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JPS6238450A - 光可溶化組成物 - Google Patents

光可溶化組成物

Info

Publication number
JPS6238450A
JPS6238450A JP17805085A JP17805085A JPS6238450A JP S6238450 A JPS6238450 A JP S6238450A JP 17805085 A JP17805085 A JP 17805085A JP 17805085 A JP17805085 A JP 17805085A JP S6238450 A JPS6238450 A JP S6238450A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
partial structure
compound
photosensitive
present
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP17805085A
Other languages
English (en)
Inventor
Akihiko Kamiya
神谷 明彦
Toshiaki Aoso
利明 青合
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP17805085A priority Critical patent/JPS6238450A/ja
Publication of JPS6238450A publication Critical patent/JPS6238450A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0755Non-macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/72Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0757Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は、同一分子内に活性光線の照射により酸を発生
し得る部分構造、及び酸によ部分解し得るシリルエーテ
ル基をそれぞれ少なくとも1個有する新規な元化合物を
含有した平版印刷版、多色印刷の校正刷、オーバヘッド
プロジェクタ−用図面、IC回路、ホトマスクの製造に
適する光可溶化組成物に関する。
「従来の技術」 活性光線により可溶化する、いわゆるボジチブに作用す
る感光性物質としては、従来オルトキノンジアジド化合
物が知られており、実際平版印刷版、ホトレジスト等に
広く利用されてきた。このようなオルトキノンジアジド
化合物としては、例えば米国特許第2,7Aj、111
号、同第2゜747.0タコ号、同第−,772,27
2号、同第2.rjり、112号、同第λ、り07.t
At号、同第J、0174./10号、同第j、 01
A&、111号、同第J、0176.111号、同第J
、oat、iir号、同第j、O1t&、//り号、同
第3,04A6,120号、同第3.o44、/λ1号
、同第j、04At、/22号、同第J、0444./
2J号、同第J、oti、tt3゜号、同第j、102
,10り号、同第j、106゜4Aぶ1号、同第j、4
31,709号、同第3゜6μ7.≠4/−3号゛の各
明細書をはじめ、多数の刊行物に記されている。
これらのオルトキノンジアジド化合物は、活性光線の照
射により分解を起こしてj員環のカルボン酸を生じ、ア
ルカリ可溶性となることを利用したものであるが、いず
れも感光性が不十分であるという欠点を有する。これは
、オルトキノンジアジド化合物の場合、本質的に量子収
率がlを越えない□ということに由来するものである。
オルトキノンジアジド化合物を含む感光性組成物の感光
性を高める方法については、今までいろいろと試みられ
てきたが、現像時の現像許容性を保持したtま感光性を
高めることは非常に困難であった。例えば、このような
試みの例として、特公昭≠!−/コトー号、特開昭!−
−φ012!号、米国特許第≠、307./73号など
の明細書に記載された内容を挙げることができる。
また最近、オルトキノンジアジド化合物を用いずにポジ
テブに作用させる感光性組成物に関して、いくつかの提
案がされている。その7つとして、例えば特公昭J−A
−一6りを号の明細書に記載されているオルトニトロカ
ルビノールエステル基を有するポリマー化合物が挙げら
れる。しかし、この場合も、オルトキノンジアジドの場
