JPS62209750A - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS62209750A JPS62209750A JP5285386A JP5285386A JPS62209750A JP S62209750 A JPS62209750 A JP S62209750A JP 5285386 A JP5285386 A JP 5285386A JP 5285386 A JP5285386 A JP 5285386A JP S62209750 A JPS62209750 A JP S62209750A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- oxide semiconductor
- film
- recording medium
- magneto
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、膜面と垂直な方向に磁化容易軸を有し、レー
ザー光等の熱お光を介して反転磁区を作ることにより情
報を記録し、磁気光学効果()1ラデー効果あるいはカ
ー効果)を利用して読み出すことのできる光磁気記録媒
体に関するものである。
ザー光等の熱お光を介して反転磁区を作ることにより情
報を記録し、磁気光学効果()1ラデー効果あるいはカ
ー効果)を利用して読み出すことのできる光磁気記録媒
体に関するものである。
(発明の概要)
本発明の光磁気記録媒体においては、透明な有機物基板
あるいはガラス基板上に酸化物半導体からなる第一層、
記録膜からなる第二膜、さらに保護膜からなる第三層で
構成することにより、断熱機能を有し、基板への熱拡散
を防止して書き込み効率を向上させることができる。
あるいはガラス基板上に酸化物半導体からなる第一層、
記録膜からなる第二膜、さらに保護膜からなる第三層で
構成することにより、断熱機能を有し、基板への熱拡散
を防止して書き込み効率を向上させることができる。
また本発明は、第一層の酸化物半導体の膜厚を変えるこ
とにより、再生時のカー回転角を大きくすることができ
る。特に、酸化物半導体が5nQz。
とにより、再生時のカー回転角を大きくすることができ
る。特に、酸化物半導体が5nQz。
In2O5,あるいはSnO2とIn2()u)混合体
であり、膜厚が1500オングストローム以下のとき、
カー回転角は光磁気記録媒体の単層に比べ3〜5倍
゛の値を有する。
であり、膜厚が1500オングストローム以下のとき、
カー回転角は光磁気記録媒体の単層に比べ3〜5倍
゛の値を有する。
さらに本発明の記録層をTb「cCo、 GdTbFe
、 GdTbFeCoにすることにより、再生時にはカ
ー回転角を大ぎくしで良好なS/N比での読み取りを可
能とすることができる。
、 GdTbFeCoにすることにより、再生時にはカ
ー回転角を大ぎくしで良好なS/N比での読み取りを可
能とすることができる。
(従来の技術)
一般に、膜面と垂直な方向に磁化容易軸を有する磁性薄
膜をガラス、PC,PMMA等の透明基板面上に形成さ
せ、キュリ一点あるいは、磁気内袖tat温度を利用し
て光ビームにより反転磁区を作ることによって情報を記
録させ、記録させた情報を磁気光学効果を利用して読み
出す光磁気記録が知られている。
膜をガラス、PC,PMMA等の透明基板面上に形成さ
せ、キュリ一点あるいは、磁気内袖tat温度を利用し
て光ビームにより反転磁区を作ることによって情報を記
録させ、記録させた情報を磁気光学効果を利用して読み
出す光磁気記録が知られている。
従来、膜面と垂直な方向に磁化容易軸を有する磁性記録
膜としては、GdCo、 Gd[e、 T旧’e、 G
dT旧:e等の希土類元素と遷移金属との組み合せから
なる非晶質合金、多結晶体であるHnBi、 HnBi
Cu、 PtC。
膜としては、GdCo、 Gd[e、 T旧’e、 G
dT旧:e等の希土類元素と遷移金属との組み合せから
なる非晶質合金、多結晶体であるHnBi、 HnBi
Cu、 PtC。
等、ガーネット系であるGdIG等、金属酸化物である
CoFc2011. TbFeO3等の研究が進められ
てきた。
CoFc2011. TbFeO3等の研究が進められ
てきた。
TbFe等の非晶質磁性薄膜合金は、大面積の薄膜を室
温付近の温度で製作する製膜性、信号を小さな光熱エネ
ルギーで書き込むための書き込み効率がすぐれており、
