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JPS6318594A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

Info

Publication number
JPS6318594A
JPS6318594A JP61163004A JP16300486A JPS6318594A JP S6318594 A JPS6318594 A JP S6318594A JP 61163004 A JP61163004 A JP 61163004A JP 16300486 A JP16300486 A JP 16300486A JP S6318594 A JPS6318594 A JP S6318594A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
voltage
circuit
erase
write
clamp
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61163004A
Other languages
English (en)
Inventor
Kiyokazu Hashimoto
潔和 橋本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP61163004A priority Critical patent/JPS6318594A/ja
Publication of JPS6318594A publication Critical patent/JPS6318594A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、絶縁ゲート型の構造をもつ、電界効果型トラ
ンジスタ(以下ICFETと記す。)を主な構成要素と
する、電気的に書き込み、消去可能な不揮発性記憶装置
(以下EEPROMと記す。)に内蔵される、書き込み
/消去−読み出し電圧切り換え回路を有する半導体装置
に関する。
従来の技術 EEPROMは、書き込みモード時と消去モード時にチ
ップ内部でそれぞれ書き込み電圧、消去電圧(通常20
V前後)を発生させる。この書き込み電圧、消去電圧は
、一般に、チップ内部に内蔵されたクランプ回路のクラ
ンプ電圧により設定される。
第6図は従来技術の書き込み/消去−読み出し電圧切り
換え回路を示したものである。上述したクランプ回路と
して、P基板上のN+拡散層のジャンクション耐圧を用
いた例を示した。以下ジャンクション耐圧の値をBVJ
 と記す。
第6図の書き込み/消去−読み出し電圧切り換え回路は
、ソースが電源CCに、ゲートが書き込みモード時と消
去モード時に“L”になる信号NW Eに、ドレインが
点Aに接続されたPチャネル型エンハンスメント型IC
FET (以下PE−1CFETと記す。)Mlと、ド
レインとゲートが点Aに、ソースが点已に接続されたN
チャネル型エンハンスメント型IGFET <以下NE
−IGFETと記す。)M2と、ドレインとゲートが点
已に、ソースが点Pi に接続されたNE−IGFET
Mpl と、ドレインとゲートが点Pi に、ソースが
点P2に接続されたNE−IGFETMp2と、ドレイ
ンとゲートが点P2に、ソースが点P3に接続されたN
E−IGFETMp3 と、・・・、ドレインとゲート
が点P (n−1)に、ソースが点Pnに接続されたN
E−IGFETMpnと、ドレインとゲートが点Pnに
、ソースが点Cに接続されたNE−IGFETM3 と
、ドレインが点Cに、ゲートが信号NWEに、ソースが
接地に接続されたNE−IGFETM4と、点Pnと点
りの間に接続された、書き込み/消去モード時に出力電
圧をクランプするクランプ回路CLA1と、ドレインと
ゲートが共通に電源CCに、ソースが点りに接続された
、基板のしきい値をもつIGFET (以下EO−IG
FETと記す。)M5と、ドレインが、保りに、ゲート
