JPS62124926A - ポリエステルフイルム - Google Patents
ポリエステルフイルムInfo
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- JPS62124926A JPS62124926A JP60265092A JP26509285A JPS62124926A JP S62124926 A JPS62124926 A JP S62124926A JP 60265092 A JP60265092 A JP 60265092A JP 26509285 A JP26509285 A JP 26509285A JP S62124926 A JPS62124926 A JP S62124926A
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- film
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- polyester
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Links
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Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Extrusion Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
麺業分野
本発明は面内Vこおける異方性が少な(、フレキシブル
ディスク用途に好適な支持体となるポリエステルフィル
ムに関する。
ディスク用途に好適な支持体となるポリエステルフィル
ムに関する。
磁気記録材料、たとえは、磁気記録テープまたは磁気記
録ディスクは、ベースフィルムの表面に磁性粒子をバイ
ンターとともに塗布するか。
録ディスクは、ベースフィルムの表面に磁性粒子をバイ
ンターとともに塗布するか。
磁性金属を真空#i着、スパッタリング、メッキなどの
方法によってt1@着するなどして、磁性層を積層した
ものである。そして、この磁気記録材料は最近高密度配
録及び再生が賛意されるようになり、記録に歪が生じな
いように機械的強度が大きく、かつ記録再生時の不測の
熱によって寸法変化をきたさないような耐熱寸法安定性
が要求されている。しかも−気&2縁の高密度化は磁性
層を薄1輪化する結果、支持体となるベースフィルムは
平滑でないと111c−変侠荷性が低下すシ)という問
題が生じてきている。*に、磁気記録ディスクの場合に
は、磁気記録テープと異って、ティスフ面内があらゆる
方向において均質な物性な儒えていることが賛意される
。。
方法によってt1@着するなどして、磁性層を積層した
ものである。そして、この磁気記録材料は最近高密度配
録及び再生が賛意されるようになり、記録に歪が生じな
いように機械的強度が大きく、かつ記録再生時の不測の
熱によって寸法変化をきたさないような耐熱寸法安定性
が要求されている。しかも−気&2縁の高密度化は磁性
層を薄1輪化する結果、支持体となるベースフィルムは
平滑でないと111c−変侠荷性が低下すシ)という問
題が生じてきている。*に、磁気記録ディスクの場合に
は、磁気記録テープと異って、ティスフ面内があらゆる
方向において均質な物性な儒えていることが賛意される
。。
ところが、これらの賛Z特性に関して同時に満足できる
ものはない。例えば支持体となるベースフィルムの材料
としてポリエチレンナフタレンジカルボキシレートを選
択すると、機械的強度が優れかつ耐熱寸法性も良好とな
る(特開昭59−127730号公報)。しかし、高密
度記録材料としてベースフィルムの面内異方性の憧めて
少ないものを要請さ4る場合には、一層の均質化が要求
されて(る。加えて、磁気記録材料は比較的苛酷な使用
条件に−される傾向があり、従来からの空気調和と清浄
9気とからなる管理された案内におけろ使用環境から、
屋外や温湿度調和のない環境下で使用される状態に変り
つつある。このような事情から轍気記録テイスクは温度
や湿度の変化(おいても配縁再生に壺がないような面内
異方性の少いものが41.縛されている。
ものはない。例えば支持体となるベースフィルムの材料
としてポリエチレンナフタレンジカルボキシレートを選
択すると、機械的強度が優れかつ耐熱寸法性も良好とな
る(特開昭59−127730号公報)。しかし、高密
度記録材料としてベースフィルムの面内異方性の憧めて
少ないものを要請さ4る場合には、一層の均質化が要求
されて(る。加えて、磁気記録材料は比較的苛酷な使用
条件に−される傾向があり、従来からの空気調和と清浄
9気とからなる管理された案内におけろ使用環境から、
屋外や温湿度調和のない環境下で使用される状態に変り
つつある。このような事情から轍気記録テイスクは温度
や湿度の変化(おいても配縁再生に壺がないような面内
異方性の少いものが41.縛されている。
本発明者は、i気記録材料に適するものであって、面内
機力性が少な(かつ表面が平滑な支持体となるポリエス
テルフィルムに関する研究を行った結果、トラック密度
が96TPI以上であり、記録密度が90008PI以
上であるような高密度磁気記録ディスクに適するベース
フィルムを開発でき5本発明を達成したものである。
機力性が少な(かつ表面が平滑な支持体となるポリエス
テルフィルムに関する研究を行った結果、トラック密度
が96TPI以上であり、記録密度が90008PI以
上であるような高密度磁気記録ディスクに適するベース
フィルムを開発でき5本発明を達成したものである。
発明の目的
気に置かれた場合にも寸法変化が実質的になく、面内の
温湿度に対する膨張率差の少ない磁気記録ディスク用途
に好適なポリエステルフィルムを提供することを目的と
する。
温湿度に対する膨張率差の少ない磁気記録ディスク用途
に好適なポリエステルフィルムを提供することを目的と
する。
発明の構成
10−6/%RH以下であり1表面粗さ(Ra)が0.
