JPS63145247A - ジヒドロキシジアリ−ル化合物の製造法 - Google Patents
ジヒドロキシジアリ−ル化合物の製造法Info
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- JPS63145247A JPS63145247A JP61292461A JP29246186A JPS63145247A JP S63145247 A JPS63145247 A JP S63145247A JP 61292461 A JP61292461 A JP 61292461A JP 29246186 A JP29246186 A JP 29246186A JP S63145247 A JPS63145247 A JP S63145247A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はジヒドロキシジアリール化合物の製造法に関す
るものである。さらに、詳しくいえば、本発明は、ポリ
カーボネート、芳香族ポリエステル、ポリサルホン、エ
ポキシ樹脂などの高分子重合体の原料として有用な、1
.1−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)
メタン誘導体を収率よ(製造する方法に関するものであ
る。
るものである。さらに、詳しくいえば、本発明は、ポリ
カーボネート、芳香族ポリエステル、ポリサルホン、エ
ポキシ樹脂などの高分子重合体の原料として有用な、1
.1−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)
メタン誘導体を収率よ(製造する方法に関するものであ
る。
従来、フェノール類とアルデヒドまたはケトン類との反
応により得られるビスフェノール類は、各種の高分子重
合体、例えばポリカーボネート、エポキシ樹脂、芳香族
ポリエステル、ポリサルホンなどの原料として重要な化
合物であることが知られており、なかでもフェノールと
アセトンから得られる2、2−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン(ビスフェノールA)は、前記高分子
重合体の原料として大量に用いられている。
応により得られるビスフェノール類は、各種の高分子重
合体、例えばポリカーボネート、エポキシ樹脂、芳香族
ポリエステル、ポリサルホンなどの原料として重要な化
合物であることが知られており、なかでもフェノールと
アセトンから得られる2、2−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン(ビスフェノールA)は、前記高分子
重合体の原料として大量に用いられている。
このビスフェノール類としては、これまで種々の化合物
が見い出されており、例えばフェノールと各種のアルデ
ヒドまたはケトン類との反応により得られる化合物とし
て、前記ビスフェノールA以外に、フェノールとホルム
アルデヒドから得られるビス(ヒドロキシフェニル)メ
タン異性体混合物(ビスフェノールF)、フェノールと
アセトアルデヒドから得られる1、1−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)エタン(ビスフェノールAD)、フェ
ノールとシクロヘキサノンから得られる1゜1−ビス(
4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンなどが知られ
ている。
が見い出されており、例えばフェノールと各種のアルデ
ヒドまたはケトン類との反応により得られる化合物とし
て、前記ビスフェノールA以外に、フェノールとホルム
アルデヒドから得られるビス(ヒドロキシフェニル)メ
タン異性体混合物(ビスフェノールF)、フェノールと
アセトアルデヒドから得られる1、1−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)エタン(ビスフェノールAD)、フェ
ノールとシクロヘキサノンから得られる1゜1−ビス(
4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンなどが知られ
ている。
また、ビスフェノール類のベンゼン環に置換基を有する
ものとして、例えば0−クレゾール、O−エチルフェノ
ール、0−イソプロピルフェノール、2.6−シメチル
フエノール、2.6−ジニチルフエノール、2.6−ジ
イツプロビルフエノール、o−t−ドデシルフェノール
などのアルキルフェノール類や、ハロゲン化フェノール
頻とアルデヒドまたはケトン類との反応により得られる
化合物、あるいはアルキルフェノール類とイソプロペニ
ルフェノール類との反応により、それぞれのベンゼン環
に異なる置換基を有するビスフェノール類などが知られ
ている〔米国特許第4,304.899号明細書、rC