が書き込み/消去モードが終了すると、一定期間”H″
になるパルスが出力される信号DISに、ソースが接地
に接続されたNEiGFETM6と、クロックφと点B
の間に接続された容Q Cp 1と、クロックφと点P
L との間に接続された容ff1c p2と、クロック
φと点P2との間に接続された容量Cp3と、・・・、
゛クロックφと点P(n−1)との間に接続された容f
f1cpnとから構成される。点りの出力Vf]p’が
、この書き込み/消去−読み出し電圧切り換え回路の出
力である。
信号DISは、書き込み/消去モード時に点りに付加さ
れる容量に充電された電荷を、書き込み/消去モードが
終了すると接地に放電させるための信号である。
クロックφはクロックφの反転信号である。クロックφ
、クロックφは出力電圧が0■から電源電圧Vccまで
振幅する。
特に記述しない限り、PE−ICFETの基板は電源C
Cに、NE−IGFETの基板は接地に接続されてい゛
るとする。
又、説明を簡単にする為に、PE−rGFETのしきい
値はすべて同一でそのしきい値をvtp、NE−ICF
ETのしきい値はすべて同一でそのしきい値をV7N、
EO−IGFETのしきい値はすべて同一でそのしきい
値をVTOとする。さらに、IGFETが基板とソース
の間で逆バイアスが印加された状態で動作している時で
も、しきい値はそれぞれ単に、VTP% ■TN% v
toと記述する。
第6図、第7図を用いて、従来例の書き込み/消去−読
み出し電圧切り換え回路の動作を説明する。
第7図は、書き込みモード時(時間0〜tl )から読
み出しモード時(時間t1〜t2 )に変化した時の信
号NWE、信号DIS、書き込み/消去−読み出し電圧
切り換え回路の出力Vllll’の電圧の時間変化を示
したものである。
NWEは信号NWEの電圧の時間変化、D■Sは信号D
ISの電圧の時間変化、VpH″は出力■pp°の電圧
の時間変化をそれぞれ示す。
Ml 、M2 、(Mpl 、Cpl)、(M p2 
、Cp2)、(M p3 、Cp3  ) 、”、 (
Mpn、Cpn)は、N&のチャージポンプ回路を構成
し、書き込み/消去モード時に出力■ρp”を高電圧に
昇圧する。読み出しモード時には、このチャージポンプ
回路は非動作になる。EO−IGFETM5は常に導通
するように接続されているので出力vpp’の値は(V
CC−VT。〕で平衡する。
■、書き込みモード時(時間0〜tl )信号NWEが
“L”になるとPE−IGFETMIが導通し、NE 
 rGFETM2は常に導通するように接続されている
ことから、点Bの電圧が(Vcc−VrN)になる。こ
こでクロックφがVccになると、NE−IGFETM
plが導通して点Bの電圧は[: 2 Vcc −VT
)l]になり、NE−IGFETMplを通して電荷が
点P1に供給される。
次にクロックφがVccに、クロックφが0■になると
、今度はNE−IC,FETMp2が導通するので、点
P1に供給された電荷はNE−IGFETMp2を通し
て点P2に供給される。
このように、クロックの半サイクルごとに、電荷が次段
へ供給され、点p1、点P2、・・・、点P(n−1)
、点Pnと、添字の大きい点はど電荷は上昇していく。
この時、NE−IGFETMpl、Mp2、Mp3、・
・・、Mpnは、ダイオード接続されている為に、電荷
が逆流する事はない。また、EO−IGFETM5のし
きい値は、点りから電源CCに電荷が逆流する事がない
ように設計されているので、出力VISIT’の電圧は
[Vcc  VT。]から上昇し、クランプ回路CLA
1のクランプ電圧BV、でクランプされる。結局、出力
Vpρ°の電圧は(1)式で示す値で平衡する。
Vflp″=BV、  ・・(1) NE−IGFETM2 、M3 、Mpl 、Mp2、
Mp3、・・、Mpn、M6 、EO−IGFETM5
のジャンクション耐圧は、クランプ回路CLAlのクラ
ンプ電圧BV、よりも高く設計されている事はもちろん
である。
2、読み出しモード時(時間tl −t2 )書き込み
