KR100252552B1 - 혼합산화물고굴절광학코팅재료및방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 식 MNxOy(이때, M 및 N은 주기율표의 IIIA, IVA 및 VA족으로부터 선택된 금속이고, O는 산소이며, x 및 y는 산소 대 금속의 비가 4 미만이고 비 y/(1+x)도 4 미만이 되도록 선택된 값이다)이고, 단일 산화물상의 형태이며, 의미 있는 다른 형의 결정구조 없이 오직 단일 형의 결정구조를 가지고, 화학양론량 이하인 조성물에 관한 것이다.
Description
본 발명은 혼합 산화물 고굴절 코팅 재료 및 방법에 관한 것이다.
미국 특허 제 3,034,924호에는 란타나이드 및 전이 금속/금속 산화물의 혼합물이 개시되어 있다. 지르코늄 산화물은 시판되는 고굴절 코팅 재료이다. 그러나, 이것은 높은 용융점, 큰 전력 소비량, 불균일한 코팅 등 많은 문제점을 가지고 있다. 동시에, 티탄 산화물도 고굴절 코팅 재료로서 사용된다. 티탄 산화물 코팅은 종종 원하지 않은 흡광을 일으킨다. 또한, 지르코늄 산화물 및 티탄 산화물의 혼합물도 시판되고 있다. 그러나, 상기 혼합물은 다상(多相) 재료이므로, 일정하게 증발하는 원료를 제공하지 못한다. 따라서, 상기 문제점들을 극복하는 신규하고 개선된 혼합 산화물 고굴절 광학 코팅 재료가 요구되어 왔다.
일반적으로, 본 발명의 목적은 반사 방지 코팅용으로 특히 적합한 혼합 산화물 고굴절 코팅 재료를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 낮은 온도에서 용융될 수 있는 상기 특성의 재료 및 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 전자총 증발에 적합한 상기 특성의 재료 및 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 산소와 반응적으로 증발되어 화학양론적 재료를 제공할 수 있는 상기 특성의 재료 및 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 단단한 점착성 막을 제공하는 상기 특성의 재료 및 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 부가적인 목적 및 특징은 첨부된 도면과 함께 하기 설명으로부터 명백해질 것이다.
도 1은 본 발명의 방법을 도시한 플로우 챠트이다.
본 발명의 일반적인 경우에서, 물질의 조성물은 화학식 MNxOy를 가지는데, 여기에서 M 및 N은 CAS 주기율표의 IIIB, IVB 및 VB족으로부터 선택되는 금속이고, O는 산소이며, x 및 y는 산소 대 금속의 비가 4 미만이고 비 y/(1+x)도 4 미만이 되도록 선택된다. 보다 구체적으로, M 및 N 금속은 Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Ac, Th, Pa, U, Ti, Zr, Hf, V, Nb 및 Ta으로 구성된 그룹으로부터 선택된다. 상기 카테고리에 해당하는 물질의 조성물의 예로는 YTixOy, HfTixOy및 ZrNbxOy가 포함된다.따라서, 조성물은 2가지의 금속/금속 산화물로 구성됨을 알 수 있다. 그러나, 조성물은 상기와 같은 정도로 용이하게 3가지 이상의 금속/금속 산화물로 구성될 수 있다.
상술한 일반적인 경우에 해당하는 하나의 구체적인 조성물은 ZrTixOy인데, 여기에서 x는 통상적으로 1.0이고, y는 2.0 내지 3.9이다. 또한, y값이 0 내지 2.0인 다른 재료를 조성하는 것도 가능하다. 그러나, 상기 물질은 금속성이고 반응성 증발에 의해 ZrTiO4의 박막을 생성시키는데 이용하기가 매우 어렵다. x 값이 1.0 이 넘게 증가하면, 혼합물 중 티타니아의 양이 보다 증가하고 상평형도(phase diagram)는 보다 복잡해진다. 이것은 재료가 화학양론량 이하일 때 특히 잘 적용된다. x 값이 1.0 미만으로 감소하면, 물질은 순수한 지르코니아의 성질을 띄기 시작하고 용융 온도가 증가하여, 본 발명의 재료의 현저한 장점 중 하나가 제거된다.