ollectionCzechos lov、Chem
、Commun。
ものとして、例えば0−クレゾール、O−エチルフェノ
ール、0−イソプロピルフェノール、2.6−シメチル
フエノール、2.6−ジニチルフエノール、2.6−ジ
イツプロビルフエノール、o−t−ドデシルフェノール
などのアルキルフェノール類や、ハロゲン化フェノール
頻とアルデヒドまたはケトン類との反応により得られる
化合物、あるいはアルキルフェノール類とイソプロペニ
ルフェノール類との反応により、それぞれのベンゼン環
に異なる置換基を有するビスフェノール類などが知られ
ている〔米国特許第4,304.899号明細書、rC
ollectionCzechos lov、Chem
、Commun。
」第34巻、第2843ページ(1969年)。
さらに、それぞれのベンゼン環にフェニル基1個を導入
したものや、ベンゼン環の一方にフェニル基1個を導入
したものも知られている〔rCollection
Czechoslov、Cham、Commun、J第
34巻、第2843ページ(1969年)。
したものや、ベンゼン環の一方にフェニル基1個を導入
したものも知られている〔rCollection
Czechoslov、Cham、Commun、J第
34巻、第2843ページ(1969年)。
これらのビスフェノール類の中で、ビスフェノールFは
液状エポキシ樹脂の原料として、3.3’、5.5’−
テトラメチルビスフェノールAはポリカーボネートの改
質剤として工業的に用いられており、またモノまたはジ
アルキル置換ビスフェノール類は、ガスバリヤ−性の優
れたポリカーボネートの原料として注目されている(米
国特許第4.304,899号明細V)。
液状エポキシ樹脂の原料として、3.3’、5.5’−
テトラメチルビスフェノールAはポリカーボネートの改
質剤として工業的に用いられており、またモノまたはジ
アルキル置換ビスフェノール類は、ガスバリヤ−性の優
れたポリカーボネートの原料として注目されている(米
国特許第4.304,899号明細V)。
ところで、近年高分子重合体の用途拡大に伴い、厳しい
条件下での使用が多くなり、より優れた物性を有する高
分子重合体が望まれており、ポリカーボネート、エポキ
シ樹脂、芳香族ポリエステル、ポリサルホンなどの分野
においても、物性のより優れたものを得るために、新し
い原料の開発が要望されていた。
条件下での使用が多くなり、より優れた物性を有する高
分子重合体が望まれており、ポリカーボネート、エポキ
シ樹脂、芳香族ポリエステル、ポリサルホンなどの分野
においても、物性のより優れたものを得るために、新し
い原料の開発が要望されていた。
そこで、本発明者らは研究を重ね、先に、0−フェニル
フェノールと特定のアルデヒド類またはケトン類とから
得られる1、1−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシ
フェニル)メタンm’J 体が、ポリカーボネート、芳
香族ポリエステル、ポリサルホン、エポキシ樹脂などの
高分子重合体の原料として有用であることを見い出した
。
フェノールと特定のアルデヒド類またはケトン類とから
得られる1、1−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシ
フェニル)メタンm’J 体が、ポリカーボネート、芳
香族ポリエステル、ポリサルホン、エポキシ樹脂などの
高分子重合体の原料として有用であることを見い出した
。
ところで、ジヒドロキシジアリール化合物の製造方法と
しては、硫酸または塩酸を縮合剤として用い、フェノー
ル類とケトン類とを縮合させる方法が知られている。
しては、硫酸または塩酸を縮合剤として用い、フェノー
ル類とケトン類とを縮合させる方法が知られている。
この方法において、縮合剤として硫酸を用いる場合には
、フェノール類がスルホン化されるのを防止するために
、濃度が65〜75重量%の範囲にある硫酸が通常用い
られる(米国特許第1,978.949号明細書、同第
1.977.627号明細書)。
、フェノール類がスルホン化されるのを防止するために
、濃度が65〜75重量%の範囲にある硫酸が通常用い
られる(米国特許第1,978.949号明細書、同第
1.977.627号明細書)。
しかしながら、0−フェニルフェノールとケトン類とを
反応させる場合、前記の従来用いられている縮合剤では
、反応が十分に進行せず、収率の低下を免れないという
問題があった。
反応させる場合、前記の従来用いられている縮合剤では
、反応が十分に進行せず、収率の低下を免れないという
問題があった。
本発明は、このような問題を解決し、0−フェニルフェ
ノールとケトン類とを効果的に縮合させ、収率よくジヒ
ドロキシジアリール化合物を製造する方法の提供を目的
としてなされたものである。
ノールとケトン類とを効果的に縮合させ、収率よくジヒ
