JPS62230759A - 新規アクリルまたはメタクリルアミド誘導体 - Google Patents
新規アクリルまたはメタクリルアミド誘導体Info
- Publication number
- JPS62230759A JPS62230759A JP7251886A JP7251886A JPS62230759A JP S62230759 A JPS62230759 A JP S62230759A JP 7251886 A JP7251886 A JP 7251886A JP 7251886 A JP7251886 A JP 7251886A JP S62230759 A JPS62230759 A JP S62230759A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- monomer
- aminobenzophenone
- acid chloride
- formula
- itself
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は次式(1)で示される新規な化合物に関する。
蓼
本発明によって提供される上記式(11で示される新規
な化合物はそれ自体で重合させるかまだは各種のオレフ
ィン性二重結合を有する化合物と共重合させることによ
って高分子劣化防止剤または高分子紫外線吸収剤として
の応用が期待される。
な化合物はそれ自体で重合させるかまだは各種のオレフ
ィン性二重結合を有する化合物と共重合させることによ
って高分子劣化防止剤または高分子紫外線吸収剤として
の応用が期待される。
〈従来の技術〉
下記式(1)で示される化合物については文献等にそれ
を特定する物性等の記載がない。
を特定する物性等の記載がない。
〈本発明が解決しようとする問題点〉
本発明の目的はそれ自体が高機能を有するモノマーで機
能性高分子の原料モノマーとして期待されるきわめて有
用な新規な化合物を提供することにある。
能性高分子の原料モノマーとして期待されるきわめて有
用な新規な化合物を提供することにある。
〈問題点を解決するための手段および作用〉本発明者ら
はN−アクリロイルまたはN−メタクリロイル−2−ア
ミノベンゾフェノン(以下、N−(メタ)アクリロイル
−2−アミノベンゾフェノンとする)(式りを合成すべ
く鋭意検討した結果、2−アミノベンゾフェノンとアク
リル酸クロライドまたはメタクリル酸クロライドとの反
応によって容易に製造できることを見出した。
はN−アクリロイルまたはN−メタクリロイル−2−ア
ミノベンゾフェノン(以下、N−(メタ)アクリロイル
−2−アミノベンゾフェノンとする)(式りを合成すべ
く鋭意検討した結果、2−アミノベンゾフェノンとアク
リル酸クロライドまたはメタクリル酸クロライドとの反
応によって容易に製造できることを見出した。
なお、本発明化合物(1)の製造方法が上記のものに限
定されないことは勿論である。
定されないことは勿論である。
以下、本発明における新規物質の製造方法を実施例によ
り具体的に説明し、得られた新規物質を構造決定するた
めの分析結果をも同時に示す。
り具体的に説明し、得られた新規物質を構造決定するた
めの分析結果をも同時に示す。
実施例1
撹拌機、温度計および滴下ロードを備えた300−のフ
ラスコに、クロロホルム120Wll、2−アミノベン
ゾフェノン10.0.F(50,7ミリモル)、水15
rnlおよび炭酸水素ナトリウム5.54.9(66,
0ミリモル)を仕込み、反応系内の温度を2〜4°Cに
保ちながらメタクリル酸クロライド6.7211(64
,3ミIJモル)を75分かけて滴下した。滴下終了後
、反応系中の温度を4〜7℃に保ちながら3時間撹拌を
続は反応を完結させた。反応終了後、反応系に水35m
/を加え撹拌し、次いで分液した。反応液の有機層を1
.6%炭酸ナトリウム水溶液5Qm/で2回洗浄後、水
100−で2回洗浄した。この有機層の溶媒を減圧留去
した後、減圧乾燥させ、N−メタクリロイル−2−アミ
ノ−ベンゾフェノン12.5.147.1ミリモル)を
得た。
ラスコに、クロロホルム120Wll、2−アミノベン
