JPS6238450A - 光可溶化組成物 - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 21
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 22
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 28
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 7
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 abstract description 12
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 abstract description 12
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical group [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 125000004953 trihalomethyl group Chemical group 0.000 abstract description 4
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical group C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract 3
- JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine Chemical group C1=NC=NC=N1 JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 abstract 1
- -1 Orthoquinone diazide compounds Chemical class 0.000 description 18
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 11
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 10
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 4
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- AOJFQRQNPXYVLM-UHFFFAOYSA-N pyridin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=[NH+]C=C1 AOJFQRQNPXYVLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZRYCRPNCXLQHPN-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-2-methylbenzaldehyde Chemical compound CC1=C(O)C=CC=C1C=O ZRYCRPNCXLQHPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 2
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;phenol Chemical compound O=C.OC1=CC=CC=C1 SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002092 orthoester group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002905 orthoesters Chemical class 0.000 description 2
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- 238000006862 quantum yield reaction Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- WOAHJDHKFWSLKE-UHFFFAOYSA-N 1,2-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC=CC1=O WOAHJDHKFWSLKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 1,2-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C=CC2=C1 KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRUOTKQBVMWMDK-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-6-methylbenzaldehyde Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1C=O ZRUOTKQBVMWMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBBOQIHGWMYDPM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylphenol;formaldehyde Chemical compound O=C.CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O LBBOQIHGWMYDPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 241000238413 Octopus Species 0.000 description 1
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWMLORGQOFONNT-UHFFFAOYSA-N [3-(hydroxymethyl)phenyl]methanol Chemical compound OCC1=CC=CC(CO)=C1 YWMLORGQOFONNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWVAOONFBYYRHY-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)phenyl]methanol Chemical compound OCC1=CC=C(CO)C=C1 BWVAOONFBYYRHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N aluminum;sodium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Na+].