また多結晶体、ガーネット系。
温付近の温度で製作する製膜性、信号を小さな光熱エネ
ルギーで書き込むための書き込み効率がすぐれており、
また多結晶体、ガーネット系。
金属酸化物等は磁気光学効果(ファラデー効果あるいは
カー効果)が大ぎいという特徴を有している。
カー効果)が大ぎいという特徴を有している。
(発明が解決しようとする問題点)
しかしながらこれらの記録膜は、ガラス基板の熱伝導率
が大きいため、記録時における熱拡散により、書き込み
効率が低下しでしまう。そこで一般的には、熱伝導率の
低いプラスチック基板を用いたり、基板を記録層の間に
断熱層を設【プた構成のものが使用されている。
が大きいため、記録時における熱拡散により、書き込み
効率が低下しでしまう。そこで一般的には、熱伝導率の
低いプラスチック基板を用いたり、基板を記録層の間に
断熱層を設【プた構成のものが使用されている。
一方光を用いて光磁気記録を再生する場合カー効果ある
いはファラデー効果により再生出力を得ている。反射光
による磁気光学効果(カー効果)を利用した読み出しS
/N比は、反射率をR,カー回転角をθにとすると、贋
−θkに比例づ′る。
いはファラデー効果により再生出力を得ている。反射光
による磁気光学効果(カー効果)を利用した読み出しS
/N比は、反射率をR,カー回転角をθにとすると、贋
−θkに比例づ′る。
したがって、S/N比を良く読み出す為には、カー回転
角および反射率が大きな値をもだなりればならない。し
かし非晶質合金N膜は、カー回転角が0.3〜0.5°
と大きくない。そこでカー回転角を大きくするために、
記録体に地元系を添加したり、基板と記録膜の間に誘電
体層を設りたすしているが、まだ充分な材料は見あたら
ない。
角および反射率が大きな値をもだなりればならない。し
かし非晶質合金N膜は、カー回転角が0.3〜0.5°
と大きくない。そこでカー回転角を大きくするために、
記録体に地元系を添加したり、基板と記録膜の間に誘電
体層を設りたすしているが、まだ充分な材料は見あたら
ない。
そこで、本発明は従来のこのような欠点を解決し、光熱
エネルギーで書き込む書き込み効率の高い、再生時のS
/N比の良好な光磁気記録媒体を提供することを目的と
している。
エネルギーで書き込む書き込み効率の高い、再生時のS
/N比の良好な光磁気記録媒体を提供することを目的と
している。
(問題点を解決するための手段)
上記の問題を解決するためにこの発明は、透明な有機物
あるいはガラス基板の上に酸化物半導体からなる第1層
、記録層からなる第2層、さらに保護膜からなる第三層
で構成することにより、とりわけ、酸化物半導体をSn
O2,In2O5あるいはSnO2とIn2Q3の混合
体にすることにより、記録時に効率良く書き込むことを
可能とすることができ、磁気カー回転角を光磁気記録媒
体の単層に比べ、3〜5倍の大きな値をもつことができ
る。さらに記録膜をTbFeCo、 GdTbFe、
GdTbFeCoにすることにより、再生時にはカー回
転角を十分大きくして良好なS/N比での読み出しを可
能とすることができる。
あるいはガラス基板の上に酸化物半導体からなる第1層
、記録層からなる第2層、さらに保護膜からなる第三層
で構成することにより、とりわけ、酸化物半導体をSn
O2,In2O5あるいはSnO2とIn2Q3の混合
体にすることにより、記録時に効率良く書き込むことを
可能とすることができ、磁気カー回転角を光磁気記録媒
体の単層に比べ、3〜5倍の大きな値をもつことができ
る。さらに記録膜をTbFeCo、 GdTbFe、
GdTbFeCoにすることにより、再生時にはカー回
転角を十分大きくして良好なS/N比での読み出しを可
能とすることができる。
(実施例)
以下この発明の実施例にもとずいて説明する。
これらの膜は、スパッタリング法により作製したが真空
蒸着法、イオンブレーティング法などその他の多くの物
理的ペイバーディポジション法によっても作製すること
ができる。
蒸着法、イオンブレーティング法などその他の多くの物
理的ペイバーディポジション法によっても作製すること
ができる。
高周波スパッタ装置において、直径12r、mのガラス
を基板とし、ターゲットとして直径15cmの5nOz
および直径15cmの「e上に10#lI++角のTb
、 C。
を基板とし、ターゲットとして直径15cmの5nOz
および直径15cmの「e上に10#lI++角のTb
、 C。
を均一にならべたものを使用した。チャンバー内を2.