003〜0.04μmの範囲でありかつ60℃。
003〜0.04μmの範囲でありかつ60℃。
80XiもHの温湿度粂件下に72時間おいた際の寸法
変化率が0.02%以下であるフレキシブルティスフに
供口得るポリエステルフィルム である。
変化率が0.02%以下であるフレキシブルティスフに
供口得るポリエステルフィルム である。
本発明を説明する。
本発明の対象となるポリエステルは、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレンジカル
ボキシレート、ポリシクロヘキシレンジメチレンテレフ
タレート等の芳香族ポリエステルである。また支持体と
してのフィルムは、二軸延伸なんされたものであって1
機械方向及び幅方向においてバランスしているものであ
る。フィルム厚さは30〜80μm程度のものである9
、 温度膨張率の面内異方性とは、支持体フィルムの温度膨
張率の最大値(フィルム面の方向において温度膨張率が
異るとぎ、@も太ぎいffft ’Pを示す方向におけ
る温度膨張率)と最小値との差の温#:、h張率という
、この温度膨張率の面内異方性はδX 10−/’C以
下でないと、筒孔・度磁気記録ディスクはオフトランク
を生ずる。961’ IJI程度の山気記録ディスクの
場合に、温度膨張率の異方性を上記の限度に管理しなけ
ればならない。
フタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレンジカル
ボキシレート、ポリシクロヘキシレンジメチレンテレフ
タレート等の芳香族ポリエステルである。また支持体と
してのフィルムは、二軸延伸なんされたものであって1
機械方向及び幅方向においてバランスしているものであ
る。フィルム厚さは30〜80μm程度のものである9
、 温度膨張率の面内異方性とは、支持体フィルムの温度膨
張率の最大値(フィルム面の方向において温度膨張率が
異るとぎ、@も太ぎいffft ’Pを示す方向におけ
る温度膨張率)と最小値との差の温#:、h張率という
、この温度膨張率の面内異方性はδX 10−/’C以
下でないと、筒孔・度磁気記録ディスクはオフトランク
を生ずる。961’ IJI程度の山気記録ディスクの
場合に、温度膨張率の異方性を上記の限度に管理しなけ
ればならない。
また、湿度膨張率の面内異方性とは、支持体フィルムが
湿度変化に伴って伸縮する場合の湿度膨張率の最大値(
フィルム面内圧おいて湿度膨張率が方向によって異ると
きその最大を示す方向において求めた値)と最小値との
差の膨張率をいう。この湿度膨張率の面内異方性は4X
10 ”/%RH以下でなければ、高蟹度価気記録テイ
スクには適さない。この条件はトランク密度が上記と四
椋に9 ty 1’ P I程度で記録密度が9600
8PI程度の高密度配録材料を基準とするものである。
湿度変化に伴って伸縮する場合の湿度膨張率の最大値(
フィルム面内圧おいて湿度膨張率が方向によって異ると
きその最大を示す方向において求めた値)と最小値との
差の膨張率をいう。この湿度膨張率の面内異方性は4X
10 ”/%RH以下でなければ、高蟹度価気記録テイ
スクには適さない。この条件はトランク密度が上記と四
椋に9 ty 1’ P I程度で記録密度が9600
8PI程度の高密度配録材料を基準とするものである。
温度膨張率や温度膨張率の面内糎万性が小さいことは、
蝿気記録ディスクとしてモジュレーションの小さい高品
貴のものが得られることとなる。ここにモジュレーショ
ンとは、JISC6291(1983)Kよって標準化
されているものであり1本発明の面内異方性の限度の寸
法変化ではモジュレーション1O′A以内を保証できる
1、 また、トランク密度が192TPI製品とすべくトラッ
キングサーボなかけると1面内異方性の大きなものでは
、ディスクに対しヘッドが追従できな(なる問題もある 次に本発明のポリエステルフィルムは中心腺平均表面粗
さ(Ra)が0.003〜0.04 μm の範囲に
あろ、高密度磁気記録拐料では、磁性層が標準品テイス
クよりも薄(なることから、電磁変y8%性、ドロップ
アウト等における高品位を得るには、支持体ポリエステ
ルフィルムの表面粗さは低い(換言すiば表面が平滑で
ある)はどよい結果が予測される。しかし、平滑過ぎる