[Al+3] ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910000148 ammonium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- ZRIUUUJAJJNDSS-UHFFFAOYSA-N ammonium phosphates Chemical compound [NH4+].[NH4+].[NH4+].[O-]P([O-])([O-])=O ZRIUUUJAJJNDSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000000981 basic dye Substances 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M crystal violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1[C+](C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FHIVAFMUCKRCQO-UHFFFAOYSA-N diazinon Chemical compound CCOP(=S)(OCC)OC1=CC(C)=NC(C(C)C)=N1 FHIVAFMUCKRCQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;2-methylphenol Chemical compound O=C.CC1=CC=CC=C1O VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N helium neon Chemical compound [He].[Ne] CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M malachite green Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940107698 malachite green Drugs 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010680 novolac-type phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical group 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043267 rhodamine b Drugs 0.000 description 1
- 229910001388 sodium aluminate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- WBHQBSYUUJJSRZ-UHFFFAOYSA-M sodium bisulfate Chemical compound [Na+].OS([O-])(=O)=O WBHQBSYUUJJSRZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000342 sodium bisulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J sodium diphosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 230000003381 solubilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- VKFFEYLSKIYTSJ-UHFFFAOYSA-N tetraazanium;phosphonato phosphate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[NH4+].[NH4+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O VKFFEYLSKIYTSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N triacetic acid Chemical compound CC(=O)CC(=O)CC(O)=O ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000406 trisodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019801 trisodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0755—Non-macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/72—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0757—Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明は、同一分子内に活性光線の照射により酸を発生
し得る部分構造、及び酸によ部分解し得るシリルエーテ
ル基をそれぞれ少なくとも1個有する新規な元化合物を
含有した平版印刷版、多色印刷の校正刷、オーバヘッド
プロジェクタ−用図面、IC回路、ホトマスクの製造に
適する光可溶化組成物に関する。
し得る部分構造、及び酸によ部分解し得るシリルエーテ
ル基をそれぞれ少なくとも1個有する新規な元化合物を
含有した平版印刷版、多色印刷の校正刷、オーバヘッド
プロジェクタ−用図面、IC回路、ホトマスクの製造に
適する光可溶化組成物に関する。
「従来の技術」
活性光線により可溶化する、いわゆるボジチブに作用す
る感光性物質としては、従来オルトキノンジアジド化合
物が知られており、実際平版印刷版、ホトレジスト等に
広く利用されてきた。このようなオルトキノンジアジド
化合物としては、例えば米国特許第2,7Aj、111
号、同第2゜747.0タコ号、同第−,772,27
2号、同第2.rjり、112号、同第λ、り07.t
At号、同第J、0174./10号、同第j、 01
A&、111号、同第J、0176.111号、同第J
、oat、iir号、同第j、O1t&、//り号、同
第3,04A6,120号、同第3.o44、/λ1号
、同第j、04At、/22号、同第J、0444./
2J号、同第J、oti、tt3゜号、同第j、102
,10り号、同第j、106゜4Aぶ1号、同第j、4
31,709号、同第3゜6μ7.≠4/−3号゛の各
明細書をはじめ、多数の刊行物に記されている。
る感光性物質としては、従来オルトキノンジアジド化合
物が知られており、実際平版印刷版、ホトレジスト等に
広く利用されてきた。このようなオルトキノンジアジド
化合物としては、例えば米国特許第2,7Aj、111
号、同第2゜747.0タコ号、同第−,772,27
2号、同第2.rjり、112号、同第λ、り07.t
At号、同第J、0174./10号、同第j、 01
A&、111号、同第J、0176.111号、同第J
、oat、iir号、同第j、O1t&、//り号、同
