JPS63316748A - テトラブロムビスフエノ−ルaの製造方法 - Google Patents
テトラブロムビスフエノ−ルaの製造方法Info
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- JPS63316748A JPS63316748A JP15407087A JP15407087A JPS63316748A JP S63316748 A JPS63316748 A JP S63316748A JP 15407087 A JP15407087 A JP 15407087A JP 15407087 A JP15407087 A JP 15407087A JP S63316748 A JPS63316748 A JP S63316748A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明は高純度かつ高収率なるテトラブロムビスフェノ
ール人の製造方法に関するものである。
ール人の製造方法に関するものである。
「従来技術」
テトラブロムビスフェノールA(以下TBAという)は
−エポキシ系、ポリカーボネート系等の合成樹脂、合成
ゴム、合成繊維等の難燃化剤として、幅広く利用されて
hる。
−エポキシ系、ポリカーボネート系等の合成樹脂、合成
ゴム、合成繊維等の難燃化剤として、幅広く利用されて
hる。
とのTBAH、ビスフェノールA(以下BPAという)
のベンゼン環水素を臭素で置換臭素化して製造されるも
のであるが、従来の方法では、その製造過程にお論て絢
生する酸やハロゲン化不純物を含有しており、着色した
り、目的とする四臭素置換体純度の低いものであった。
のベンゼン環水素を臭素で置換臭素化して製造されるも
のであるが、従来の方法では、その製造過程にお論て絢
生する酸やハロゲン化不純物を含有しており、着色した
り、目的とする四臭素置換体純度の低いものであった。
又、TBA裂造工程の機器の大部分が耐蝕性の材質とな
り、プラントの設備費用が多大なものであった。
り、プラントの設備費用が多大なものであった。
TBAの公知の製造方法は、
])BPAを水中に懸濁させ、これに臭素を加え反応さ
せる方法。
せる方法。
2)BPAをハロゲン化炭化水素に分散又Vi溶解させ
、これに臭素を加え反応させる方法。
、これに臭素を加え反応させる方法。
3)メタノール等の低級アルコール及び水にBPAを溶
解し、これに臭素を加え反応させる方法04)反応溶媒
として、ハロゲン化炭化水素とメタノール等低級アルコ
ールの混合溶媒を用−る反応等がある。
解し、これに臭素を加え反応させる方法04)反応溶媒
として、ハロゲン化炭化水素とメタノール等低級アルコ
ールの混合溶媒を用−る反応等がある。
しかし−これら1)、2)の方法で得られた、TBAは
、目的とする四臭素置換体以外に、二、三臭素置換体及
び五〜へ臭素置換体からなる副生物を多量に含んでおり
、高純度TDAを得る為には、さらに、反応溶媒とは異
なった精製溶媒を用する等、繁雑な精製工程を必要とし
ていた。
、目的とする四臭素置換体以外に、二、三臭素置換体及
び五〜へ臭素置換体からなる副生物を多量に含んでおり
、高純度TDAを得る為には、さらに、反応溶媒とは異
なった精製溶媒を用する等、繁雑な精製工程を必要とし
ていた。
又、3)、4)の方法は、副生物の生成it−減するに
は効果的ではあるが、TBA合成時、低級アルコールの
臭素化物である臭化アルキルが多iに副生し、その処理
が困難である。−万、生成したTBAt!−t、アルコ
ールm[6解するところから、TBAのアルコール溶液
より、TBAt結晶として取り出す際、繁雑な分離操作
が必要となる。又、製品純度も不満足である。
は効果的ではあるが、TBA合成時、低級アルコールの
臭素化物である臭化アルキルが多iに副生し、その処理
が困難である。−万、生成したTBAt!−t、アルコ
ールm[6解するところから、TBAのアルコール溶液
より、TBAt結晶として取り出す際、繁雑な分離操作
が必要となる。又、製品純度も不満足である。
以上の方法により製造されたTBAけ、不純物生成量に
おりて満足のゆくものではなく、品質及び収率の面で不
十分であり、1lFfjl製方法も繁雑となり、耐蝕性
の材料を用論るため、プラント設備費用が高価となる等
不満足であった。
おりて満足のゆくものではなく、品質及び収率の面で不
十分であり、1lFfjl製方法も繁雑となり、耐蝕性
の材料を用論るため、プラント設備費用が高価となる等
不満足であった。
「発明が解決しようとする問題点」
本発tw#i、上記従来方法では溝足嘔れなかった不純
物生成titを減じ、かつ繁雑な精製工程なしに、高純