合と同じ理由で感光性が十分とは言えない。また、これ
とは別に接触作用により活性化される感光系を使用し、
感光性を高める方法として、光分解で生成する酸によっ
て第コの反応を生起させ、それにより露光域を可溶化す
る公知の原理が適用されている。
このような例として、例えば光分解により酸を発生する
化合物と、アセタール又はO,N−アセタール化合物と
の組合せ(特開昭弘r−ryo。
3号)、オルトエステル又はアミドアセタール化合物と
の組合せ(特開昭j1−/207/≠号)、主鎖にアセ
タール又はケタール基を有するポリマーとの組合せ(特
開昭jJ−/JJ≠λり号)、エノールエーテル化合物
との組合せ(特開昭!よ一/2タタ!号)、N−アシル
イミノ炭酸化合物との組合せ(特開昭!j−/2tコ3
を号)、主鎖にオルトエステル基を有するポリマーとの
組合せ(%開昭14−/73≠!号)、及びシリルエー
テル化合物との組合せ(特開昭6O−37j4cり号)
などを挙げることができる。これらは原理的に量子収率
が/を越える為、高い感光性を示す可能性があるが、ア
セタール又は0、N−アセタール化合物の場合、及び主
鎖にアセタール又はケタール基を有するポリマーの場合
、光分解で生成する酸による第2の反応の速度が遅い為
、実際の使用に十分な感光性を示さない。ま九オルトエ
ステル又はアミドアセタール化合物の場合及び、エノー
ルエーテル化合物の場合、更にN−7シルイミノ炭酸化
合物の場合は確かに高い感光性を示すが、経時での安定
が悪く、長期に保存することができない。主鎖にオルト
エステル基を有する/ IJママ−場合も、同じく高感
度ではあるが、現像時の現像許容性が狭いという欠点を
有する。
シリルエーテル化合物の場合は、上記の化合物に比べ高
感度かつ経時安定性に優れているが、高感度刷版等に応
用するには感度、及び現像時の現像許容性がいまだ十分
とは言えない。
「発明が解決しようとする問題点」 本研究の目的は、これらの問題点が解決された新規な光
可溶化組成物を提供することである。即ち高い感光性を
有し、現像時の現像許容性が広い新規な光可溶化組成物
を提供することである。
本研究の別の目的は、経時での安定性が優れ長規に保存
が可能な新規な光可溶化組成物を提供することである。
本研究の更に別の目的は、製造が簡便で容易に取得でき
る新規な光可゛溶化組成物を提供することである。
[問題点を解決するための手段」 本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意検討を加えた結
果新規な光可溶性化合物を用いることで前記目的が達成
されることを見い出し本発明に到達した。
即ち本発明は、活性光線の照射により酸を発生し得る部
分構造と、下記一般式(I)で示される部分構造(シリ
ルエーテル基)とをそれぞれ少なくとも1個有し、現像
液中でのその溶解度が酸の作用により増大する化合物を
含有する光可溶化組成物である。
好ましくは、活性光線の照射により酸を発生する部分構
造は、トリハロメチル基が置換した8−トリアジン単位
又はトリハロメチル基が置換したオキサジアゾール単位
を有するものであることを特徴とする。
また一般式(I)で示される部分構造は、好ましくけ下
記一般式(I[)、(■)、又は(Ill/)で示され
るシリルエーテル基であることを%徴とする。
式中、R1、R2、R3、R′2、R6は同一でも相異
していてもよく、それぞれ水素原子、アルキル、アルケ
ニル、置換基を有していてもよいアリールもしくはアラ
ルキル、−0R5又は活性光線の照射により酸を発生す
る部分構造を示す。好ましくは炭素数ノル弘偶のアルキ
ル、又は−0R5を示す。R4は置換基を有していても
よい2価の脂肪族又は芳香族炭化水素を示す。R5は置
換基を有していてもよいアルキル、アリールもしくはア
ラルキル基、又は活性光線の照射で酸を発生する部分構
造を示す。好ましくは炭素数/〜r個のアルキル、炭素
数A−/j個のアリール基、もしくは活性光線の照射で
酸を発生する部分構造を示す。
本発明のシリルエーテル化合物の具体例としては次に示
すものが含まれる。
更               妻       叶
磯        T −d 礪甲 工 Q 甲 ′4′4 工 )          十       )礪    
          磯 本発明におけるシリルエーテル化合物の分子量は重量平
均で好ましくは200以上、更に好ましくはコo o 
o−λoooooである。
本発明におけるシリルエーテル化合物のシリルエーテル
結合と活性光線の照射により酸を発生し得る部分構造の
比率は、好ましくはモル比で/:j〜/:0,00/、
さらに好ましくはl:l〜/:0.0/である。