第3,04A6,120号、同第3.o44、/λ1号
、同第j、04At、/22号、同第J、0444./
2J号、同第J、oti、tt3゜号、同第j、102
,10り号、同第j、106゜4Aぶ1号、同第j、4
31,709号、同第3゜6μ7.≠4/−3号゛の各
明細書をはじめ、多数の刊行物に記されている。
これらのオルトキノンジアジド化合物は、活性光線の照
射により分解を起こしてj員環のカルボン酸を生じ、ア
ルカリ可溶性となることを利用したものであるが、いず
れも感光性が不十分であるという欠点を有する。これは
、オルトキノンジアジド化合物の場合、本質的に量子収
率がlを越えない□ということに由来するものである。
射により分解を起こしてj員環のカルボン酸を生じ、ア
ルカリ可溶性となることを利用したものであるが、いず
れも感光性が不十分であるという欠点を有する。これは
、オルトキノンジアジド化合物の場合、本質的に量子収
率がlを越えない□ということに由来するものである。
オルトキノンジアジド化合物を含む感光性組成物の感光
性を高める方法については、今までいろいろと試みられ
てきたが、現像時の現像許容性を保持したtま感光性を
高めることは非常に困難であった。例えば、このような
試みの例として、特公昭≠!−/コトー号、特開昭!−
−φ012!号、米国特許第≠、307./73号など
の明細書に記載された内容を挙げることができる。
性を高める方法については、今までいろいろと試みられ
てきたが、現像時の現像許容性を保持したtま感光性を
高めることは非常に困難であった。例えば、このような
試みの例として、特公昭≠!−/コトー号、特開昭!−
−φ012!号、米国特許第≠、307./73号など
の明細書に記載された内容を挙げることができる。
また最近、オルトキノンジアジド化合物を用いずにポジ
テブに作用させる感光性組成物に関して、いくつかの提
案がされている。その7つとして、例えば特公昭J−A
−一6りを号の明細書に記載されているオルトニトロカ
ルビノールエステル基を有するポリマー化合物が挙げら
れる。しかし、この場合も、オルトキノンジアジドの場
合と同じ理由で感光性が十分とは言えない。また、これ
とは別に接触作用により活性化される感光系を使用し、
感光性を高める方法として、光分解で生成する酸によっ
て第コの反応を生起させ、それにより露光域を可溶化す
る公知の原理が適用されている。
テブに作用させる感光性組成物に関して、いくつかの提
案がされている。その7つとして、例えば特公昭J−A
−一6りを号の明細書に記載されているオルトニトロカ
ルビノールエステル基を有するポリマー化合物が挙げら
れる。しかし、この場合も、オルトキノンジアジドの場
合と同じ理由で感光性が十分とは言えない。また、これ
とは別に接触作用により活性化される感光系を使用し、
感光性を高める方法として、光分解で生成する酸によっ
て第コの反応を生起させ、それにより露光域を可溶化す
る公知の原理が適用されている。
このような例として、例えば光分解により酸を発生する
化合物と、アセタール又はO,N−アセタール化合物と
の組合せ(特開昭弘r−ryo。
化合物と、アセタール又はO,N−アセタール化合物と
の組合せ(特開昭弘r−ryo。
3号)、オルトエステル又はアミドアセタール化合物と
の組合せ(特開昭j1−/207/≠号)、主鎖にアセ
タール又はケタール基を有するポリマーとの組合せ(特
開昭jJ−/JJ≠λり号)、エノールエーテル化合物
との組合せ(特開昭!よ一/2タタ!号)、N−アシル
イミノ炭酸化合物との組合せ(特開昭!j−/2tコ3
を号)、主鎖にオルトエステル基を有するポリマーとの
組合せ(%開昭14−/73≠!号)、及びシリルエー
テル化合物との組合せ(特開昭6O−37j4cり号)
などを挙げることができる。これらは原理的に量子収率
が/を越える為、高い感光性を示す可能性があるが、ア
セタール又は0、N−アセタール化合物の場合、及び主
鎖にアセタール又はケタール基を有するポリマーの場合
、光分解で生成する酸による第2の反応の速度が遅い為
、実際の使用に十分な感光性を示さない。ま九オルトエ
ステル又はアミドアセタール化合物の場合及び、エノー
ルエーテル化合物の場合、更にN−7シルイミノ炭酸化
合物の場合は確かに高い感光性を示すが、経時での安定
が悪く、長期に保存することができない。主鎖にオルト
エステル基を有する/ IJママ−場合も、同じく高感
度ではあるが、現像時の現像許容性が狭いという欠点を
有する。
の組合せ(特開昭j1−/207/≠号)、主鎖にアセ
タール又はケタール基を有するポリマーとの組合せ(特
開昭jJ−/JJ≠λり号)、エノールエーテル化合物
との組合せ(特開昭!よ一/2タタ!号)、N−アシル
イミノ炭酸化合物との組合せ(特開昭!j−/2tコ3
を号)、主鎖にオルトエステル基を有するポリマーとの
組合せ(%開昭14−/73≠!号)、及びシリルエー
テル化合物との組合せ(特開昭6O−37j4cり号)
などを挙げることができる。これらは原理的に量子収率
が/を越える為、高い感光性を示す可能性があるが、ア
セタール又は0、N−アセタール化合物の場合、及び主
鎖にアセタール又はケタール基を有するポリマーの場合
、光分解で生成する酸による第2の反応の速度が遅い為
、実際の使用に十分な感光性を示さない。ま九オルトエ
ステル又はアミドアセタール化合物の場合及び、エノー
ルエーテル化合物の場合、更にN−7シルイミノ炭酸化
合物の場合は確かに高い感光性を示すが、経時での安定
が悪く、長期に保存することができない。主鎖にオルト
エステル基を有する/ IJママ−場合も、同じく高感
度ではあるが、現像時の現像許容性が狭いという欠点を
有する。
シリルエーテル化合物の場合は、上記の化合物に比べ高
感度かつ経時安定性に優れているが、高感度刷版等に応
用するには感度、及び現像時の現像許容性がいまだ十分
とは言えない。
感度かつ経時安定性に優れているが、高感度刷版等に応
用するには感度、及び現像時の現像許容性がいまだ十分
とは言えない。
「発明が解決しようとする問題点」
本研究の目的は、これらの問題点が解決された新規な光
可溶化組成物を提供することである。即ち高い感光性を
有し、現像時の現像許容性が広い新規な光可溶化組成物
を提供することである。
可溶化組成物を提供することである。即ち高い感光性を
有し、現像時の現像許容性が広い新規な光可溶化組成物
を提供することである。
本研究の別の目的は、経時での安定性が優れ長規に保存
が可能な新規な光可溶化組成物を提供することである。
が可能な新規な光可溶化組成物を提供することである。
本研究の更に別の目的は、製造が簡便で容易に取得でき
る新規な光可゛溶化組成物を提供することである。
る新規な光可゛溶化組成物を提供することである。
[問題点を解決するための手段」
本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意検討を加えた結
果新規な光可溶性化合物を用いることで前記目的が達成
されることを見い出し本発明に到達した。
果新規な光可溶性化合物を用いることで前記目的が達成
されることを見い出し本発明に到達した。
即ち本発明は、活性光線の照射により酸を発生し得る部
分構造と、下記一般式(I)で示される部分構造(シリ
ルエーテル基)とをそれぞれ少なくとも1個有し、現像
液中でのその溶解度が酸の作用により増大する化合物を
含有する光可溶化組成物である。
