JPS6321601A - 反射防止性物品およびその製造方法 - Google Patents
反射防止性物品およびその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、耐摩耗性、可染性、耐衝撃性、耐薬品性、可
撓性、耐候性などに優れた反射防止性を有する光学物品
に関するものであり、とくに光学用素子、たとえば眼鏡
用レンズ、カメラ用レンズなどの光学用レンズなど、プ
ラスチック製反射防止性物品およびその製造方法に関す
るものでおる。
撓性、耐候性などに優れた反射防止性を有する光学物品
に関するものであり、とくに光学用素子、たとえば眼鏡
用レンズ、カメラ用レンズなどの光学用レンズなど、プ
ラスチック製反射防止性物品およびその製造方法に関す
るものでおる。
[従来の技術]
透明材料を通して物を見る場合、反射光が強く反射像が
明瞭でおることは煩わしく、例えば、眼鏡用レンズでは
ゴースト、フレアなどと呼ばれる反射像を生じて眼に不
快感を与えたりする。また、ルッキンググラスなどでは
ガラス面上の反射した光のために内容物が判然としない
問題が生ずる。
明瞭でおることは煩わしく、例えば、眼鏡用レンズでは
ゴースト、フレアなどと呼ばれる反射像を生じて眼に不
快感を与えたりする。また、ルッキンググラスなどでは
ガラス面上の反射した光のために内容物が判然としない
問題が生ずる。
従来より反射防止に関しては、すでに多くの提案がなさ
れ、また実用化されている。特に液状組成物を透明基材
に塗布し単層膜で反射防止効果を1qでいるものとして
、特開昭58−167448号公報、特開昭58−21
1701号公報、および特開昭58−43601号公報
、特開昭59−49501号公報がある。
れ、また実用化されている。特に液状組成物を透明基材
に塗布し単層膜で反射防止効果を1qでいるものとして
、特開昭58−167448号公報、特開昭58−21
1701号公報、および特開昭58−43601号公報
、特開昭59−49501号公報がある。
[発明が解決しようとする問題点コ
特開昭58−16744号公報および特開昭58−21
1701号公報は、基材がガラスであるため染色出来な
いものであった。また反射防止物品の軽量化、可撓性、
易加工性などの要求を満足するためには、プラスチック
製基材の導入が必要である。
1701号公報は、基材がガラスであるため染色出来な
いものであった。また反射防止物品の軽量化、可撓性、
易加工性などの要求を満足するためには、プラスチック
製基材の導入が必要である。
一方、プラスチック製基材へ適用した例として特開昭5
8−43601号公報、特開昭59−49501号公報
などがあるが、いずれも2層以上の複層膜からなってお
り、生産性、再現性、面内均−性などに問題があった。
8−43601号公報、特開昭59−49501号公報
などがあるが、いずれも2層以上の複層膜からなってお
り、生産性、再現性、面内均−性などに問題があった。
[問題点を解決するための手段]
本発明者らは、上記の問題点を解決するために鋭意検討
した結果、以下に述べる本発明に到達した。
した結果、以下に述べる本発明に到達した。
すなわち本発明の第1の発明は、次の構成からなる。
屈折率が1.52以上のプラスデック製透明基材の表面
に膜厚が10〜500止、屈折率が透明基材より少なく
とも0.02以上低いフッ素含有有機ポリシロキサン系
薄膜を有することを特徴とする反射防止物品に関するも
のである。
に膜厚が10〜500止、屈折率が透明基材より少なく
とも0.02以上低いフッ素含有有機ポリシロキサン系
薄膜を有することを特徴とする反射防止物品に関するも
のである。
さらに第2の発明は、透明基材の表面にフッ素含有有機
ケイ素化合物および/またはその加水分解物を含む液状
コーティング組成物を塗布し、さらに加熱によって硬化
被膜を形成せしめることを特徴とする反射防止性物品の
製造方法に関するものである。
ケイ素化合物および/またはその加水分解物を含む液状
コーティング組成物を塗布し、さらに加熱によって硬化
被膜を形成せしめることを特徴とする反射防止性物品の
製造方法に関するものである。
本発明における透明基材としては、各種プラスチック、
例えばアクリル樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネート
、ジエチレングリコールビスアリルカ−ボネートポリマ ノールAのジ(メタ)メタアクリレートポリマおよびそ
の共重合体、(ハロゲン化)ビスフェノールAのウレタ
ン変性(メタ)アクリレートポリマ、およびその共重合
体などが好ましく使用される。
例えばアクリル樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネート
、ジエチレングリコールビスアリルカ−ボネートポリマ ノールAのジ(メタ)メタアクリレートポリマおよびそ
の共重合体、(ハロゲン化)ビスフェノールAのウレタ
ン変性(メタ)アクリレートポリマ、およびその共重合
体などが好ましく使用される。
さらに本発明に使用される透明基材は、屈折率が1.5
2以上であることが必要であり、これ以下では実質的に
反射防止効果の発現を期待することができない。反射防
止性をより一段と高めるためには、1.54以上の屈折
率を有するものがさらに好ましく使用される。
2以上であることが必要であり、これ以下では実質的に
反射防止効果の発現を期待することができない。反射防
止性をより一段と高めるためには、1.54以上の屈折
率を有するものがさらに好ましく使用される。
また屈折率が1.52より低い透明基材、あるいは比較
的屈折率が低い透明基材の場合には、必らかじめ該基材
上に屈折率の高い被覆材を中間高屈折率層として適用し
たのものを透明基材として用いることもできる。
的屈折率が低い透明基材の場合には、必らかじめ該基材
上に屈折率の高い被覆材を中間高屈折率層として適用し
たのものを透明基材として用いることもできる。
本発明の反射防止性とは、ゴーストおよびフレアーの除
去という観点からは反射防止効果を必要とする面におけ
る反射率が2%以下、たとえば眼鏡レンズなどのような
両面の反射防止が必要な場合には両面における反射率の
合計が4%以下のものを示し、全光線透過率で表わせば
96%以上のものを言う。
去という観点からは反射防止効果を必要とする面におけ
る反射率が2%以下、たとえば眼鏡レンズなどのような
両面の反射防止が必要な場合には両面における反射率の
合計が4%以下のものを示し、全光線透過率で表わせば
96%以上のものを言う。
本発明におけるフッ素含有有機ポリシロキサン系薄膜と
は、下記一般式(I)で表わされるフッ素含有有機ケイ
素化合物および/またはその加水分解物を被覆、硬化さ
せて得られる透明膜である。
は、下記一般式(I)で表わされるフッ素含有有機ケイ
素化合物および/またはその加水分解物を被覆、硬化さ
せて得られる透明膜である。
(RlQ ) S i Xa Y3−a (1
)(ここで、R1は炭素数1〜20個のフッ素含有アル
キル基であってエーテル結合あるいはエステル結合を1
個以上含んでいてもよい。Qは二価の有機基、Xは低級
アルキル基、Yはハロゲン、アルコキシ基、又はRCO
O−基(ただし、Rは水素原子又は低級アルキル基)、
aはOまたは1の整数を示す。〉 これらのフッ素含有有殿化合物の具体的代表例としては
、3.3.3−トリフロロプロピルトリアルコキシシラ
ン、3.3.3−トリフロロプロピルメチルジアルコキ
シシラン、3−トリフロロアセ1〜キシプロピルトリア