本発明のシリルエーテル化合物は単独で光可溶性化合物
として使用することができるが、アルカリ可溶性樹脂と
混合して用いた方が好ましい。好適カアルカリ可溶性樹
脂には、ノボラック型フェノール樹脂が含まれ、具体的
には、フェノールホルムアルデヒドm脂、o−クレゾー
ルホルムアルデヒド樹脂、m・−クレゾールホルムアル
デヒド樹脂などが含まれる。更に特開昭!0−/2j1
F06号公報に記されている様に上記のようなフェノー
ル樹脂と共に、t−ブチルフェノールホルムアルデヒド
樹脂のような炭素数3〜rのアルキル基で置換されたフ
ェノールまたはクレゾールとホルムアルデヒドとの縮合
物とを併用すると、一層好ましい。アルカリ可溶性樹脂
は、感光性レジスト形成性組成物の全重量を基準として
約4LO〜約り0重を係、よシ好ましくはto−to重
重量金含有せられる。
本発明の光可溶性組成物には必要に応じて、更に染料、
顔料、可塑剤及び前記酸を発生し得る化合物の酸発生効
率を増大させる化合物(所謂増感剤)などを含有させる
ことができる。好適な染料としては油溶性染料及び塩基
性染料がある。具体的には、オイルイエロー$/ 0 
/、オイルイエロー@/30.オイルピンク#3ノ2、
オイルグリーンBG、オイルブルーBO8,オイルブル
ー#tOJ、オイルブラックBY、オイルブラックBS
、オイルブラック’1’−rot (以上、オリエント
化学工業株式会社製)クリスタルバイオレット((I≠
λj!り、メチルバイオレット((I4t2131)、
ローダミンB((I4tj/70B)、マラカイトグリ
ーン((I≠2000)、メチレンブルー((IjコO
7よ)などをあげることができる。
本発明の光可溶性組成物は、上記各成分を溶解する溶媒
に溶かして支持体上に塗布する。ここで使用する溶媒と
しては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メ
チルエチルケトン、エチレンクリコールモノメチルエー
テル、エチレングリフールモノエチルエーテル、2−メ
トキシエチルアセテート、トルエン、酢酸エチルなどが
あり、これらの溶媒を単独あるいは混合して使用する。
そして上記成分中の濃度(添加物を含む全固形分)は、
λ〜!O重量係である。このうち、本発明の組成の好ま
しい濃度(固形分)は0./−2重重量係である。また
、塗布量は用途により異なるが、例えば感光性平版印刷
版についていえば一般的に固形分として0.7〜J、0
97m2が好ましい。
塗布量が少くなるにつれ感光性は大になるが、感・光膜
の物性は低下する。
本発明の光可溶性組成物を用いて平版印刷版を製造する
場合、その支持体としては、親水化処理したアルミニウ
ム板、たとえばシリケート処理アルミニウム板、陽極酸
化アルミニウム板、砂目立てしたアルミニウム板、シリ
ケート電着したアルミニウム板があり、その他亜鉛板、
ステンレス板、クローム処理鋼板、親水化処理したプラ
スチックフィルムや紙を上げることができる。
また印刷用校正版、オーバーヘッドプロジェクタ−用フ
ィルム第2原図用フィルムの製造に適する支持体として
はポリエチレンテレフタレートフィルム、トリアセテー
トフィルム等の透明フィルムや、これらのプラスチック
フィルムの表面を化学的あるいは物理的にマット化した
ものをあげることが出来る。ホトマスク用フィルムの製
造に適する支持体としてはアルミニウム、アルミニウム
合金やクロムを蒸着させたポリエチレンテレフタレート
フィルムや着色層をもうけたポリエチレンテレフタレー
トフィルムをあげることが出来る。
またホトレジストとして上記以外の種々の支持体、例え
ば銅板、銅メツキ板、ガラス板上に本発明の光可溶性組
成物を塗布して使用される。
本発明に用いられる活性光線の光源としては例えば、水
銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカ
ルランプ、カーボンアーク灯などがある。また高密度エ
ネルギービーム(レーザービーム又は電子線)による走
査露光も本発明に使用することができる。このようなレ
ーザービームトシてはヘリウム・ネオンレーザ−、アル
ゴンレーザー、クリプトンイオンレーザ−、ヘリウム・
カドミウムレーザーなどが挙げられる。
本発明の光可溶性組成物にたいする現像液としては、珪
酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、
第ニリン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第ニ
リン酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナト
リウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤の水
溶液が適轟であり、それらの濃度が0.7〜10重量係
、好ましくは0.2〜!重量係になるように添加される
また、該アルカリ性水溶液には、必要に応じ界面活性剤
やアルコールなどのような有機溶媒を加えることもでき
る。
「実施例」 以下、本発明を合成例、実施例により更に詳細に説明す
るが、本発明の内容がこれによう限定されるものではな
い。
合成例/(化合物例&2の合成) 下記に示す化合物(V)A、//f (0,0200m
ot)とピリジメタ、よ79(0,/コ/mot)をメ
チルエチルケトン!04に溶解し、これをメチルトリク
ロロシランj、2Pfi! (0,0220mol)の
メチルエチルケトン(20ml )溶液に攪拌しながら
室温下、滴下ロートにて7時間を要して添加した。添加
後、油浴上jo0cにて2時間攪拌を続けた。これを室
温にもどし、ジメチルジクロロシランλ、!r≠?(0
,0220mot)を加え、さらに攪拌しなからp−キ
シリレングリコールt、j3? (0,04LoOmo
L)のメチルエチルケトン(コomi)溶液を滴下ロー
トによ#)30分間を要して添加した。添加後よ0°C
にて3時間攪拌を続けた。生成した白色の塩(ピリジン
の塩酸塩)をP別し、P液を3優重炭酸ナトリウム水溶
液looml、ついで飽和食塩水IOθ−で洗浄した。
これを無水硫酸ナトリウムで転化合物(V) 燥した後、減圧下、溶媒を留去すると淡黄色粘稠固体が
得られた。収量10.2g!。重量平均分子量Mw=J
−600())’ルバーミエーションクロマトグラフィ
ー(GPC)、ポリスチレン標準)。
合成例2(化合物例洗/μの合成) 下記に示す化合物(■)/弘、j? (0,OJOOm
ot)とm−キシリレングリコール2.679 (0,
0700moL)及びピリジン/7.弘2(0,−22
0moL)をメチルエチルケトン200−に溶解し攪拌
しながら、これにジメチルジクロロシラン/2.2f 
(O,/ OOmot)のトルエン20rttl溶液を
室温下、滴下ロートよりio外分間要して添加した。添
加後、油浴上jo’cにて3時間攪拌を続けた。生成し
た白色の塩(ピリジンの塩酸塩)をP別して、F液を3
憾重炭酸ナトリウム水溶液、toorn11ついで飽和
食塩水200プで洗浄した。これを無水硫酸ナトリウム
で乾燥した後、減圧下、溶媒を留去すると、無色粘稠液
体が得られた。収量λt、oり。重量平均分子量mw=
trooo (GPC,ポリスチレン標準)。
化合物(VI) 実施例1 厚さ0.2≠nのλSアルミニウム板をrooCに保っ
た第3燐酸ナトリウムのios水溶液に3分間浸漬して
脱脂し、ナイロンブラシで砂目立てした後アルミン酸ナ
トリウムで約70秒間エツチングして、硫酸水素ナトリ
ウム3係水溶液でデスマット処理を行った。このアルミ
ニウム板を20チ硫酸中で電流密度コA/dm2におい
てλ分間陽極酸化を行いアルミニウム板を作製した。
次に下記感光液(A)の本発明の化合物の種類を変えて
3徨類の感光液CA)−/〜CA)−Jを調整し、この
感光液を陽極酸化されたアルミニウム板の上に塗布し、
1oo0cで2分間乾燥して、それぞれの感光性平版印
刷版(A) −/〜(A)−−?を作製した。このとき
の塗布量は全て乾燥重量で/、397m2であった。
また、感光液[:A)−/〜〔A)−3に用いた本発明
の化合物は第1表に示す。
感光液〔A) 本発明の化合物         Q、≠orクレゾー
ルーホルムアルデヒド ノボラック樹脂          /、 Ofオイル
ブルー#603 (オリエント化学工業■製)   0,0/fエチレン
ジクロリド          10?メチルセロソル
ブ          ioy次に比較例として下記の
感光液CB)および〔C〕を感光液〔A〕と同様に塗布
し、感光性平版印刷版〔B〕、および(C)を作製した
感光液CB) フェノール−ホルムアルデヒ ドノボラック樹脂と/、2 一ナフトキノンー2−ジア ジド−よ一スルホニルクロ リドとの縮合生成物      O1μ!1クレゾール
−ホルムアルデヒ ドノボラック樹脂         7.0?/、2−
ナフトキノン−λ− ジアジド−弘−スルホニル クロリド           0.029オイルブル
ー#l、03 (オリエント化学工業■製)   0.0/lエチレン
ジクロリド         ioyメチルセロソルブ
           10f?感光液(C) 下記(■)式で示されるシリ ルエーテル化合物       0.319クレゾール
ホルムアルデヒド ノボラック樹脂         /、 09λ−(≠