分構造と、下記一般式(I)で示される部分構造(シリ
ルエーテル基)とをそれぞれ少なくとも1個有し、現像
液中でのその溶解度が酸の作用により増大する化合物を
含有する光可溶化組成物である。
好ましくは、活性光線の照射により酸を発生する部分構
造は、トリハロメチル基が置換した8−トリアジン単位
又はトリハロメチル基が置換したオキサジアゾール単位
を有するものであることを特徴とする。
造は、トリハロメチル基が置換した8−トリアジン単位
又はトリハロメチル基が置換したオキサジアゾール単位
を有するものであることを特徴とする。
また一般式(I)で示される部分構造は、好ましくけ下
記一般式(I[)、(■)、又は(Ill/)で示され
るシリルエーテル基であることを%徴とする。
記一般式(I[)、(■)、又は(Ill/)で示され
るシリルエーテル基であることを%徴とする。
式中、R1、R2、R3、R′2、R6は同一でも相異
していてもよく、それぞれ水素原子、アルキル、アルケ
ニル、置換基を有していてもよいアリールもしくはアラ
ルキル、−0R5又は活性光線の照射により酸を発生す
る部分構造を示す。好ましくは炭素数ノル弘偶のアルキ
ル、又は−0R5を示す。R4は置換基を有していても
よい2価の脂肪族又は芳香族炭化水素を示す。R5は置
換基を有していてもよいアルキル、アリールもしくはア
ラルキル基、又は活性光線の照射で酸を発生する部分構
造を示す。好ましくは炭素数/〜r個のアルキル、炭素
数A−/j個のアリール基、もしくは活性光線の照射で
酸を発生する部分構造を示す。
していてもよく、それぞれ水素原子、アルキル、アルケ
ニル、置換基を有していてもよいアリールもしくはアラ
ルキル、−0R5又は活性光線の照射により酸を発生す
る部分構造を示す。好ましくは炭素数ノル弘偶のアルキ
ル、又は−0R5を示す。R4は置換基を有していても
よい2価の脂肪族又は芳香族炭化水素を示す。R5は置
換基を有していてもよいアルキル、アリールもしくはア
ラルキル基、又は活性光線の照射で酸を発生する部分構
造を示す。好ましくは炭素数/〜r個のアルキル、炭素
数A−/j個のアリール基、もしくは活性光線の照射で
酸を発生する部分構造を示す。
本発明のシリルエーテル化合物の具体例としては次に示
すものが含まれる。
すものが含まれる。
更 妻 叶
磯 T −d 礪甲 工 Q 甲 ′4′4 工 ) 十 )礪
磯 本発明におけるシリルエーテル化合物の分子量は重量平
均で好ましくは200以上、更に好ましくはコo o
o−λoooooである。
磯 T −d 礪甲 工 Q 甲 ′4′4 工 ) 十 )礪
磯 本発明におけるシリルエーテル化合物の分子量は重量平
均で好ましくは200以上、更に好ましくはコo o
o−λoooooである。
本発明におけるシリルエーテル化合物のシリルエーテル
結合と活性光線の照射により酸を発生し得る部分構造の
比率は、好ましくはモル比で/:j〜/:0,00/、
さらに好ましくはl:l〜/:0.0/である。
結合と活性光線の照射により酸を発生し得る部分構造の
比率は、好ましくはモル比で/:j〜/:0,00/、
さらに好ましくはl:l〜/:0.0/である。
本発明のシリルエーテル化合物は単独で光可溶性化合物
として使用することができるが、アルカリ可溶性樹脂と
混合して用いた方が好ましい。好適カアルカリ可溶性樹
脂には、ノボラック型フェノール樹脂が含まれ、具体的
には、フェノールホルムアルデヒドm脂、o−クレゾー
ルホルムアルデヒド樹脂、m・−クレゾールホルムアル
デヒド樹脂などが含まれる。更に特開昭!0−/2j1
F06号公報に記されている様に上記のようなフェノー
ル樹脂と共に、t−ブチルフェノールホルムアルデヒド
樹脂のような炭素数3〜rのアルキル基で置換されたフ
ェノールまたはクレゾールとホルムアルデヒドとの縮合
物とを併用すると、一層好ましい。アルカリ可溶性樹脂
は、感光性レジスト形成性組成物の全重量を基準として
約4LO〜約り0重を係、よシ好ましくはto−to重
重量金含有せられる。
として使用することができるが、アルカリ可溶性樹脂と
混合して用いた方が好ましい。好適カアルカリ可溶性樹
脂には、ノボラック型フェノール樹脂が含まれ、具体的
には、フェノールホルムアルデヒドm脂、o−クレゾー
ルホルムアルデヒド樹脂、m・−クレゾールホルムアル
デヒド樹脂などが含まれる。更に特開昭!0−/2j1
F06号公報に記されている様に上記のようなフェノー
ル樹脂と共に、t−ブチルフェノールホルムアルデヒド
樹脂のような炭素数3〜rのアルキル基で置換されたフ
ェノールまたはクレゾールとホルムアルデヒドとの縮合
物とを併用すると、一層好ましい。アルカリ可溶性樹脂
は、感光性レジスト形成性組成物の全重量を基準として
約4LO〜約り0重を係、よシ好ましくはto−to重
重量金含有せられる。
本発明の光可溶性組成物には必要に応じて、更に染料、
顔料、可塑剤及び前記酸を発生し得る化合物の酸発生効
率を増大させる化合物(所謂増感剤)などを含有させる
ことができる。好適な染料としては油溶性染料及び塩基
性染料がある。具体的には、オイルイエロー$/ 0
/、オイルイエロー@/30.オイルピンク#3ノ2、
オイルグリーンBG、オイルブルーBO8,オイルブル
ー#tOJ、オイルブラックBY、オイルブラックBS
、オイルブラック’1’−rot (以上、オリエント
化学工業株式会社製)クリスタルバイオレット((I≠
λj!り、メチルバイオレット((I4t2131)、
ローダミンB((I4tj/70B)、マラカイトグリ
ーン((I≠2000)、メチレンブルー((IjコO
7よ)などをあげることができる。
顔料、可塑剤及び前記酸を発生し得る化合物の酸発生効
率を増大させる化合物(所謂増感剤)などを含有させる
ことができる。好適な染料としては油溶性染料及び塩基
性染料がある。具体的には、オイルイエロー$/ 0
/、オイルイエロー@/30.オイルピンク#3ノ2、
オイルグリーンBG、オイルブルーBO8,オイルブル
ー#tOJ、オイルブラックBY、オイルブラックBS
、オイルブラック’1’−rot (以上、オリエント
化学工業株式会社製)クリスタルバイオレット((I≠
λj!り、メチルバイオレット((I4t2131)、
ローダミンB((I4tj/70B)、マラカイトグリ
ーン((I≠2000)、メチレンブルー((IjコO
7よ)などをあげることができる。
本発明の光可溶性組成物は、上記各成分を溶解する溶媒
に溶かして支持体上に塗布する。ここで使用する溶媒と
しては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メ
チルエチルケトン、エチレンクリコールモノメチルエー
テル、エチレングリフールモノエチルエーテル、2−メ
トキシエチルアセテート、トルエン、酢酸エチルなどが
あり、これらの溶媒を単独あるいは混合して使用する。
に溶かして支持体上に塗布する。ここで使用する溶媒と
しては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メ
チルエチルケトン、エチレンクリコールモノメチルエー
テル、エチレングリフールモノエチルエーテル、2−メ
トキシエチルアセテート、トルエン、酢酸エチルなどが
あり、これらの溶媒を単独あるいは混合して使用する。
そして上記成分中の濃度(添加物を含む全固形分)は、
λ〜!O重量係である。このうち、本発明の組成の好ま