ルコキシシランなどがその例である。
)(ここで、R1は炭素数1〜20個のフッ素含有アル
キル基であってエーテル結合あるいはエステル結合を1
個以上含んでいてもよい。Qは二価の有機基、Xは低級
アルキル基、Yはハロゲン、アルコキシ基、又はRCO
O−基(ただし、Rは水素原子又は低級アルキル基)、
aはOまたは1の整数を示す。〉 これらのフッ素含有有殿化合物の具体的代表例としては
、3.3.3−トリフロロプロピルトリアルコキシシラ
ン、3.3.3−トリフロロプロピルメチルジアルコキ
シシラン、3−トリフロロアセ1〜キシプロピルトリア
ルコキシシランなどがその例である。
これらのフッ素化含有有機ポリシロキサン系薄膜におい
て、前記一般式(I>に由来する成分は20重量%以上
含まれることが低屈折率化に必要である。さらに基材が
比較的屈折率が低い場合には、25重凹%以上含まれる
ことが好ましい。
て、前記一般式(I>に由来する成分は20重量%以上
含まれることが低屈折率化に必要である。さらに基材が
比較的屈折率が低い場合には、25重凹%以上含まれる
ことが好ましい。
また薄膜の膜厚は10〜500nm、好ましくは50〜
300nmが適当であり、これより薄クシては反射防止
効果、さらには表面硬度が充分に得られない。またこれ
以上では反射防止性の効果を上げることが出来ない。
300nmが適当であり、これより薄クシては反射防止
効果、さらには表面硬度が充分に得られない。またこれ
以上では反射防止性の効果を上げることが出来ない。
また上記フッ素含有有機ポリシロキサン系薄膜の耐摩耗
性、耐すり傷性、耐衝撃性、耐薬品性、可撓性、耐光性
、耐候性などを向上させる目的でフッ素含有有機化合物
に1種または2種以上の有機ケイ素化合物を添加するこ
とも可能である。
性、耐すり傷性、耐衝撃性、耐薬品性、可撓性、耐光性
、耐候性などを向上させる目的でフッ素含有有機化合物
に1種または2種以上の有機ケイ素化合物を添加するこ
とも可能である。
代表的な有機ケイ素化合物および/またはその加水分解
物を式(n)に示す。
物を式(n)に示す。
R3bR4oS ! Z4−(b+c) (II)
(ここで、R3、R4は各々アルキル基、アルケニル基
、アリール基またはハロゲン基、エポキシ基、グリシド
キシ基、アミノ基、メルカプト基、メタクリルオキシ基
あるいはシアン基を有する炭化水素基、Zは加水分解性
基であり、bおよびCはOまたは1である。) これらの有機ケイ素化合物の具体的な代表例としては、
メチルシリケート、エチルシリケート、n−プロピルシ
リケート、i−プロピルシリケート、n−ブチルシリケ
ート、5eC−ブチルシリケートおよびt−ブチルシリ
ケートなどのテトラアルコキシシラン類、およびその加
水分解物さらにはメチルトリエトキシシラン、メチルト
リエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン
、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリプロポキシ
シラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキ
シシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメト
キシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリア
セトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、
フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシ
ラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエト
キシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン
、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン プロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル
)−γーアミノプロピルトリメトキシシラン、β−シア
ノエチルトリエトキシシラン、メチルトリエトキシシラ
ン、クロロメチルトリメトキシシラン、クロロメチルト
リエトキシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシシ
ラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、α−グ
リシドキシエチルi〜リメトキシシラン、α−グリシド
キシエチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシエヂ
ルトリメトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエ
トキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン、α−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン
、β−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン、β−
グリシドキシプロビルトリエトキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシ
プロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロビ
ルトリプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルト
リブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメト
キシエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリフ
エノキシシラン、α−グリシドキシブチルトリメトキシ
シラン、α−グリシドキシブヂルトリエトキシシラン、
β−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、β−グリ
シドキシブチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシ
ブチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシブチルト
リエトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキ
シシラン、δ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン
、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチルトリメト
キシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチ
ルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロ
ヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−
エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、