度のTBAを高収率に製造しようとするものであり、さ
らに耐蝕性材料の使用全大幅に削減しようとするもので
ある。
物生成titを減じ、かつ繁雑な精製工程なしに、高純
度のTBAを高収率に製造しようとするものであり、さ
らに耐蝕性材料の使用全大幅に削減しようとするもので
ある。
「問題を解決するための手段」
本発明者らは高純度TBAを高収率で製造すべく鋭意努
力した結果、BPAを不均一溶媒中で所定量の臭素と反
応させるTBAの製造法であって、BPAの1〜]0倍
債のクロルベンゼンに!媒とし、これにBPAの】〜4
倍菫の水及びBPA ′ft分散させた系に、10〜2
5℃で臭素を加え反応場ぜ、全ての臭素を加え終った後
、同温度に】時間以上保ち、更に70〜90℃に加温し
て熟成さぜた後、同温度で未反応臭素を分解し、同温度
で水層を分離し、同温度で有機層を洗浄した後、必要に
応じて一部のクロルベンゼンを回収し、有機層を冷却し
、TBAを晶析さぜることを特徴とする高純度TBAの
製造方法を見い出したものである。
力した結果、BPAを不均一溶媒中で所定量の臭素と反
応させるTBAの製造法であって、BPAの1〜]0倍
債のクロルベンゼンに!媒とし、これにBPAの】〜4
倍菫の水及びBPA ′ft分散させた系に、10〜2
5℃で臭素を加え反応場ぜ、全ての臭素を加え終った後
、同温度に】時間以上保ち、更に70〜90℃に加温し
て熟成さぜた後、同温度で未反応臭素を分解し、同温度
で水層を分離し、同温度で有機層を洗浄した後、必要に
応じて一部のクロルベンゼンを回収し、有機層を冷却し
、TBAを晶析さぜることを特徴とする高純度TBAの
製造方法を見い出したものである。
上記本発明において使用される溶媒は、副生物に対して
良溶媒であり、高温時にお−てTBAを完全に溶解させ
る、クロルベンゼンである。
良溶媒であり、高温時にお−てTBAを完全に溶解させ
る、クロルベンゼンである。
クロルベンゼンを溶媒として使用すると、低温反応時で
のTBA生成率が高く、不純物生成量がおさえられ、か
つ、高温熟成の時r4 %短縮されることが判明した。
のTBA生成率が高く、不純物生成量がおさえられ、か
つ、高温熟成の時r4 %短縮されることが判明した。
なおかつ、臭素分解後高温にするとTEAが完全に浴解
し、反応[よって生成したHBr水の分液除去が可能と
な9、さらに同温度V(て水その他による洗浄精製が可
能となった。
し、反応[よって生成したHBr水の分液除去が可能と
な9、さらに同温度V(て水その他による洗浄精製が可
能となった。
これにより、以降の工程の機器に耐蝕性の材料を必要と
せず、プラント建設コストの大幅な削減が可能となった
。
せず、プラント建設コストの大幅な削減が可能となった
。
このクロルベンゼンH1TBAI!II生物に対して良
溶媒であり、低温時でも完全に溶解して込る。
溶媒であり、低温時でも完全に溶解して込る。
一方、TBAに対しては低温時には、貧溶媒である事が
判明した。従って、上記況浄#I製後、必要に応じて一
部のクロルベンゼンを回収し有mM’!i−冷却し分別
晶析δせ、高純度のTBAk得ることが可能となった。
判明した。従って、上記況浄#I製後、必要に応じて一
部のクロルベンゼンを回収し有mM’!i−冷却し分別
晶析δせ、高純度のTBAk得ることが可能となった。
しかも反応溶媒と精製溶媒とが同一でろ々、従来方法で
ある、反応溶媒と精製溶媒が異なり操作が繁雑になる事
がなくなった。
ある、反応溶媒と精製溶媒が異なり操作が繁雑になる事
がなくなった。
使用量におりt″は、BPA重量に対して]〜10倍量
、好着しくに3〜6倍世が良い。
、好着しくに3〜6倍世が良い。
本発明では水も使用てれるが、その量け、BPA重量に
対して1〜4倍量、好ましくは、2〜3倍蓋が良い。B
PAの臭素化反応に伴A臭化水素が副生ずるが、臭化水
素の大部分が不均一溶媒中の水相に溶解している。この
臭化水素水の酸度が高すぎても、低すぎて嶌BPAの臭
素化反応を阻害することになハ、適当な水の墓が必要と
なる。
対して1〜4倍量、好ましくは、2〜3倍蓋が良い。B
PAの臭素化反応に伴A臭化水素が副生ずるが、臭化水
素の大部分が不均一溶媒中の水相に溶解している。この
臭化水素水の酸度が高すぎても、低すぎて嶌BPAの臭
素化反応を阻害することになハ、適当な水の墓が必要と
なる。
本発明で使用される臭素の使用量は理論量よりもわずか
に過剰の臭素量で良く、大過剰の臭素は必要でな−。B
PAのモル数に対して、4.01〜4.1倍モルが良b
0 本発明におηて、臭素添加時の温就け10〜25℃であ
り、好ましくVil 5〜20℃である。又、臭素添刃
口時間#i1〜3時間であり、好箇しくけ1.5〜2.