0X10’トール以下まで真空排気した後、Ar’:0
2=10:1の混合ガス圧を2.5X10−2トールに
し、第一層目の5nOzを800オングストローム製膜
した。次にチャンバー内を再び2.0X10”7トール
以下まで真空排気した後、Arガス圧を2.5X10−
2トールにし、第二層目の記録膜TbFeCoを100
0オングストローム製膜した。
0X10’トール以下まで真空排気した後、Ar’:0
2=10:1の混合ガス圧を2.5X10−2トールに
し、第一層目の5nOzを800オングストローム製膜
した。次にチャンバー内を再び2.0X10”7トール
以下まで真空排気した後、Arガス圧を2.5X10−
2トールにし、第二層目の記録膜TbFeCoを100
0オングストローム製膜した。
そしてチャンバー内を再び2.0X10”7トール以下
まで真空排気後、Ar:02= 10 : 1の混合ガ
ス圧を2.5X10’トールにし、第三層目のSnO2
を1000オングストローム製膜した。第3図は、実施
例を示したものである。情報の記録再生する場合には、
レーザー光を第3図矢印の方向から照射する。カー回転
角は、発振波長633 nmのtle−Neレーザーで
測定したとこる1、5麿であった。
まで真空排気後、Ar:02= 10 : 1の混合ガ
ス圧を2.5X10’トールにし、第三層目のSnO2
を1000オングストローム製膜した。第3図は、実施
例を示したものである。情報の記録再生する場合には、
レーザー光を第3図矢印の方向から照射する。カー回転
角は、発振波長633 nmのtle−Neレーザーで
測定したとこる1、5麿であった。
第1実施例にお(プる第一層目のSnO2膜の膜厚を変
化させる以外は、第1実施例と同様の方法で作製した膜
のカー回転角の変化を第1図aに示す。
化させる以外は、第1実施例と同様の方法で作製した膜
のカー回転角の変化を第1図aに示す。
第一・層目の5nOz膜の膜厚が800オングストロー
ム付近で極大値をどろ。第2図aは、第一層目の511
02膜の膜厚と反射率との関係をポしたものである。5
nOz膜が800オングストローム付近に極小値をもつ
。
ム付近で極大値をどろ。第2図aは、第一層目の511
02膜の膜厚と反射率との関係をポしたものである。5
nOz膜が800オングストローム付近に極小値をもつ
。
第一実施例にお1プる第一層目の種類とその膜厚を変化
させる以外は、第1実施例と同様の方法で作製した膜の
カー回転角および反射率の変化を第1図、第2図に示す
。
させる以外は、第1実施例と同様の方法で作製した膜の
カー回転角および反射率の変化を第1図、第2図に示す
。
(発明の効果)
この発明は、以上説明したにうに、透明な有機物基板あ
るいはガラス基板上に酸化物半導体からなる第一層、記
録膜からなる第二層、さらに保護膜からなる第三層で構
成され、とりわけ、酸化物半導体をs+nQ2. In
2O:+あるいはSnO2とIn203の混合体にする
ことにより、記録時に効率良< 7Bき込むことができ
、カー回転角を光磁気記録媒体の単層に比べ、3〜5倍
の大きな値をもつことができる。さらに記録膜にTbr
cC’o、 GdTbre、 GdTbFeCoとする
ことにより再生時にはノ3−回転角を十分大きくして良
好なS/N比での読み出し可能とすることができる。
るいはガラス基板上に酸化物半導体からなる第一層、記
録膜からなる第二層、さらに保護膜からなる第三層で構
成され、とりわけ、酸化物半導体をs+nQ2. In
2O:+あるいはSnO2とIn203の混合体にする
ことにより、記録時に効率良< 7Bき込むことができ
、カー回転角を光磁気記録媒体の単層に比べ、3〜5倍
の大きな値をもつことができる。さらに記録膜にTbr
cC’o、 GdTbre、 GdTbFeCoとする
ことにより再生時にはノ3−回転角を十分大きくして良
好なS/N比での読み出し可能とすることができる。
第1図は第一層目の酸化物半導体の膜厚どカー回転角の
関係を示す図、第2図は第一層目の酸化物半導体の膜厚
と反射率の関係を示1図、第3図は光磁気記録媒体の構
成を示す断面図。 1・・・酸化物半導体として5nOzを用いた場合、2
