙하 방지 부재가 오목부의 내주와 접촉하는 것을 특징으로 하고 있다.
또한, 전술한 물품 수용 용기에 있어서는 감압 공간은 내부 공간과 동일한 것, 혹은 내부 공간과는 다른 공간인 것 중 어느 하나인 것이 바람직하다. 또한, 전술한 물품 수용 용기에 있어서는 본체 및 덮개는 수평 방향으로 대향하는 제1 및 제2 평면을 각각 갖고, 낙하 방지 부재는 제2 평면으로부터 수평 방향으로 돌출하고 오목부는 제1 평면에 형성되는 것이 바람직하다. 또한, 내부 공간은 그 수평 방향 횡단면의 형상이 원형 또는 사각형이며 그 4 구석이 소정의 반경을 갖는 원호의 일부가 되는 형상을 갖는 것이 바람직하다.
도1a는 본 발명의 클린 장치의 로드 포트부를 측면으로부터 본 도면이다.
도1b는 본 발명의 클린 장치의 로드 포트부를 상방으로부터 본 도면이다.
도2는 본 발명의 클린 박스의 덮개를 도시한 도면이다.
도3a는 본 발명의 클린 박스의 덮개의 회전 캠판을 도시한 도면이다.
도3b는 본 발명의 클린 박스의 덮개의 회전 캠판과 로드 포트부의 포트 도어 의 위치 관계의 상세를 도시한 도면이며, 도3a에 있어서의 3B-3B 단면을 도시한 도면이다.
도4a는 본 발명의 클린 박스의 덮개의 회전 캠판을 도시한 도면이다.
도4b는 본 발명의 클린 박스의 덮개의 회전 캠판과 로드 포트부의 포트 도어의 위치 관계의 상세를 도시한 도면이며, 도4a에 있어서의 4B-4B 단면을 도시한 도면이다.
도5a는 본 발명의 로드 포트부를 도시한 도면으로, 포트 도어가 하강하고 있는 상태를 도시한 도면이다.
도5b는 본 발명의 로드 포트부를 도시한 도면으로, 포트 도어가 상승하고 있는 상태를 도시한 도면이다.
도6은 본 발명의 로드 포트부에 있어서의 로딩 동작을 나타낸 도면이다.
도7은 본 발명의 로드 포트부에 있어서의 언로딩 동작을 나타낸 도면이다.
도8a는 본 발명의 로드 포트부에 있어서의 로딩 동작 및 언로딩 동작의 흐름에 있어서의 포트 도어의 위치 관계를 도시한 도면이다.
도8b는 본 발명의 로드 포트부에 있어서의 로딩 동작 및 언로딩 동작의 흐름에 있어서의 포트 도어의 위치 관계를 도시한 도면이다.
도8c는 본 발명의 로드 포트부에 있어서의 로딩 동작 및 언로딩 동작의 흐름에 있어서의 포트 도어의 위치 관계를 도시한 도면이다.
도8d는 본 발명의 로드 포트부에 있어서의 로딩 동작 및 언로딩 동작의 흐름에 있어서의 포트 도어의 위치 관계를 도시한 도면이다.
도9는 종래 및 본 발명의 로드 포트부와 클린 장치 전체의 관계를 도시한 도면이다.
도10은 종래의 로드 포트부를 도시한 도면이다.
도11은 종래의 클린 박스의 덮개의 예를 도시한 도면이다.
도12는 공통의 진공 펌프를 사용한 경우의 클린 장치의 예를 도시한 도면이다.
도13은 본 발명에 있어서의 또 다른 실시 형태에 관한 포드에 관한 것으로, 그 단면에 있어서의 개략 구성을 도시한 도면이다.
도14는 도13에 도시한 포드에 관한 것으로, 본체를 그 하방으로부터 본 상태를 도시한 도면이다.
도15는 도13에 도시한 포드에 관한 것으로, 본체에 대해 덮개를 부착한 상태를 그 하방으로부터 본 경우이며, 또한 덮개 내부에 형성된 낙하 방지 기구에 관련되는 부분을 도시한 도면이다.
도16a는 본 발명에 있어서의 또 다른 실시 형태에 관한 포드에 관한 것으로, 그 단면이며 주요부를 확대하여 도시한 도면이다.
도16b는 본 발명에 있어서의 또 다른 실시 형태에 관한 포드에 관한 것으로, 그 단면이며 주요부를 확대하여 도시한 도면이다.
도1a 및 도1b 내지 도6을 참조하여, 본원 발명의 클린 장치(1)의 로드 포트부(10)의 실시 형태에 대해 설명한다. 도1a는 본원 발명의 로드 포트부(10)를 확 대한 도면이다. 클린 장치(1)에 있어서의 로드 포트부(10)의 전체적인 구성은 도9의 상기 종래의 기술에서 설명한 구성과 동일하다. 클린 장치(1)는 처리실(60)과 반송실(50)과 로드 포트부(10)를 구비하고, 로드 포트부(10)는 기판(9)을 반도체 장치에 반입하기 위해 클린 박스(2)를 적재하는 부위이며, 클린 박스(2)의 본체(2a)로부터 덮개(2b)를 떼어내는 기능을 구비하고 있는 점에서 공통된다. 즉, 로드 포트부(10)는 종래의 클린 장치(1)와 마찬가지로 반송용 개구(51)를 거쳐서 반송실(50)에 접속되고, 반송용 개구(51)는 개폐 도어(53)에 의해 구획되어 있다. 로드 포트부(10)의 내부에는 대략 수평으로 유지된 포트 도어(3)가 배치되어 있다.
로드 포트부(10)는 포트 도어(3)를 사방으로부터 둘러싸는 벽면과, 포트 도어(3)의 하면과 대략 평행하게 위치하는 바닥부에 의해 둘러싸이는 버퍼 챔버(6)를 갖고 있다. 버퍼 챔버(6)가 포트 도어의 상면측에서 인터페이스 공간(6a)으로서, 포트 도어(3)의 하면측을 버퍼 챔버(6)로서 편의적으로 구별되는 점은 종래의 장치와 동일하다.
포트 도어(3)의 하면은 그 하방에 배치된 래치 개폐축(4a)에 접속되어 있다. 래치 개폐축(4a)은 버퍼 챔버(6)의 바닥면에 배치된 구멍으로부터 외측 하방을 향해 관통하도록 배치되어 있다. 래치 개폐축(4a)은 프레임(4b)을 거쳐서 승강 수단인 전동 액튜에이터(7)에 접속되어 있다. 프레임(4b)은 전동 액튜에이터에 접속되어 있어 연직 방향으로 래치 개폐축(4a)을 승강시킨다. 래치 개폐축(4a)의 내부에는 관통하도록 회전 샤프트(33)가 배치되어 있다. 종래의 장치와 달리 회전 샤프트(33)는 회전뿐만 아니라 승강도 행한다. 이 승강 및 회전 동작을 행하기 위해, 프레임(4b)의 내부에는 회전 샤프트(33)를 회전시키기 위한 로터리 액튜에이터(8a)와, 회전 샤프트(33)를 래치 개폐축(4a) 내에서 승강시키기 위한 승강 실린더(8b)가 배치되어 있다. 로드 포트부(10)에 있어서, 포트 도어(3)를 사방으로부터 둘러싸는 벽면에는 서로 마주보도록 기판 검지 센서(77)가 배치되어 있다. 기판 검지 센서(77)는 대향하는 벽면에 각각 배치되는 작은 창으로부터 적외선을 발하는 에미터(77a)와, 에미터로부터 발한 적외선을 수광하는 디텍터(77b)로 이루어진다. 도1b는 도1a에 도시한 로드 포트부(10)를 연직 방향 상방으로부터 본 도면이며, 에미터(77a)와 디텍터(77b)의 위치 관계를 나타낸 도면이다. 또한, 기판 검지 센서(77)는 적외선 센서에 한정되지는 않는다. 도1b에 도시한 바와 같이, 에미터(77a)와 디텍터(77b)는 기판(9)이 상승 하강할 때에 기판(9)이 에미터(77a)로부터 발한 광선이 디텍터(77b)에 도달하기까지의 광축을 횡단하도록 배치되어 있다. 따라서, 포트 도어(3)가 승강하여 기판(9)이 그 광축을 횡단하는 것이 예정되어 있는 위치에서 그 광축이 차단되어 있으면, 기판(9)이 덮개(2b) 상에 적재되어 있게 된다.
계속해서, 이하 본원 발명의 로드 포트부(10)와 종래의 로드 포트부의 다른 부분을 특히 중심으로 설명한다. 본원 발명의 로드 포트부(10)가 갖는 종래의 클린 장치(1)가 갖는 특징은 주로 2가지이다.
제1 특징은, 포트 도어(3)와 클린 박스(2)의 덮개(2b)를 연결하여 덮개(2b)의 개폐를 행하기 위한 개폐 기구로서 연결 수단을 갖고 있는 점이다. 이 특징에 의해, 자중에 의하지 않고 강제적으로 덮개(2b)를 클린 박스(2)의 본체(2a)로부터 떼어내는 것이 가능해진다.
또한 제2 특징은, 종래는 포트 도어(3)의 하측의 면과 버퍼 챔버(6)의 바닥부 사이의 버퍼 챔버(6) 내에 있어서 벨로우즈(31)가 부착되어 있었던 데 반해, 본원에서는 벨로우즈(31)의 일단부(31a)는 버퍼 챔버(6)의 바닥면부와 연결하고, 벨로우즈(31)의 타단부(31b)는 승강 수단(4)에 대해 고정되어 버퍼 챔버(6)의 외측에 부착되어 있는 점이다. 이에 의해, 버퍼 챔버(6)에 있어서의 먼지의 발생을 저감화할 수 있다.
또한, 본 명세서 중「연결」이라 함은 단순히 결합할 뿐만 아니라, 포트 도어를 승강 이동시킴으로써 덮개(2b)가 그에 수반하여 이동하도록 결합되어 있는 것을 의미하는 것으로 한다. 이하, 이들에 대해 설명한다.
(연결 수단)
포트 도어(3)는 본원의 개폐 기구를 구비하고 있다. 개폐 기구는, 클린 박스(2)의 덮개(2b)는 서로 연결하기 위한 연결 수단을 갖는다. 우선, 도2를 참조하여 클린 박스(2), 특히 클린 박스(2)의 덮개(2b)에 대해 설명한다. 도2는 클린 박스(2)의 상방으로부터 본 클린 박스의 덮개(2b)의 내부 구조를 도시한 것이다. 클린 박스(2)의 덮개(2b)에는 종래의 회전 캠판(21)과 마찬가지로 래치 기구가 부착되어 있다. 래치 기구는 덮개(2b)의 중앙에 배치된 대략 원 형상의 회전 캠판(21)과 래치 부재(26)를 포함하고 있다. 회전 캠판(21)은 종래의 클린 박스(2)의 덮개(2b)의 대략 중심에 상기 중심 주위로 회전 가능하게 배치되어 있다. 회전 캠판(21)의 중앙에는 회전 캠판(21)의 중심을 동심으로 하는 원주 상에 배치된 래치 구멍(21a)이 형성되어 있다.