5時間である。臭素添加後、同温度にて】〜2時間の熟
成を行った後、昇温し、70〜90℃なる温度にて刃口
熱熟成を0.5〜1時間行う。
に過剰の臭素量で良く、大過剰の臭素は必要でな−。B
PAのモル数に対して、4.01〜4.1倍モルが良b
0 本発明におηて、臭素添加時の温就け10〜25℃であ
り、好ましくVil 5〜20℃である。又、臭素添刃
口時間#i1〜3時間であり、好箇しくけ1.5〜2.
5時間である。臭素添加後、同温度にて】〜2時間の熟
成を行った後、昇温し、70〜90℃なる温度にて刃口
熱熟成を0.5〜1時間行う。
さらに、有機層を洗浄後、必要に応じて回収するクロル
ベンゼンの輩は全使用量の20〜50重量%好ましくF
i30〜40重i%であり、減圧下に蒸留回収するのが
よい。
ベンゼンの輩は全使用量の20〜50重量%好ましくF
i30〜40重i%であり、減圧下に蒸留回収するのが
よい。
尚、那熱熟成後微量残留して偽る未反応臭素はヒドラジ
ン水和物等の分解剤で分解し、その後の処理を容易にす
るものである。
ン水和物等の分解剤で分解し、その後の処理を容易にす
るものである。
「作用」
高純度のTBAを高収率に製造するためには、不純物で
ある、二、三臭素置換体及び五〜人臭素置換体の生成量
を極力少なくすることが必要である。
ある、二、三臭素置換体及び五〜人臭素置換体の生成量
を極力少なくすることが必要である。
又、精製工程においては、TBA副生物に対し、良溶媒
であり、TBAに対して貧溶媒である様な溶剤を使用し
て、TDAを晶析精製するのが良IA。
であり、TBAに対して貧溶媒である様な溶剤を使用し
て、TDAを晶析精製するのが良IA。
しかも、精製工程の繁雑さをなくすためKは、反応溶媒
と同一の溶媒で精製工程を実施するのが良b0 BPAの臭素化にお論て、臭素添那時の温度を30〜2
5℃に調節することは、五〜人臭素置換体からなる高臭
素付刃口吻の生成をおさえるのに効果的な方法であり、
反応溶媒として、クロルベンゼンを使用すること及び共
素添加後、同温度にて1時間以上保持することは高臭素
付加物の生成なしに、二、三臭21換体を四臭51e置
換体に変換せしめるのに効果的な方法である。
と同一の溶媒で精製工程を実施するのが良b0 BPAの臭素化にお論て、臭素添那時の温度を30〜2
5℃に調節することは、五〜人臭素置換体からなる高臭
素付刃口吻の生成をおさえるのに効果的な方法であり、
反応溶媒として、クロルベンゼンを使用すること及び共
素添加後、同温度にて1時間以上保持することは高臭素
付加物の生成なしに、二、三臭21換体を四臭51e置
換体に変換せしめるのに効果的な方法である。
上記方法で行うことにより、熟成終了時の未反応臭素の
量は問題とならなり程度に減少しており、以後の加熱熟
成時における高臭素付刃口吻の生成をおさえることが出
来る。
量は問題とならなり程度に減少しており、以後の加熱熟
成時における高臭素付刃口吻の生成をおさえることが出
来る。
TBAの精製工程において、クロルベンゼンは、低温時
、TBA副生物に対し、これを完全に溶解する良溶媒で
あり、TBAに対しては、貧溶媒となる。従って、水溶
性不純物の除去の場合反応溶剤としてクロルベンゼンを
用することによシ、反応終了後温度を上げ、TBAを完
全に溶解させ、水その他で洗浄することができ、その温
度で水層を分離し精#!を行うことができるのである。
、TBA副生物に対し、これを完全に溶解する良溶媒で
あり、TBAに対しては、貧溶媒となる。従って、水溶
性不純物の除去の場合反応溶剤としてクロルベンゼンを
用することによシ、反応終了後温度を上げ、TBAを完
全に溶解させ、水その他で洗浄することができ、その温
度で水層を分離し精#!を行うことができるのである。
なおかつ、これを実施することにより以降の工程では、
機器にお込て耐蝕性の材料を使用する必要がなくなる。
機器にお込て耐蝕性の材料を使用する必要がなくなる。
油性不純物の除去の場合、TBA−クロルベンゼン溶液
の温度を下げ、必要に応じて一部のクロルベンゼンを回
収し、冷却1ぜることにより、TBAが晶析し、油性不
純物はクロルベンゼンに溶解している状態となり、濾過
することにより油性不純物が除去さn、TBAが精製さ
nることになる。
の温度を下げ、必要に応じて一部のクロルベンゼンを回
収し、冷却1ぜることにより、TBAが晶析し、油性不
純物はクロルベンゼンに溶解している状態となり、濾過
することにより油性不純物が除去さn、TBAが精製さ
nることになる。
上記繰作を行った後、Fさbを洗浄し、乾燥して製品金
得る。
得る。
不発明により!!!!!遺したTBAは液体クロマトグ
ラフ分析による純度99%以上であり、BPAに基づく
収率け98−以上である。
ラフ分析による純度99%以上であり、BPAに基づく
収率け98−以上である。