본 발명의 한 가지 구체예에서, 균질한 혼합물은 Ti 15.6 중량%, TiO217.4 중량% 및 ZrO267.0 중량%로부터 제조되었다. 분말화된 물질은 도 1의 단계 2에서 보듯이, 균질하게 혼합되었다. 상술한 바와 같이, 세 성분의 중량비는 분자식 ZrTiO2.8을 제공하도록 선택되었다. 그러나, Ti, TiO2및 ZrO2의 비율은 y가 2.0 내지 3.9일 수 있는 분자식 ZrTiOy을 제공하도록 변화시킬 수 있다. 그런 다음, 분말은 균질화되고 정제화되었다.
단계 12에서 보듯이 정제가 형성된 다음, 정제는 단계 13에서 보듯이, 유도 전기로(induction furnace) 또는 전자총으로의 사용과 같은 적합한 방법으로 용융된다. 용융 단계 과정에서, 3가지의 분말화된 성분은 반응하여 단일 산화물상을 형성한다. 용융 단계는 단계 14에서 보듯이, 직경 5cm 및 길이 15 내지 75cm의 적절한 크기를 갖는 잉곳(ingot)을 형성하기 위하여 사용될 수 있다. 그런 다음, 재료는 사용을 위한 준비 단계까지 이러한 형태로 저장될 수 있다. 대안적으로, 잉곳은 도 1의 단계 16에서 보듯이 크기가 0.5 내지 5mm, 바람직하게는 2mm인 과립으로 분쇄될 수 있다. 또한, 필요에 따라, 분쇄된 재료는 사용을 위한 준비단계까지 이러한 형태로 저장될 수 있다.
본 재료를, 1995년 5월 9일 출원하여 동시에 계류중인 출원 제 08/438,197호에 개시된 것처럼 반사방지 코팅층을 형성하는데 이용하는 것이 바람직하다고 가정하였다. 이러한 구체예에서, 본 재료는 등축정계 지르코니아형의 결정 구조만을 가지며, ZrTiO4형의 결정 구조는 관찰되지 않는다. 과립형의 분쇄된 잉곳은 통상적인 타입의 전자총 증발기에 원료로 공급되어, 1995년 5월 9일 출원하여 동시에 계류중인 출원 제 08/438,197호에 개시된 유형의 고굴절 반사방지 코팅층을 형성하였다. 본 재료의 증발 중에, 과량의 산소가 화학양론량 이하의 재료가 산소와 반응적으로 증발하여 화학양론적 코팅을 제공하도록 코팅 장치의 진공 챔버에 도입되었다.
ZrTiO2.8형의 분쇄된 잉곳 재료는 순수한 지르코늄 산화물의 융점 보다 약 900℃ 낮은 약 1800℃의 온도에서 용융되는 것으로 밝혀졌다. 이러한 낮은 용융 및 분해 온도는 훨씬 적은 열이 원료로부터 기판 상으로 방출되기 때문에 매우 유리하다. 예를 들면, 1800℃의 온도에서 방사되는 원료는 2700℃ 공급원으로서의 전체 에너지의 4분의 1 미만의 에너지를 방출한다. 본 발명의 재료의 더 낮은 분해 온도는 코팅을 더 빠른 속도로 할 수 있도록 하고 중합체 기판 재료를 더 얇게 할 수 있도록 하여, 로울 코우터(roll coater)를 사용하는 반사 방지 코팅이 높은 생산성, 저렴한 가격으로 수득되도록 하는 명확한 장점이 있다. 본 발명의 상기 구체예와 관련하여, 혼합물에 티탄 산화물을 첨가하면 용융점이 티탄 산화물을 첨가하지 않았을 때의 용융점보다 훨씬 낮아짐, 예를 들면 약 900℃ 이상 낮아짐을 알 수 있었다.
상기 재료는 약 2.0의 굴절률을 가짐을 발견하였다. 1995년 5월 9일 출원하여 동시에 계류중인 출원 제 08/438,197호에 개시된 것과 같은 저굴절 재료와 배합하였을 때, 형성된 반사 방지 코팅은 고굴절 재료인 지르코늄 산화물로부터 제조된 막만큼 단단하고 점착성이라는 것이 발견되었다.