−メトキシフェニル) 一μ、t−ビストリクロロメ チル−8−)リアジン     0.01fオイルブル
ー#603 (オリエント化学工業■製)   0.0/fエチレン
ジクロリド          IO?メチルセルソル
ブ          10f?重量平均分子量pw=
rooo (GPC,ポリスチレン標準)。
乾燥後の塗布重量は〔B〕、〔C〕いずれも八jr/m
2であった。感光性平版印刷版CA)−/〜(A)−−
?、〔B〕および〔C〕の感光層上に濃度差O0/!の
グレースケールを密着させ、30アンはアのカーボンア
ーク灯で7θ画の距離から露光を行った。
本発明の優れた感光性を示す為に露光された感光性平版
印刷版〔人)−/〜l:A)−J、〔B〕および(C”
lをDP−JB(商品名:富士写真フィルム■製)の7
.2倍希釈水溶液で2j’Cにおいてto秒間浸漬現像
し、濃度差0./Jのグレースケールで!段目が完全く
クリアーとなる露光時間を求めたところ第7表に示すと
おシとなった。
第1表 第1表かられかるように本発明の化合物を用いた感光性
平版印刷版(A)−/〜(A〕−jはいずれも〔B〕、
〔C〕よシ露光時間が少なく、感度が高い。
なお第1表における本発明の化合物&2、!、/≠o分
子iはゲルパーミェーションクロマトクラフィーポリス
チレン標準でいずれも1300〜roooであった。
実施例λ 実施例1の感光液[A:]−/〜3を用い、実施例/と
同様にして感光性平版印刷版[A)−/〜3を作製した
。塗布量はすべて乾燥重量で/、127m2であった。
次に比較例として実施例/の感光液〔B〕および感光液
〔C〕を感光液[A)と同様に塗布し、感光性平版印刷
版〔B〕、〔C〕を作製した。乾燥後の塗布重量は各々
/、jf/m2であった。
現像許容性を見る為、感光性平版印刷版[A]−/〜3
、〔B〕及びEC)の感光層上に濃度差O0/!のグレ
ースケールを密着させ307ンはアのカーボンアーク灯
で70cmの距離から30秒間露光を行った。露光され
た感光性平版印刷版(A)−/〜3、CB)及び〔C〕
を実施例/と同じ現像液にてλr ’Cでぶ0秒間及び
3分間浸漬現像した。濃度差o、irのグレースケール
で60秒間及び3分間現像における完全にクリアーとな
る段数の差を求めたところ第2表に示すとおりとなった
第2表かられかるように本発明の化合物を用いた感光性
平版印刷版[:A)−/〜3はいずれも、クリア一部の
グレースケール段数変化が小さく、現像許容性が大きく
優れたものであった。すなわちシリルエーテル基を有す
る化合物と光照射により酸を発生する化合物を別々に用
いたCC”lより本発明の化合物を用いたCAB−/〜
3の方が優れている。
特許出願人  富士写真フィルム株式会社1、事件の表
示    昭和10年特願第17roto号20発明の
名称    先回溶化組成物3、補正をする者 事件との関係       特許出願人連絡先 〒10
6東京都港区西麻布2丁目26番30号未 補正の対象
  明細書の「発明の詳細な説明」の欄 & 補正の内容 明細書の「発明の詳細な説明」の項の記載を下記の通シ
補正する。
l)第1頁l!行目の 「元化合物」を 「感光性化合物」 と補正する。
−)第コλ頁12行目の 「O0μozを 「0.11」 と補正する。
3)第23頁lり行目の f−0,JJfJを 「o、aot」 と補正する。
−′々0武

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 活性光線の照射により酸を発生し得る部分構造と、下記
    一般式( I )で示される部分構造とをそれぞれ少なく
    とも1個有し、現像液中でのその溶解度が酸の作用によ
    り増大する化合物を含有する光可溶化組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I )
JP17805085A 1985-08-13 1985-08-13 光可溶化組成物 Pending JPS6238450A (ja)

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JP17805085A JPS6238450A (ja) 1985-08-13 1985-08-13 光可溶化組成物

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JP17805085A JPS6238450A (ja) 1985-08-13 1985-08-13 光可溶化組成物

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