こ7″Lは公知の方法で製造したTBAの純度93〜9
8%、収率84〜97チと比較して優れた本のである。
8%、収率84〜97チと比較して優れた本のである。
以下に不発明の実施例により具体的に説明するが、本発
明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
「実施例及び比較例」
実施例1
温度計、臭素を連続的に滴下する為の滴下ロート、撹拌
翼及び冷却管をMする各1dlfのセ・くラブルフラス
コに、BPA5(1、クロルベンゼン]75y、イオン
又換水125y11:仕込み、15〜20℃の温度を保
つよう撹拌冷却しながら、142ノの臭素を2時間で滴
下した。
翼及び冷却管をMする各1dlfのセ・くラブルフラス
コに、BPA5(1、クロルベンゼン]75y、イオン
又換水125y11:仕込み、15〜20℃の温度を保
つよう撹拌冷却しながら、142ノの臭素を2時間で滴
下した。
臭素添刃口終了後、15〜20℃を保ちながら、】、5
時間熟成反応を打込、その後80℃まで昇温し、80℃
で30分保持した。
時間熟成反応を打込、その後80℃まで昇温し、80℃
で30分保持した。
上記操作終了後、60チヒドラジン水和物0.6yを加
え未反応の臭素を分解し、嘔らに90℃首で昇温し、水
層を分離除去した後、イオン交換水を加え有機層を撹拌
洗浄し、再度水層を分離除去した。次に系内金減圧とし
629のクロルベンゼンを回収したのち25℃に冷却し
、TBAを晶析させ、濾過乾燥を行って117,99の
精製TBAを得た。
え未反応の臭素を分解し、嘔らに90℃首で昇温し、水
層を分離除去した後、イオン交換水を加え有機層を撹拌
洗浄し、再度水層を分離除去した。次に系内金減圧とし
629のクロルベンゼンを回収したのち25℃に冷却し
、TBAを晶析させ、濾過乾燥を行って117,99の
精製TBAを得た。
得られたTBAの重量を測定し、BPAに基づく理論収
fitl19.2yで割った数値を百分率で表わし、こ
れを収率とした。
fitl19.2yで割った数値を百分率で表わし、こ
れを収率とした。
捷た、液体クロマトグラフ分析により、生成TEAの組
成を求めりS]表に示した。
成を求めりS]表に示した。
実施例2
臭素添加後の低温熟成f2時間とした以外は実施例1と
同様の操作を行った。結果を第】表に示した。
同様の操作を行った。結果を第】表に示した。
実施例3
クロルベンゼンの仕込1Q250pとした以外は、実施
例1と同様の操作を行った。結果f:第1表に示した。
例1と同様の操作を行った。結果f:第1表に示した。
実施例4
有機層を洗浄後クロルベンゼンを回収しなかった以外は
、実施例】と同様の操作を行った。結果を第1表に示し
た。
、実施例】と同様の操作を行った。結果を第1表に示し
た。
比較例1
反応溶媒としてのパークロルエチレン200y、BPA
50 ?、イオン交換水125yt−仕込み、反応温
度を】5〜20℃を保つよう撹拌冷却しながら、142
9の臭素を1.5時間で添加した。臭素添加終了後、1
5〜20℃を保ちながら、1.5時間熟成反応を性力、
70℃まで昇温し、30分間70℃を保持した。その後
60%ヒドラジン水和物0.6yを加え、未反応の臭素
を分解し、冷却、濾過、乾燥し、製品を得た。結果は第
1表に示した。
50 ?、イオン交換水125yt−仕込み、反応温
度を】5〜20℃を保つよう撹拌冷却しながら、142
9の臭素を1.5時間で添加した。臭素添加終了後、1
5〜20℃を保ちながら、1.5時間熟成反応を性力、
70℃まで昇温し、30分間70℃を保持した。その後
60%ヒドラジン水和物0.6yを加え、未反応の臭素
を分解し、冷却、濾過、乾燥し、製品を得た。結果は第
1表に示した。
比較例2
反応溶媒を四塩化炭素とした以外は、比較例】と同様の
操作を行った。結果は第1表に示した。
操作を行った。結果は第1表に示した。
比較例3
反応溶媒をメタノールとし、比較例】と同様の反応を実
施し、臭素分解後は、反応終了液にイオン交換水1に2
2111えてTEAを晶析させ、濾過、乾燥して製品を
得た。結果#−t%1表に示した。
施し、臭素分解後は、反応終了液にイオン交換水1に2
2111えてTEAを晶析させ、濾過、乾燥して製品を
得た。結果#−t%1表に示した。
比較例4
比較例1で合成されたTBAをトルエン溶媒3QOyK
溶解させ、水100yで洗浄後、冷却晶析させた。結果
は第】表に示した。
溶解させ、水100yで洗浄後、冷却晶析させた。結果
は第】表に示した。
比較例5
比tI9例2で合成されfeTBAを比較例4と同様の
操作を行い製品を得た。結果はg1表に示した。
操作を行い製品を得た。結果はg1表に示した。
以下余白
「発明の効果」
本発明は低温では生成TBAの溶解能が低く高温で溶解
能が高くなるクロルベンゼンと水からなる不拘−溶臨中