しい濃度(固形分)は0./−2重重量係である。また
、塗布量は用途により異なるが、例えば感光性平版印刷
版についていえば一般的に固形分として0.7〜J、0
97m2が好ましい。
λ〜!O重量係である。このうち、本発明の組成の好ま
しい濃度(固形分)は0./−2重重量係である。また
、塗布量は用途により異なるが、例えば感光性平版印刷
版についていえば一般的に固形分として0.7〜J、0
97m2が好ましい。
塗布量が少くなるにつれ感光性は大になるが、感・光膜
の物性は低下する。
の物性は低下する。
本発明の光可溶性組成物を用いて平版印刷版を製造する
場合、その支持体としては、親水化処理したアルミニウ
ム板、たとえばシリケート処理アルミニウム板、陽極酸
化アルミニウム板、砂目立てしたアルミニウム板、シリ
ケート電着したアルミニウム板があり、その他亜鉛板、
ステンレス板、クローム処理鋼板、親水化処理したプラ
スチックフィルムや紙を上げることができる。
場合、その支持体としては、親水化処理したアルミニウ
ム板、たとえばシリケート処理アルミニウム板、陽極酸
化アルミニウム板、砂目立てしたアルミニウム板、シリ
ケート電着したアルミニウム板があり、その他亜鉛板、
ステンレス板、クローム処理鋼板、親水化処理したプラ
スチックフィルムや紙を上げることができる。
また印刷用校正版、オーバーヘッドプロジェクタ−用フ
ィルム第2原図用フィルムの製造に適する支持体として
はポリエチレンテレフタレートフィルム、トリアセテー
トフィルム等の透明フィルムや、これらのプラスチック
フィルムの表面を化学的あるいは物理的にマット化した
ものをあげることが出来る。ホトマスク用フィルムの製
造に適する支持体としてはアルミニウム、アルミニウム
合金やクロムを蒸着させたポリエチレンテレフタレート
フィルムや着色層をもうけたポリエチレンテレフタレー
トフィルムをあげることが出来る。
ィルム第2原図用フィルムの製造に適する支持体として
はポリエチレンテレフタレートフィルム、トリアセテー
トフィルム等の透明フィルムや、これらのプラスチック
フィルムの表面を化学的あるいは物理的にマット化した
ものをあげることが出来る。ホトマスク用フィルムの製
造に適する支持体としてはアルミニウム、アルミニウム
合金やクロムを蒸着させたポリエチレンテレフタレート
フィルムや着色層をもうけたポリエチレンテレフタレー
トフィルムをあげることが出来る。
またホトレジストとして上記以外の種々の支持体、例え
ば銅板、銅メツキ板、ガラス板上に本発明の光可溶性組
成物を塗布して使用される。
ば銅板、銅メツキ板、ガラス板上に本発明の光可溶性組
成物を塗布して使用される。
本発明に用いられる活性光線の光源としては例えば、水
銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカ
ルランプ、カーボンアーク灯などがある。また高密度エ
ネルギービーム(レーザービーム又は電子線)による走
査露光も本発明に使用することができる。このようなレ
ーザービームトシてはヘリウム・ネオンレーザ−、アル
ゴンレーザー、クリプトンイオンレーザ−、ヘリウム・
カドミウムレーザーなどが挙げられる。
銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカ
ルランプ、カーボンアーク灯などがある。また高密度エ
ネルギービーム(レーザービーム又は電子線)による走
査露光も本発明に使用することができる。このようなレ
ーザービームトシてはヘリウム・ネオンレーザ−、アル
ゴンレーザー、クリプトンイオンレーザ−、ヘリウム・
カドミウムレーザーなどが挙げられる。
本発明の光可溶性組成物にたいする現像液としては、珪
酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、
第ニリン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第ニ
リン酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナト
リウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤の水
溶液が適轟であり、それらの濃度が0.7〜10重量係
、好ましくは0.2〜!重量係になるように添加される
。
酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、
第ニリン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第ニ
リン酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナト
リウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤の水
溶液が適轟であり、それらの濃度が0.7〜10重量係
、好ましくは0.2〜!重量係になるように添加される
。
また、該アルカリ性水溶液には、必要に応じ界面活性剤
やアルコールなどのような有機溶媒を加えることもでき
る。
やアルコールなどのような有機溶媒を加えることもでき
る。
「実施例」
以下、本発明を合成例、実施例により更に詳細に説明す
るが、本発明の内容がこれによう限定されるものではな
い。
るが、本発明の内容がこれによう限定されるものではな
い。
合成例/(化合物例&2の合成)
下記に示す化合物(V)A、//f (0,0200m
ot)とピリジメタ、よ79(0,/コ/mot)をメ
チルエチルケトン!04に溶解し、これをメチルトリク
ロロシランj、2Pfi! (0,0220mol)の
メチルエチルケトン(20ml )溶液に攪拌しながら
室温下、滴下ロートにて7時間を要して添加した。添加
後、油浴上jo0cにて2時間攪拌を続けた。これを室
温にもどし、ジメチルジクロロシランλ、!r≠?(0
,0220mot)を加え、さらに攪拌しなからp−キ
シリレングリコールt、j3? (0,04LoOmo
L)のメチルエチルケトン(コomi)溶液を滴下ロー
トによ#)30分間を要して添加した。添加後よ0°C
にて3時間攪拌を続けた。生成した白色の塩(ピリジン
の塩酸塩)をP別し、P液を3優重炭酸ナトリウム水溶
液looml、ついで飽和食塩水IOθ−で洗浄した。
ot)とピリジメタ、よ79(0,/コ/mot)をメ
チルエチルケトン!04に溶解し、これをメチルトリク
ロロシランj、2Pfi! (0,0220mol)の
メチルエチルケトン(20ml )溶液に攪拌しながら
室温下、滴下ロートにて7時間を要して添加した。添加
後、油浴上jo0cにて2時間攪拌を続けた。これを室
温にもどし、ジメチルジクロロシランλ、!r≠?(0
,0220mot)を加え、さらに攪拌しなからp−キ
シリレングリコールt、j3? (0,04LoOmo
L)のメチルエチルケトン(コomi)溶液を滴下ロー
トによ#)30分間を要して添加した。添加後よ0°C
にて3時間攪拌を続けた。生成した白色の塩(ピリジン
の塩酸塩)をP別し、P液を3優重炭酸ナトリウム水溶
液looml、ついで飽和食塩水IOθ−で洗浄した。
これを無水硫酸ナトリウムで転化合物(V)
燥した後、減圧下、溶媒を留去すると淡黄色粘稠固体が
得られた。収量10.2g!。重量平均分子量Mw=J
−600())’ルバーミエーションクロマトグラフィ
