JPS63112441A

JPS63112441A - 透明熱線反射板

Info

Publication number: JPS63112441A
Application number: JP25629186A
Authority: JP
Inventors: Eiji Kusano; 英二草野; Katsuhisa Enjoji; 勝久円城寺
Original assignee: Nippon Sheet Glass Co Ltd
Current assignee: Nippon Sheet Glass Co Ltd
Priority date: 1986-10-28
Filing date: 1986-10-28
Publication date: 1988-05-17

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は透明熱線反射板、特に建築用の窓ガラスや自動
車等の車輌用の窓ガラスに用いることにより、太陽輻射
熱の室内への浸入を防ぐ透明熱線反射ガラスに関する。

〔従来の技術〕

従来より、ガラス板にＴｉＮの透明薄膜を付着した反射
色がゴールド調の熱線反射ガラスが用いられていた。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながらＴｉＮの透明薄膜を有する熱線反射ガラス
はＴｉＮの成膜条件により反射色が変化するたメ、例え
ばスパッタリング法により、大面積のガラス板上に同じ
反射光をもつＴｉＮ薄膜を連続的に形成することが困難
であった。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は前記困難を克服するためになされたものであっ
て、本発明は透明基板と該透明基板上に形成されたＴｉ
を主成分とした６明金属層と、該透明金属層上に形成さ
れた金属酸化物、あるいは金属硫化物からなる外面透明
高屈折率層とからなる透明熱線反射板である。

本発明においては、透明基板と透明金属層との間に金属
酸化物、あるいは金属硫化物からなる内面透明高屈折率
層を介在させることができる。

本発明において、外面透明高屈折率層と、内面透明高屈
折率層とには通常ＴｉＯ２ｒ　Ｔａ２０５　＋　ＺｒＯ
２ｒＳ　ｎＯ２１Ｚ　ｎＯ＋あるいはＢ１２０等の金属
酸化物、またはＺｎＳの如き金属硫化物を用いることが
できるが、耐候性と耐薬品性の面からＴｉＯ２＋Ｔａ２
０５あるいは５ｎ０２等が好ましく、その膜厚は通常ｒ
ｏｎｍ　　乃至１１００ｎにされる。そして、これらの
透明高屈折率層は真空蒸着法、スパッタリング法、ある
いはディッピング法等により形成できる。

また、本発明において、Ｔｌを主成分とした金属層は膜
厚をｊｎｍ乃至５０ｎｍにすることが好ましく、真空蒸
着法、スパッタリング法、ディッピング法、及びメッキ
法等により形成できる。

〔作　用〕

本発明はＴｉを主成分とした透明金属上に金属酸化物、
あるいは金属硫化物からなる内面透明高屈折率層を形成
したものであるから、高屈折率の層の膜厚を変えること
により、透明金属層の反射光の青色成分の抑制を制御で
き、金色からブロンズ色の反射色を安定して得ることが
できる。

〔実　施　例〕

以下、本発明を図面を引用して詳述する。

第１図は本発明方法を実施するスパッタリング装置の概
略図であり、スパッタリング装置はアースされた真空＃
ｆｌ）の一部にバリアプルバルブ（２）　ヲ設けた排気
口（３）を形成し、この排気口（３）を介して図示しな
い真空ポンプと接続し、真空槽（１）内を減圧するよう
にしている。また真空槽（１）の底部には電気絶縁体（
４１、（４１を介してマグネトロンカソードｆ５）　ｌ
　（６）を離間して一対設け、これらマグネトロンカソ
ード（５）　ｌ　（６１と直流電源（７）　、　（７）
之をスイッチ（８）。

（８）を介して接続している。また各マグネトロンカソ
ード（５）　、　（６）の近傍には真空槽（１）の底部
を貫通してバ／にブ（’１　ｒ　（９）を備えたガス供
給管（１０）　、　（１１）を臨ませ、真空槽（１）内
にガスを供給するようにしている。