본 발명에 따라서 조성된 또 다른 재료는 NbTi0.5O3인데, 이것은 y가 0 내지 3.5 인 NbTi0.5Oy로 일반화될 수 있다. NbTi0.5O3재료는 ZrTiOy와 유사한 방법으로 제조되었다. 정제는 Nb2O5, Ti 및 TiO2분말의 균질한 혼합물로부터 압착되었다. 그런 다음, 상기 정제는 용융되어 잉곳이 되고, 분쇄되어 전자총 증발기의 공급 원료를 제공하였다. 사용된 Nb/Ti 비가 2.0이 아닐지라도, NbTi0.5O3가 산소와 반응적으로 증발되어 화학양론적 재료 NbTi0.5O3.5(Nb2TiO7)를 제공할 수 있기 때문에 선택되었다. 상기 재료는 굴절률이 약 2.0이었다. 또한, 반사 방지 코팅을 제조하는데 이용될 때, 상기 재료는 증발 온도가 낮은, 예를 들면 Nb2O5의 경우의 2100℃ 보다 200℃ 낮은 1900℃인 바람직한 성질을 가졌다.
상기로부터, 신규하고 개선된 종류의 혼합 산화물 고굴절 광학 코팅 재료 및 많은 바람직한 성질을 갖는 상기 재료를 도포하기 위한 방법이 제공됨을 알 수 있다. 특히, 이것은 재료의 증발에 필요한 낮은 온도 때문에, 롤 코팅 작업에 알맞다. 이것은 단상(單相) 재료이어서 분별화가 필요없기 때문에 전자총 증발에 알맞다. 또한, 이것은 특히 반사방지 코팅용으로 적합한 단단하고 내구성 있는 재료를 제공한다.
Claims (16)
- 화학식 MNxOy(여기에서, M 및 N은 Sc, Y, Ac, Ti, Zr, Hf, V, Nb 및 Ta으로 구성된 그룹으로부터 선택되는 금속이고, O는 산소이며, x 및 y는 산소 대 금속의 비가 4 미만이고 비 y/(1+x)도 4 미만이 되도록 선택된 값이다)을 갖고, 단일 산화물상의 형태이고, 다른 형의 결정 구조는 거의 없이 단일형의 결정 구조만을 가지며, 화학양론량 이하의 양으로 존재하는 물질의 조성물.
- 화학식 MNxOy(여기에서, M 및 N은 Sc, Y, La, Ac, Zr, Hf, V, Nb 및 Ta으로 구성된 그룹으로부터 선택되는 금속이고, O는 산소이며, x 및 y는 산소 대 금속의 비가 4 미만이고 비 y/(1+x)도 4 미만이 되도록 선택된 값이다)을 갖고, 단일 산화물상의 형태이고, 다른 형의 결정 구조는 거의 없이 단일형의 결정 구조만을 가지며, 화학양론량 이하의 양으로 존재하는 물질의 조성물.
- 제 1항에 있어서, M이 Zr이고 N이 Ti이며, ZrTiO4형의 결정 구조는 거의 없이 등축정계 지르코니아형의 결정 구조만을 가지며, 화학양론량 이하의 양으로 존재함을 특징으로 하는 물질의 조성물.
- 제 3항에 있어서, x가 1이고 y가 0 내지 3.9임을 특징으로 하는 물질의 조성물.
- 제 1항에 있어서, M이 Nb이고 N이 Ti이며, Nb2O5또는 TiO2형의 결정 구조는 거의 없이 NbO2(니오브 이산화물)형의 결정 구조만을 가짐을 특징으로 하는 물질의 조성물.
- 제 5항에 있어서, x가 0.5이고 y가 0 내지 3.5임을 특징으로 하는 물질의 조성물.
- 제 5항에 있어서, 물질이 화학식 NbTi0.5O3.0을 가짐을 특징으로 하는 물질의 조성물.
- 제 1항에 있어서, 광학 박막 코팅의 제조용으로 적합함을 특징으로 하는 물질의 조성물.
- 화학식 LMxNzOy(여기에서, L, M 및 N은 Sc, Y, La, Ce, Ti, Zr, Hf, Nb, Ta, Ac 및 Th로 구성된 그룹으부터 선택되는 금속이고, O는 산소이며, x, z 및 y는 산소 대 금속의 비가 4 미만이고 비 y/(1+x+z)도 4 미만이 되도록 선택된 값이다)을 갖고, 다른 형의 결정 구조는 거의 없이 단일 산화물상의 결정 구조만을 가지며, 화학양론량 이하의 양으로 존재하는 물질의 조성물.