회전 캠판(21)의 래치 구멍(21a)의 외측에는 회전 캠판(21)의 중심에 대해 점대칭의 관계에 있는 2개의 캠홈(23)이 배치되어 있다. 캠홈(23)의 각각의 일단부를 시점(23a)으로 하고 타단부를 종점(23b)으로 하면, 캠홈(23)의 시점(23a)과 회전 캠판(21)의 중심의 거리가 가장 짧고, 한편 캠홈(23)의 종점(23b)측에서 캠홈(23)의 중심과 회전 캠판(21)의 중심으로부터의 거리가 가장 긴 상태가 된다. 캠홈(23)은 시점(23a)으로부터 종점(23b)까지 캠판(21)의 중심으로부터의 거리가 서서히 변화하는 매끄러운 원호 형상을 갖고 있다. 한편, 덮개(2b)에는 덮개(2b)의 면에 평행하게 이동 가능한 래치 부재(26)를 갖고 있다. 래치 부재(26)의 회전 캠판(21)측의 단부(26b)에는 종동 핀(24)이 배치되어 있다. 이 종동 핀(24)은 캠홈(23)과 걸어 맞추어져 있다. 또한, 래치 부재(26)는 덮개(2a)의 측면으로부터 돌출하는 선단부(26a)를 포함하고 있다. 래치 부재(26)는 래치 부재(26)의 단면 형상과 거의 같은 정도의 가이드 구멍을 갖는 가이드 부재(28a)와 가이드 부재(28b) 사이를 상기 가이드 구멍을 관통하도록 미끄럼 이동 가능하게 보유 지지되어 있다. 가이드 부재(28a)와 가이드 부재(28b) 사이에는 스프링(27)이 끼움 삽입되어 있어 래치 부재(26)가 덮개(2b)의 외부로 신장되는 방향으로 압박하고 있다. 또한, 압박 방향은, 외부로 신장되는 방향으로도, 내부로 수축되는 방향으로도, 요구에 따라서 설정의 변경이 가능하다. 회전 캠판(21)이 회전하면 캠홈(23)도 그에 따라서 회전하여 래치 부재(26)가 덮개(2b)의 내부에 수납되거나, 또는 덮개(2b)의 내부로부터 외측을 향해 돌출한다. 클린 박스(2)의 본체(2a)의 덮개(2b)와 접촉하는 모서리에는 래치 부재(26)의 선단부(26a)와 대응하는 위치에 래치 구멍(30)이 배치되 어 있고, 래치 부재(26)가 돌출하여 선단부(26a)가 덮개(2b)로부터 밖을 향해 돌출하고 있을 때에는 래치 부재(26)의 선단부(26)가 래치 구멍(30) 내에 수용되어 걸어 맞추어져 덮개(2b)가 클린 박스(2)에 고정되고, 한편 래치 부재(26)가 회전 캠판(21)의 회전에 의해 덮개(2b)의 내부에 가장 인입되어 있는 상태에서는 래치 부재(26)의 선단부(26a)는 덮개(2b) 내에 수납되어 덮개(2b)는 클린 박스(2)와는 결합되지 않는다. 또한, 래치 구멍(30)의 직경은 래치 구멍(30) 내에 수용되는 래치 부재(26)의 직경보다 충분히 크게 되어 있고, 래치 구멍(30)과 래치 부재(26)가 미끄럼 마찰함으로써 발생되는 먼지를 방지하도록 되어 있다. 이와 같이 해도, 클린 박스(2)가 진공인 경우에는 덮개가 끌어 당겨지도록 흡착하므로 덮개(2b)가 클린 박스(2)의 본체(2a)로부터 탈락하는 일도 없다.
본원의 덮개(2b)와 포트 도어(3)는 서로 연결하기 위해, 말하자면 수(雄)형측 연결 수단과 암(雌)형측 연결 수단으로 이루어지는 연결 수단을 구비하고 있다. 수형측 연결 수단과 암형측 연결 수단 중 어느 하나를 덮개(2b)측에 배치할지는 제한되지 않는다. 본 실시예에서는 대표적인 예로서, 덮개(2b)에 암형측의 연결 수단이, 포트 도어(3)측에 수형측의 연결 수단이 배치되어 있다는 전제에서 설명을 행한다.
우선 덮개(2b)측의 암형측 연결 수단에 대해 설명한다. 덮개(2b)의 중앙부에는 암형측 연결 수단인 스폿 페이싱 구멍(42)과 수용 구멍(41)이 배치되어 있다. 수용 구멍(41)은 포트 도어(3)와 접촉하는 측의 덮개(2b)의 면으로부터 스폿 페이싱 구멍(42)의 바닥부까지 관통하도록 배치되어 있다. 수용 구멍(41)의 형상은 대 표적으로는 비원형이다. 예를 들어, 직사각형이라도 좋고, 또는 타원형이라도 좋다. 스폿 페이싱 구멍(42)의 크기가 수용 구멍(41)의 크기보다 커, 스폿 페이싱 구멍(42)의 시트면이 수용 구멍(41)의 시트부(41a)로서 남으면 좋다.
계속해서, 도3a, 도3b, 도4a 및 도4b를 참조하여 포트 도어(3)측의 연결 수단에 대해 설명한다. 즉, 이 상태에서는 상기 종래의 기술에서 설명한 바와 같이, 래치 개폐축(4a)이 상승하여 포트 도어(3)가 덮개(2b)에 접촉한 상태로 되어 있다. 또한, 도3a 및 도4a는 포트 도어(3)가 덮개(2b)에 접촉한 상태에 있어서의 회전 캠판(21) 부분을 확대한 도면이고, 한편 도3b 및 도4b는 각각 도3a 및 도4a의 3B-3B 단면과 4B-4B 단면을 도시하고 있다.
회전 샤프트(33)의 덮개(2b)측 단부의 회전 원반(21)의 중심에 닿는 위치에는 수형측 연결 수단이 배치되어 있다. 수형측 연결 수단인 돌기(45)는 회전 샤프트(33)의 단부의 면으로부터 원기둥 형상인 근원부(根元部; 45b)와, 근원부(45b)의 선단부측에 배치되는 플랜지부(45a)를 구비하고 있다. 플랜지부(45a)는 근원부(45b)의 단면 형상보다 크면 그 효과를 발휘한다. 회전 샤프트(33)의 중심축을 따라 덮개(2b)측으로부터 포트 도어(3)의 면 방향에서 플랜지부(45a)의 투영면을 보았을 때의 플랜지부(45a)의 형상은 수용 구멍(41) 내에 삽입 가능할 정도로 관통 구멍(42)보다 약간 작은 거의 유사한 형상이다. 그리고, 또한 플랜지부(45a)를 회전하였을 때에 그 방향에서 본 경우의 플랜지부(45a)의 형상은 수용 구멍(41)의 형상과 어긋나게 포개지는 영역이 생기도록 되어 있다. 이 포개진 영역에 의해 스폿 페이싱 구멍(42)의 시트면인 수용 구멍(41)의 시트부(41a)와 걸어 맞추어지는 것이 가능해진다. 본 실시 형태에서는, 수용 구멍(41)은 대략 직사각형의 긴 구멍이며, 플랜지부(45a)는 수용 구멍(41)에 삽입 가능한 그보다 약간 작은 대략 직사각형의 형상이다.
래치 개폐축(4a)의 내부에 배치되는 회전 샤프트(33)는 래치 개폐축(4a)의 내부를 승강 샤프트(3)의 중심축을 따라 미끄럼 이동하도록 승강 가능하다. 한편, 래치 개폐축(4a)의 선단부에는 래치 핀(32)이 포트 도어(3)로부터 연직 방향으로 돌출되도록 배치되어 있다. 래치 핀(32)은 회전 캠판(21)의 중심의 위치를 대략 중심으로 하는 동심의 원의 원주 상이며 회전 캠판(21)의 래치 구멍(21a)에 대응된 위치에 회전 캠판(21)의 중심에 대해 점대칭이 되도록 배치되어 있다.
이 경우, 예를 들어 도3b에 도시한 바와 같이 래치 개폐축(4a)의 내부를 회전 샤프트(33)가 상승하면, 플랜지부(45a)가 수용 구멍(41)의 내부에, 또한 래치 핀(32)이 래치 구멍(21a) 내에 삽입된다. 이 단계에서 플랜지부(45a)의 형상과 수용 구멍(41)의 회전 캠판(21)의 면에의 투영 형상은 거의 동일하다. 여기서, 회전 샤프트(33)를 회전시키면, 도4a와 같이 플랜지부(45a)의 형상과 수용 구멍(41)의 형상과의 회전 캠판(21)의 면에의 각각의 투영 형상은 달라, 각각의 투영 형상에는 포개지는 영역이 나온다. 이 포개지는 영역이 수용 구멍(41)의 시트부(41a)에 닿고, 이 영역이 서로 접촉함으로써 포트 도어(3)와 덮개(2b)를 연결할 수 있다.
또, 덮개(2b) 상에는 부서지기 쉬운 기판(9)이 적재되어 있으므로 덮개(2b)에 큰 진동을 부여하면 기판(9)이 손상될 가능성이 있다. 그로 인해, 플랜지부(45a)와 수용 구멍(41)의 시트부(41a)는 회전 샤프트(33)를 회전시켰을 때에는 걸 어 맞추어지지 않고, 회전시켜 플랜지부(45a)의 형상과 수용 구멍(41)의 형상과의 회전 캠판(21)에의 투영 형상은 달라 투영면에 포개지는 영역이 생긴 후에 회전 샤프트(33)를 하강시켜 그 영역을 접촉시키도록 하면 기판(9)에의 영향을 작게 할 수 있다. 구체적으로는, 스폿 페이싱 구멍(42)의 시트면인 수용 구멍(41)의 시트부(41a)의 면과 상기 시트부(41a)와 접촉 가능한 플랜지부(45a)의 면(본 실시 형태에서는 하면)과의 높이를 백래쉬로서 소정의 높이(t)만큼 여유를 비워 둔다. 이 소정의 높이(t)만큼 확보한 단계에서 회전 샤프트(33)를 회전하는 동작을 행하고, 그 후에 회전 샤프트(33)를 하강시키는 이동을 하면 회전 샤프트(33)가 소정의 높이(t)만큼 하강한 단계에서 스폿 페이싱 구멍(42)의 시트면인 수용 구멍(41)의 시트부(41a)와 상기 시트부(41a)와 접촉 가능한 플랜지부(45a)의 면이 접촉하여 걸어 맞추어져 연결이 완료된다.