ゾフェノン10.0.F(50,7ミリモル)、水15
rnlおよび炭酸水素ナトリウム5.54.9(66,
0ミリモル)を仕込み、反応系内の温度を2〜4°Cに
保ちながらメタクリル酸クロライド6.7211(64
,3ミIJモル)を75分かけて滴下した。滴下終了後
、反応系中の温度を4〜7℃に保ちながら3時間撹拌を
続は反応を完結させた。反応終了後、反応系に水35m
/を加え撹拌し、次いで分液した。反応液の有機層を1
.6%炭酸ナトリウム水溶液5Qm/で2回洗浄後、水
100−で2回洗浄した。この有機層の溶媒を減圧留去
した後、減圧乾燥させ、N−メタクリロイル−2−アミ
ノ−ベンゾフェノン12.5.147.1ミリモル)を
得た。
収率は仕込みの2−アミノベンゾフェノンに対シ92、
9 %であった。高速液体クロマトグラフィー(ODS
系カシカラム使用よシ純度を求めたところ99.6%で
あった。
9 %であった。高速液体クロマトグラフィー(ODS
系カシカラム使用よシ純度を求めたところ99.6%で
あった。
次に得られたこの新規物質の構造決定のための分析結果
を示す。
を示す。
O融 点 44.8℃
O元素分析値
C(%) H(%) N(チ)理論値
76.96 5.70 5.28分析値
77.34 5.88 5.33O’
H−NMR(溶媒:d、−DMSO、内部標準物質:T
MS)δ 1.851 ppm (singlet
3H) −CH5δ 10.539 ppm
(singlet IH) −NH−0質量分析ス
ペクトル EI m/e=265(M”) O赤外線吸収スペクトル(KBr錠剤)3200cm−
’ (V N−H) 3080.3055m−’ (芳香族νC−H)なお、
この赤外線吸収スペクトルを第1図に示す。
76.96 5.70 5.28分析値
77.34 5.88 5.33O’
H−NMR(溶媒:d、−DMSO、内部標準物質:T
MS)δ 1.851 ppm (singlet
3H) −CH5δ 10.539 ppm
(singlet IH) −NH−0質量分析ス
ペクトル EI m/e=265(M”) O赤外線吸収スペクトル(KBr錠剤)3200cm−
’ (V N−H) 3080.3055m−’ (芳香族νC−H)なお、
この赤外線吸収スペクトルを第1図に示す。
実施例2
実施例1と同様の反応装置を用い、クロロポルム120
m7,2−アミノベンゾフェノン10. OF(50,
7ミリモル)、水1!MA’及び炭酸水素ナトリウム5
.54.9(66,0ミリモル)を仕込み反応系内の温
度を2〜7°GK保ちながらアクリル酸クロライド5.
82,164.3ミリモル)を75分かけて滴下した。
m7,2−アミノベンゾフェノン10. OF(50,
7ミリモル)、水1!MA’及び炭酸水素ナトリウム5
.54.9(66,0ミリモル)を仕込み反応系内の温
度を2〜7°GK保ちながらアクリル酸クロライド5.
82,164.3ミリモル)を75分かけて滴下した。
滴下終了後、反応系中の温度を4〜7°Cに保ちながら
1時間撹拌を続は反応を完結させた。反応終了後、反応
系に水35dを加え撹拌し、次いで分液した。反応液の
有機層を1.6%炭酸ナトリウム水溶液50dで2回洗
浄後、水100mで2回洗浄した。この有機層の溶媒を
減圧留去した後減圧乾燥させ、N−アクリロイル−2−
アミノベンゾフェノン11.8N(47,0ミリモル)
を得た。収率は仕込みの2−アミノベンゾフェノンに対
し92.7%であった。高速液体クロマトグラフィー(
ODS系カシカラム使用より純度を求めたところ99.
4%であった。
1時間撹拌を続は反応を完結させた。反応終了後、反応
系に水35dを加え撹拌し、次いで分液した。反応液の
有機層を1.6%炭酸ナトリウム水溶液50dで2回洗
浄後、水100mで2回洗浄した。この有機層の溶媒を
減圧留去した後減圧乾燥させ、N−アクリロイル−2−
アミノベンゾフェノン11.8N(47,0ミリモル)
を得た。収率は仕込みの2−アミノベンゾフェノンに対
し92.7%であった。高速液体クロマトグラフィー(
ODS系カシカラム使用より純度を求めたところ99.