- 제 9항에 있어서, 광학 박막 코팅의 제조용으로 적합함을 특징으로 하는 물질의 조성물.
- 2가지 금속/금속 산화물로부터 분말을 수득하고, 이 분말을 혼합하여 균질한 혼합물을 형성하고, 분말의 균질한 혼합물을 정제로 압착시키고, 정제를 용융시키고, 용융된 정제를 잉곳으로 형성시키고, 잉곳을 과립으로 분쇄하고, 과립을 산소의 존재하에서 증발시켜 기판상에 광학 코팅의 형태의 화학양론적 물질을 형성시키는 단계를 포함하여, 기판의 표면에 광학 코팅을 형성시키는 방법.
- 제 11항에 있어서, 증발 단계가 전자총 증발에 의해 수행됨을 특징으로 하는 방법.
- 제 11항에 있어서, 증발 단계가 열증발에 의해 수행됨을 특징으로 하는 방법.
- 제 11항에 있어서, 분말을 수득하기 위한 금속/금속 산화물이 주기율표의 IIIB, IVB 및 VB족으로부터 선택됨을 특징으로 하는 방법.
- 제 11항에 있어서, 균질한 혼합 분말의 정제가 혼합물의 융점 보다 높은 온도로 가열됨을 특징으로 하는 방법.
- 제 11항에 있어서, 과립이 증발 온도로 가열되어 기판에 증착됨을 특징으로 하는 방법.
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Cited By (1)
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|---|---|---|---|---|
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Families Citing this family (54)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5885672A (en) * | 1989-04-26 | 1999-03-23 | Flex Products, Inc. | Coated barrier film and packaging utilizing the same and method |
| US5641719A (en) * | 1995-05-09 | 1997-06-24 | Flex Products, Inc. | Mixed oxide high index optical coating material and method |
| US6093944A (en) * | 1998-06-04 | 2000-07-25 | Lucent Technologies Inc. | Dielectric materials of amorphous compositions of TI-O2 doped with rare earth elements and devices employing same |
| US6327087B1 (en) | 1998-12-09 | 2001-12-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical-thin-film material, process for its production, and optical device making use of the optical-thin-film material |
| US7047883B2 (en) | 2002-07-15 | 2006-05-23 | Jds Uniphase Corporation | Method and apparatus for orienting magnetic flakes |
| US6987590B2 (en) * | 2003-09-18 | 2006-01-17 | Jds Uniphase Corporation | Patterned reflective optical structures |
| US6761959B1 (en) * | 1999-07-08 | 2004-07-13 | Flex Products, Inc. | Diffractive surfaces with color shifting backgrounds |
| US7667895B2 (en) | 1999-07-08 | 2010-02-23 | Jds Uniphase Corporation | Patterned structures with optically variable effects |
| EP1849621B1 (en) * | 2000-01-21 | 2014-04-16 | JDS Uniphase Corporation | Optically variable security devices |
| US11768321B2 (en) | 2000-01-21 | 2023-09-26 | Viavi Solutions Inc. | Optically variable security devices |
| FR2819185A1 (fr) * | 2001-01-08 | 2002-07-12 | Oreal | Composition cosmetique de texture pateuse a pulverulente et son utilisation en cosmetique |
| JP2002258006A (ja) * | 2001-02-28 | 2002-09-11 | Toppan Printing Co Ltd | 光学機能フィルムおよびその製造方法 |
| US6692830B2 (en) | 2001-07-31 | 2004-02-17 | Flex Products, Inc. | Diffractive pigment flakes and compositions |
| US7625632B2 (en) | 2002-07-15 | 2009-12-01 | Jds Uniphase Corporation | Alignable diffractive pigment flakes and method and apparatus for alignment and images formed therefrom |
| US6749936B2 (en) | 2001-12-20 | 2004-06-15 | Flex Products, Inc. | Achromatic multilayer diffractive pigments and foils |
| US6841238B2 (en) | 2002-04-05 | 2005-01-11 | Flex Products, Inc. | Chromatic diffractive pigments and foils |
| AU2002323522A1 (en) * | 2001-08-29 | 2003-03-18 | 3M Innovative Properties Company | Optical devices using shaped optical fibers and methods for making optical devices with shaped optical fibers |
| FR2829022B1 (fr) * | 2001-09-03 | 2004-09-24 | Oreal | Composition de fond de teint comprenant des pigments interferentiels |