또한, 회전 샤프트(33)가 가장 상승하였을 때에 덮개(2b)의 면과 같은 높이가 되도록 설정해 두면, 회전 샤프트(33)의 단부의 면(33a)과 포트 도어(3)의 면(3b)의 높이가 거의 동일해져 덮개(2b)의 면에 접촉 가능해진다. 또, 회전 샤프트(33)를 회전함으로써, 래치 핀(32)이 래치 구멍(21a)에 끼움 삽입되어 회전함으로써 래치 부재(26)가 덮개(2b)에 대해 이동하여, 클린 박스(2)의 본체(2a)에 대한 덮개(2b)의 개방과 포트 도어(3)와 덮개(2b)의 고정을 동시에 행할 수 있다.
상기 종래의 기술에서 설명한 클린 박스(2)에 상기한 연결 수단을 조합함으로써, 포트 도어(3)에 대한 덮개(2b)의 고정 또는 해방하는 동작과 상기 포트 도어(3)에의 덮개(2b)의 연결 동작을 동시에 실행하는 효율적인 공정을 실현할 수 있 다. 도2, 도3a, 도3b, 도4a 및 도4b를 참조하여 이에 대해 설명한다.
이 경우, 대표적으로 클린 박스(2)의 본체(2a)에 고정되어 있는 덮개(2b)를 본체(2a)로부터 해방하는 예로 설명한다. 클린 박스(2)의 본체(2a)에 고정되어 있는 덮개(2b)를 본체(2b)에 고정하는 경우에는 이하의 순서를 반대로 행하면 된다. 초기 상태에서는, 포트 도어(3)가 최상부에 위치하고 있고, 래치 개폐축(4a)의 단부면과 포트 도어(3)의 단부면의 위치를 동일하게 한 상태로 되어 있다. 여기서, 로드 포트(10)부에 클린 박스(2)를 적재한다. 이 때에, 클린 박스(2)는 덮개(2b)에 돌기(45)가 래치 핀(32)이 래치 구멍(21a) 내에 끼움 삽입되도록 적재된다. 이 때, 돌기(45)가 수용 구멍(41) 내에, 래치 핀(32)이 래치 구멍(21a) 내에 끼움 삽입된다. 이 상태에서는 도2에 도시한 바와 같이 래치 부재(26)는 덮개(2b)로부터 돌출되어 클린 박스(2)의 측면에 배치되어 있는 래치 구멍(30)에 수용되어 덮개(2b)가 클린 박스(2)에 고정되어 있는 상태이다. 여기서, 회전 샤프트(33)를 회전시키면 래치 핀(32)이 래치 구멍(21a)의 둘레를 눌러 회전 캠판(21)이 회전한다. 회전 캠판(21)의 회전에 수반하여, 종동 핀(24)이 캠 홈(23)을 따라 이동한다. 이 종동 핀(24)의 동작에 수반하여 래치 부재(26a)가 덮개(2b)의 내부에 수납되도록 이동하여 클린 박스(2)의 래치 구멍(30)으로부터 빠진다. 이 래치 핀(32)에 눌림에 의한 회전 캠판(21)의 회전에 따라서 돌기(45)의 플랜지부(45a)도 회전하고, 플랜지부(45a)가 수용 구멍(41)의 시트부(41a)와 걸어 맞추어짐 가능하도록 회전 샤프트(33)의 중심축을 따라 덮개(2b)측으로부터 포트 도어(3)의 면 방향으로부터 본 경우의 플랜지부(45a)의 형상은 수용 구멍(41)의 형상과 포개지는 영역이 생기는 위치가 되어 연결의 준비가 완료(언로크 준비 완료 상태라 함)된다. 여기서, 회전 샤프트(33)를 백래쉬로서의 높이(t)만큼 하강시키면, 플랜지부(45a)의 형상과 수용 구멍(41)의 형상이 포개지는 영역이 접촉하여 걸어 맞추어져 덮개(2b)와 포트 도어(3)와 연결되고, 클린 박스(3)도 덮개(2b)에 고정되어 있는 상태가 된다(홀드 다운 준비 완료 상태라 부름).
(벨로우즈의 배치)
계속해서, 도1a, 도5a 및 도5b를 참조하여 본원의 벨로우즈(31)에 대해 설명한다.
벨로우즈(31)의 일단부(31a)는 버퍼 챔버(6)의 외측의 바닥면과 밀폐되도록 연결하고, 벨로우즈(31)의 타단부(31b)는 버퍼 챔버(6)의 외측에 있어서 전동 액튜에이터에 의해 승강 동작을 행하는 래치 개폐축(4a) 및 프레임(4b)에 대해 밀폐되도록 고정되어 있다. 이에 의해 항상 버퍼 챔버(6)의 외측에 벨로우즈(31)가 배치되는 상태가 된다. 이와 같이 배치하면, 도5a에 도시한 바와 같이 포트 도어(3)를 하강시킨 경우이거나, 또한 도5b에 도시한 바와 같이 포트 도어(3)를 상승시킨 경우에도 벨로우즈(31)는 항상 버퍼 챔버(6)의 외측에서 신축 운동을 행하고, 또한 이와 같이 배치함으로써 배기구(58)로부터 버퍼 챔버(6)의 진공화를 실행해도 버퍼 챔버(6)는 물론 벨로우즈(31)의 내부인 래치 개폐축(4a)과 벨로우즈(31) 사이의 간극도 진공으로 유지할 수 있다. 이 배치로 함으로써, 벨로우즈(31)는 종래 버퍼 챔버(6) 내에 있어서 먼지를 발생시키고 있었지만, 본원의 배치로 함으로써, (i) 벨로우즈(31)의 내측과 버퍼 챔버(6) 사이의 간극(31c)으로부터 버퍼 챔버(6) 내로 유입되는 먼지의 양만큼 제한할 수 있고, (ii) 또한, 중력에 의해 통상은 벨로우즈(31) 하방으로 떨어져 상승하는 것을 피할 수 있는 종래의 장치에는 없는 효과를 발휘한다.
계속해서 도6, 도7 및 도8a 내지 도8d를 참조하여 본원의 클린 장치(1)에 있어서의 로드 포트부(1)의 동작에 대해 설명한다.
우선, 도6을 참조하여 로딩 동작에 대해 설명한다.
초기 상태로서 로드 포트부(10)에 있어서 포트 도어(3)는 로드 포트의 가장 상승한 위치로 되어 있다(도8a의 상태). 여기서, 클린 장치(1)의 외부에 배치되어 있는 로봇 또는 반송차(모두 도시하지 않음)가 클린 박스(2)를 클린 장치(1)의 로드 포트부(10)의 포트 도어(3) 상에 적재한다. 그 때에 래치 핀(23)을 래치 구멍(21a) 내에, 또한 돌기(45)를 수용 구멍(41) 내에 끼워 맞춤시킨다(S601). 계속해서 포트 도어(3) 상의 클린 박스 유무 검출 센서에 의해 클린 박스(2)의 유무를 확인한다(S602). 계속해서, 버퍼 챔버 중 대기 상태에 있어서의 포트 도어(3)의 근방에 배치된 제1 배기구(81)에 접속되는 제1 진공 펌프(72)에 의해 흡입 배기를 행하여 인터페이스 공간(6a)의 진공화를 행한다(S603). 또, 인터페이스 공간(6a)이라 함은, 포트 도어(3)가 상승한 상태에 있어서, 이론상은 포트 도어(3)와 덮개(2b) 사이의 계면이며 실제로는 포트 도어(3)와 덮개(2b) 사이에 생기는 약간의 간극이다. 계속해서 인터페이스 공간(6a) 근방에 배치되는 인터페이스용 압력 센서(71)에 의해 인터페이스 공간(6a)의 진공 압력을 검출하여 소정의 압력으로 되어 있는지를 확인한다. 소정의 압력에 이르지 않은 경우에는 다시 제1 진공 펌프(72) 로 제1 배기구(81)로부터 진공화를 행하는(S604) 인터페이스 공간(6a) 자체를 진공으로 함으로써 포트 도어(3)와 덮개(2b)가 흡착된다. 다음에, 버퍼 챔버(6) 내의 진공 압력을 버퍼 챔버용 압력 센서(74)에 의해 검출하여 소정의 압력으로 되어 있는지를 확인한다. 소정의 압력에 이르지 않은 경우에는 다시 버퍼 챔버(6)의 용적을 배기하는데 가장 효과적인 버퍼 챔버(6)의 중앙 또는 버퍼 챔버(6)의 바닥부에 가까운 위치에 배치되고 상기 제1 배기구(81)와 떨어져 배치되는 제2 배기구(82)에 접속되는 제2 진공화 펌프(75)로 제2 배기구(82)로부터 흡입 배기를 행하여 버퍼 챔버(6)의 진공화를 행한다(S605). 로터리 액튜에이터(8a)를 구동하여 회전 샤프트(33)를 회전한다. 이에 의해 상기한 바와 같이 언로크 준비 완료 상태가 된다(S606). 여기까지가 도8a에 도시한 상태가 된다.
이에 이어서, 승강 실린더(8b)에서 회전 샤프트(33)를 하강시키면 상기한 바와 같이 홀드 다운 준비 상태가 된다(S607). 구동 수단에서 포트 도어(3)를 하강시켜 덮개(2b)가 클린 박스(2)의 본체(2a)로부터 떨어져 소정의 위치가 될 때까지 하강시켜 정지한다(S608). 여기서 버퍼 챔버(6)의 기판 검지 센서(77)가 덮개(2b)에 적재되어 있는 기판(9)의 유무를 검출한다(S609). 반송실(50)의 로봇 아암(55)이 기판(9)을 처리실(60)까지 반송한다(S610). 여기까지가 도8b에 도시한 상태가 된다.
우선, 도7을 참조하여 언로딩 동작에 대해 설명한다. 기본적으로는 로딩 작업의 반대 공정을 실시한다.