ドロキシジアリール化合物を製造する方法の提供を目的
としてなされたものである。
本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重
ねた結果、0−フェニルフェノールは比較的高濃度の硫
酸でもスルホン化されにくいことに着目し、縮合剤とし
て従来用いられているものより高濃度の硫酸を用い、か
つある種の助触媒を併用することにより、その目的を達
成しうろことを見い出し、この知見に基づいて本発明を
完成するに至った。
ねた結果、0−フェニルフェノールは比較的高濃度の硫
酸でもスルホン化されにくいことに着目し、縮合剤とし
て従来用いられているものより高濃度の硫酸を用い、か
つある種の助触媒を併用することにより、その目的を達
成しうろことを見い出し、この知見に基づいて本発明を
完成するに至った。
すなわち、本発明は、0−フェニルフェノールとケトン
類とを反応させてジヒドロキシジアリール化合物を製造
するにあたり、縮合剤として濃度80重量%以上の硫酸
を用い、かつ助触媒としてメルカプト基含有化合物を用
いて反応させることを特徴とするジヒドロキシジアリー
ル化合物の製造法を提供するものである。
類とを反応させてジヒドロキシジアリール化合物を製造
するにあたり、縮合剤として濃度80重量%以上の硫酸
を用い、かつ助触媒としてメルカプト基含有化合物を用
いて反応させることを特徴とするジヒドロキシジアリー
ル化合物の製造法を提供するものである。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明方法において用いられるケトン類としては、一般
式 %式%(1) (式中のR1およびR2は、それぞれ炭素数1〜5のア
ルキル基、了り−ル基、ベンジル基、フェノキシフェニ
ル基、アルコキシフェニル基などであって、それらは同
一であってもよいし、たがいに異なっていてもよい) で表される化合物を挙げることができる。このようなも
のの代表例としては、アセトン、メチルエチルケトン、
ジエチルケトン、アセトフェノン、プロピオフェノン、
ベンゾフェノン、4′−フェノキシアセトフェノンなど
を挙げることができる。
式 %式%(1) (式中のR1およびR2は、それぞれ炭素数1〜5のア
ルキル基、了り−ル基、ベンジル基、フェノキシフェニ
ル基、アルコキシフェニル基などであって、それらは同
一であってもよいし、たがいに異なっていてもよい) で表される化合物を挙げることができる。このようなも
のの代表例としては、アセトン、メチルエチルケトン、
ジエチルケトン、アセトフェノン、プロピオフェノン、
ベンゾフェノン、4′−フェノキシアセトフェノンなど
を挙げることができる。
本発明方法においては、縮合剤として濃度が80重量%
以上の硫酸を用いることが必要である。
以上の硫酸を用いることが必要である。
濃度が80重量%未満の硫酸では、反応が十分に進行せ
ず、目的のジヒドロキシジアリール化合物、すなわち1
.1−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)
メタン誘導体の収率が低い。
ず、目的のジヒドロキシジアリール化合物、すなわち1
.1−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)
メタン誘導体の収率が低い。
該縮合剤の使用量は、通常0−フェニルフェノールとケ
トン類との合計量に対して、3〜30重量%の範囲で選
ぶことが好ましい。
トン類との合計量に対して、3〜30重量%の範囲で選
ぶことが好ましい。
本発明方法においては、前記縮合剤とともに、助触媒と
してメルカプト基を含有する化合物を用いることが必要
である。このメルカプト基を含有する化合物としでは、
例えばメチルメルカプタン、エチルメルカプタン、プロ
ピルメルカプタン、ブ′チルメルカプタン、オクチルメ
ルカプタン、ドデシルメルカプタンなどのアルキルメル
カプタン類、チオフェノールやチオクレゾールなどの芳
香族メルカプタン類、メルカプト酢酸(チオグリコール
酸)やメルカプトプロピオン酸などのメルカプト有機酸
類などが挙げられる。これらの助触媒は、通常0−フェ
ニルフェノールとケトン類との合計量に対して0.1〜
5重量%の範囲で用いられる。
してメルカプト基を含有する化合物を用いることが必要
である。このメルカプト基を含有する化合物としでは、
例えばメチルメルカプタン、エチルメルカプタン、プロ
ピルメルカプタン、ブ′チルメルカプタン、オクチルメ
ルカプタン、ドデシルメルカプタンなどのアルキルメル
カプタン類、チオフェノールやチオクレゾールなどの芳
香族メルカプタン類、メルカプト酢酸(チオグリコール
酸)やメルカプトプロピオン酸などのメルカプト有機酸
類などが挙げられる。これらの助触媒は、通常0−フェ
ニルフェノールとケトン類との合計量に対して0.1〜
5重量%の範囲で用いられる。