4%であった。
次に得られたこの新規物質の構造決定のための分析結果
を示す。
を示す。
O融 点 87.1°C
O元素分析値
C(チ) H(チ) N(チ)理論値 7
6.48 5.21 5.57分析値
76.09 5.20 5.620 ’)
(−NMR(溶媒:d、−DMSO1内部標準物質:T
MS)δ 5.65 ppm (doublet
IH)=CHδ 6.08〜6.34 ppm
(mul tiplet 2H) = CH。
6.48 5.21 5.57分析値
76.09 5.20 5.620 ’)
(−NMR(溶媒:d、−DMSO1内部標準物質:T
MS)δ 5.65 ppm (doublet
IH)=CHδ 6.08〜6.34 ppm
(mul tiplet 2H) = CH。
δ 10.343 ppm (singlet I
H) >NHoIx量分析スペクトル EI m/e = 251 (M”)0赤外線
吸収スペクトル(KBr錠剤)3200cm−’
(シN−H) 3100.3055cm−’ (芳香族νC−H)30
25cWL−’ (=CH−のシc−H)なお、この
赤外線吸収スペクトルを第2図に示す。
H) >NHoIx量分析スペクトル EI m/e = 251 (M”)0赤外線
吸収スペクトル(KBr錠剤)3200cm−’
(シN−H) 3100.3055cm−’ (芳香族νC−H)30
25cWL−’ (=CH−のシc−H)なお、この
赤外線吸収スペクトルを第2図に示す。
第1図は本発明にがかるN−メタクリロイル−2−アミ
ノ−ベンゾフェノン、第2図は本発明にがかるN−アク
リロイル−2−アミノベンゾフェノンの赤外線吸収スペ
クトルをそれぞれ示す図である。
ノ−ベンゾフェノン、第2図は本発明にがかるN−アク
リロイル−2−アミノベンゾフェノンの赤外線吸収スペ
クトルをそれぞれ示す図である。
Claims (1)
- (1)次式( I )で示される新規アクリルまたはメタ
クリルアミド誘導体。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中Rは水素原子またはメチル基を表わす)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7251886A JPS62230759A (ja) | 1986-04-01 | 1986-04-01 | 新規アクリルまたはメタクリルアミド誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7251886A JPS62230759A (ja) | 1986-04-01 | 1986-04-01 | 新規アクリルまたはメタクリルアミド誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62230759A true JPS62230759A (ja) | 1987-10-09 |
Family
ID=13491626
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7251886A Pending JPS62230759A (ja) | 1986-04-01 | 1986-04-01 | 新規アクリルまたはメタクリルアミド誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62230759A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002187868A (ja) * | 2000-12-18 | 2002-07-05 | Daicel Chem Ind Ltd | 高純度メタクリル酸ハライドとその製造法、及び高純度メタクリル酸誘導体の製造法 |
WO2017145022A1 (en) * | 2016-02-22 | 2017-08-31 | Novartis Ag | Uv/visible-absorbing vinylic monomers and uses thereof |
US10254567B2 (en) | 2016-02-22 | 2019-04-09 | Novartis Ag | UV-absorbing vinylic monomers and uses thereof |
-
1986
- 1986-04-01 JP JP7251886A patent/JPS62230759A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002187868A (ja) * | 2000-12-18 | 2002-07-05 | Daicel Chem Ind Ltd | 高純度メタクリル酸ハライドとその製造法、及び高純度メタクリル酸誘導体の製造法 |
WO2017145022A1 (en) * | 2016-02-22 | 2017-08-31 | Novartis Ag | Uv/visible-absorbing vinylic monomers and uses thereof |
JP2019504168A (ja) * | 2016-02-22 | 2019-02-14 | ノバルティス アーゲー | Uv/可視吸収ビニルモノマーおよびその使用 |
US10254567B2 (en) | 2016-02-22 | 2019-04-09 | Novartis Ag | UV-absorbing vinylic monomers and uses thereof |
US10268053B2 (en) | 2016-02-22 | 2019-04-23 | Novartis Ag | UV/visible-absorbing vinylic monomers and uses thereof |
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