β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリプ
ロポキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシ
ル)エチルトリブトキシシラン、β−(3,4−エポキ
シシクロヘキシル)エチルトリメトキシエトキシシラン
、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリ
フエノキシシラン、γ−(3,4−エポキシシクロヘキ
シル)プロピルトリメトキシシラン、γ−(3゜4−エ
ポキシシクロヘキシル)プロピルトリエトキシシラン、
β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)ブチルトリメ
トキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル
)ブチルトリエトキシシランなどのトリアルコキシシラ
ン、トリアジルオキシシランまたはトリフエノキシシラ
ン類またはその加水分解物およびジメチルジメトキシシ
ラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジェ
トキシシラン、フェニルメチルジェトキシシラン、γ−
クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−クロロプ
ロピルメチルジェトキシシラン、ジメチルジェトキシシ
ラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジメトキシ
シラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジェトキ
シシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシ
ランルカプトプロピルメチルジェトキシシラン、T−ア
ミノプロピルメチルジメトキシシラン、γーアミノプロ
ピルメチルジェトキシシラン、メチルビニルジメトキシ
シラン、メチルビニルジェトキシシラン、グリシドキシ
メチルメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメ
チルジェトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチル
ジメトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジェ
トキシシラン、βーグリシドキシエヂルメチルジメトキ
シシラン、β−グリシドキシエチルメチルジェトキシシ
ラン、α−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、α−グリシドキシプロビルメチルジェトキシシラン
、β−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、
β−グリシドキシプロピルメチルジェトキシシラン、γ
ーグリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γー
グリシドキシプロピルメチルジェトキシシラン、γーグ
リシドキシプロビルメチルジプロポキシシラン、γーグ
リシドキシプロピルメチルジブトキシシラン、γーグリ
シドキシプロピルメチルジメトキシエトキシシラン、γ
ーグリシドキシプロピルメチルジフェノキシシラン、γ
ーグリシドキシプロピルメチルジアセトキシシラン、γ
ーグリシドキシプロピルエチルジメトキシシラン、T−
グリシドキシプロピルエチルジェトキシシラン、γーグ
リシドキシプロピルビニルジメトキシシラン、γーグリ
シドキシプロピルビニルジェトキシシラン、γーグリシ
ドキシプロビルフェニルジメトキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルフェニルジエトキシシランなどジアルコ
キシシラン、ジフェノキシシランまたはジアシルオキシ
シラン類またはその加水分解物がその例でおる。
(ここで、R3、R4は各々アルキル基、アルケニル基
、アリール基またはハロゲン基、エポキシ基、グリシド
キシ基、アミノ基、メルカプト基、メタクリルオキシ基
あるいはシアン基を有する炭化水素基、Zは加水分解性
基であり、bおよびCはOまたは1である。) これらの有機ケイ素化合物の具体的な代表例としては、
メチルシリケート、エチルシリケート、n−プロピルシ
リケート、i−プロピルシリケート、n−ブチルシリケ
ート、5eC−ブチルシリケートおよびt−ブチルシリ
ケートなどのテトラアルコキシシラン類、およびその加
水分解物さらにはメチルトリエトキシシラン、メチルト
リエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン
、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリプロポキシ
シラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキ
シシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメト
キシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリア
セトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、
フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシ
ラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエト
キシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン
、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン プロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル
)−γーアミノプロピルトリメトキシシラン、β−シア
ノエチルトリエトキシシラン、メチルトリエトキシシラ
ン、クロロメチルトリメトキシシラン、クロロメチルト
リエトキシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシシ
ラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、α−グ
リシドキシエチルi〜リメトキシシラン、α−グリシド
キシエチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシエヂ
ルトリメトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエ
トキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン、α−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン
、β−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン、β−
グリシドキシプロビルトリエトキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシ
プロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロビ
ルトリプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルト
リブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメト
キシエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリフ
エノキシシラン、α−グリシドキシブチルトリメトキシ
シラン、α−グリシドキシブヂルトリエトキシシラン、
β−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、β−グリ
シドキシブチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシ
ブチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシブチルト
リエトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキ
シシラン、δ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン
、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチルトリメト
キシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチ
ルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロ
ヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−
エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、
β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリプ
ロポキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシ
ル)エチルトリブトキシシラン、β−(3,4−エポキ
シシクロヘキシル)エチルトリメトキシエトキシシラン
、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリ
フエノキシシラン、γ−(3,4−エポキシシクロヘキ
シル)プロピルトリメトキシシラン、γ−(3゜4−エ
ポキシシクロヘキシル)プロピルトリエトキシシラン、
β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)ブチルトリメ
トキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル
)ブチルトリエトキシシランなどのトリアルコキシシラ
ン、トリアジルオキシシランまたはトリフエノキシシラ
ン類またはその加水分解物およびジメチルジメトキシシ
ラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジェ
トキシシラン、フェニルメチルジェトキシシラン、γ−
クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−クロロプ
ロピルメチルジェトキシシラン、ジメチルジェトキシシ
ラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジメトキシ
シラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジェトキ
シシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシ
ランルカプトプロピルメチルジェトキシシラン、T−ア
ミノプロピルメチルジメトキシシラン、γーアミノプロ
ピルメチルジェトキシシラン、メチルビニルジメトキシ
シラン、メチルビニルジェトキシシラン、グリシドキシ
メチルメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメ
チルジェトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチル
ジメトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジェ
トキシシラン、βーグリシドキシエヂルメチルジメトキ
シシラン、β−グリシドキシエチルメチルジェトキシシ
ラン、α−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、α−グリシドキシプロビルメチルジェトキシシラン
、β−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、
β−グリシドキシプロピルメチルジェトキシシラン、γ
ーグリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γー
グリシドキシプロピルメチルジェトキシシラン、γーグ
リシドキシプロビルメチルジプロポキシシラン、γーグ
リシドキシプロピルメチルジブトキシシラン、γーグリ
シドキシプロピルメチルジメトキシエトキシシラン、γ
ーグリシドキシプロピルメチルジフェノキシシラン、γ
ーグリシドキシプロピルメチルジアセトキシシラン、γ
ーグリシドキシプロピルエチルジメトキシシラン、T−
グリシドキシプロピルエチルジェトキシシラン、γーグ
リシドキシプロピルビニルジメトキシシラン、γーグリ
シドキシプロピルビニルジェトキシシラン、γーグリシ
ドキシプロビルフェニルジメトキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルフェニルジエトキシシランなどジアルコ
キシシラン、ジフェノキシシランまたはジアシルオキシ
シラン類またはその加水分解物がその例でおる。
とくに染色性付与の目的にはエポキシ基、グリシドキシ
基を含む有機ケイ素化合物の使用が好適である。
基を含む有機ケイ素化合物の使用が好適である。
前記のフッ素含有有機ケイ素化合物、あるいはこれらの
有機ケイ素化合物との混合物はキュア温度を下げ、硬化
をより進行させるためには加水分解して使用することが
好ましい。
有機ケイ素化合物との混合物はキュア温度を下げ、硬化
をより進行させるためには加水分解して使用することが
好ましい。
加水分解は純水または塩酸、酢酸、あるいは硫酸などの
酸性水溶液を添加、攪拌することによって製造される。
酸性水溶液を添加、攪拌することによって製造される。
さらに純水、あるいは酸性水溶液の添加量を調節するこ
とによって加水分解の度合をコントロールすることも容
易に可能である。加水分解に際しては、一般式(1)の
−Y基と等モル以上、3倍モル以下の純水または酸性水
溶液の添加が硬化促進の点で特に好ましい。
とによって加水分解の度合をコントロールすることも容
易に可能である。加水分解に際しては、一般式(1)の
−Y基と等モル以上、3倍モル以下の純水または酸性水
溶液の添加が硬化促進の点で特に好ましい。
加水分解に際しては、アルコール等が生成してくるので
、無溶媒で加水分解することが可能であるが、加水分解
をさらに均一に行なう目的で有機ケイ素化合物と溶媒を