O−フェニルフェノールとケトン類との使用割合につい
ては、0−フェニルフェノールを理論量より過剰に用い
ることが好ましく、通常ケトン類1モルに対し、0−フ
ェニルフェノールが2.2〜6モルの割合で用いられる
。
ては、0−フェニルフェノールを理論量より過剰に用い
ることが好ましく、通常ケトン類1モルに対し、0−フ
ェニルフェノールが2.2〜6モルの割合で用いられる
。
0−フェニルフェノールとケトン類との反応は、溶媒を
用いずに行ってもよいし、必要ならば溶媒を用いて行っ
てもよい。溶媒を使用する場合には、反応に不活性なも
のを選ぶことが必要である。
用いずに行ってもよいし、必要ならば溶媒を用いて行っ
てもよい。溶媒を使用する場合には、反応に不活性なも
のを選ぶことが必要である。
また、反応温度は、使用するケトン類の種類や硫酸濃度
によって異なり、−概に限定できないが、通常20〜1
50℃、好ましくは50〜100℃の範囲で選ばれる。
によって異なり、−概に限定できないが、通常20〜1
50℃、好ましくは50〜100℃の範囲で選ばれる。
反応圧力については特に制限はなく、減圧、常圧、加圧
のいずれでもよいが、通常常圧下で反応を行うのが有利
である。さらに、反応時間は、原料の種類、硫酸の濃度
や量、助触媒の種類や量、反応温度などによって左右さ
れるが、通常5〜2OO時間程度である。
のいずれでもよいが、通常常圧下で反応を行うのが有利
である。さらに、反応時間は、原料の種類、硫酸の濃度
や量、助触媒の種類や量、反応温度などによって左右さ
れるが、通常5〜2OO時間程度である。
このようにして、一般式
(式中のR1およびR2は前記と同じ意味をもつ)で表
される1、1−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフ
ェニル)メタン誘導体が収率よく得られる。
される1、1−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフ
ェニル)メタン誘導体が収率よく得られる。
このものは、ポリカーボネート、芳香族ポリエステル、
ポリサルホン、エポキシ樹脂などの高分子重合体の原料
として有用である。
ポリサルホン、エポキシ樹脂などの高分子重合体の原料
として有用である。
次に実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本
発明はこれらの例によってなんら限定されるものではな
い。
発明はこれらの例によってなんら限定されるものではな
い。
実施例1
反応容器に、O−フェニルフェノール510g(3モル
)とアセトフェノン120g(1モル)を入れ、60℃
に昇温しで溶融させたのち、チオグリコール酸10.1
g (0,11モル)を加え、攪拌しながら、80重
量%濃度の硫酸143g(1゜17モル)を加えて、7
0°Cにおいて24時間反応させた。次に、反応生成物
を塩化メチレン21で希釈し、水21で3回洗浄した。
)とアセトフェノン120g(1モル)を入れ、60℃
に昇温しで溶融させたのち、チオグリコール酸10.1
g (0,11モル)を加え、攪拌しながら、80重
量%濃度の硫酸143g(1゜17モル)を加えて、7
0°Cにおいて24時間反応させた。次に、反応生成物
を塩化メチレン21で希釈し、水21で3回洗浄した。
次いで、2規定源度の水酸化ナトリウム水溶液2I!を
用い、40℃において抽出し、抽出液を氷冷して結晶を
得た。この結晶を塩化メチレンで十分に洗浄したのち、
1規定源度の塩酸41中に分散し、ろ過、水洗したのち
、トルエンとヘキサンの混合溶媒を用いて再結晶した。
用い、40℃において抽出し、抽出液を氷冷して結晶を
得た。この結晶を塩化メチレンで十分に洗浄したのち、
1規定源度の塩酸41中に分散し、ろ過、水洗したのち
、トルエンとヘキサンの混合溶媒を用いて再結晶した。
この結果、結晶の収量は156gであり、収率はアセト
フェノンに対して35%であった。融点は146〜14
8℃であり、分子量(m”)は442であった。さらに
、’H−NMR(アセトンaa) δ (ppm)は
、2.17 (s 3H) 、6.89 (d2H)
6.96 (dd2H) 、7.21 (m7H) 、
7.33 (t4H) 、7.52 (d4H) 、8
゜3(b2H)であり、純度は、99.5%(HP L
C)であった。
フェノンに対して35%であった。融点は146〜14
8℃であり、分子量(m”)は442であった。さらに
、’H−NMR(アセトンaa) δ (ppm)は
、2.17 (s 3H) 、6.89 (d2H)
6.96 (dd2H) 、7.21 (m7H) 、
7.33 (t4H) 、7.52 (d4H) 、8
゜3(b2H)であり、純度は、99.5%(HP L
C)であった。
以上から、この結晶は次式に示す1−フェニル−1,1