| US20050169950A1 (en) * | 2002-01-08 | 2005-08-04 | Marie-Laure Delacour | Solid cosmetic composition comprising fibers |
| US6997981B1 (en) | 2002-05-20 | 2006-02-14 | Jds Uniphase Corporation | Thermal control interface coatings and pigments |
| US11230127B2 (en) | 2002-07-15 | 2022-01-25 | Viavi Solutions Inc. | Method and apparatus for orienting magnetic flakes |
| US7934451B2 (en) | 2002-07-15 | 2011-05-03 | Jds Uniphase Corporation | Apparatus for orienting magnetic flakes |
| US7674501B2 (en) | 2002-09-13 | 2010-03-09 | Jds Uniphase Corporation | Two-step method of coating an article for security printing by application of electric or magnetic field |
| US7645510B2 (en) | 2002-09-13 | 2010-01-12 | Jds Uniphase Corporation | Provision of frames or borders around opaque flakes for covert security applications |
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| US8025952B2 (en) | 2002-09-13 | 2011-09-27 | Jds Uniphase Corporation | Printed magnetic ink overt security image |
| US9458324B2 (en) | 2002-09-13 | 2016-10-04 | Viava Solutions Inc. | Flakes with undulate borders and method of forming thereof |
| US7550197B2 (en) | 2003-08-14 | 2009-06-23 | Jds Uniphase Corporation | Non-toxic flakes for authentication of pharmaceutical articles |
| US20050175562A1 (en) * | 2004-01-05 | 2005-08-11 | Anke Hadasch | Skin makeup composition |
| US20050276776A1 (en) * | 2004-05-13 | 2005-12-15 | Anne Liechty | Cosmetic powder comprising at least one elastomeric organopolysiloxane |
| US20050287099A1 (en) * | 2004-05-13 | 2005-12-29 | Anne Liechty | Cosmetic powder comprising at least one acrylic polymer powder |
| US20050287092A1 (en) * | 2004-05-13 | 2005-12-29 | Anne Liechty | Cosmetic powder comprising barium sulfate |
| TWI402106B (zh) | 2005-04-06 | 2013-07-21 | Jds Uniphase Corp | 印記於含有可印記菲涅耳結構之成型磁場中之動態外觀變化光學裝置（ｄａｃｏｄ） |
| AU2006202315B2 (en) * | 2005-06-17 | 2011-01-27 | Viavi Solutions Inc. | Covert security coating |
| CA2564764C (en) | 2005-10-25 | 2014-05-13 | Jds Uniphase Corporation | Patterned optical structures with enhanced security feature |
| CA2570965A1 (en) | 2005-12-15 | 2007-06-15 | Jds Uniphase Corporation | Security device with metameric features using diffractive pigment flakes |
| US7785722B2 (en) * | 2006-01-20 | 2010-08-31 | United Technologies Corporation | CMAS resistant thermal barrier coating |
| US12204120B2 (en) | 2006-03-06 | 2025-01-21 | Viavi Solutions Inc. | Optically variable security devices |
| TWI437059B (zh) | 2006-07-12 | 2014-05-11 | Jds Uniphase Corp | 壓印一經硬化及場配向之特效薄片之塗層及藉此形成之圖像 |
| EP1889598B1 (en) * | 2006-07-18 | 2016-02-03 | L'Oréal | Cosmetic composition in powdered form |
| GB2453343A (en) * | 2007-10-04 | 2009-04-08 | 3M Innovative Properties Co | Thermal infrared reflective paint composition |
| AU2008252069A1 (en) | 2007-12-05 | 2009-06-25 | Jds Uniphase Corporation | Reinforced glitter |
| JP2009193069A (ja) | 2008-02-13 | 2009-08-27 | Jds Uniphase Corp | 光学的な特殊効果フレークを含むレーザ印刷用の媒体 |
| ES2608837T3 (es) | 2009-07-20 | 2017-04-17 | L'oreal | Emulsión que contiene una dispersión de oxicloruro de bismuto |
| WO2011067807A1 (en) | 2009-12-02 | 2011-06-09 | L'oreal | Cosmetic composition containing fusiform particles for cosmetic use |