混合した後、加水分解を行なうことも可能である。また
目的に応じて加水分解後のアルコール等を加熱および/
または減圧下に適当量除去して使用することも可能であ
るし、その後に適当な溶媒を添加することも可能である
。
、無溶媒で加水分解することが可能であるが、加水分解
をさらに均一に行なう目的で有機ケイ素化合物と溶媒を
混合した後、加水分解を行なうことも可能である。また
目的に応じて加水分解後のアルコール等を加熱および/
または減圧下に適当量除去して使用することも可能であ
るし、その後に適当な溶媒を添加することも可能である
。
これらの溶媒としてはアルコール、エステル、エーテル
、ケトン、ハロゲン化炭化水素あるいはトルエン、キシ
レンなどの芳香族炭化水素などの溶媒が挙げられる。ま
たこれらの溶媒は必要に応じて2種以上の混合溶媒とし
て使用することも可能である。また、目的に応じて加水
分解反応を促進し、さらに予備縮合等の反応を進めるた
めに室温以上に加熱することも可能であるし、予備縮合
を抑えるために加水分解温度を室温以下に下げて行なう
ことも可能でおることは言うまでもない。
、ケトン、ハロゲン化炭化水素あるいはトルエン、キシ
レンなどの芳香族炭化水素などの溶媒が挙げられる。ま
たこれらの溶媒は必要に応じて2種以上の混合溶媒とし
て使用することも可能である。また、目的に応じて加水
分解反応を促進し、さらに予備縮合等の反応を進めるた
めに室温以上に加熱することも可能であるし、予備縮合
を抑えるために加水分解温度を室温以下に下げて行なう
ことも可能でおることは言うまでもない。
プラスチック製透明基材への塗布にあたっては、清浄化
、接着性向上、耐水性向上などを目的として基材に各種
の前処理を施すことが可能である。
、接着性向上、耐水性向上などを目的として基材に各種
の前処理を施すことが可能である。
とくに本発明に有効な手段としては活性化ガス処理、薬
品処理などが挙げられる。
品処理などが挙げられる。
かかる活性化ガス処理とは、常圧もしくは減圧下におい
て生成するイオン、電子あるいは励起された気体である
。これらの活性化ガスを生成する方法としては、例えば
コロナ放電、減圧下での直流、低周波、高周波おるいは
マイクロ波による高電圧放電などによるものである。特
に減圧下での高周波放電によって得られる低温プラズマ
による処理が好適で必る。
て生成するイオン、電子あるいは励起された気体である
。これらの活性化ガスを生成する方法としては、例えば
コロナ放電、減圧下での直流、低周波、高周波おるいは
マイクロ波による高電圧放電などによるものである。特
に減圧下での高周波放電によって得られる低温プラズマ
による処理が好適で必る。
ここで使用されるガスは特に限定されるものではないが
、具体例としては酸素、窒素、水素、炭酸ガス、二酸化
硫黄、ヘリウム、ネオン、アルゴン、フレオン、水蒸気
、アンモニア、−1化炭素、塩素、−酸化窒素、二酸化
窒素などが挙げられる。
、具体例としては酸素、窒素、水素、炭酸ガス、二酸化
硫黄、ヘリウム、ネオン、アルゴン、フレオン、水蒸気
、アンモニア、−1化炭素、塩素、−酸化窒素、二酸化
窒素などが挙げられる。
これらは一種のみならず、二種以上混合しても使用可能
である。前記の中で好ましいガスとしては、酸素を含ん
だものが挙げられ、空気などの自然界に存在するもので
あってもよい。さらに好ま・しくは、純粋な酸素ガスが
接着性向上に有効である。さらには同様の目的で前記処
理に際しては被処理基材の温度を上げることも可能であ
る。
である。前記の中で好ましいガスとしては、酸素を含ん
だものが挙げられ、空気などの自然界に存在するもので
あってもよい。さらに好ま・しくは、純粋な酸素ガスが
接着性向上に有効である。さらには同様の目的で前記処
理に際しては被処理基材の温度を上げることも可能であ
る。
一方、薬品処理の具体例としては苛性ソーダなどのアル
カリ処理、塩酸、硫酸、過マンガン酸カリウム、重クロ
ム酸カリウムなどのMffi理、芳香環を有する有機溶
剤処理などが挙げられる。
カリ処理、塩酸、硫酸、過マンガン酸カリウム、重クロ
ム酸カリウムなどのMffi理、芳香環を有する有機溶
剤処理などが挙げられる。
以上の前処理は連続的、または段階的に併用して実施す
ることも十分可能である。
ることも十分可能である。
本発明のコーティング組成物の硬化にあたっては、硬化
促進、低温硬化などを可能とする目的で各種の硬化剤が
併用可能である。硬化剤としては各種エポキシ樹脂硬化
剤、あるいは各種有機ケイ素樹脂硬化剤などが使用され
る。
促進、低温硬化などを可能とする目的で各種の硬化剤が
併用可能である。硬化剤としては各種エポキシ樹脂硬化
剤、あるいは各種有機ケイ素樹脂硬化剤などが使用され
る。
これらの硬化剤の具体的な例としては、各種の有機酸お
よびそれらの酸無水物、窒素含有有機化合物、各種金属
錯化合物あるいは金属アルコキシド、さらにはアルカリ
金属の有機カルボン酸塩、炭酸塩などの各種塩が挙げら
れる。これらの硬化剤は2種以上混合して使用すること
も可能である。
よびそれらの酸無水物、窒素含有有機化合物、各種金属
錯化合物あるいは金属アルコキシド、さらにはアルカリ
金属の有機カルボン酸塩、炭酸塩などの各種塩が挙げら
れる。これらの硬化剤は2種以上混合して使用すること
も可能である。
これら硬化剤の中でも本発明の目的には、塗料の安定性
、コーテイング後の被膜の着色の有無などの点から、特
に下記に示すアルミニウムキレート化合物が有用でおる
。
、コーテイング後の被膜の着色の有無などの点から、特
に下記に示すアルミニウムキレート化合物が有用でおる
。
ここでいうアルミニウムキレート化合物とは、例えば一
般式A I XnY3−nで示されるアルミニウムキレ
ート化合物である。
般式A I XnY3−nで示されるアルミニウムキレ
ート化合物である。
ただし式中、XはOL (Lは低級アルキル基)であり
、Yは一般式M COCI−hcOM2 (M’ 。
、Yは一般式M COCI−hcOM2 (M’ 。
M2はいずれも低級アルキル基)で示される化合物に由
来する配位子および一般式M3COCH2C00M4
(M3、M4はいずれも低級アルキル基)で示される化
合物に由来する配位子から選ばれる少なくとも1つであ
り、nは0,1または2゛で必る。
来する配位子および一般式M3COCH2C00M4
(M3、M4はいずれも低級アルキル基)で示される化
合物に由来する配位子から選ばれる少なくとも1つであ
り、nは0,1または2゛で必る。
本発明の硬化剤として特に有用な一般式A I X、
Y3−nで示されるアルミニウムキレート化合物として
は、各種の化合物をあげ得るが、組成物への溶解性、安
定性、硬化触媒としての硬化などの観点から特に好まし
いのは、アルミニウムアセチルアセトネート、アルミニ
ウムビスエチルアセトアセテートモノアセチルアセトネ
ート、アルミニウムージ−n−ブトキシド−モノエチル
アセトアセテート、アルミニウムージー1so−プロポ
キシド−モノメチルアセトアセテートなどである。
Y3−nで示されるアルミニウムキレート化合物として
は、各種の化合物をあげ得るが、組成物への溶解性、安
定性、硬化触媒としての硬化などの観点から特に好まし
いのは、アルミニウムアセチルアセトネート、アルミニ
ウムビスエチルアセトアセテートモノアセチルアセトネ
ート、アルミニウムージ−n−ブトキシド−モノエチル
アセトアセテート、アルミニウムージー1so−プロポ
キシド−モノメチルアセトアセテートなどである。
これらは2種以上を混合して使用することも可能である