ー(GPC)、ポリスチレン標準)。
得られた。収量10.2g!。重量平均分子量Mw=J
−600())’ルバーミエーションクロマトグラフィ
ー(GPC)、ポリスチレン標準)。
合成例2(化合物例洗/μの合成)
下記に示す化合物(■)/弘、j? (0,OJOOm
ot)とm−キシリレングリコール2.679 (0,
0700moL)及びピリジン/7.弘2(0,−22
0moL)をメチルエチルケトン200−に溶解し攪拌
しながら、これにジメチルジクロロシラン/2.2f
(O,/ OOmot)のトルエン20rttl溶液を
室温下、滴下ロートよりio外分間要して添加した。添
加後、油浴上jo’cにて3時間攪拌を続けた。生成し
た白色の塩(ピリジンの塩酸塩)をP別して、F液を3
憾重炭酸ナトリウム水溶液、toorn11ついで飽和
食塩水200プで洗浄した。これを無水硫酸ナトリウム
で乾燥した後、減圧下、溶媒を留去すると、無色粘稠液
体が得られた。収量λt、oり。重量平均分子量mw=
trooo (GPC,ポリスチレン標準)。
ot)とm−キシリレングリコール2.679 (0,
0700moL)及びピリジン/7.弘2(0,−22
0moL)をメチルエチルケトン200−に溶解し攪拌
しながら、これにジメチルジクロロシラン/2.2f
(O,/ OOmot)のトルエン20rttl溶液を
室温下、滴下ロートよりio外分間要して添加した。添
加後、油浴上jo’cにて3時間攪拌を続けた。生成し
た白色の塩(ピリジンの塩酸塩)をP別して、F液を3
憾重炭酸ナトリウム水溶液、toorn11ついで飽和
食塩水200プで洗浄した。これを無水硫酸ナトリウム
で乾燥した後、減圧下、溶媒を留去すると、無色粘稠液
体が得られた。収量λt、oり。重量平均分子量mw=
trooo (GPC,ポリスチレン標準)。
化合物(VI)
実施例1
厚さ0.2≠nのλSアルミニウム板をrooCに保っ
た第3燐酸ナトリウムのios水溶液に3分間浸漬して
脱脂し、ナイロンブラシで砂目立てした後アルミン酸ナ
トリウムで約70秒間エツチングして、硫酸水素ナトリ
ウム3係水溶液でデスマット処理を行った。このアルミ
ニウム板を20チ硫酸中で電流密度コA/dm2におい
てλ分間陽極酸化を行いアルミニウム板を作製した。
た第3燐酸ナトリウムのios水溶液に3分間浸漬して
脱脂し、ナイロンブラシで砂目立てした後アルミン酸ナ
トリウムで約70秒間エツチングして、硫酸水素ナトリ
ウム3係水溶液でデスマット処理を行った。このアルミ
ニウム板を20チ硫酸中で電流密度コA/dm2におい
てλ分間陽極酸化を行いアルミニウム板を作製した。
次に下記感光液(A)の本発明の化合物の種類を変えて
3徨類の感光液CA)−/〜CA)−Jを調整し、この
感光液を陽極酸化されたアルミニウム板の上に塗布し、
1oo0cで2分間乾燥して、それぞれの感光性平版印
刷版(A) −/〜(A)−−?を作製した。このとき
の塗布量は全て乾燥重量で/、397m2であった。
3徨類の感光液CA)−/〜CA)−Jを調整し、この
感光液を陽極酸化されたアルミニウム板の上に塗布し、
1oo0cで2分間乾燥して、それぞれの感光性平版印
刷版(A) −/〜(A)−−?を作製した。このとき
の塗布量は全て乾燥重量で/、397m2であった。
また、感光液[:A)−/〜〔A)−3に用いた本発明
の化合物は第1表に示す。
の化合物は第1表に示す。
感光液〔A)
本発明の化合物 Q、≠orクレゾー
ルーホルムアルデヒド ノボラック樹脂 /、 Ofオイル
ブルー#603 (オリエント化学工業■製) 0,0/fエチレン
ジクロリド 10?メチルセロソル
ブ ioy次に比較例として下記の
感光液CB)および〔C〕を感光液〔A〕と同様に塗布
し、感光性平版印刷版〔B〕、および(C)を作製した
。
ルーホルムアルデヒド ノボラック樹脂 /、 Ofオイル
ブルー#603 (オリエント化学工業■製) 0,0/fエチレン
ジクロリド 10?メチルセロソル
ブ ioy次に比較例として下記の
感光液CB)および〔C〕を感光液〔A〕と同様に塗布
し、感光性平版印刷版〔B〕、および(C)を作製した
。
感光液CB)
フェノール−ホルムアルデヒ
ドノボラック樹脂と/、2
一ナフトキノンー2−ジア
ジド−よ一スルホニルクロ
リドとの縮合生成物 O1μ!1クレゾール
−ホルムアルデヒ ドノボラック樹脂 7.0?/、2−
ナフトキノン−λ− ジアジド−弘−スルホニル クロリド 0.029オイルブル
ー#l、03 (オリエント化学工業■製) 0.0/lエチレン
ジクロリド ioyメチルセロソルブ
10f?感光液(C) 下記(■)式で示されるシリ ルエーテル化合物 0.319クレゾール
ホルムアルデヒド ノボラック樹脂 /、 09λ−(≠
−メトキシフェニル) 一μ、t−ビストリクロロメ チル−8−)リアジン 0.01fオイルブル
ー#603 (オリエント化学工業■製) 0.0/fエチレン
ジクロリド IO?メチルセルソル
ブ 10f?重量平均分子量pw=
rooo (GPC,ポリスチレン標準)。
−ホルムアルデヒ ドノボラック樹脂 7.0?/、2−
ナフトキノン−λ− ジアジド−弘−スルホニル クロリド 0.029オイルブル
ー#l、03 (オリエント化学工業■製) 0.0/lエチレン
ジクロリド ioyメチルセロソルブ
10f?感光液(C) 下記(■)式で示されるシリ ルエーテル化合物 0.319クレゾール
ホルムアルデヒド ノボラック樹脂 /、 09λ−(≠
−メトキシフェニル) 一μ、t−ビストリクロロメ チル−8−)リアジン 0.01fオイルブル
ー#603 (オリエント化学工業■製) 0.0/fエチレン
ジクロリド IO?メチルセルソル
ブ 10f?重量平均分子量pw=
rooo (GPC,ポリスチレン標準)。
乾燥後の塗布重量は〔B〕、〔C〕いずれも八jr/m
2であった。感光性平版印刷版CA)−/〜(A)−−
?、〔B〕および〔C〕の感光層上に濃度差O0/!の
グレースケールを密着させ、30アンはアのカーボンア
ーク灯で7θ画の距離から露光を行った。
2であった。感光性平版印刷版CA)−/〜(A)−−
?、〔B〕および〔C〕の感光層上に濃度差O0/!の
グレースケールを密着させ、30アンはアのカーボンア
ーク灯で7θ画の距離から露光を行った。
本発明の優れた感光性を示す為に露光された感光性平版
印刷版〔人)−/〜l:A)−J、〔B〕および(C”
lをDP−JB(商品名:富士写真フィルム■製)の7
.2倍希釈水溶液で2j’Cにおいてto秒間浸漬現像
し、濃度差0./Jのグレースケールで!段目が完全く
クリアーとなる露光時間を求めたところ第7表に示すと
おシとなった。
印刷版〔人)−/〜l:A)−J、〔B〕および(C”
lをDP−JB(商品名:富士写真フィルム■製)の7
.2倍希釈水溶液で2j’Cにおいてto秒間浸漬現像
し、濃度差0./Jのグレースケールで!段目が完全く
クリアーとなる露光時間を求めたところ第7表に示すと
おシとなった。
第1表
第1表かられかるように本発明の化合物を用いた感光性
平版印刷版(A)−/〜(A〕−jはいずれも〔B〕、
〔C〕よシ露光時間が少なく、感度が高い。
平版印刷版(A)−/〜(A〕−jはいずれも〔B〕、
〔C〕よシ露光時間が少なく、感度が高い。
なお第1表における本発明の化合物&2、!、/≠o分
子iはゲルパーミェーションクロマトクラフィーポリス
チレン標準でいずれも1300〜roooであった。