반송실(50)의 로봇 아암(55)이 처리실(60)로부터 처리된 기판(9)을 로드 포 트부(10)의 버퍼 챔버(6)에 대기하고 있는 포트 도어(3) 상의 덮개(2b)의 소정의 위치에 적재한다(S701). 기판 검지 센서(77)가 포트 도어 상에 적절하게 기판(9)이 적재되어 있는지 확인한다(S702). 버퍼 챔버(6) 내의 진공 압력을 버퍼 챔버용 압력 센서(74)에 의해 검출하여 소정의 압력으로 되어 있는지를 확인한다. 소정의 압력에 이르지 않은 경우에는 다시 제2 진공 펌프(75)로 제2 배기구(82)로부터 진공화를 행한다(S703). 로터리 액튜에이터(8a)가 언로크 준비 완료 상태에 있는지, 또한 승강 실린더(8b)가 홀드 다운 준비 상태에 있는지를 확인한다(S704). 전동 액튜에이터(7)가 포트 도어(3)를 상승시켜 버퍼 챔버(6)를 폐쇄한다. 이 상태에서 덮개(2b)가 클린 박스(2)의 본체(2a)를 폐쇄한 상태가 된다. 계속해서, 승강 실린더(8b)에서 회전 샤프트(33)를 상승시키면 플랜지부(45a)의 형상과 수용 구멍(41)의 걸어 맞춤이 해제된다. 여기서 로터리 액튜에이터(8a)를 구동하여 회전 샤프트(33)를 회전하면, 회전 캠판(21)의 회전에 의해 덮개(2b)의 래치 부재(26)가 래치 구멍(30) 속에 삽입된다. 플랜지부(45a)가 수용 구멍(41)으로부터 제거 가능한 상태가 된다(S705). 계속해서, 진공 상태에 있는 인터페이스 공간(6a)에 N2 봄베(73)로부터 고순도 질소 가스를 충전 및 퍼지하여 대기압으로 복귀시키고, 그것을 인터페이스 공간용 압력 센서(71)에 의해 확인한다(S706). 이 공정은 인터페이스 공간(6a)이 진공으로 되어 있으면, 포트 도어(3)와 덮개(2b)는 여전히 흡착된 상태가 되므로 이를 방지할 목적이다. 로봇 또는 반송차(모두 도시하지 않음)가 클린 박스(2)를 클린 장치(1)의 로드 포트부(10)로부터 반출한다(S707).
또, 이상의 실시 형태에서는, 제1 진공 펌프(72)와 제2 진공 펌프(75)를 각각의 진공 펌프로서 설명을 행하였지만, 제1 진공 펌프(72)와 제2 진공 펌프(75)를 한 대의 공통의 진공 펌프로 할 수 있다. 이 경우에는, 예를 들어 도12에 도시한 바와 같이 제1 진공 펌프(72) 대신에 제2 펌프(75)를 공통의 진공 펌프로 한다. 이 형태에 있어서 공통의 진공 펌프인 제2 펌프(75)는 유로(85)에 접속되어 있다. 유로(85)는 상기 제1 배기구(81)로의 제1 유로(83)와 상기 제2 배기구(82)로의 제2 유로(84) 각각에 접속되어 있다. 제1 유로(83)에는 제1 배기구(81)측의 유로를 진공 펌프로 배기하기 위한 밸브(87)를 구비하고 있다. 밸브(87)를 개방하면 제1 유로(83)를 포함하는 제1 배기구(81)측 계통의 유로의 흡입 배기를 행할 수 있고, 나아가서는 인터페이스 공간(6a)의 흡입 배기를 행할 수 있다. 한편, 제2 유로(84)에는 제2 배기구(82)측의 유로를 진공 펌프로 배기하기 위한 밸브(86)를 구비하고 있다. 밸브(86)를 개방하면 제2 유로(84)를 포함하는 제2 배기구(82)측 계통의 유로의 흡입 배기를 행할 수 있고, 나아가서는 버퍼 챔버(6)의 흡입 배기를 행할 수 있다. 이에 의해, 하나의 공통의 진공 펌프를 사용한 경우에도 제1 진공 펌프(72)와 제2 진공 펌프(75)를 각각의 진공 펌프로 한 상기 실시예의 형태와 동일한 효과를 발휘한다.
본 발명에 의해, 이하의 효과가 있다.
로드 포트부의 포트 도어를 클린 박스의 덮개에 연결하고, 또한 벨로우즈의 부착부를 버퍼 챔버의 외측으로 함으로써 클린 장치의 고청정도를 유지한 상태에서 클린 박스의 덮개와 본체의 착탈을 행할 수 있다.
다음에, 본 발명에 있어서의 다른 실시 형태에 관한 포드의 구성에 관하여 도면을 참조하여 설명한다. 도13은 본 발명에 관한 물품 수용 용기, 즉 포드의 단면 개략을, 도14는 상기 포드의 덮개를 제외하고 본체를 하방으로부터 본 상태를, 도15는 덮개를 포함해서 상기 포드를 하방으로부터 본 상태이며 부분적으로 그 내부 구조를 도시한 도면을 각각 나타내고 있다. 또, 도면 중, 종래 기술에 있어서 서술한 구성과 같은 작용을 하는 구성에 관해서는, 도9 내지 도11에 이용한 것과 동일한 참조 부호를 이용하여 설명하는 것으로 한다. 또한, 로드 포트 등에 관해서는, 종래 기술에 있어서 도10을 참조하여 설명한 것을 이용하는 것으로 한다.
(포드 형상)
본 발명에 관한 포드(2)는 본체(2a)와 덮개(2b)로 구성된다. 본체(2a)는 상방으로부터 본 경우에 원형 혹은 4 구석이 임의의 직경을 갖는 원호의 일부로 이루어지는 대략 사각형의 형상을 갖는 대략 통 형상의 제1 내부 공간(111a) 및 제1 내부 공간(111a)의 하방에 있어서 상기 공간(111a)과 연속되는 대략 정육면체 형상의 제2 내부 공간(111b)이 그 내부에 형성된 대략 정육면체 형상의 외관을 갖고 있다. 제1 내부 공간(111a)은 내부에 보유 지지해야 할 물품, 이 경우에는 도면 중 이점 쇄선으로 나타내는 외형을 갖는 레티클(또는 기판)(9)이 수용 가능한 크기를 갖고 있다. 본체(2a)는 그 측부에 포드 반송시에 이용되는 플랜지부(112)를 갖는 동시에, 그 상면에 글래스 등이 내부 공간의 기밀성을 유지하도록 고정된 내부 공간 관찰용 원형의 창부(113)가 배치되어 있다.
또한, 제1 내부 공간(111a) 내에는 공간 상방으로부터 하방으로 신장되는 레 티클의 상하 방향의 이동을 규제하는 워크 압박 핀(114)이 레티클의 주위 방향에 균등하게 복수개 배치되어 있다. 워크 압박 핀(114)은 레티클과의 접촉 면적을 작게 하기 위해 돌기 상의 선단부에서 레티클과 접촉하고, 또한 레티클에 대해 과도한 부하를 부여하지 않도록 탄성을 갖는 지지 부재(114b)를 거쳐서 본체(2a)에 고정되어 있다. 제2 내부 공간(111b)은 후술하는 덮개(2b)를 수용 가능한 크기를 갖고, 또한 대향하는 2측면에 후술하는 홈부(115)를 갖고 있다.
덮개(2b)는 본체(2a)를 폐지할 때에 본체(2a)측이 되는 상면에 워크 가이드(116)와 워크 핀(117)을 갖고 있다. 워크 가이드(116)는 제1 내부 공간(111a)에 삽입 관통 가능한 대략 둥근 고리 형상을 갖고, 그 상면의 외주부에 내부 공간 레티클의 외주부를 사방으로부터 가이드하는 가이드부(116a)가 돌출되어 있다. 워크 핀(117)은 전술하는 워크 압박 핀(114)과 대략 대향하는 위치에 배치되고, 그 선단부에 있어서 레티클을 지지하고 있다. 또한, 덮개(2b)의 상면이며 워크 가이드(116)의 외주에는 O링(118)이 배치되어 있고, 상기 O링(118)이 제2 공간(111b)의 상면을 규정하는 면(111c)과 밀착함으로써 본체(2a)와 덮개(2b)에 의해 정해지는 제1 공간(111a)이 밀폐된다.
본 발명에 관한 포드(2)는 이 제1 공간(111a) 내부의 압력을 주위 압력(대기압)보다 낮은 압력으로 유지함으로써, 본체(2a)와 덮개(2b)의 밀착, 보유 지지를 행하고 있다. 상기 포드(2)는 감압 공간으로서 보유 지지되는 제1 공간(111a)에 대해 그 횡단면에서의 형상을 대략 원형으로 하고, 상기 공간 내의 압력과 주위 압력의 차가 큰 경우, 혹은 내부 공간의 횡단면적이 커진 경우에도 대기압으로부터 받는 부하에 대해 견고해진다. 또한, 상기 형상은 알루미늄 등 금속에 의해 성형하는 것이 용이한 동시에, 그 내표면에 대해 전해 연마 처리를 실시하는 것도 용이하다. 상기 처리를 실시함으로써, 포드 내표면으로부터의 파티클의 발생 등의 저감이 가능해진다.
(낙하 방지 기구)
다음에, 전술한 제1 공간(111a) 내부에 있어서의 감압 상태가 손상되어 본체(2a)와 덮개(2b)의 밀착 상태가 파손된 경우의 대책으로서, 본 발명에 관한 포드에 부가된 구성인 낙하 방지 기구에 대해 상세하게 서술한다. 덮개(2b)의 내부에는 덮개(2b)의 낙하 방지 기구(120)가 배치되어 있다. 낙하 방지 기구는 원판 형상의 캠판(121)과, 낙하 방지판(124)과, 방지판 홀더(126)로 구성되어 있다. 캠판(121)은 덮개(2b)의 대략 중심의 위치에 회전 가능하게 배치되어 있다. 회전 캠판(121)에는 회전 캠판(121)의 중심을 중심으로 한 원주 상의 임의의 위치에 배치된 걸어 맞춤 구멍(121a)이 형성되어 있다. 상기 결합 구멍(121a)은 원주 상에 점대칭으로 배치된 원형의 구멍으로 하는 것이 바람직하다.
걸어 맞춤 구멍(121a)은 로드 포트(10)에 있어서의 래치 핀(32)과 걸어 맞추어지는 구멍이고, 래치 핀(32)을 수용 가능한 형상의 구멍과 함께 그 위치도 래치 핀(32)의 위치와 대응하도록 배치되어 있다. 캠판(121)의 결합 구멍(121a)의 외측에는 캠판(121)의 중심에 관하여 점대칭의 위치에 있는 2개의 캠 홈(123)이 배치되어 있다. 캠 홈(123)의 각각의 일단부를 시점(123a)으로 하고 타단부를 종점(123b)으로 하면, 캠 홈(123)의 시점(123a)과 캠판(121)의 중심과의 거리가 가장 짧고, 한편 캠 홈(123)의 종점(123b)측에서 캠 홈(123)의 중심과 캠판(121)의 중심으로부터의 거리가 가장 긴 상태가 된다.