。
。
本発明のコーティング用組成物には、塗布時におけるフ
ローを向上させ、塗膜の平滑性を向上させて塗膜表面の
摩i察係数を低下させる目的で各種の界面活性剤を使用
することも可能であり、とくにジメチルシロキサンとア
ルキレンオキシドとのブロックまたはグラフト重合体、
さらにはフッ素系界面活性剤などが有効でおる。また染
顔料や充填材を分散させたり、有機ポリマーを溶Vff
させて、塗膜を着色させたり、塗布性、基材との密着性
、物性向上などコーティング剤としての実用性を改善さ
せることも容易に可能である。
ローを向上させ、塗膜の平滑性を向上させて塗膜表面の
摩i察係数を低下させる目的で各種の界面活性剤を使用
することも可能であり、とくにジメチルシロキサンとア
ルキレンオキシドとのブロックまたはグラフト重合体、
さらにはフッ素系界面活性剤などが有効でおる。また染
顔料や充填材を分散させたり、有機ポリマーを溶Vff
させて、塗膜を着色させたり、塗布性、基材との密着性
、物性向上などコーティング剤としての実用性を改善さ
せることも容易に可能である。
さらには耐候性を向上させる目的で紫外線吸収剤、また
耐熱劣化向上法として酸化防止剤を添加することも容易
に可能でおる。
耐熱劣化向上法として酸化防止剤を添加することも容易
に可能でおる。
さらには表面硬度をより一層向上させ、また帯電防止性
の向上などの目的で高分子量無水ケイ酸の水および/ま
たはアルコールなどの有機溶媒中にコロイド状分散体で
あるシリカゾルが好ましく使用される。また染色性向上
を目的として各種エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ナイロ
ン樹脂などが好ましく使用される。
の向上などの目的で高分子量無水ケイ酸の水および/ま
たはアルコールなどの有機溶媒中にコロイド状分散体で
あるシリカゾルが好ましく使用される。また染色性向上
を目的として各種エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ナイロ
ン樹脂などが好ましく使用される。
被膜の塗布に必たって作業性、被膜厚さ調節などから各
種溶剤により、コーティング組成物を希釈して用いられ
るが、希釈溶剤としては、水、アルコール、エステル、
エーテル、ケトン、ハロゲン化炭化水素などが挙げられ
る。
種溶剤により、コーティング組成物を希釈して用いられ
るが、希釈溶剤としては、水、アルコール、エステル、
エーテル、ケトン、ハロゲン化炭化水素などが挙げられ
る。
透明基材の屈折率は1.52位以上であることが必要で
ある。すなわち、これより低い場合には充分な本発明が
目的とする反射防止効果が得られない。かかる屈折率の
低い透明基材に本発明を適用する際には、比較的屈折率
高い透明被膜を透明基材上に設けて本発明でいうところ
の透明基材とすることができる。
ある。すなわち、これより低い場合には充分な本発明が
目的とする反射防止効果が得られない。かかる屈折率の
低い透明基材に本発明を適用する際には、比較的屈折率
高い透明被膜を透明基材上に設けて本発明でいうところ
の透明基材とすることができる。
このような比較的屈折率の高い透明被膜としては屈折率
が1.52以上の透明膜であれば、何ら限定されるもの
ではないが、表面硬度やフッ素含有有機ポリシロキサン
系薄膜との接着性向上、さらには容易に高い屈折率を付
与できるとの観点から屈折率の高い無機酸化物微粒子を
被膜中に含有せしめてなるものが好ましく適用される。
が1.52以上の透明膜であれば、何ら限定されるもの
ではないが、表面硬度やフッ素含有有機ポリシロキサン
系薄膜との接着性向上、さらには容易に高い屈折率を付
与できるとの観点から屈折率の高い無機酸化物微粒子を
被膜中に含有せしめてなるものが好ましく適用される。
かかる無機酸化物微粒子としては、透明性を低下させな
いという意味から平均粒子径が約1〜3QQnm、さら
に好ましくは約5〜200nmのものが使用される。
いという意味から平均粒子径が約1〜3QQnm、さら
に好ましくは約5〜200nmのものが使用される。
粒子径のあまり小さいものは作成が困難であり、コスト
が高くて実用的でなく、また余り大きなものは一般に透
明感が低下するので上記範囲内のものが主として用いら
れる。
が高くて実用的でなく、また余り大きなものは一般に透
明感が低下するので上記範囲内のものが主として用いら
れる。
これらの無は酸化微粒子としては、酸化タンタル、酸化
アルミニウム、酸化チタニウム、酸化ジルコニウム、酸
化スズ、酸化アンチモンの微粒子状物から選ばれる1種
以上が好ましく用いられる。
アルミニウム、酸化チタニウム、酸化ジルコニウム、酸
化スズ、酸化アンチモンの微粒子状物から選ばれる1種
以上が好ましく用いられる。
すなわち、これらを含む被膜は高い屈折率を与えるとい
う他に特に透明性と表面硬度に優れているからである。
う他に特に透明性と表面硬度に優れているからである。
中でも酸化タンタル、酸化ジルコニラム、酸化チタニウ
ム、酸化アンチモンが安定性などの点で好ましい。
ム、酸化アンチモンが安定性などの点で好ましい。
またこれらの無頭酸化物微粒子は単独のみならず、2種
以上の併用も可能でおる。さらには前記の酸化物にはケ
イ素などを含む混合酸化物であってもよい。
以上の併用も可能でおる。さらには前記の酸化物にはケ
イ素などを含む混合酸化物であってもよい。
本発明によって得られる反射防止物品は、耐久性のある
高硬度表面を有し一1染色性を有することからサングラ
ス、矯正用レンズはもとより、カメラ、双眼鏡等のレン
ズなどに好ましく使用できる。
高硬度表面を有し一1染色性を有することからサングラ
ス、矯正用レンズはもとより、カメラ、双眼鏡等のレン
ズなどに好ましく使用できる。
本発明の特徴を明瞭にするために次に実施例を挙げるが
、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
[実施例]
実施例1
(1) プラスチック基材の調製
テトラブロムビスフェノールAのエチレンオキサイド2
モル付加体に1モルのアクリル酸をエステル化により結
合させた水酸基含有化合物1モルに対し、ヘキサメチレ
ンジイソシアネートを009モル付加させた多官能アク
リレートモノマーを含む七ノア70部とスチレン30部
をイソプロピルパーオキサイドを重合開始剤としてキャ
スト重合した基材を得た。得られた樹脂の屈折率は1゜
61でめった。
モル付加体に1モルのアクリル酸をエステル化により結
合させた水酸基含有化合物1モルに対し、ヘキサメチレ
ンジイソシアネートを009モル付加させた多官能アク
リレートモノマーを含む七ノア70部とスチレン30部
をイソプロピルパーオキサイドを重合開始剤としてキャ
スト重合した基材を得た。得られた樹脂の屈折率は1゜
61でめった。
(2) コーティング組成物の調製
(a) 加水分解物の調製
回転子を備えた反応器中にメチルトリメトキシシラン4
.9g、3.3.3−トリフロロプロピルトリメトキシ
シラン3.5gを仕込み、液温を10’Cに保ち、マグ
ネチックスターラで攪拌しながら0゜01規定塩酸水溶
液2.89を徐々に滴下、滴下終了後冷却をやめて加水
分解物を得た。
.9g、3.3.3−トリフロロプロピルトリメトキシ
シラン3.5gを仕込み、液温を10’Cに保ち、マグ
ネチックスターラで攪拌しながら0゜01規定塩酸水溶
液2.89を徐々に滴下、滴下終了後冷却をやめて加水
分解物を得た。
(b) 塗料の調製
前記シラン加水分解物にn−プロピルアルコール56.