で、BPAを低温で臭素化することにより高置換物の生
成を防ぎ、反応後高源にすることにより生成したHBr
水の分離及び反応液の洗浄が極めて容易になり、必要に
応じて一部のクロルベンゼンを回収した後、反応液を冷
却するのみで高純度のTBAが高収率で得られると込う
優れた効果、及び洗浄工程以降の機器に耐蝕性の材料1
に快しないという効果を有するものである。
能が高くなるクロルベンゼンと水からなる不拘−溶臨中
で、BPAを低温で臭素化することにより高置換物の生
成を防ぎ、反応後高源にすることにより生成したHBr
水の分離及び反応液の洗浄が極めて容易になり、必要に
応じて一部のクロルベンゼンを回収した後、反応液を冷
却するのみで高純度のTBAが高収率で得られると込う
優れた効果、及び洗浄工程以降の機器に耐蝕性の材料1
に快しないという効果を有するものである。
Claims (1)
- ビスフェノールAを不均一溶媒中で所定量の臭素と反応
させるテトラブロムビスフェノールAの製造法であって
、ビスフェノールAの1〜10倍量のクロルベンゼンを
溶媒とし、これにビスフェノールAの1〜4倍量の水及
びビスフェノールAを分散させた系に、10〜25℃で
臭素を加え反応させ、全ての臭素を加え終った後、同温
度に1時間以上保ち、更に70〜90℃に加温して熟成
させた後、同温度で未反応臭素を分解し、同温度で水層
を分離し、同温度で有機層を洗浄した後、必要に応じて
一部のクロルベンゼンを回収し、有機層を冷却し、テト
ラブロムビスフェノールAを晶析させることを特徴とす
る高純度テトラブロムビスフェノールAの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15407087A JPH07110827B2 (ja) | 1987-06-20 | 1987-06-20 | テトラブロムビスフエノ−ルaの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15407087A JPH07110827B2 (ja) | 1987-06-20 | 1987-06-20 | テトラブロムビスフエノ−ルaの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63316748A true JPS63316748A (ja) | 1988-12-26 |
JPH07110827B2 JPH07110827B2 (ja) | 1995-11-29 |
Family
ID=15576236
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15407087A Expired - Lifetime JPH07110827B2 (ja) | 1987-06-20 | 1987-06-20 | テトラブロムビスフエノ−ルaの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07110827B2 (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5208389A (en) * | 1992-04-01 | 1993-05-04 | Ethyl Corporation | Process for high purity tetrabromobisphenol-A |
US5237112A (en) * | 1992-08-31 | 1993-08-17 | Ethyl Corporation | Process for tetrabromobisphenol-A |
US5283375A (en) * | 1992-04-01 | 1994-02-01 | Ethyl Corporation | Process for high purity tetrabromobisphenol-A |
US5527971A (en) * | 1995-04-24 | 1996-06-18 | Albemarle Corporation | Process for the preparation of tetrabromobisphenol-A |
US5847232A (en) * | 1995-03-06 | 1998-12-08 | Albemarle Corporation | Process for the preparation of tetrabromobisphenol-A |
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US6084136A (en) * | 1995-03-06 | 2000-07-04 | Albmarle Corporation | Process for the preparation of tetrabromobisphenol-A |