낙하 방지판(124)은 캠판(121)의 중심과 본체(2a)에 마련된 홈부(115)의 대략 중앙부를 연결하는 선 상에 연장되는 대략 막대 형상의 부재로 구성되고, 방지판 홀더(126)는 낙하 방지판(124)의 연장 방향과 평행하게 연장되는 판 형상의 부재로 구성되어 있다. 방지판 홀더(126)는 덮개(2b)에 고정되고, 2개의 부쉬(125)를 거쳐서 낙하 방지판(124)을 그 연장 방향으로 구동 가능하게 지지하고 있다. 낙하 방지판(124)의 캠판(121)측 단부에는 종동 핀(127)이 고정되어 있다. 이 종동 핀(127)은 캠 홈(123)에 삽입 관통되어 있다. 낙하 방지판(124)에 있어서의 2개의 부쉬(125) 사이의 주위에는 스프링 부재(128)가 배치되어 있다. 낙하 방지판(124)에 고정된 스토퍼(128a)에 의해 스프링 부재(128)에 있어서의 낙하 방지판(124)의 연장 방향의 움직임이 규제되어 있다. 이 스프링 부재(128)로부터 받는 상기 연장 방향의 부가 하중에 의해 낙하 방지판(124)이 그 이동의 각 위치에 있어서 흔들림, 진동 등을 발생하는 것을 방지하고 있다.
덮개(2b)가 로드 포트(10) 상에 적재되면, 포트 도어(3) 표면에 돌출되는 래치 핀(132)은 래치 구멍(121a)에 끼움 삽입된다. 이 상태에서, 회전 샤프트(133)를 회전하면 래치 핀(132)과 함께 캠판(121)이 회전하고, 낙하 방지판(124) 단부의 종동 핀(127)이 캠 홈(123)의 시점(123a)으로부터 종점(123b)을 향해 이동한다. 즉, 종동 핀(124)은 회전 캠판(121)의 중심으로부터 회전 캠판(121)의 외측을 향해 낙하 방지판(124)의 연장 방향을 따라 이동한다. 이 종동 핀(127)의 이동에 수반 하여, 낙하 방지판(124)의 선단부(124a)가 덮개(2b)의 외측을 향해 이동한다. 종동 핀(127)이 캠 홈 시점(123a)에 위치할 때에는 선단부(124a)는 덮개(2b) 내에 수납되고, 종동 핀(127)이 캠 홈 종점(123b)에 위치할 때에는 덮개(2b)로부터 돌출되도록 설정하고 있다.
전술한 바와 같이, 클린 박스(2)의 본체(2a)에 있어서의 낙하 방지판(124) 선단부(124a)와 대응하는 위치에는 홈부(115)가 형성되어 있다. 선단부(124a)가 덮개(2b)의 외부로 돌출된 경우, 상기 선단부(124a)는 이 홈부(115)의 내부에 위치하게 된다. 또, 홈부(115)는 이 선단부(124a)가 통상의 동작을 행할 때에 그 내부와 전혀 접촉하는 일이 없을 정도의 폭, 높이 및 깊이를 갖고 있다. 따라서, 본 발명에 관한 낙하 방지 부재, 특히 낙하 방지판(124)의 선단부(124a)에 기인하는 파티클 등의 발생은 완전히 없어진다. 즉, 상기 낙하 방지 부재는 본체(2a)와 덮개(2b)를 밀착시키는 작용을 나타내고 있는 공간의 감압 상태가 파괴되었을 때에만 선단부(124a)와 홈부(115)의 내벽이 접촉 및 걸어 맞춤되어, 이들의 실질적인 분리를 방지하는 작용을 나타낸다.
(변형예)
다음에, 본 발명에 있어서의 다른 실시 형태에 관한 포드에 대해, 그 변형예에 대해 서술한다. 또, 상술한 실시 형태에 있어서 서술한 모든 구성과 동일한 작용 효과를 나타내는 구성에 대해서는, 동일한 참조 부호를 이용하여 설명하는 것으로 한다. 도16a 및 도16b에 있어서, 상기 실시 형태에 있어서의 포드(2)의 단면도에 있어서의 주요부 확대도를 나타낸다. 본 실시 형태에 있어서는, 본체(2a)에 대 한 덮개(2b)의 밀착 보유 지지는 내부 공간(111a)을 감압함으로써 이루어지는 것은 아니고, 이들 밀착 보유 지지를 위해 마련된 공간(119)을 감압함으로써 이루어진다. 도16a는 상기 공간(119)이 덮개(2b)에 있어서의 면(111c)과의 대향부에 형성된 경우를, 도16b는 상기 공간(119)이 면(111c)에 형성된 경우를 각각 도시하고 있다. 상기 공간을 밀폐 상태로 하기 위해 대략 둥근 고리 형상을 갖는 공간(119)의 내주부와 외주부이며, 면(111c)과 밀착 가능한 위치에 O링(118)이 배치되어 있다.
이와 같이, 본체(2a)와 덮개(2b)를 밀착 보유 지지하기 위한 작용을 나타내는 전용의 공간(119)을 마련함으로써, 제1 내부 공간(111a) 내부를 예를 들어 건조 질소에 의해 대기압과 동등 혹은 이보다 높은 압력으로 유지하는 것도 가능해진다. 또한, 가령 공간(119)의 감압 상태가 파괴된 경우에도, 낙하 방지 기구의 작용에 의해 덮개(2b)가 본체(2a)로부터 분리되는 것을 방지하는 것이 가능해진다. 따라서, 종래의 SIMF 타입의 포드와 비교하여, 보다 광범위한 압력 조건 하에서 레티클 등을 그 내부에 보유 지지하는 것이 가능해진다. 또한, 본 발명에 따르면, 종래의 SIMF 타입의 포드에 있어서, 필연적으로 발생한 래치 부재 등의 걸어 맞춤, 마찰 이동 등을 완전히 없애는 것이 가능해진다. 따라서, 본체(2a)와 덮개(2b)의 밀착 보유 지지시에 발생한 파티클 등을 대폭으로 저감시키는 것이 가능해진다.
또, 상술한 실시 형태에 있어서는, 원반 형상의 캠판을 회전시키고, 이 회전 운동을 캠 기구를 거쳐서 낙하 방지 부재에 전달함으로써, 낙하 방지 부재 선단부를 덮개(2b)의 외부로 돌출시키는 것으로 하고 있다. 그러나, 이 낙하 방지 부재의 구동 기구는 그 선단부의 왕복 구동이 가능한 기구이면, 공지의 다양한 기구를 사용하는 것이 가능하다. 즉, 낙하 방지 부재는 덮개가 본체에 밀착된 상태에 있어서, 덮개의 외주부로부터 그 일부를 돌출시키는 것이 가능하면 다양한 구성을 채용하는 것이 가능하다. 또한, 낙하 방지 부재의 선단부를 수용하기 위해 본체(2a)측에 마련된 홈부에 관해서도, 본 실시 형태에 있어서의 홈부의 형상에 한정되지 않는다. 낙하 방지 부재의 통상의 구동시에 있어서, 그 선단부와 그 내주면이 접촉하지 않는 내부 넓이를 갖는 형상이면 다양한 형상으로 하는 것이 가능하고, 또한 예를 들어 덮개 낙하시에 그 충격을 흡수하도록 그 내주면에 고무 등의 탄성 부재를 배치해 두어도 좋다.
낙하 방지 부재의 돌출되는 방향에 관해서도, 본 실시 형태에 있어서는 본체 및 덮개에 설치된 각각 수평 방향으로 대향하는 면 사이에서 돌출되는 것으로 하고 있고, 홈부는 이 대향면에 설치되는 것으로 하고 있다. 그러나, 본 발명의 실시 형태는 상기 구성에 한정되지 않고, 낙하 방지 부재가 연직 방향으로 대향하는 면, 예를 들어 면(111c)을 향해 돌출되는 것으로 하고, 면(111c)에 마련된 홈부 내로 돌출 후에 그 돌출 부분이 홈부의 일부와 걸어 맞춤 가능하게 하는 구성으로 해도 좋다. 구체적으로는, 돌출 부분의 선단부에 열쇠 형상의 부분을 설치하여 이를 홈 내부에서 회전시킴으로써 결합 가능하게 해도 좋고, 혹은 홈 내부에 배치된 후에 선단부 부분으로부터 다시 열쇠 형상의 부분이 돌출되는 구성으로 해도 좋다.
본 발명에 따르면, 포드 본체와 덮개의 밀착성의 확보는 이들 내부에 형성된 감압 공간이 담당하는 것으로 하고 있다. 또한, 덮개의 낙하 방지 기구는 통상의 상태에 있어서는 본체부 등과 마찰 등을 수반하여 걸어 맞춤을 행하지 않고 감압 공간의 감압 상태가 파괴된 경우만 본체부의 일부와 접촉하는 구성으로 하고 있다. 또한, 이 감압 공간은 포드 내의 물품 수용 공간일 필요는 없고, 밀착성 확보만을 위해 형성된 공간이라도 좋다고 하고 있다. 상기 구성을 채용함으로써 포드 본체를 덮개로 밀폐 혹은 개방하는 조작을 행할 때에, 이들 밀폐 등의 조작을 실제로 행하는 구성에 기인하는 파티클 등의 발생을 대폭으로 저감시키는 것이 가능해진다.
또한, 낙하 방지 기구의 부가에 의해 감압 공간의 감압 상태가 파괴된 경우에 있어서도 덮개가 본체로부터 떨어져 낙하하는 등의 사고는 미연에 방지하는 것이 가능해진다. 또한, 본 발명에 관한 낙하 방지 기구는 종래 기술에 있어서 포드에 덮개를 고정할 때에 이용되었던 이른바 래치 기구와 거의 같은 요소로 구성하는 것이 가능하고, 종래의 로드 포트 등에 대해 그대로 이용하는 것이 가능해진다.
또한, 본 발명에 관한 포드 본체는 실제로 레티클 등의 수용물을 수용하는 공간을 그 횡단면이 대략 원형이 되는 구조로 하고 있다. 이에 의해, 용기 외부와 내부의 압력 차에 대한 내성이 높아져 견고한 진공 용기로서 사용하는 것이 가능해진다. 또한, 이와 같은 포드 형상은 금속으로부터 형성하는 것이 용이한 동시에, 그 내부에 대해 전해 연마 처리 등 파티클의 발생을 저감시키는 처리도 용이하게 실시하는 것이 가능하다.