モードが終了すると、一定時間“H”になλパルスが信
号DISに印加されるので、NEiGFETM6が導通
する。すると書き込みモード時点に付加される容量に充
電された電荷は、NE−IGFETM6の電流駆動能力
と、点りに付加される容量の値により決まる時定数で放
電され、点りの電圧はCVCC−Vア。〕で平衡する。
以上述べたように、書き込み/消去モード時には書き込
み/消去−読み出し電圧切り換え回路が動作して出力V
flll’の値は、クランプ回路のクランプ電圧で制限
される値BVJ になる。この電圧が、書き込み電圧、
又は消去電圧になり、アドレスにより選択されたメモリ
ーセルは書き込まれたり消去されたりする。
クランプ回路のクランプ電圧を何ボルトに設定するかは
、EEFROMの書き込みスピードの規格、消去スピー
ドの規格、プロセスパラメータがばらついた時のメモリ
ーセルの書き込みスピード特性、消去スピード特性、メ
モリーセルの耐圧等によって決定される。
一般にEEPROMでは、書き込み又は消去スピードは
、クランプ回路のクランプ電圧で決定される書き込み電
圧、又は消去電圧の値により大きく変化する。例えば、
BVJ =21Vになるようにクランプ回路のクランプ
電圧を設定した時に書き込みスピードが1msとする。
ここでBVJ  =20■になるようにクランプ回路の
クランプ電圧を設定しなおすと書き込みスピードがlQ
msになる。
従ってEEPROMでは、書き込み電圧が変化した時の
メモリーセルの書き込みスピード特性、消去電圧が変化
した時のメモリーセルの消去スピード特性を製品で評価
する事は必須である。
この為、従来例の書き込み/消去−読み出し電圧切り換
え回路を用いた場合、一般にテストモードを設け、チッ
プ内部の昇圧回路で発生される書き込み電圧、消去電圧
の他に、外部端子から直接書き込み電圧、消去電圧を印
加し、書き込み電圧が変化した時のメモリーセルの書き
込みスピード特性、消去電圧が変化した時のメモリーセ
ルの消去スピード特性を評価していた。
又、メモリーセルの構造によっては、メモリーセルの消
去が書き込み電圧の値よりも低い電圧で十分消去できる
場合がある。この場合、従来例のように、消去電圧を書
き込み電圧と同一の値にすると、消去モード時に過度の
電界ストレスをメモリーセルに与える結果となり、メモ
リーセルの寿命を縮めていた。
発明が解決しようとする問題点 以上述べたように、従来例の書き込み/消去−読み出し
電圧切り換え回路は、書き込み/消去モード時に出力電
圧をクランプするクランプ回路を1つしか備えていない
ので、以下の問題が生ずる。
1、書き込み電圧と消去電圧が同一の値に設定される為
、例えば消去がクランプ回路のクランプ電圧よりも低い
電圧で十分消去出来る場合には消去モード時に過度の電
界ストレスをメモリーセルに与える結果になる。このた
めメモIJ −セルの寿命を縮める。
2、書き込み電圧が変化した時のメモリーセルの書き込
みスピード特性や消去電圧が変化した時のメモリーセル
の消去スピード特性を評価する為にはテストモード時に
外部端子から直接書き込み電圧、消去電圧を印加する必
要があるのでEEPROM内の論理回路が複雑になる。
本発明の目的は、前述の欠点を除去し、書き込み電圧と
消去電圧をチップ内部で異なった値に設定する事ができ
、しかも、書き込み電圧が変化した時のメモリーセルの
書き込みスピード特性や消去電圧が変化した時のメモリ
ーセルの消去スピード特性を評価する為に、わざわざ外
部端子から直接書き込み電圧、消去電圧を印加する必要
のない、書き込み/消去−読み出し電圧切り換え回路を
有する半導体装置を提供する事にある。
問題点を解決するための手段 本発明の半導体装置は、電源電圧から高電圧に昇圧する
昇圧回路と、該昇圧回路の出力をクランプする為に設け
た複数個のクランプ回路と、該複数個のクランプ回路の
うちの1個を選択する選択回路とからなる書き込み/消
去−読み出し電圧切り換え回路を有する。
実施例 第1図に本発明の第1の実施例を示す。
第1図に示す第1の実施例は、第6図に示す従来例の回