・・・酸化物半導体としてIn2Q3を用いた場合、3
・・・酸化物半導体として5nOzとIn203の混合
体を用いた場合、4・・・ガラス、5・・・酸化物半導
体、6・・・記録媒体、7・・・保護膜。 出願人 セイコー電子工業株式会社 膜厚(A> 白シイl:字めイ11イ本の用匙乃1ヒカ−「舅i灼の
関1千図第 I 図 断面図 第 3 図 −%9−
関係を示す図、第2図は第一層目の酸化物半導体の膜厚
と反射率の関係を示1図、第3図は光磁気記録媒体の構
成を示す断面図。 1・・・酸化物半導体として5nOzを用いた場合、2
・・・酸化物半導体としてIn2Q3を用いた場合、3
・・・酸化物半導体として5nOzとIn203の混合
体を用いた場合、4・・・ガラス、5・・・酸化物半導
体、6・・・記録媒体、7・・・保護膜。 出願人 セイコー電子工業株式会社 膜厚(A> 白シイl:字めイ11イ本の用匙乃1ヒカ−「舅i灼の
関1千図第 I 図 断面図 第 3 図 −%9−
Claims (4)
- (1)透明な有機物基板あるいはガラス基板の上に酸化
物半導体からなる第一層、記録膜からなる第二層、さら
に保護膜からなる第三層で構成されることを特徴とする
光磁気記録媒体。 - (2)酸化物半導体がSnO_2、In_2O_3ある
いは、SnO_2とIn_2O_3の混合体であること
を特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の光磁気記
録媒体。 - (3)酸化物半導体層が1500オングストローム以下
であることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載
の光磁気記録媒体。 - (4)記録層がTbFeCo、GdTbFe、GdTb
FeCoであることを特徴とする特許請求の範囲第(1
)項記載の光磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5285386A JPS62209750A (ja) | 1986-03-11 | 1986-03-11 | 光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5285386A JPS62209750A (ja) | 1986-03-11 | 1986-03-11 | 光磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62209750A true JPS62209750A (ja) | 1987-09-14 |
Family
ID=12926412
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5285386A Pending JPS62209750A (ja) | 1986-03-11 | 1986-03-11 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62209750A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63266651A (ja) * | 1986-12-26 | 1988-11-02 | Teijin Ltd | 光磁気記録媒体 |
JPH01245447A (ja) * | 1988-03-28 | 1989-09-29 | Teijin Ltd | 光磁気記録媒体 |
-
1986
- 1986-03-11 JP JP5285386A patent/JPS62209750A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63266651A (ja) * | 1986-12-26 | 1988-11-02 | Teijin Ltd | 光磁気記録媒体 |
JPH01245447A (ja) * | 1988-03-28 | 1989-09-29 | Teijin Ltd | 光磁気記録媒体 |
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