−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)エタ
ンと判明した。
−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)エタ
ンと判明した。
実施例2
縮合剤として、90重量%濃度の硫酸127g(1,1
7モル)を用いた他は実施例1と同様に実施した。
7モル)を用いた他は実施例1と同様に実施した。
この結果、1−フェニル−1,1−ビス(3−フェニル
−4−ヒドロキシフェニル)エタンの収量は243gで
あり、アセトフェノンに対する収率は55%であった。
−4−ヒドロキシフェニル)エタンの収量は243gで
あり、アセトフェノンに対する収率は55%であった。
また、得られた結晶の純度は99.4%であった。
実施例3
縮合剤として、98重量%濃度の硫酸117g(1,1
7モル)を用いた他は実施例1と同様に実方缶した。
7モル)を用いた他は実施例1と同様に実方缶した。
この結果、1−フェニル−1,1−ビス(3−フェニル
−4−ヒドロキシフェニル)エタンの収量は317gで
あり、アセトフェノンに対する収率は72%であった。
−4−ヒドロキシフェニル)エタンの収量は317gで
あり、アセトフェノンに対する収率は72%であった。
また、得られた結晶の純度は99.5%であった。
実施例4
ケトンとして、アセトン58g(1モル)を用いた他は
実施例1と同様にした。
実施例1と同様にした。
この結果、得られた2、2−ビス(3−フェニル−4−
ヒドロキシフェニル)プロパンの収量は209gであり
、アセトンに対する収率は55%であった。また、融点
は113〜115℃、分子’FJ (m ” )は38
0であり、’H−NMR(アセトンd6)δ (ppm
)は、1.68 (s 6 IN、6.88 (d2
H)7.IQ (dd2H) 、7.21〜7.28
(m4H) 、7.35 (t 4H) 、7.55
(dd4H) 、8、o (s 2H)であった。さら
に、純度は、99.7%であった。
ヒドロキシフェニル)プロパンの収量は209gであり
、アセトンに対する収率は55%であった。また、融点
は113〜115℃、分子’FJ (m ” )は38
0であり、’H−NMR(アセトンd6)δ (ppm
)は、1.68 (s 6 IN、6.88 (d2
H)7.IQ (dd2H) 、7.21〜7.28
(m4H) 、7.35 (t 4H) 、7.55
(dd4H) 、8、o (s 2H)であった。さら
に、純度は、99.7%であった。
実施例5
反応容器に、0−フェニルフェノール510g(3モル
)と4′−フェノキシ・アセトフェノン212g(1モ
ル)、チオグリコール酸9.2g(0,1モル)を入れ
、60℃に昇温して溶融し、攪拌下に98重量%濃度の
硫酸117gを添加し、70℃において12時間反応さ
せた。反応終了後冷却して塩化メチレン31を加えて希
釈し、水21で3回洗浄した。次に、5規定源度の水酸
化ナトリウム水溶液500m/を加えて水冷し、結晶を
析出させた。次いで、この結晶を回収して塩化メチレン
で十分に洗浄したのち、水31中に分散してpHが1以
下となるまで塩酸を添加した。次に、この結晶を回収、
水洗したのち、トルエンとヘキサンの混合溶媒を用いて
再結晶させた。
)と4′−フェノキシ・アセトフェノン212g(1モ
ル)、チオグリコール酸9.2g(0,1モル)を入れ
、60℃に昇温して溶融し、攪拌下に98重量%濃度の
硫酸117gを添加し、70℃において12時間反応さ
せた。反応終了後冷却して塩化メチレン31を加えて希
釈し、水21で3回洗浄した。次に、5規定源度の水酸
化ナトリウム水溶液500m/を加えて水冷し、結晶を
析出させた。次いで、この結晶を回収して塩化メチレン
で十分に洗浄したのち、水31中に分散してpHが1以
下となるまで塩酸を添加した。次に、この結晶を回収、
水洗したのち、トルエンとヘキサンの混合溶媒を用いて
再結晶させた。
この結果、1−(4−フェノキシフェニル)−1,1−
ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)エタン
の結晶235gを得た。この結晶の収率は、4′−フェ
ノキシ・アセトフェノンに対して44%であった。また
、融点は128〜129℃であり、分子量(mo)は5
34であった。
ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)エタン
の結晶235gを得た。この結晶の収率は、4′−フェ
ノキシ・アセトフェノンに対して44%であった。また
、融点は128〜129℃であり、分子量(mo)は5
34であった。
さらに、’H−NMR(アセトンd6)δ(ppm)は
、2.100 (s3H) 、6,821(s5H)
、6,922 (d2H)6,975(dd2H)
、7、o5〜7.23 (m6H) 、7.26〜7.