Claims (22)

  1. 덮개와, 상기 덮개에 의해 폐쇄되는 개구가 연직 하방에 설치된 본체를 갖고 내부가 고청정도로 유지되어 상기 내부에 기판이 보관된 클린 박스로부터 상기 기판을 수취하여 기판을 처리하기 위해 외부의 환경보다도 내부의 환경이 고청정도로 유지된 클린 장치이며,
    상기 클린 장치는 상기 클린 박스를 적재하여 상기 덮개를 상기 본체로부터 분리 또는 상기 본체에 결합하기 위해 회전 가능한 래치 핀을 갖는 개폐 기구를 구비한 로드 포트부를 구비하고,
    상기 클린 박스의 덮개는 상기 래치 핀과 걸어 맞춤 가능하며 상기 래치 핀의 회전에 따라서 작동하는 캠판, 상기 캠판의 작동에 따라서 덮개의 밖으로 돌출하여 상기 클린 박스의 본체의 래치 구멍에 걸어 맞추어지거나 또는 덮개 내에 수납됨으로써 상기 클린 박스의 본체의 래치 구멍으로부터 빠지는 래치 부재를 갖고,
    상기 클린 박스의 덮개는 비원형의 수용 구멍을 더 구비하고,
    상기 개폐 기구는 상기 수용 구멍에 끼움 삽입 가능한 돌기를 더 구비하고,
    상기 클린 박스가 상기 로드 포트에 적재되었을 때에 상기 래치 핀이 상기 캠판과 걸어 맞춤 가능한 상태가 되는 동시에 상기 개폐 기구의 돌기가 상기 클린 박스의 덮개에 끼움 삽입되고,
    상기 래치 핀의 회전에 따라서 돌기와 상기 수용 구멍이 걸어 맞춤 가능해지는 것을 특징으로 하는 클린 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 돌기는 선단부에 플랜지부를 구비하고,
    상기 돌기가 상기 수용 구멍에 삽입된 후, 상기 플랜지부와 상기 수용 구멍의 시트부가 걸어 맞추어짐으로써 상기 개폐 기구가 상기 덮개와 연결되는 것을 특징으로 하는 클린 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 플랜지부는 그 단면 형상이 상기 수용 구멍에 끼움 삽입 가능할 정도로 약간 작은 거의 유사한 형상이며,
    상기 돌기는 상기 플랜지부보다 단면이 작은 근원부를 더 구비하고,
    상기 돌기가 상기 플랜지부로부터 상기 수용 구멍에 삽입된 후, 상기 근원부의 회전을 실행함으로써 상기 플랜지부와 상기 수용 구멍의 시트부의 걸어 맞춤이 발생함으로써 상기 개폐 기구와 상기 덮개가 연결되는 것을 특징으로 하는 클린 장치.
  4. 제2항에 있어서, 상기 플랜지부는 그 단면 형상이 상기 수용 구멍에 끼움 삽입 가능할 정도로 약간 작은 거의 유사한 형상이며,
    상기 돌기는 상기 플랜지부보다 단면이 작은 근원부를 더 구비하고,
    상기 돌기가 상기 플랜지부로부터 상기 수용 구멍 내에 소정의 위치까지 삽입되었을 때에 상기 플랜지부의 면과 상기 수용 구멍의 시트부의 면 사이에는 소정의 거리를 갖고, 상기 근원부의 회전을 실행하여 상기 소정의 거리만큼 상기 돌기의 이동을 행하였을 때에 상기 플랜지부와 상기 긴 구멍의 시트부가 걸어 맞추어지는 것을 특징으로 하는 클린 장치.
  5. 제3항 또는 제4항에 있어서, 상기 근원부의 회전은 상기 래치 부재의 회전과 함께 실행되는 것을 특징으로 하는 클린 장치.
  6. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 로드 포트부는,
    일면에 상기 덮개가 적재되어 승강하는 포트 도어와,
    상기 포트 도어의 상기 승강 영역에 있어서 상기 포트 도어의 외주를 둘러싸도록 배치되는 벽면과 상기 포트 도어의 다른 면에 대향하여 배치되는 바닥면으로 구획되는 버퍼 챔버와,
    상기 포트 도어에 접합되어 상기 포트 도어의 면과 수직인 방향을 따라 상기 포트 도어를 승강시키는 승강 수단과,
    상기 승강 수단의 외주에 배치되는 벨로우즈를 구비하고,
    상기 벨로우즈의 일단부는 상기 버퍼 챔버의 바닥면과 연결되고, 상기 벨로우즈의 타단부는 상기 버퍼 챔버의 외측에 있어서 상기 승강 수단에 대해 고정되어 있는 것을 특징으로 하는 클린 장치.
  7. 삭제
  8. 덮개와 본체를 갖고 내부가 고청정도로 유지되어 상기 내부에 기판이 보관된 클린 박스로부터 상기 기판을 수취하여 기판을 처리하기 위해 외부의 환경보다도 내부의 환경이 고청정도로 유지된 클린 장치를 이용하여 클린 박스의 본체로부터 덮개를 분리하여 기판의 취출을 위한 준비를 행하는 방법이며,
    상기 클린 장치는 상기 클린 박스를 적재하여 상기 덮개를 상기 본체로부터 분리 또는 상기 본체에 결합하기 위해 회전 가능한 래치 핀을 갖는 개폐 기구를 구비한 로드 포트부를 구비하고, 상기 로드 포트부는,
    일면에 상기 덮개의 외면이 접하도록 적재되어 승강 가능한 포트 도어와,
    상기 포트 도어의 상기 승강의 영역에 있어서 상기 포트 도어의 외주를 둘러싸도록 배치되는 벽면과 상기 포트 도어의 다른 면에 대향하여 배치되는 바닥면으로 구획되는 버퍼 챔버를 갖고,
    상기 클린 박스의 덮개는 상기 래치 핀과 걸어 맞춤 가능하며 상기 래치 핀의 상기 회전에 따라서 작동하는 캠판과, 상기 캠판의 작동에 따라서 덮개 밖으로 돌출하여 상기 클린 박스의 본체의 래치 구멍에 걸어 맞추어지거나 또는 덮개 내에 수납됨으로써 상기 클린 박스의 본체의 래치 구멍으로부터 빠지는 래치 부재를 갖고,
    상기 클린 박스의 덮개는 비원형의 수용 구멍을 더 구비하고,
    상기 개폐 기구는 상기 수용 구멍에 끼움 삽입 가능한 돌기를 더 구비하고,
    상기 클린 장치는 상기 버퍼 챔버 중 포트 도어의 근방에 배치되는 제1 배기구와, 버퍼 챔버의 제1 배기구로부터 떨어져 배치되는 제2 배기구를 구비하고,
    상기 방법은,
    상기 클린 박스가 상기 로드 포트에 적재되었을 때에 상기 래치 핀을 상기 캠판과 걸어 맞춤 가능한 상태로 하는 동시에 상기 개폐 기구의 돌기를 상기 클린 박스의 덮개에 끼움 삽입하는 공정과,
    상기 제1 배기구로부터 상기 포트 도어와 상기 덮개가 접합하는 계면 부분을 배기하여 상기 덮개를 상기 포트 도어에 대해 흡착시키는 공정과,
    상기 제2 배기구로부터 상기 버퍼 챔버를 배기하는 공정과,
    그 후, 상기 포트 도어를 강하시켜 상기 버퍼 챔버 내로 기판을 이송하는 공정을 특징으로 하는 클린 장치를 이용하여 클린 박스로부터 기판의 취출을 위한 준비를 행하는 방법.
  9. 제8항에 있어서, 상기 클린 장치는 상기 제1 배기구의 부근에 접속된 제1 압력 센서와, 제2 배기구의 부근에 접속된 제2 압력 센서를 구비하고,
    상기 제1 배기구로부터 상기 포트 도어와 상기 덮개가 접합하는 상기 계면 부분을 배기하는 공정은 상기 제1 압력 센서에 의해 압력을 확인하는 공정을 포함하고,
    상기 제2 배기구로부터의 상기 버퍼 챔버를 배기하는 공정은 제2 압력 센서에 의해 압력을 확인하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 클린 장치를 이용하여 클린 박스로부터 기판의 취출을 위한 준비를 행하는 방법.
  10. 덮개와 본체를 갖고 내부가 고청정도로 유지되어 상기 내부에 기판이 보관된 클린 박스로부터 상기 기판을 수취하여 기판을 처리하기 위해 외부의 환경보다도 내부의 환경이 고청정도로 유지된 클린 장치를 이용하여 처리를 한 기판을 클린 박스 내로 복귀시키기 위한 준비를 행하는 방법이며,
    상기 클린 장치는 상기 클린 박스를 적재하여 상기 덮개를 상기 본체로부터 분리 또는 상기 본체에 결합하기 위해 회전 가능한 래치 핀을 갖는 개폐 기구를 구비한 로드 포트부를 구비하고, 상기 로드 포트부는,
    일면에 상기 덮개의 외면이 접하도록 적재되어 승강 가능한 포트 도어와,
    상기 포트 도어의 상기 승강의 영역에 있어서 상기 포트 도어의 외주를 둘러싸도록 배치되는 벽면과 상기 포트 도어의 다른 면에 대향하여 배치되는 바닥면으로 구획되는 버퍼 챔버를 갖고,
    상기 클린 박스의 덮개는 상기 래치 핀과 걸어 맞춤 가능하며 상기 래치 핀의 상기 회전에 따라서 작동하는 캠판과, 상기 캠판의 작동에 따라서 덮개 밖으로 돌출하여 상기 클린 박스의 본체의 래치 구멍에 걸어 맞추어지거나 또는 덮개 내에 수납됨으로써 상기 클린 박스의 본체의 래치 구멍으로부터 빠지는 래치 부재를 갖고,
    상기 클린 박스의 덮개는 비원형의 수용 구멍을 더 구비하고,
    상기 개폐 기구는 상기 수용 구멍에 끼움 삽입 가능한 돌기를 더 구비하고,
    상기 클린 장치는 상기 버퍼 챔버 중 포트 도어의 근방에 배치되는 제1 배기구와, 버퍼 챔버의 제1 배기구로부터 떨어져 배치되는 제2 배기구를 구비하고,
    상기 방법은,
    상기 제2 배기구로부터 상기 버퍼 챔버를 배기하는 공정과,
    그 후, 상기 포트 도어를 상승시켜 상기 버퍼 챔버 내로부터 로드 포트 상부로 기판을 이송하는 공정과,
    상기 포트 도어와 상기 덮개가 접합하는 계면 부분에 질소 가스를 공급하여 상기 포트 도어에 의한 상기 덮개의 흡착 상태를 해제하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 클린 장치를 이용하여 처리한 기판을 클린 박스 내로 복귀시키기 위한 준비를 행하는 방법.
  11. 제10항에 있어서, 상기 클린 장치는 상기 제1 배기구의 부근에 접속된 제1 압력 센서와, 제2 배기구의 부근에 접속된 제2 압력 센서를 구비하고,
    상기 계면 부분에 질소 가스를 공급하는 공정은 상기 제1 압력 센서에 의해 압력을 확인하는 공정을 포함하고,
    상기 제2 배기구로부터의 상기 배기는 제2 압력 센서에 의해 압력을 확인하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 클린 장치를 이용하여 처리한 기판을 클린 박스 내로 복귀시키기 위한 준비를 행하는 방법.
  12. 삭제
  13. 삭제
  14. 캠판 및 상기 캠판에 의해 덮개로부터 돌출되거나 또는 상기 덮개에 수용하는 이동을 행하는 래치 부재를 갖고 기판이 적재 가능한 덮개와, 상기 래치 부재가 상기 덮개로부터 돌출되었을 때에는 상기 래치 부재의 선단부를 수용하는 래치 구멍에 의해 상기 덮개와 연직 하방에 설치된 개구를 폐쇄하여 결합하는 본체를 갖는 클린 박스로부터 상기 기판을 취출하여 기판 처리 장치에서 상기 기판의 처리를 행하기 위해 상기 기판 처리 장치에 배치되는 개폐 기구이며,
    상기 개폐 기구는 상기 캠판과 걸어 맞추어져 회전이 가능한 래치 핀을 구비하고,
    상기 덮개는 비원형의 수용 구멍을 더 구비하고,
    상기 개폐 기구는 상기 수용 구멍에 끼움 삽입 가능한 돌기를 구비하고,
    상기 돌기와 상기 수용 구멍이 걸어 맞추어짐으로써 상기 개폐 기구가 상기 덮개와 연결되어 상기 클린 박스로부터 상기 덮개를 떼어내며,
    상기 돌기는 선단부에 플랜지부를 구비하고,
    상기 돌기가 상기 수용 구멍에 삽입된 후, 상기 플랜지부와 상기 수용 구멍의 시트부가 걸어 맞추어짐으로써 상기 개폐 기구가 상기 덮개와 연결되는 것을 특징으로 하는 개폐 기구.
  15. 제14항에 있어서, 상기 플랜지부는 그 단면 형상이 상기 수용 구멍에 끼움 삽입 가능할 정도로 약간 작은 거의 유사한 형상이며,
    상기 돌기는 상기 플랜지부보다 단면이 작은 근원부를 더 구비하고,
    상기 돌기가 상기 플랜지부로부터 상기 수용 구멍에 삽입된 후, 상기 근원부의 회전을 실행함으로써 상기 플랜지부와 상기 수용 구멍의 시트부의 결합이 발생함으로써 상기 개폐 기구와 상기 덮개가 연결되는 것을 특징으로 하는 개폐 기구.
  16. 제14항에 있어서, 상기 플랜지부는 그 단면 형상이 상기 수용 구멍에 끼움 삽입 가능할 정도로 약간 작은 거의 유사한 형상이며,
    상기 돌기는 상기 플랜지부보다 단면이 작은 근원부를 더 구비하고,
    상기 돌기가 상기 플랜지부로부터 상기 수용 구멍 내에 소정의 위치까지 삽입되었을 때에 상기 플랜지부의 면과 상기 수용 구멍의 시트부의 면 사이에는 소정의 거리를 갖고, 상기 근원부의 회전을 실행하여 상기 소정의 거리만큼 상기 돌기의 이동을 행하였을 때에 상기 플랜지부와 상기 긴 구멍의 시트부가 걸어 맞추어지는 것을 특징으로 하는 개폐 기구.
  17. 제15항 또는 제16항에 있어서, 상기 근원부의 회전은 상기 래치 부재의 회전과 함께 실행되는 것을 특징으로 하는 개폐 기구.
  18. 삭제
  19. 물품을 수용 가능한 내부 공간 및 상기 내부 공간의 연직 하방에 설치된 개구를 갖는 본체와, 상기 개구를 폐지(閉止)하여 상기 내부 공간을 밀폐하는 덮개로 이루어지는 물품 수용 용기이며,
    상기 본체와 상기 덮개 사이에는 감압 공간이 배치되고,
    상기 덮개는 상기 덮개의 외주로부터 돌출 가능한 낙하 방지 부재를 갖고,
    상기 본체는 상기 낙하 방지 부재가 상기 덮개의 외주로부터 돌출되었을 때에, 상기 낙하 방지 부재와 접촉하는 일이 없이 이를 수용하는 오목부를 갖고,
    상기 낙하 방지 부재가 상기 덮개의 외주로부터 돌출된 상태에서 상기 덮개로 상기 내부 공간을 밀폐시키는 상기 감압 공간의 감압 상태가 파괴되었을 때에는 상기 낙하 방지 부재가 상기 오목부의 내주와 접촉하고,
    상기 감압 공간은 상기 내부 공간과 동일한 것을 특징으로 하는 물품 수용 용기.
  20. 삭제
  21. 삭제
  22. 삭제
KR1020057021722A 2003-05-15 2004-05-11 클린 박스 개폐 장치를 구비하는 클린 장치 Expired - Lifetime KR100729699B1 (ko)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2003-00137026 2003-05-15
JP2003137026A JP4094987B2 (ja) 2003-05-15 2003-05-15 クリーンボックス開閉装置を備えるクリーン装置
JP2003154078A JP2004356478A (ja) 2003-05-30 2003-05-30 物品収容容器、および当該容器における蓋落下防止機構
JPJP-P-2003-00154078 2003-05-30