0CI、蒸溜水24.OQ、エチルセロソルブ7.5g
をあらかじめn−プロピルアルコールで5%に調製した
シリコーン系界面活性剤1.0CIおよびアルミニウム
アセチルアセトネート0.249を添加し、充分攪拌し
た後、コーティング組成物とした。
0CI、蒸溜水24.OQ、エチルセロソルブ7.5g
をあらかじめn−プロピルアルコールで5%に調製した
シリコーン系界面活性剤1.0CIおよびアルミニウム
アセチルアセトネート0.249を添加し、充分攪拌し
た後、コーティング組成物とした。
(3) 反射防止性物品の作成
前記(1)によって得られたプラスチック基材に、前記
(2)で調製したコーティング組成物を下記条件でスピ
ンコーティングした。コーテイング後は、82℃/12
分の予備硬化を行ない、さらに93°C/4時間加熱キ
ュアして反射防止硬化物品を得た。
(2)で調製したコーティング組成物を下記条件でスピ
ンコーティングした。コーテイング後は、82℃/12
分の予備硬化を行ない、さらに93°C/4時間加熱キ
ュアして反射防止硬化物品を得た。
スピンコード条件
回転数:3500rpm
回転時間:30秒
jqられた反射防止物品の全光線透過率は96゜1%で
あった。
あった。
実施例2、比較例1
(1)コーティング組成物の調製
(a) γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン加水分解物の調製 回転子を備えた反応器中にγ−グリシドキシプロピルト
リメトキシシラン95.3C1を仕込み、液温を10’
Cに保ち、マグネチツクスターラーで攪拌しながら0.
01規定塩酸水溶液21.8Clを徐々に滴下する。滴
下終了後冷却をやめて、γ−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシランの加水分解物を得た。
ン加水分解物の調製 回転子を備えた反応器中にγ−グリシドキシプロピルト
リメトキシシラン95.3C1を仕込み、液温を10’
Cに保ち、マグネチツクスターラーで攪拌しながら0.
01規定塩酸水溶液21.8Clを徐々に滴下する。滴
下終了後冷却をやめて、γ−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシランの加水分解物を得た。
(b) 塗料の調製
前記シラン加水分解物に、メタノール216g、ジメチ
ルホルムアミド216q、フッ素系界面活性剤0.5q
、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(シェル化学社製、
商品名エピコート827)67.50を添加混合し、さ
らにコロイド状五酸化アンチモンゾル(8産化学社製、
商品名アンヂモンゾルA−2550,平均粒子径60m
μ>27OC+、アルミニウムアセチルアセトネート1
3゜50を添加し、さらに転移金属化合物としてアセチ
ルアセトンCu (II>1.10を加え、充分攪拌し
た侵、コーティング組成物とした。
ルホルムアミド216q、フッ素系界面活性剤0.5q
、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(シェル化学社製、
商品名エピコート827)67.50を添加混合し、さ
らにコロイド状五酸化アンチモンゾル(8産化学社製、
商品名アンヂモンゾルA−2550,平均粒子径60m
μ>27OC+、アルミニウムアセチルアセトネート1
3゜50を添加し、さらに転移金属化合物としてアセチ
ルアセトンCu (II>1.10を加え、充分攪拌し
た侵、コーティング組成物とした。
(2) 透明基材レンズの作製
カセイソーダに浸漬後、洗浄した屈折率が1゜50のジ
エチレングリコールビスアリルカ−ボネート CR−39プラルンズ)を前項(b)で調製した塗料を
用いて下記条件でディップコーティングした。コーティ
ングしたレンズは110’C/12分の予備硬化を行な
い、さらに110’C/4時間加熱キュアした。えられ
た硬化被膜の屈折率は1゜58でめった。キュアされた
レンズは前処理として表面処理用プラズマ装置(PR5
01Aヤマト月学(株)製)を用い、酸素流量100r
rN1/分、出力50Wで1分間処理を行なった。
エチレングリコールビスアリルカ−ボネート CR−39プラルンズ)を前項(b)で調製した塗料を
用いて下記条件でディップコーティングした。コーティ
ングしたレンズは110’C/12分の予備硬化を行な
い、さらに110’C/4時間加熱キュアした。えられ
た硬化被膜の屈折率は1゜58でめった。キュアされた
レンズは前処理として表面処理用プラズマ装置(PR5
01Aヤマト月学(株)製)を用い、酸素流量100r
rN1/分、出力50Wで1分間処理を行なった。
(3)コーティング組成物の調製
(a) 加水分解物の調製
回転子を備えた反応器中にメチルトリメトキシシラン3
.1q、3.3.3−トリフロロプロピルトリメトキシ
シラン2.1g、γ−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン1.1gを仕込み液温を10℃に保ち、マグネ
チックスターラーで攪拌しながら0.01規定塩酸水溶
液20C]を徐々に滴下、滴下終了後冷却をやめて加水
分解物を得た。
.1q、3.3.3−トリフロロプロピルトリメトキシ
シラン2.1g、γ−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン1.1gを仕込み液温を10℃に保ち、マグネ
チックスターラーで攪拌しながら0.01規定塩酸水溶
液20C]を徐々に滴下、滴下終了後冷却をやめて加水
分解物を得た。
(b) 塗料の調製
前記シラン加水分解物に0−プロピルアルコール58.
2g、蒸溜水250g、エチルセロソルブ7.5gをあ
らかじめn−プロピルアルコールで5%に調製したシリ
コーン系界面活性剤O,SC+、およびアルミニウムア
セチルアセトネート0.10を添加し、充分攪拌した後
コーティング組成物とした。
2g、蒸溜水250g、エチルセロソルブ7.5gをあ
らかじめn−プロピルアルコールで5%に調製したシリ
コーン系界面活性剤O,SC+、およびアルミニウムア
セチルアセトネート0.10を添加し、充分攪拌した後
コーティング組成物とした。
(4) 反射防止レンズの作成
前記(2)によって1qられたプラスチック複合体レン
ズに前記(3)で調製したコーティング組成物を実施例
1−<3)の条件でコーティングした。
ズに前記(3)で調製したコーティング組成物を実施例
1−<3)の条件でコーティングした。
得られた反射防止レンズの性能評価は下記(5)に示す
方法に従って行ない、次の通りであった。
方法に従って行ない、次の通りであった。
全光線透過率(%) 96.4%
染色性(%) 40.0%
染色俊の外観 ○
スチールウール硬度 A
(5)試験方法
<5)−1染色性
分散染料(赤、青、黄の3色混合)に93℃15分間浸
漬し、染色程度を全光線透過率で表わした。
漬し、染色程度を全光線透過率で表わした。
(5)−2染色後の外観(目視)
○:レンズ全体が均一に染色された
X:染色むらがある
<5>−2スチールウール硬度
#0OOOのスチールウールで塗膜面をこすり傷つき具
合を判定する。判定基準は A:強く摩擦しても傷がつかない B:強く摩擦すると傷がつく C:弱い摩擦でも傷がつく なお、比較例として前記(2)において高屈折率を有す
る被膜を設けず、直接<3>、(b)でのコーティング
組成物を塗イ「シた。このものは全光線透過率が95.