路に、ドレインが点Pnに、ゲートが信号Tpに、ソー
スが点Eに接続されたNE−IGFETMcl と、ド
レインとゲートが共通に点Eに、ソースが接地に接続さ
れた、素子分離領域をチャネルとして用いた寄生トラン
ジスタ(以下単に寄生トランジスタと記す。)Mc2(
以下寄生トランジスタのしきい値をVT2と記す。)と
から構成される第2のクランプ回路CLA12を付加し
た、書き込み/消去−読み出し電圧切り換え回路と、ソ
ースと基板が書き込み/消去−読み出し電圧切り換え回
路の出力vpp’に、ゲートが点Gに、ドレインが点F
に接続されたPE−IGFETMLlと、ドレインが点
Fに、ゲートが消去モード時に“H″になる信号Tに、
ソースが接地に接続されたNE−IGFETML2と、
ソースと基板がVlllpにゲートが点Fに、ドレイン
が点Gに接続されたPE−IGFETML3と、ドレイ
ンが点Gに、ゲートが点Hに、ソースが接地に接続され
たNE−IGFETML4と、ソースが電#CCに、ゲ
ートが信号Tに、ドレインが点Hに接続されたPE−I
GFETML5と、ドレインが点Hに、ゲートが信号T
に、ソースが接地に接続されたNE−IGFETML6
とから構成されるレベルシフタ回路LSとから構成され
る。
第1図中、従来例の第6図と同一のものは、同じ符号を
つけ説明を省略する。書き込み/消去モード時と読み出
しモード時のチャージポンプ回路の回路動作は、従来例
の場合とまったく同一であるので、説明を省略する。
第2図はまず書き込みモードになり、続いて読み出しモ
ードが終了し、次に再び消去モードになり、さらに読み
出しモードとなる時の書き込み/消去−読み出し電圧切
り換え回路の出力■ρp°の電圧の時間変化と、レベル
シフタ回路LSの出力″ Tpの電圧の時間変化を示し
たものである。NWEは信号NWEの電圧の時間変化、
DISは信号DISの電圧の時間変化、Tは信号Tの電
圧の時間変化、Tpはレベルシフタ回路LSの電圧の時
間変化、■ρp°は出力vpp’の電圧の時間変化をそ
れぞれ示す。
第1図と第2図を用いて、第1の実施例の動作を説明す
る。第2のクランプ回路CLA12の寄生トランジス9
 M C2(DVr2)値は、[BVJ −VT)1〕
以下に設定されるとして話を進める。例えば、BVJ 
=25vの時、寄生トランジスタMc2のVT2の値は
20Vになるように設定される。
■、書き込みモード時(時間0−tl)信号NWEが“
L”になり、書き込みモードになると、チャージポンプ
回路が動作する。すると書き込み/消去−読み出し電圧
切り換え回路の出力vpp’は、(Vcc−Vア。〕か
ら上昇する。書き込みモード時には信号Tは“L”であ
るので出力Tpは“L”になり、その結果第2のクラン
プ回路CLΔ12のNE−IGFETMclは非導通に
なる。
従って、第2のクランプ回路CLA12は非選択になる
ため出力vpp’の電圧は第1のクランプ回路CLAI
Iのジャンクション耐圧により制限される。結局出力■
ρp°の電圧は、(2)式で示す値で平衡する。
Vpp’ =BVJ =Vpρ(BVJ ) ・・(2
)この時、NE−IGFETMclのドレインの耐圧は
、クランプ回路CLAIIのジャンクション耐圧より高
(設定されている事はもちろんである。
2、読み出しモード時(時間t1〜t2〜t3 )書き
込みモードが終了すると、信号NWEは“H”になり、
チャージポンプ回路は非動作になる。そこで信号DIS
には、一定期間“H”になるパルスが印加されるので、
書き込みモード時に出力vpp’に付加される容量に充
電された電荷は放電される。結局出力vpp’の電圧は
(Vcc−Vto)で平衡する。
3、消去モード時(時間t3〜t4 )信号NWEが“
L″、信号Tが“H”になり、消去モードになると、チ
ャージポンプ回路が再び動作する。すると書き込み/消
去−読み出し電圧切り換え回路の出力vpp’の電圧は
CVCC−V丁o)から上昇する。
この時、信号Tが“H”であるので、レベルシフタ回路
LSの出力Tpの電圧は出力VISIT’と共に上昇し