更に真空槽（１）内の各カソード（５）　、　（６）上
方には往復動可能な搬送ベルト（１２）を配置している
。

以上の如き構成のスパッタリング装置を用いて熱線反射
膜を形成する方法を以下に述べる。

実施例１先ず、カソード（５）の上面にＴｉをターゲラ）　（１
３）として取付け、カソード（６）の上面にＳｎをター
ゲラｈ　（１４）として取付け、またホルダー（１５）
にガラス板（１６）を保持し、このホルダー（１５）を
搬送ベルト（１２）上に載置する。

面ル後、バリアプルバルブ（２）を開とし真空槽α）内
を１Ｏ−３Ｐａまで減圧し、ガス供給管（１１）よりア
ルゴンガスと酸素ガスの混合ガスを供給する。

尚、混合比はアルゴンガスを２０体積％、酸素ガスをｌ
ｒＯ体積体積口て、且つガス導入後の真空槽（１）が０
．≠ｐａとなるようにする。そして、スイッチ（８）を
オンとしカソード（６）にｔｉ５０ｖの負電圧を印加し
、７０分間スパッタリングを行った後、搬送ベルト（１
２）を走行させることで、ホルダー（１５）に保持した
ガラス板（１６）をｌＩＱ　Ｑｍｍ１分の速度でカソー
ド（６）上を移動させることで、第２図に示すように、
ガラス板（１６）の表面に所定厚み（Ｊｊｎｍ）の内面
高屈折率層（１７）　、具体的には５ｎ０２からなる第
１暦を形成する。

そして、スイッチ（８）をオフとし、バルブ（９）を閉
じた後、バリアプルバルブ（２）を再び開とし、真空槽
（１）内を１Ｏ−３Ｐａ、まで減圧する。

この後、ガス供給管（１０）のパルプ（９）を開き、ア
ルゴンガスを１１００８ＣＣで真空槽（１）内に導入し
、バリアプルバルブ（２）を調整して真空ｍ　（１）を
ｏ　、ｐ　ｐａに保ち、カソード（５）のスイッチ（８
）をオンとしカソード（５）にｔＩｒｏｖの負電圧を印
加し、約１０分間直流スパッタリングを行う。この後搬
送ベル）　（１２）を走行させることで、ホルダ（１５
）に保持したガラス板（１６）を≠ＱＱｍｍ７分の速度
でカソード（５）上を移動させることで、第２図に示す
ように、高屈折率層（１７）の表面に所定厚み（２（ｌ
ｌｎｍ）の金属層（１８）、具体的にはＴｉからなる第
２層を形成する。

この後、前記高屈折率層（１７）を形成したのと同じ条
件、即ち、Ｓｎをターゲットとし、酸素とアルゴンの混
合ガス雰囲気において直流スパッタリングを行うことで
、第２図に示すように金属層（ユ８）の表面に厚さＪｊ
ｎｍ程度の５ｎ０２からなる外面高屈折率層（１９）を
第３層として形成する。

実施例λ 実施例／において、外面高屈折率層（１９）の成膜時の
基板移動速度を２００朋／分に変えることにより、膜厚
な７０ｎｍとした外は実施例１と同様の方法により透明
熱線反射ガラスを作成する。

実施例３実施例１と同様に第１図に示したスパッタリング装置を
用い、カソード（５）の上面にＴｉをターゲット（１３
）として取付け、またホルダー（１５）にガラス板（１
６）を保持し、このホルダー（１５）を搬送ベル）　（
１２）上に載置する。

面ル後、バリアプルバルブ（２）を門とし真空槽α）内
を７０−３Ｐａまで減圧し、ガス供給管（１０）よりア
ルゴンガスと酸素ガスの混合ガスを供給する。

尚、混合比はアルゴンガスをＩＯ体積％、酬素ガスを９
０体積％として、且つガス導入後の真空槽（１）がｏ　
、　＜ｔ　ｐａとなるようにする。そして、スイッチ（
８）をオンとしカソード（５）によ！０■の負電圧な印
加し、７０分間スパッタリングを行った後、搬送ベル）
　（１２）を走行させることで、ホルダー（１５）に保
持したガラス板（１６）を／　２０Ｔｎｌｎ１分の速度
でカソード（５）上を移動させることで、第２図に示す
ように、ガラス板（１６）の表面に所定厚み（ＪＯｎｍ
）の内面高屈折率層（１７）　、具体的にはＴｌＯ２か
らなる第１層を形成する。