39 (m6H) 、7,903 (dd4H)であっ
た。
、2.100 (s3H) 、6,821(s5H)
、6,922 (d2H)6,975(dd2H)
、7、o5〜7.23 (m6H) 、7.26〜7.
39 (m6H) 、7,903 (dd4H)であっ
た。
比較例1
実施例1において、縮合剤として濃度70重里%の硫酸
149g(1,17モル)を用いたほかは、実施例1と
同様に実施した。
149g(1,17モル)を用いたほかは、実施例1と
同様に実施した。
この結果、1−フェニル−1,1−ビス(3−フェニル
−4−ヒドロキシフェニル)エタンの収量は15gであ
り、アセトフェノンに対する収率は3.4%であった。
−4−ヒドロキシフェニル)エタンの収量は15gであ
り、アセトフェノンに対する収率は3.4%であった。
また、得、られた結晶の純度は99.1%であった。
比較例2
実施例1において、縮合剤として濃塩酸150gを用い
たほかは、実施例1と同様に実施した。
たほかは、実施例1と同様に実施した。
この結果、1〜フェニル−1,1−ビス(3−フェニル
−4−ヒドロキシフェニル)エタンの収量は10gであ
り、アセトフェノンに対する収率は2.2%であった。
−4−ヒドロキシフェニル)エタンの収量は10gであ
り、アセトフェノンに対する収率は2.2%であった。
また、得られた結晶の純度は98.4%であった。
本発明方法によると、0−フヱニルフェノールとケトン
類とから、収率よく1.1−ビス(3−フェニル−4−
ヒドロキシフェニル)メタン誘導体を製造することがで
きる。このものは、例えばポリカーボネート、芳香族ポ
リエステル、ポリサルホン、エポキシ樹脂などの高分子
重合体の原料として有用である。
類とから、収率よく1.1−ビス(3−フェニル−4−
ヒドロキシフェニル)メタン誘導体を製造することがで
きる。このものは、例えばポリカーボネート、芳香族ポ
リエステル、ポリサルホン、エポキシ樹脂などの高分子
重合体の原料として有用である。
Claims (1)
- 1、o−フェニルフェノールとケトン類とを反応させて
ジヒドロキシジアリール化合物を製造するにあたり、縮
合剤として濃度80重量%以上の硫酸を用い、かつ助触
媒としてメルカプト基含有化合物を用いて反応させるこ
とを特徴とするジヒドロキシジアリール化合物の製造法
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61292461A JPS63145247A (ja) | 1986-12-10 | 1986-12-10 | ジヒドロキシジアリ−ル化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61292461A JPS63145247A (ja) | 1986-12-10 | 1986-12-10 | ジヒドロキシジアリ−ル化合物の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63145247A true JPS63145247A (ja) | 1988-06-17 |
Family
ID=17782104
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61292461A Pending JPS63145247A (ja) | 1986-12-10 | 1986-12-10 | ジヒドロキシジアリ−ル化合物の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63145247A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016190994A (ja) * | 2015-03-31 | 2016-11-10 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 多価ヒドロキシ化合物の製造方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57118528A (en) * | 1981-01-13 | 1982-07-23 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Preparation of bisphenols |
JPS61103846A (ja) * | 1984-10-27 | 1986-05-22 | レーム・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | 9,9‐ビス‐(4‐ヒドロキシフエニル)‐フルオレンの製法 |
-
1986
- 1986-12-10 JP JP61292461A patent/JPS63145247A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57118528A (en) * | 1981-01-13 | 1982-07-23 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Preparation of bisphenols |
JPS61103846A (ja) * | 1984-10-27 | 1986-05-22 | レーム・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | 9,9‐ビス‐(4‐ヒドロキシフエニル)‐フルオレンの製法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016190994A (ja) * | 2015-03-31 | 2016-11-10 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 多価ヒドロキシ化合物の製造方法 |
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