、NE−IGFETMclは導通状態となる。点Eの電
圧が前もって設定されたクランプ電圧の値になると、寄
生トランジスタM c 2は導通する。第2のクランプ
回路CLA12のクランプ電圧は、CBVJ  VTI
IE以下になるように設定されているので、出力V[)
p’の電圧は、第2のクランプ回路CLA12のクラン
プ電圧(Vt2 )で制限される事になる。結局出力V
pρ′の電圧は(3)式に示す値で平衡する。
Vl)I)”= Vl2 + Vt+v = Vpp(
Vt□) ・・(3)4゜読み出しモード時(時間t4
〜t5 )消去モードが終了すると、信号NWEは“H
”になり、チャージポンプ回路は再び非動作になる。
このとき信号DISには一定期間“H”になるパルスが
印加されるので、消去モード時に出力vpp’に付加さ
れる容量に充電された電荷は放電される。
その結果出力vpp’の電圧は(Vcc−Vt。〕で平
衡する。
以上述べたように、本発明の第1の実施例の回路は、ク
ランプ回路を2個備えているので、メモリーセルの書き
込み特性から知られる適切な書き込み電圧を一方のクラ
ンプ回路のクランプ電圧で設定し、メモリーセルの消去
特性から知られる適切な消去電圧を他方のクランプ回路
のクランプ電圧で設定できる。このため従来例の場合よ
りも、適切な書き込み電圧、消去電圧を設定できる。従
って、書き込み又は消去モード時に、過度の電界ストレ
スをメモリーセルに与える事はない。
第3図に本発明の第2の実施例を示す。
第3図に示す第2の実施例は、第6図に示す従来例の回
路に、ドレインが点Pnに、ゲートが信号Tplに、ソ
ースが点E1に接続されたNE−IGFETMc3 と
、ドレインとゲートが点Elに、ソースが接地に接続さ
れた寄生トランジスタMc4  (Lきい値がVt2(
1))とから構成される第2のクランプ回路CLΔ22
と、ドレインが点Pnに、ゲートが信号Tp2に、ソー
スが点E2に接続されたNE−IGFETMc5 と、
ドレインとゲートが点E2に、ソースが接地に接続され
た寄生トランジスタMC6(しきい値がV T 2 (
2) )とから構成される第3のクランプ回路CLA2
3を付加した書き込み/消去−読み出し電圧切り換え回
路と、ソースが電源CCに、ゲートがクランプ回路を選
択する信号Sに、ドレインが点11に接続されたPE−
IGFETMkllと、ソースが電源CCに、ゲートが
消去モード時に“H”になる信号Tに、ドレインが点I
tに接続されたPE−IGFETMk12と、ドレイン
が点It に、ゲートが信号Sに、ソースが点J1に接
続されたNE−IGFETMk13と、ドレインが点J
l に、ゲートが信号Tに、ソースが接地に接続された
NE−IGFETMk14と、ソースが電源CCに、ゲ
ートが点■1に、ドレインが点に1に接続されたPE−
IGFETMk15と、ドレインが点に1に、ゲ−トが
点■1に、°ソースが接地に接続されたNE−IC,F
ETMk16と、人力が点に1に、出力が点G1に接続
されたレベルシフタ回路LSとから構成される第1のク
ランプ回路選択回路と、ソースが電源CCに、ゲートが
信号Sの反転信号Sに、ドレインが点■2に接続された
PE−IGFETMk21と、ソースが電源CCに、ゲ
ートが信号Tに、ドレインが点I2に接続されたPE−
IGFETMk22と、ドレインが点I2に、ゲートが
信号Sに、ソースが点J2に接続されたNE−ICFE
TMk23と、ドレインが点J2に、ゲートが信号Tに
、ソースが接地に接続されたNE−IGFETMk24
と、ソースが電源CCに、ゲートが点I2に、ドレイン
が点に2に接続されたPE−IGFETMk25と、ド
レインが点に2に、ゲートが点I2に、ソースが接地に
接続されたNE−IGFETMk26と、人力が点に2
に、出力が点G2に接続されたレベルシフタ回路LSと
から構成される第2のクランプ回路選択回路とから構成
される。
LSで表したレベルシフタ回路は、第1図に示すレベル
シフタ回路LSとまったく同一の回路9成をもつ。
第3図中、第6図に示した従来例と同一のものは、同一