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20060011872A KR20060011872A (ko) 2006-02-03
KR100729699B1 true KR100729699B1 (ko) 2007-06-19

Family

ID=33455473

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020057021722A Expired - Lifetime KR100729699B1 (ko) 2003-05-15 2004-05-11 클린 박스 개폐 장치를 구비하는 클린 장치

Country Status (4)

Country Link
US (2) US7674083B2 (ko)
KR (1) KR100729699B1 (ko)
TW (1) TWI241677B (ko)
WO (1) WO2004102655A1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101600762B1 (ko) 2015-10-22 2016-03-09 주식회사 세방씨앤에프 영상 프로젝트를 보호하기 위한 크린룸 장치

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200808628A (en) * 2006-08-09 2008-02-16 Gudeng Prec Ind Co Ltd Filling device of conveying box
JP4841383B2 (ja) * 2006-10-06 2011-12-21 信越ポリマー株式会社 蓋体及び基板収納容器
JP4829978B2 (ja) * 2006-11-24 2011-12-07 ミライアル株式会社 薄板保管搬送システムおよびそれを用いたレチクルケース
TWI331514B (en) * 2007-10-16 2010-10-11 Univ Nat Taiwan Science Tech Object access method
JP4730384B2 (ja) * 2008-02-21 2011-07-20 Tdk株式会社 密閉容器及び当該容器の管理システム
JP4343253B1 (ja) * 2008-03-27 2009-10-14 Tdk株式会社 密閉容器の蓋開閉装置及び該開閉装置を用いたガス置換装置
SG175280A1 (en) * 2009-05-12 2011-11-28 Murata Machinery Ltd Purging apparatus and purging method
JP5838969B2 (ja) * 2010-02-26 2016-01-06 味の素株式会社 低分子化合物とアルギニンとを含有するウイルス不活化用組成物
JP5794497B2 (ja) * 2010-06-08 2015-10-14 国立研究開発法人産業技術総合研究所 連結システム
US8870516B2 (en) * 2010-06-30 2014-10-28 Brooks Automation, Inc. Port door positioning apparatus and associated methods
EP2409667B1 (en) * 2010-07-22 2015-06-17 Braun GmbH Electric appliance for personal use
US20120199571A1 (en) * 2011-02-09 2012-08-09 Christopher Brown Pressurized Cooking Oven
JP5617708B2 (ja) * 2011-03-16 2014-11-05 東京エレクトロン株式会社 蓋体開閉装置
TWI473752B (zh) * 2011-12-13 2015-02-21 Gudeng Prec Ind Co Ltd 大型前開式晶圓盒之門閂結構
EP2863423B1 (en) * 2012-06-14 2019-09-11 Murata Machinery, Ltd. Lid opening/closing device
CN104124126B (zh) * 2013-04-26 2016-12-28 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种承载装置及等离子体加工设备
KR102219534B1 (ko) 2013-04-26 2021-02-24 엔테그리스, 아이엔씨. 큰 지름의 웨이퍼용 래칭 메카니즘을 가지는 웨이퍼 용기
JP6554872B2 (ja) * 2015-03-31 2019-08-07 Tdk株式会社 ガスパージ装置、ロードポート装置、パージ対象容器の設置台およびガスパージ方法
JP6582676B2 (ja) * 2015-07-24 2019-10-02 東京エレクトロン株式会社 ロードロック装置、及び基板処理システム
US10036197B1 (en) * 2015-12-31 2018-07-31 Vium, Inc. Device, system and method of interconnecting doorways
JP6653788B1 (ja) * 2018-06-12 2020-02-26 ミライアル株式会社 基板収納容器
CN113013010B (zh) * 2019-12-20 2023-09-29 中微半导体设备(上海)股份有限公司 波纹管结构、调整垂直度的方法及其等离子体处理装置
US12123233B2 (en) * 2021-02-11 2024-10-22 Scelzi Enterprises, Inc. Rotary actuated slam latch system
CN115976490B (zh) * 2022-12-06 2023-12-19 上海铂世光半导体科技有限公司 一种cvd金刚石生长在线检测装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10155025A (ja) 1996-11-25 1998-06-09 Fujitsu I Network Syst Ltd 自己保留移動機能付電話装置
JPH11124166A (ja) * 1997-10-17 1999-05-11 Takeshi Kameyama 包装フィルム及びその収納容器
JPH11354602A (ja) 1998-06-03 1999-12-24 Mecs Corp ポッドオープナーの蓋ラッチ装置
JP2000315724A (ja) * 1999-04-30 2000-11-14 Tdk Corp クリーンボックス、クリーン搬送方法及びシステム