US6084137A (en) * | 1995-03-06 | 2000-07-04 | Albemarle Corporation | Process for the preparation of tetrabromobisphenol-A |
US6147264A (en) * | 1999-04-08 | 2000-11-14 | Albemarle Corporation | Process for producing tetrabromobisphenol-A |
US6218584B1 (en) | 1995-03-06 | 2001-04-17 | Albemarle Corporation | Process for the preparation of tetrabromobisphenol-A |
US6235946B1 (en) | 1995-03-06 | 2001-05-22 | Albemarle Corporation | Process for the preparation of tetrabromobisphenol-A |
-
1987
- 1987-06-20 JP JP15407087A patent/JPH07110827B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5283375A (en) * | 1992-04-01 | 1994-02-01 | Ethyl Corporation | Process for high purity tetrabromobisphenol-A |
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US6235946B1 (en) | 1995-03-06 | 2001-05-22 | Albemarle Corporation | Process for the preparation of tetrabromobisphenol-A |
US6313355B1 (en) | 1995-03-06 | 2001-11-06 | Thanikavelu Manimaran | Process for the preparation of tetrabromobisphenol-A |
US5847232A (en) * | 1995-03-06 | 1998-12-08 | Albemarle Corporation | Process for the preparation of tetrabromobisphenol-A |
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US6300527B1 (en) | 1995-03-06 | 2001-10-09 | Albemarle Corporation | Process for the preparation of tetrabromobisphenol-A |
US6162953A (en) * | 1995-03-06 | 2000-12-19 | Albemarle Corporation | Process for the preparation of tetrabromobisphenol-A |
US6218584B1 (en) | 1995-03-06 | 2001-04-17 | Albemarle Corporation | Process for the preparation of tetrabromobisphenol-A |
US5527971A (en) * | 1995-04-24 | 1996-06-18 | Albemarle Corporation | Process for the preparation of tetrabromobisphenol-A |
US5723690A (en) * | 1995-04-24 | 1998-03-03 | Albemarle Corporation | Process for the preparation of tetrabromobisphenol-A |
US6147264A (en) * | 1999-04-08 | 2000-11-14 | Albemarle Corporation | Process for producing tetrabromobisphenol-A |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07110827B2 (ja) | 1995-11-29 |
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