| US8974720B2 (en) | 2010-07-01 | 2015-03-10 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Method for producing ceramic laminate |
| WO2012042570A1 (en) | 2010-09-29 | 2012-04-05 | L'oreal | A cosmetic method for hiding skin imperfections |
| EP3428236B1 (en) | 2011-10-31 | 2023-11-29 | Viavi Solutions Inc. | Diffractive pigment blend |
| CN106925493B (zh) | 2012-01-12 | 2021-06-11 | 唯亚威通讯技术有限公司 | 带有由经排列的颜料片形成的动态框架的物品 |
| WO2013146496A1 (ja) * | 2012-03-27 | 2013-10-03 | キヤノンオプトロン株式会社 | 薄膜形成用蒸着材料 |
| WO2014203913A1 (en) | 2013-06-18 | 2014-12-24 | L'oreal | Cosmetic composition |
| US9765222B2 (en) | 2015-05-06 | 2017-09-19 | Viavi Solutions Inc. | Method of encapsulating pigment flakes with a metal oxide coating |
| JP2019137575A (ja) * | 2018-02-08 | 2019-08-22 | 日本電気硝子株式会社 | カバー部材及びその製造方法 |
| JP2021021893A (ja) * | 2019-07-30 | 2021-02-18 | マクセル株式会社 | 膜付きレンズ、レンズユニットおよびカメラモジュール |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5021386A (en) * | 1990-03-21 | 1991-06-04 | Texaco Inc. | Compositions involving V2 O3 -ZRO2 -TIO2 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2653107A (en) * | 1950-03-30 | 1953-09-22 | Nat Lead Co | Fused reduced titania-zirconia product and method |
| US3034924A (en) * | 1958-10-30 | 1962-05-15 | Balzers Patent Beteilig Ag | Use of a rare earth metal in vaporizing metals and metal oxides |
| US3264694A (en) * | 1959-03-04 | 1966-08-09 | Berthold C Weber | Method of casting |
| US3049432A (en) * | 1959-03-04 | 1962-08-14 | Berthold C Weber | Crucible and refractory material therefor |
| US3034925A (en) * | 1961-02-02 | 1962-05-15 | Marco Carlo G De | Water-resistant and oil-resistant fibrous substances, and processes therefor |
| US3948813A (en) * | 1974-12-02 | 1976-04-06 | The United States Of America As Represented By The United States Energy Research And Development Administration | Oxygen sensitive, refractory oxide composition |
| JPS5846014B2 (ja) * | 1978-07-04 | 1983-10-13 | 神崎製紙株式会社 | 静電記録体 |
| JPS5595204A (en) * | 1979-01-16 | 1980-07-19 | Kyoritsu Ceramic Materials | Titanium semiconductor porcelain composition |
| JPH01317167A (ja) * | 1988-03-15 | 1989-12-21 | Tosoh Corp | 薄膜形成用酸化ジルコニウム焼結体及びその製造方法 |
| AT391435B (de) * | 1988-04-14 | 1990-10-10 | Plansee Metallwerk | Verfahren zur herstellung einer odssinterlegierung |
| JP3004760B2 (ja) * | 1991-04-03 | 2000-01-31 | 日新製鋼株式会社 | チタン酸化物青色膜 |
| DE4208811A1 (de) * | 1992-03-19 | 1993-09-23 | Merck Patent Gmbh | Aufdampfmaterial zur herstellung hochbrechender optischer schichten |
| US5641719A (en) * | 1995-05-09 | 1997-06-24 | Flex Products, Inc. | Mixed oxide high index optical coating material and method |
-
1995
- 1995-05-09 US US08/438,198 patent/US5641719A/en not_active Expired - Fee Related
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1997
- 1997-06-23 US US08/881,039 patent/US5989626A/en not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-09-13 CN CN02142951A patent/CN1405241A/zh active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5021386A (en) * | 1990-03-21 | 1991-06-04 | Texaco Inc. | Compositions involving V2 O3 -ZRO2 -TIO2 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20210022240A (ko) | 2019-08-19 | 2021-03-03 | 코스맥스 주식회사 | 비타민 c 유도체를 안정적으로 함유하는 수중유형 미백용 화장료 조성물 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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