表向を備えた支持体フィルムは滑りせが劣り。
蝿気記録ディスクとしてモジュレーションの小さい高品
貴のものが得られることとなる。ここにモジュレーショ
ンとは、JISC6291(1983)Kよって標準化
されているものであり1本発明の面内異方性の限度の寸
法変化ではモジュレーション1O′A以内を保証できる
1、 また、トランク密度が192TPI製品とすべくトラッ
キングサーボなかけると1面内異方性の大きなものでは
、ディスクに対しヘッドが追従できな(なる問題もある 次に本発明のポリエステルフィルムは中心腺平均表面粗
さ(Ra)が0.003〜0.04 μm の範囲に
あろ、高密度磁気記録拐料では、磁性層が標準品テイス
クよりも薄(なることから、電磁変y8%性、ドロップ
アウト等における高品位を得るには、支持体ポリエステ
ルフィルムの表面粗さは低い(換言すiば表面が平滑で
ある)はどよい結果が予測される。しかし、平滑過ぎる
表向を備えた支持体フィルムは滑りせが劣り。
取扱いが極めて回船となる。従って、ドロップアウト等
を11定の発生値以下圧抑えるためには1(aは0.0
4μm以下でなければならない。またHaが0.003
μm未満では平滑なためブロッキング現象が起きたり、
このブロッキングに起因してシワが生じたりすることか
ら、上記のフィルムの表面」1さ(Ra)の適切な範囲
が決まる。
を11定の発生値以下圧抑えるためには1(aは0.0
4μm以下でなければならない。またHaが0.003
μm未満では平滑なためブロッキング現象が起きたり、
このブロッキングに起因してシワが生じたりすることか
ら、上記のフィルムの表面」1さ(Ra)の適切な範囲
が決まる。
勿論0.005〜0.025 μm 8度の表面粗さ1
ciilI整すると、支持体の滑り易さ、電磁変換特性
のバランスした磁気記録材料に好適な支持体となる。
ciilI整すると、支持体の滑り易さ、電磁変換特性
のバランスした磁気記録材料に好適な支持体となる。
なお6表面粗さく Ha )が0,04μmを超えると
高密度記録材料ではスペーシングジスが大きくなワ出力
が不充分となる。また極めて平滑な支持体ではポリエス
テルフィルムの耐岸耗性からみて同一トラックについて
1000万回のバスの耐久性テストに合格できないこと
となる。
高密度記録材料ではスペーシングジスが大きくなワ出力
が不充分となる。また極めて平滑な支持体ではポリエス
テルフィルムの耐岸耗性からみて同一トラックについて
1000万回のバスの耐久性テストに合格できないこと
となる。
磁気記録材料が多少の環境変化においても追従でき、記
録・再生の歪が殆どないことを満足させるためにはガラ
ス転移点に近いfMlfにおける寸法変化が少ないこと
が更にeXされる1、卯ち、券囲気案温(260℃、
65316R)l)から、60℃、 805%ftHO
) 1fiit m下[3日間(72時間)放置したと
きの支持体の面内寸法笈化(収縮又は伸長)がo、o2
96以下であることが寸法安定性(00℃)の指標とな
る。磁気記録ディスクでは約0.0296以内のppm
ではモジュレーションが10%以上に不良化することは
ない。
録・再生の歪が殆どないことを満足させるためにはガラ
ス転移点に近いfMlfにおける寸法変化が少ないこと
が更にeXされる1、卯ち、券囲気案温(260℃、
65316R)l)から、60℃、 805%ftHO
) 1fiit m下[3日間(72時間)放置したと
きの支持体の面内寸法笈化(収縮又は伸長)がo、o2
96以下であることが寸法安定性(00℃)の指標とな
る。磁気記録ディスクでは約0.0296以内のppm
ではモジュレーションが10%以上に不良化することは
ない。
本発明のポリエステルフィルムを得る方法は。
例えば、平均粒径が0.2μm〜0.O1μm程度の微
細な不活性粒子(シリカ、アルミナ、アルミナシリケー
ト、チタニア、ガラス粉末等)を0.008〜0.3]
11麺丸ポリエステルに混甘し。
細な不活性粒子(シリカ、アルミナ、アルミナシリケー
ト、チタニア、ガラス粉末等)を0.008〜0.3]
11麺丸ポリエステルに混甘し。
常法により製膜しかつ常法により延伸フィルムを製造す
ることによって、表向粗さ(Ra)が0.003〜0.