4%と低く、さらにスチールウール硬度も不十分なもの
であった。
合を判定する。判定基準は A:強く摩擦しても傷がつかない B:強く摩擦すると傷がつく C:弱い摩擦でも傷がつく なお、比較例として前記(2)において高屈折率を有す
る被膜を設けず、直接<3>、(b)でのコーティング
組成物を塗イ「シた。このものは全光線透過率が95.
4%と低く、さらにスチールウール硬度も不十分なもの
であった。
実施例3,4、比較例1
(1)実施例2で(qたプラスチック複合体レンズに実
施例2.<3>における塗料でメチルトリメトキシシラ
ンと3.3.3− トリフロロプロピルトリメトキシシ
ランおよびγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ンの比率を変えたコーティング組成物を実施例1−<3
)の方法でコーティング加熱キュアして得た反射防止物
品の性能結果を表1に示す。
施例2.<3>における塗料でメチルトリメトキシシラ
ンと3.3.3− トリフロロプロピルトリメトキシシ
ランおよびγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ンの比率を変えたコーティング組成物を実施例1−<3
)の方法でコーティング加熱キュアして得た反射防止物
品の性能結果を表1に示す。
゛ [発明の効果]
本発明によって得られる反射防止物品は以下に示す特徴
がおる。
がおる。
(1)高い反射防止性、および均一な反射光色を付与す
ることが出来る。
ることが出来る。
(2) 高い表面硬度を有し、耐熱性、耐衝撃性、耐
久性に優れている。
久性に優れている。
(3)染色速度が速く、染色後の外観も良好である。
(4)表面すべり性が良好であり、実質的に傷がつきに
くい。
くい。
(5)汚れが目立ちにくく除去し易い。
Claims (8)
- (1)屈折率が1.52以上のプラスチック製透明基材
の表面に膜厚が10〜500nm、屈折率が透明基材よ
り少なくとも0.02以上低いフッ素含有有機ポリシロ
キサン系薄膜を有することを特徴とする反射防止性物品
。 - (2)フッ素含有有機ポリシロキサン系薄膜が下記一般
式( I )で表わされるフッ素含有有機ケイ素化合物お
よび/またはその加水分解物の重合体であることを特徴
とする特許請求の範囲第(1)項記載の反射防止性物品
。 (R^1Q)SiX_aY_3_−_a( I ) (ここで、R1は炭素数1〜20個のフッ素含有アルキ
ル基であってエーテル結合あるいはエステル結合を1個
以上含んでいてもよい。Qは二価の有機基、Xは低級ア
ルキル基、Yはハロゲン、アルコキシ基、又はRCOO
^−基(ただし、Rは水素原子又は低級アルキル基)、
aは0または1の整数を示す。) - (3)フッ素含有有機ポリシロキサンが20重量%以上
含まれることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記
載の反射防止性物品。 - (4)プラスチック製透明基材が屈折率1.52以上の
透明被膜で被覆されていることを特徴とする特許請求の
範囲第(1)項記載の反射防止性物品。 - (5)透明被膜が無機酸化微粒子を含むことを特徴とす
る特許請求の範囲第(4)項記載の反射防止性物品。 - (6)無機酸化微粒子がアンチモン、チタン、ジルコニ
ウム、タンタルから選ばれる1種以上の金属を含む酸化
物であることを特徴とする特許請求の範囲第(5)項記
載の反射防止性物品。 - (7)屈折率が1.52以上のプラスチック製透明基材
の表面にフッ素含有有機ケイ素化合物および/またはそ
の加水分解物を含む液状コーティング組成物を塗布し、
さらに加熱によって屈折率が透明基材よりも少なくとも
0.02以上低い硬化被膜を形成せしめることを特徴と
する反射防止性物品の製造方法。 - (8)硬化被膜が下記一般式( I )で表わされるフッ
素含有有機ケイ素化合物および/またはその加水分解物
から得られるものであることを特徴とする特許請求の範
囲第(7)項記載の反射防止性物品の製造方法。 (R^1Q)SiX_aY_3_−_a( I ) (ここで、R1は炭素数1〜20個のフッ素含有アルキ
ル基であってエーテル結合あるいはエステル結合を1個
以上含んでいてもよい。Qは二価の有機基、Xは低級ア
ルキル基、Yはハロゲン、アルコキシ基、又はRCOO
^−基(ただし、Rは水素原子又は低級アルキル基)、
aは0または1の整数を示す。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61165531A JPS6321601A (ja) | 1986-07-16 | 1986-07-16 | 反射防止性物品およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61165531A JPS6321601A (ja) | 1986-07-16 | 1986-07-16 | 反射防止性物品およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6321601A true JPS6321601A (ja) | 1988-01-29 |
Family
ID=15814160
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61165531A Pending JPS6321601A (ja) | 1986-07-16 | 1986-07-16 | 反射防止性物品およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6321601A (ja) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US5851674A (en) * | 1997-07-30 | 1998-12-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of preparation |
US6277485B1 (en) | 1998-01-27 | 2001-08-21 | 3M Innovative Properties Company | Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of preparation |
JP2002243905A (ja) * | 2001-02-20 | 2002-08-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 反射防止フィルムおよびその製造方法並びに画像表示装置 |
WO2003079059A1 (en) * | 2002-03-15 | 2003-09-25 | Nitto Denko Corporation | Antireflection film, its production method, optical device, and image display |
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