そして、スイッチ（８）をオフとし、バルブ（９）を閉
じた後、　　　　　　゛　２、バリアプルバルブ（２）を再び開とし、真空槽（１）内を／　
０−３Ｐａまで減圧する。

この後、ガス供給管（１０）のバルブ（９）を開き、ア
ルゴンガスな１１００５ＣＣで真空槽（１）内に導入し
、バリアプルバルブ（２）を調整して真空槽（１１をＯ
０≠Ｐａに保ち、カソード（５）のスイッチ（８）をオ
ンとしカソード（５）にｌｌ５ｏｖの負電圧を印加し、
約７０分間直流スハッタリングを行う。この後搬送ベル
）　（１２）を走行させることで、ホルダ（１５）に保
持したガラス板（１６）をｌ１００ｍｔｎ／分の速度で
カソード（５）上を移動させることで、第２図に示すよ
うに、高屈折率層（１７）の表面に所定厚み（２０ｎｍ
）の金属層（１８）、具体的にはＴｉからなる第２層を
形成する。

この後、前記高屈折率者（ニア）を形成したのと同じ条
件、すなわち、Ｔｉをターゲットとし、酸素とアルゴン
混合ガス雰囲気において直流スパッタリングを行うこと
で、第２図に示すように貴金属層（１８）の表面に厚さ
３ｏｎｍ程度のＴｉＯ２からなる外面高屈折率層（１９
）を第３層として形成する。

実施例を実施例３において、外面高屈折率＃（１９）の成膜時の
基板移動速度を６０馴／分に変えることにより、その膜
厚を乙Ｏｎｍとした外は実施例３と同様の方法により透
明熱線反射ガラスを作成する。

実施例よ実施例３において、第１層の内面高屈折率層（１７）を
省いた以外は実施例３と全く同様の方法により透明熱線
反射ガラスを作成する。

各実施例で得た透明熱線反射ガラスについてガラス板面
側と膜面側からみた反射色を観察した結果と波長ｓ５０
ｎｍの光の透過率を測定した結果を第１表に示した。

第　　　ｌ　　　表また、実施例１で得られた透明熱線反射ガラス（実線）
の分光反射率を窒化チタニウム膜を用いた熱線反射ガラ
ス（破線）と比較して第３図に示した。

以上の実施例においては、スパッタリング法により、ガ
ラス板に被膜を付着させたが、本発明における被膜の付
着はスパッタリング法に限定されることなく、真空蒸尤
法、あるいは熱分解により金属酸化物になりうる金属化
合物の溶液にディッピングしてコーティングした後、熱
分解して被膜を形成するディッピング法により成し遂げ
ることもできる。

〔発明の効果〕

本発明は第１表及び第３図から明らかなように、Ｔｉ膜
の外面層の５ｎ０２膜の膜厚を変えることにより、膜面
からみた夏射光が金色からブロンズ色糸の反射色をもつ
熱線反射ガラスを得ることができ、外面層の５ｎ０２膜
の膜厚を選ぶことにより、所望反射色を安定して得るこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の実施例を示すものであって、第１図はス
パッタリング装置の概略図、第２図は本発明に係る熱線
反射ガラスの拡大断面図、第３図は透明熱線反射ガラス
の分光反射率を示す図である。尚、図面中（１）は真空槽、（５ｔ　、　（６）はマグ
早トロンカソード、（１０）ｌ　（１１）はガス供給管
、（１２）は搬送（１８）は金属層である。第１図第２図

Claims

【特許請求の範囲】

（１）透明基板と、該透明基板上に形成されたＴｉを主
成分とした透明金属層と、該透明金属層上に形成された
金属酸化物、あるいは金属硫化物からなる外面透明高屈
折率層とからなる透明熱線反射板。
（２）前記透明基板と前記透明金属層との間に金属酸化
物、あるいは金属硫化物からなる内面透明高屈折率層を
介在させた特許請求の範囲第１項に記載の透明熱線反射
板。
（３）前記透明金属層が５ｎｍ乃至５０ｎｍである特許
請求の範囲第１項又は第２項に記載の透明熱線反射板。