Family Cites Families (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4532670A (en) * 1983-01-31 1985-08-06 Fortune William S Vacuum booster and filter
US4532970A (en) 1983-09-28 1985-08-06 Hewlett-Packard Company Particle-free dockable interface for integrated circuit processing
US4674936A (en) 1985-08-26 1987-06-23 Asyst Technologies Short arm manipulator for standard mechanical interface apparatus
US4676709A (en) 1985-08-26 1987-06-30 Asyst Technologies Long arm manipulator for standard mechanical interface apparatus
US4724874A (en) 1986-05-01 1988-02-16 Asyst Technologies Sealable transportable container having a particle filtering system
US4995430A (en) 1989-05-19 1991-02-26 Asyst Technologies, Inc. Sealable transportable container having improved latch mechanism
JP2525284B2 (ja) 1990-10-22 1996-08-14 ティーディーケイ株式会社 クリ―ン搬送方法及び装置
US5169272A (en) 1990-11-01 1992-12-08 Asyst Technologies, Inc. Method and apparatus for transferring articles between two controlled environments
JP3084827B2 (ja) 1991-09-20 2000-09-04 神鋼電機株式会社 機械式インターフェース装置
US5469963A (en) 1992-04-08 1995-11-28 Asyst Technologies, Inc. Sealable transportable container having improved liner
KR100303075B1 (ko) 1992-11-06 2001-11-30 조셉 제이. 스위니 집적회로 웨이퍼 이송 방법 및 장치
JP2757102B2 (ja) 1993-03-15 1998-05-25 ティーディーケイ株式会社 クリーン搬送方法及び装置
JP2722306B2 (ja) 1993-01-21 1998-03-04 ティーディーケイ株式会社 クリーン搬送方法及び装置
JPH06275699A (ja) 1993-03-24 1994-09-30 Ebara Corp 真空処理装置
JPH06275703A (ja) 1993-03-24 1994-09-30 Ebara Corp 真空処理装置
JP2850279B2 (ja) 1994-02-22 1999-01-27 ティーディーケイ株式会社 クリーン搬送方法及び装置
JPH081923A (ja) 1994-06-21 1996-01-09 Sanyo Electric Co Ltd 立体静止画像のプリント方法
US5713711A (en) 1995-01-17 1998-02-03 Bye/Oasis Multiple interface door for wafer storage and handling container
ES2229247T3 (es) 1995-03-28 2005-04-16 Brooks Automation Gmbh Estacion de carga y descarga para instalaciones de tratamiento de semiconductores.
US5740845A (en) 1995-07-07 1998-04-21 Asyst Technologies Sealable, transportable container having a breather assembly
DE19535178C2 (de) 1995-09-22 2001-07-19 Jenoptik Jena Gmbh Einrichtung zum Ver- und Entriegeln einer Tür eines Behälters
JP2864458B2 (ja) 1996-08-07 1999-03-03 ティーディーケイ株式会社 クリーン搬送方法、クリーンボックス及びクリーン搬送装置
US5957292A (en) 1997-08-01 1999-09-28 Fluoroware, Inc. Wafer enclosure with door
JP3167970B2 (ja) 1997-10-13 2001-05-21 ティーディーケイ株式会社 クリーンボックス、クリーン搬送方法及び装置
US6501070B1 (en) 1998-07-13 2002-12-31 Newport Corporation Pod load interface equipment adapted for implementation in a fims system
US6160265A (en) 1998-07-13 2000-12-12 Kensington Laboratories, Inc. SMIF box cover hold down latch and box door latch actuating mechanism
US6364595B1 (en) 1999-02-10 2002-04-02 Asyst Technologies, Inc. Reticle transfer system
US6216873B1 (en) 1999-03-19 2001-04-17 Asyst Technologies, Inc. SMIF container including a reticle support structure
JP3769417B2 (ja) 1999-06-30 2006-04-26 株式会社東芝 基板収納容器
JP3530774B2 (ja) 1999-07-02 2004-05-24 東京エレクトロン株式会社 基板搬送装置、処理装置、基板の処理システムおよび搬送方法
JP3635061B2 (ja) 1999-07-14 2005-03-30 東京エレクトロン株式会社 被処理体収容ボックスの開閉蓋の開閉装置及び被処理体の処理システム
JP2003077998A (ja) 2001-09-04 2003-03-14 Sony Corp 基板搬送コンテナ
JP4278699B1 (ja) * 2008-03-27 2009-06-17 Tdk株式会社 密閉容器及び該密閉容器の蓋開閉システム、ウエハ搬送システム、及び密閉容器の蓋閉鎖方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10155025A (ja) 1996-11-25 1998-06-09 Fujitsu I Network Syst Ltd 自己保留移動機能付電話装置
JPH11124166A (ja) * 1997-10-17 1999-05-11 Takeshi Kameyama 包装フィルム及びその収納容器
JPH11354602A (ja) 1998-06-03 1999-12-24 Mecs Corp ポッドオープナーの蓋ラッチ装置
JP2000315724A (ja) * 1999-04-30 2000-11-14 Tdk Corp クリーンボックス、クリーン搬送方法及びシステム

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101600762B1 (ko) 2015-10-22 2016-03-09 주식회사 세방씨앤에프 영상 프로젝트를 보호하기 위한 크린룸 장치

Also Published As

Publication number Publication date
US20100108564A1 (en) 2010-05-06
TW200428565A (en) 2004-12-16
US7674083B2 (en) 2010-03-09
TWI241677B (en) 2005-10-11
US20070080096A1 (en) 2007-04-12
WO2004102655A1 (ja) 2004-11-25
KR20060011872A (ko) 2006-02-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100729699B1 (ko) 클린 박스 개폐 장치를 구비하는 클린 장치
EP0219826B1 (en) Vacuum processing system
US4687542A (en) Vacuum processing system
US5044871A (en) Integrated circuit processing system
JP3417821B2 (ja) クリーンボックス、クリーン搬送方法及び装置
US4966519A (en) Integrated circuit processing system
US9670010B2 (en) Substrate loading and unloading station with buffer
KR101464039B1 (ko) 기판 반송 용기의 개폐 장치, 덮개의 개폐 장치 및 반도체 제조 장치
US6869263B2 (en) Substrate loading and unloading station with buffer
US4842680A (en) Advanced vacuum processor
US4943457A (en) Vacuum slice carrier
KR100922051B1 (ko) 반도체 처리 장치에 있어서의 포트 구조
KR20230088785A (ko) 로드 포트
JP3917100B2 (ja) 基板処理装置用開閉機構
JP4094987B2 (ja) クリーンボックス開閉装置を備えるクリーン装置
JP2004311864A (ja) 半導体処理装置用ロードポート
JP2010027809A (ja) ワーク搬送用容器の開閉機構を備えた搬送装置
JP2003174072A (ja) 基板移載装置及び基板移載方法
JP3461140B2 (ja) クリーンボックス、クリーン搬送方法及びシステム
JP3175231B2 (ja) 機械式インターフェース装置
JP2625112B2 (ja) 処理済ウエーハを所望の真空状態下で保管する方法
JPS62181441A (ja) ウエ−ハ支持体
WO1997003222A1 (en) Cassette support and rotation assembly
TWI874674B (zh) 裝載埠
KR100292065B1 (ko) 오염 입자 제거 기능을 갖는 스탠더드 메커니컬 인터페이스 시스템

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
PA0105 International application

Patent event date: 20051115

Patent event code: PA01051R01D

Comment text: International Patent Application

PA0201 Request for examination

Patent event code: PA02012R01D

Patent event date: 20051115

Comment text: Request for Examination of Application

PG1501 Laying open of application
E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event date: 20061115

Patent event code: PE09021S01D

E701 Decision to grant or registration of patent right
PE0701 Decision of registration

Patent event code: PE07011S01D

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event date: 20070507

GRNT Written decision to grant
PR0701 Registration of establishment

Comment text: Registration of Establishment

Patent event date: 20070612

Patent event code: PR07011E01D

PR1002 Payment of registration fee

Payment date: 20070613

End annual number: 3

Start annual number: 1

PG1601 Publication of registration
G170 Re-publication after modification of scope of protection [patent]
PG1701 Publication of correction
PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20100610

Start annual number: 4

End annual number: 4

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20110527

Start annual number: 5

End annual number: 5

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20120521

Start annual number: 6

End annual number: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130524

Year of fee payment: 7

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20130524

Start annual number: 7

End annual number: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140530

Year of fee payment: 8

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20140530

Start annual number: 8

End annual number: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150515

Year of fee payment: 9

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20150515

Start annual number: 9

End annual number: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160517

Year of fee payment: 10

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20160517

Start annual number: 10

End annual number: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170522

Year of fee payment: 11

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20170522

Start annual number: 11

End annual number: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180530

Year of fee payment: 12

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20180530

Start annual number: 12

End annual number: 12

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190530

Year of fee payment: 13

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20190530

Start annual number: 13

End annual number: 13

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20200603

Start annual number: 14

End annual number: 14

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20210601

Start annual number: 15

End annual number: 15

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20220518

Start annual number: 16

End annual number: 16

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20230523

Start annual number: 17

End annual number: 17

PC1801 Expiration of term

Termination date: 20241111

Termination category: Expiration of duration