の符号をつけ説明を省略する。
第4図はまず消去モードになり、第2のクランプ回路C
LA22が選択され、続いて読み出しモードが終了し、
次に再び消去モードになり、今度は第3のクランプ回路
CLA23が選択され、さらに読み出しモードとなる時
の、書き込み/消去−読み出し電圧切り換え回路の出力
Vpρ”の電圧の時間変化と、第1のクランプ回路選択
回路の出力Tp1の電圧の時間変化と、第2のクランプ
回路選択回路の出力Tp2の電圧の時間変化を示したも
のである。
NWEは信号NWEの電圧の時間変化を、DISは信号
DISの電圧の時間変化を、Tは信号Tの電圧の時間変
化を、Sは信号Sの電圧の時間変化を、Sは信号Sの電
圧の時間変化を、Tplは第1のクランプ回路選択回路
の出力Tplの電圧の時間変化を、Ta2は第2のクラ
ンプ回路選択回路の出力Tp2の電圧の時間変化をそれ
ぞれ示す。
第3図、第4図を用いて第2の実施例の動作を説明する
第2のクランプ回路CLA22の寄生トランジスタMc
4の■□、の値V T 2 (1)は、(BVJ −V
t2)以下に設定され、第3のクランプ回路CLA23
の寄生トランジスタMc6のvτ2の値v t 2 (
2)は、■ア。
(1〕よりもさらに小さく設定されているとして話を進
める。例工lf、BVJ =25Vノ時、vtz(1)
ハ20Vに、■1□(2)は18Vに設定される。
1、消去モード時(時間0〜tl) 信号NWEが“L”、信号T力びH”になり、消去モー
ドになると、チャージポンプ回路が動作する。すると書
き込み/消去−読み出し電圧切り換え回路の出力VpI
T’の電圧は[Vcc−VTa3から上昇する。この時
、信号Sが“H”、信号Sが“L“になっているので、
第2のクランプ回路選択回路は非選択になる。また、出
力Tp2は“L″゛になるので第3のクランプ回路CL
A23のNE−IGFETMc5は非導通になる。一方
、第1のクランプ回路選択回路は選択され、出力Tpl
の電圧が、出力vpp’と共に上昇する。すると第2の
クランプ回路CL A22のNE−IGFETMc3は
導通する。点E1の電圧が設定されたクランプ電圧の値
と等しくなると寄生トランジスタMc4が導通する。第
2のクランプ回路CLA22のクランプ電圧は、(BV
J −Vt5)以下になるように設定されているので、
出力Vi)p’の電圧は、第2のクランプ回路CLA2
2のクランプ電圧(Vt2(1))で制限される。結局
、出力Vlll)’の電圧は(4)式で示す値で平衡す
る。
Vpl)’ −Vt2(1)+ VTN−vpp (V
t2(1)) ’ (4)この時、NE−IGFETM
c3 、Mc5のドレインの耐圧は、第1のクランプ回
路のジャンクション耐圧より高く設定されている事はも
ちろんである。
2、読み出しモード時(時間し1〜t2〜t3 )消去
モードが終了すると信号NWEは“H”になり、チャー
ジポンプ回路は非動作になる。そこで信号DISには一
定期間゛″H”になるパルスが印加されるので、消去モ
ード時に出力VISIT’に付加される容量に充電され
た電荷は放電される。結局出力Vl)I)″の電圧はr
 ■(c−Vto〕で平衡する。
又、時刻t1で今度は信号Sが“L″、信号Sが“H″
になるので第1のクランプ回路選択回路は非選択になる
。従って出力Tplの電圧は“L”になり、第2のクラ
ンプ回路選択回路が選択される。結局出力Tp2の電圧
は(VCC−VTOIで平衡する。
3、消去モード時(時間t3〜t4 )信号NWEが′
L”、信号T力じH”になり、消去モードになると、チ
ャージポンプ回路が再び動作する。すると書き込み/消
去−読み出し電圧切り換え回路の出力Vlll]”の電
圧は、(Vcc−Vto〕から上昇する。この時、信号
Sが“L”、信号Sが“H”になっているので、第1の
クランプ回路選択回路は非選択になる。また、出力Tp
lは“L”になるので、第2のクランプ回路CLA22
のNE−IGFETMC3は非導通になる。一方、第2
のクランプ回路選択回路は選択され、出力Tp2の電圧