子iはゲルパーミェーションクロマトクラフィーポリス
チレン標準でいずれも1300〜roooであった。
実施例λ
実施例1の感光液[A:]−/〜3を用い、実施例/と
同様にして感光性平版印刷版[A)−/〜3を作製した
。塗布量はすべて乾燥重量で/、127m2であった。
同様にして感光性平版印刷版[A)−/〜3を作製した
。塗布量はすべて乾燥重量で/、127m2であった。
次に比較例として実施例/の感光液〔B〕および感光液
〔C〕を感光液[A)と同様に塗布し、感光性平版印刷
版〔B〕、〔C〕を作製した。乾燥後の塗布重量は各々
/、jf/m2であった。
〔C〕を感光液[A)と同様に塗布し、感光性平版印刷
版〔B〕、〔C〕を作製した。乾燥後の塗布重量は各々
/、jf/m2であった。
現像許容性を見る為、感光性平版印刷版[A]−/〜3
、〔B〕及びEC)の感光層上に濃度差O0/!のグレ
ースケールを密着させ307ンはアのカーボンアーク灯
で70cmの距離から30秒間露光を行った。露光され
た感光性平版印刷版(A)−/〜3、CB)及び〔C〕
を実施例/と同じ現像液にてλr ’Cでぶ0秒間及び
3分間浸漬現像した。濃度差o、irのグレースケール
で60秒間及び3分間現像における完全にクリアーとな
る段数の差を求めたところ第2表に示すとおりとなった
。
、〔B〕及びEC)の感光層上に濃度差O0/!のグレ
ースケールを密着させ307ンはアのカーボンアーク灯
で70cmの距離から30秒間露光を行った。露光され
た感光性平版印刷版(A)−/〜3、CB)及び〔C〕
を実施例/と同じ現像液にてλr ’Cでぶ0秒間及び
3分間浸漬現像した。濃度差o、irのグレースケール
で60秒間及び3分間現像における完全にクリアーとな
る段数の差を求めたところ第2表に示すとおりとなった
。
第2表かられかるように本発明の化合物を用いた感光性
平版印刷版[:A)−/〜3はいずれも、クリア一部の
グレースケール段数変化が小さく、現像許容性が大きく
優れたものであった。すなわちシリルエーテル基を有す
る化合物と光照射により酸を発生する化合物を別々に用
いたCC”lより本発明の化合物を用いたCAB−/〜
3の方が優れている。
平版印刷版[:A)−/〜3はいずれも、クリア一部の
グレースケール段数変化が小さく、現像許容性が大きく
優れたものであった。すなわちシリルエーテル基を有す
る化合物と光照射により酸を発生する化合物を別々に用
いたCC”lより本発明の化合物を用いたCAB−/〜
3の方が優れている。
特許出願人 富士写真フィルム株式会社1、事件の表
示 昭和10年特願第17roto号20発明の
名称 先回溶化組成物3、補正をする者 事件との関係 特許出願人連絡先 〒10
6東京都港区西麻布2丁目26番30号未 補正の対象
明細書の「発明の詳細な説明」の欄 & 補正の内容 明細書の「発明の詳細な説明」の項の記載を下記の通シ
補正する。
示 昭和10年特願第17roto号20発明の
名称 先回溶化組成物3、補正をする者 事件との関係 特許出願人連絡先 〒10
6東京都港区西麻布2丁目26番30号未 補正の対象
明細書の「発明の詳細な説明」の欄 & 補正の内容 明細書の「発明の詳細な説明」の項の記載を下記の通シ
補正する。
l)第1頁l!行目の
「元化合物」を
「感光性化合物」
と補正する。
−)第コλ頁12行目の
「O0μozを
「0.11」
と補正する。
3)第23頁lり行目の
f−0,JJfJを
「o、aot」
と補正する。
−′々0武
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 活性光線の照射により酸を発生し得る部分構造と、下記
一般式( I )で示される部分構造とをそれぞれ少なく
とも1個有し、現像液中でのその溶解度が酸の作用によ
り増大する化合物を含有する光可溶化組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I )
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17805085A JPS6238450A (ja) | 1985-08-13 | 1985-08-13 | 光可溶化組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17805085A JPS6238450A (ja) | 1985-08-13 | 1985-08-13 | 光可溶化組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6238450A true JPS6238450A (ja) | 1987-02-19 |
Family
ID=16041722
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17805085A Pending JPS6238450A (ja) | 1985-08-13 | 1985-08-13 | 光可溶化組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6238450A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6435433A (en) * | 1987-07-01 | 1989-02-06 | Basf Ag | Radiation sensitive mixture for photosensitive layer forming material |
EP0337257A2 (de) * | 1988-04-14 | 1989-10-18 | BASF Aktiengesellschaft | Positiv arbeitendes, strahlungsempfindliches Gemisch auf Basis von säurespaltbaren und photochemisch säurebildenden Verbindungen und Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern und Reliefbildern |
EP0342494A2 (de) * | 1988-05-19 | 1989-11-23 | BASF Aktiengesellschaft | Strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern |
EP0342495A2 (de) * | 1988-05-19 | 1989-11-23 | BASF Aktiengesellschaft | Strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern |
EP0342498A2 (de) * | 1988-05-19 | 1989-11-23 | BASF Aktiengesellschaft | Positiv und negativ arbeitende strahlungsempfindliche Gemische sowie Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern |
EP0342496A2 (de) * | 1988-05-19 | 1989-11-23 | BASF Aktiengesellschaft | Strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern |
EP0441524A2 (en) * | 1990-02-07 | 1991-08-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Polymers containing halomethyl-1,3,5-triazine moieties |
-
1985
- 1985-08-13 JP JP17805085A patent/JPS6238450A/ja active Pending
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6435433A (en) * | 1987-07-01 | 1989-02-06 | Basf Ag | Radiation sensitive mixture for photosensitive layer forming material |
EP0337257A2 (de) * | 1988-04-14 | 1989-10-18 | BASF Aktiengesellschaft | Positiv arbeitendes, strahlungsempfindliches Gemisch auf Basis von säurespaltbaren und photochemisch säurebildenden Verbindungen und Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern und Reliefbildern |
EP0337257B1 (de) * | 1988-04-14 | 1994-01-19 | BASF Aktiengesellschaft | Positiv arbeitendes, strahlungsempfindliches Gemisch auf Basis von säurespaltbaren und photochemisch säurebildenden Verbindungen und Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern und Reliefbildern |
US5118585A (en) * | 1988-05-19 | 1992-06-02 | Basf Aktiengesellschaft | Positive and negative working radiation sensitive mixtures and production of relief patterns |
US5069998A (en) * | 1988-05-19 | 1991-12-03 | Basf Aktiengesellschaft | Radiation sensitive mixture and production of relief patterns |
EP0342496A2 (de) * | 1988-05-19 | 1989-11-23 | BASF Aktiengesellschaft | Strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern |
JPH0218564A (ja) * | 1988-05-19 | 1990-01-22 | Basf Ag | 感放射線混合物及びレリーフパターン作製方法 |
JPH0219849A (ja) * | 1988-05-19 | 1990-01-23 | Basf Ag | 感放射線混合物及びレリーフパターン作製方法 |
EP0342494A2 (de) * | 1988-05-19 | 1989-11-23 | BASF Aktiengesellschaft | Strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern |
US5069997A (en) * | 1988-05-19 | 1991-12-03 | Keil & Weinkauf | Positive and negative working radiation sensitive mixtures and production of relief patterns |
EP0342498A2 (de) * | 1988-05-19 | 1989-11-23 | BASF Aktiengesellschaft | Positiv und negativ arbeitende strahlungsempfindliche Gemische sowie Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern |
US5075199A (en) * | 1988-05-19 | 1991-12-24 | Basf Aktiengesellschaft | Radiation sensitive mixture and production of relief patterns |
EP0342495A2 (de) * | 1988-05-19 | 1989-11-23 | BASF Aktiengesellschaft | Strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern |
EP0342498B1 (de) * | 1988-05-19 | 1993-12-22 | BASF Aktiengesellschaft | Positiv und negativ arbeitende strahlungsempfindliche Gemische sowie Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern |
EP0342496B1 (de) * | 1988-05-19 | 1993-12-29 | BASF Aktiengesellschaft | Strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern |
EP0342494B1 (de) * | 1988-05-19 | 1993-12-29 | BASF Aktiengesellschaft | Strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern |
EP0342495B1 (de) * | 1988-05-19 | 1994-01-12 | BASF Aktiengesellschaft | Strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern |
EP0441524A2 (en) * | 1990-02-07 | 1991-08-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Polymers containing halomethyl-1,3,5-triazine moieties |
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