は出力vpp’と共に上昇し、第3のクランプ回路CL
A23のNE−IGFETMc5は導通する。点E2の
電圧が、設定されたクランプ電圧の値と等しくなると寄
生トランジスタMc6は導通する。第3のクランプ回路
CLA23のクランプ電圧は、[BVJ  VTNI以
下になるように設定されているので、出力vpp’の電
圧は、第3のクランプ回路CL A23のクランプ電圧
(v↑2 (2) )で制限される事になる。結局出力
vpp’の電圧は(5)式で示す値で平衡する。
Vpp’ = Vt□(2)+ V7v= vpp (
VT2(2)) ・・(5)4、読み出しモード時(時
間t4〜t5 )消去モードが終了すると、信号NWE
は“H”になり、チャージポンプ回路は再び非動作にな
る。
このとき信号DISには一定期間“H”になるパルスが
印加されるので、消去モード時に出力Vl)11’に付
加された容量に充電された電荷は放電される。
その結果出力Vllfl”の電圧は(Vcc−Vto)
で平衡する。又、時刻t4で今度は信号Sが“H”、信
号Sが“L″になるので第1のクランプ回路選択回路が
選択される。従って出力Tplの電圧はCVcc−VT
O)で平衡する。この場合第2のクランプ回路選択回路
は非選択になり、出力Tp2の電圧は“L′″になる。
第5図は、第3図に示した第2の実施例の回路を用いた
場合の消去モード時に信号Sを“H”、信号SをL”に
し、第2のクランプ回路CLA22を選択し、書き込み
/消去−読み出し電圧切り換え回路の出力vpp”をv
pp (VT2(1)) )にした場合の、消去時間に
対する消去したメモリーセル ゛のしきい値■、。(E
)の変化(曲線P)と、信号Sを“L”、信号Sを“H
”にし、第3のクランプ回路CLA23を選択し、青き
込み/消去−読み出し電圧切り換え回路の出力Vl)I
)’をvpp (VT2(2)) )にした場合の消去
時間に対する消去したメモリーセルのしきい値■Th(
E)の変化(曲線Q)を示したものである。
本実施例の場合、第5図を用いて、消去電圧が変化した
時のメモリーセルの消去スピード特性を評価する事がで
きる。これを用いてさらにクランプ回路のクランプ電圧
を決定する事ができる。
以上述べたように、本発明の第2の実施例は、消去モー
ド時、消去電圧として2種類の値を取ることができるの
で、外部端子から直接に消去電圧を印加する事なしに、
消去電圧を変化させた時のメモリーセルの消去スピード
特性を評価する事ができる。このため従来例の場合より
も、チップ内部の論理回路が簡単になる利点がある。
発明の効果 以上述べたように、本発明の書き込み/消去−読み出し
電圧切り換え回路は、書き込み/消去モード時の出力電
圧をクランプするクランプ回路回路を複数個備えている
ので、以下のような利点がある。
1、メモリーセルの書き込み特性から最適な書き込み電
圧を設定するとともに、メモリーセルの消去特性から最
適な消去電圧を設定できるので、メモリーセルに過度の
電界ストレスをかけることなく、従来例よりも適切な書
き込み電圧/消去電圧を設定することができる。
、  2.外部端子から直接に書き込み電圧/消去電圧
を印加する事なしに、書き込み電圧/消去電圧を変化さ
せた時のメモリーセルの書き込みスピード特性/消去ス
ピード特性を評価する事ができるので、チップ内部の論
理回路が簡単になる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例を示した回路図であり、 第2図は第1図の実施例の回路を用いた場合に書き込み
モードから消去モードに変化した時の、レベルシフタ回
路の出力Tpの電圧の時間変化、及び書き込み/消去−
読み出し電圧切り換え回路の出力Vlll)’の電圧の
時間変化を示したものであり、 第3図は本発明の第2の実施例を示した回路図てあり、 第4図は第2の実施例の回路を用いた場合の消去モード
時に、第2のクランプ回路CLA22を選択した場合と
、第3のクランプ回路CLA23を選択した場合の出力
Tpl、Tp2の電圧の時間変化、書き込み/消去−読
み出し電圧切り換え回路の出力Vl)I)’の電圧の時
間変化を示したものであり、 第5図は、第3図の回路を用いた場合に消去時間が変化
した時の、消去されたメモリーセルのしきい値の変化を
測定した例であり、 第6図は従来例の書き込み/消去−読み出し電圧切り換
え回路を示したものであり、 第7図は従来例を用いた場合に書き込みモードから読み
出しモードに変化した時の、書き込み/消去−読み出し
電圧切り換え回路の出力vpp’の電圧の時間変化を示
したものである。 (主な参照番号) Ml 、M2 、(Mpl 、・Cpl)、(M p2
 、Cp2)、(Mp3 、’  Cp3  ) 、・
・・・(Mpn、Cpn)・・書き込み/消去モード時
に 動作するチャージポンプ回路、 CLAII・・書き込み/消去モード時出力vpp”の
電圧をクランプするジャンクシ ョン耐圧を用いンブ回路、 CLA12・・出力vpp’の電圧をクランプするクラ
ンプ回路、 LS・・レベルシフタ回路、 CL A22、CL A23・・ ・・書き込み/消去モード時に出力VPP’の電圧をク
ランプするクランプ回路、 CLA 1・・ジャンクション耐圧を用いたクランプ回
路 特許出願人   日本電気株式会社  −第1図 CLA12 区 りつ 呼 qコ 第7図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  電源電圧から高電圧に昇圧する昇圧回路と、該昇圧回
    路の出力をクランプする1個のクランプ回路とを備える
    、書き込み/消去−読み出し電圧切り換え回路において
    、該書き込み/消去−読み出し電圧切り換え回路は、さ
    らに1個以上のクランプ回路と、複数個になったクラン
    プ回路のうちの1個を選択する選択回路とを有する事を
    特徴とする半導体装置。
JP61163004A 1986-07-10 1986-07-10 半導体装置 Pending JPS6318594A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2687517A1 (fr) * 1992-02-14 1993-08-20 Samsung Electronics Co Ltd Circuit survolteur-bloqueur et circuit tampon de sortie utilisant celui-ci.
JP2002208290A (ja) * 2001-01-09 2002-07-26 Mitsubishi Electric Corp チャージポンプ回路およびこれを用いた不揮発性メモリの動作方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6124094A (ja) * 1984-07-11 1986-02-01 Hitachi Micro Comput Eng Ltd 半導体記憶装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6124094A (ja) * 1984-07-11 1986-02-01 Hitachi Micro Comput Eng Ltd 半導体記憶装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2687517A1 (fr) * 1992-02-14 1993-08-20 Samsung Electronics Co Ltd Circuit survolteur-bloqueur et circuit tampon de sortie utilisant celui-ci.
JP2002208290A (ja) * 2001-01-09 2002-07-26 Mitsubishi Electric Corp チャージポンプ回路およびこれを用いた不揮発性メモリの動作方法

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