04pfi U)範囲となるものが得られる。表面がm
K過ぎろ場合は不活性粒子の粒径を史に小さなものにす
るとか、添加量を減するとかの手段を講ずろとよい。延
伸条件(延伸温[)によって、或は延伸倍率によっても
表面粗さは変化する1次にt+ 0℃、ho%RH(7
2時間)における寸法変化が0.02%以内の低温寸法
安定性の良好なフィルムは延伸後においてフィルムに熱
処理ヌはエージング処理を施すことによって達成される
。Ic11処理はポリエチレンテレブタンートの場合1
50〜230℃相度であり、ポリエチレン−2,6−ナ
フタレンジカルボキシレートやポリシクロヘキシレンジ
メチレンテレフタレートの場合は150〜240℃程度
である。熱処理中はフィルムに加える張力を他力低(す
ることが好ましく、フィルムの平坦性が保てる範囲で収
縮させてもよい。またエージング処理は40〜75℃程
夏でフィルムロールのま〜、理想的にはディスクに近い
スリットさiたフィルム(シート)のま〜、長時間(1
0〜200時間)低緊張下で処理するものである。
ることによって、表向粗さ(Ra)が0.003〜0.
04pfi U)範囲となるものが得られる。表面がm
K過ぎろ場合は不活性粒子の粒径を史に小さなものにす
るとか、添加量を減するとかの手段を講ずろとよい。延
伸条件(延伸温[)によって、或は延伸倍率によっても
表面粗さは変化する1次にt+ 0℃、ho%RH(7
2時間)における寸法変化が0.02%以内の低温寸法
安定性の良好なフィルムは延伸後においてフィルムに熱
処理ヌはエージング処理を施すことによって達成される
。Ic11処理はポリエチレンテレブタンートの場合1
50〜230℃相度であり、ポリエチレン−2,6−ナ
フタレンジカルボキシレートやポリシクロヘキシレンジ
メチレンテレフタレートの場合は150〜240℃程度
である。熱処理中はフィルムに加える張力を他力低(す
ることが好ましく、フィルムの平坦性が保てる範囲で収
縮させてもよい。またエージング処理は40〜75℃程
夏でフィルムロールのま〜、理想的にはディスクに近い
スリットさiたフィルム(シート)のま〜、長時間(1
0〜200時間)低緊張下で処理するものである。
これらの熱処理やエージング処理の条件はフィルムの低
温寸法安定性を比較しながら選択するとよい。温度膨張
率や湿度膨張率の面内異方性の少ない良質な支持体は、
フィルムの延伸熱処理に際し、ボーイングを抑制するこ
とにより達成できる。また広幅のフィルムの場合中央部
分は面異方性が少ないことが予測できろことから、フィ
ルムの中央部分のみを使用することでもよ11%。
温寸法安定性を比較しながら選択するとよい。温度膨張
率や湿度膨張率の面内異方性の少ない良質な支持体は、
フィルムの延伸熱処理に際し、ボーイングを抑制するこ
とにより達成できる。また広幅のフィルムの場合中央部
分は面異方性が少ないことが予測できろことから、フィ
ルムの中央部分のみを使用することでもよ11%。
発明の効果
1、 5.25インチのディスクにおいて96TPI
()シック/インチ)とするものではサーボ機構なしで
もトラックずれによるミッシングパルスを生じない。
()シック/インチ)とするものではサーボ機構なしで
もトラックずれによるミッシングパルスを生じない。
Z 60℃迄の熱履歴によってモンユンーションの態
化(1〇九以上)を生じない。
化(1〇九以上)を生じない。
3、 線記録重度9000BPI (ビット/イン
チ )以上でもスペーシングロスや、塗布抜けが生じな
い。
チ )以上でもスペーシングロスや、塗布抜けが生じな
い。
4、mMの耐久性を低下させない。
& トラッキングサーボにより高トラツク密度化を企る
に際しては、ヘッドの追従性が良好で、ヘッド振動が少
く(異方性が小さいため)、寿命の低下な生じないベー
スフィルムとなる。
に際しては、ヘッドの追従性が良好で、ヘッド振動が少
く(異方性が小さいため)、寿命の低下な生じないベー
スフィルムとなる。
等の効果が奏せられる。
実施例1
平均粒径0.3μの酸化チタンを0.3九含有せしめた
ポリエチレンテンフタレートなTダイからF4融押出し
て急冷ドラム上で冷却固化せしめ、未延伸(厚さ100
0μm)フィルムを得た。このフィルムな岐(機械)方
向に3.6倍延伸し、次いでクリップで両端を把持し、
テンターオープン中でy4(幅)方向に3.7倍に延伸
及び220℃で緊張熱固定してからオープン中より外部
に出し1両端部を除去した。引続いて、この延伸フィル
ムを80℃のロールIC1秒間接触させ、次いで110
℃のロールK1秒間接触させ、フィルムの引取張力なf
i、5 kg /ex’ K PJ4堅し、幾分縦方向
に収縮せしめ75μm0)#さの製品フィルムを得た。
ポリエチレンテンフタレートなTダイからF4融押出し
て急冷ドラム上で冷却固化せしめ、未延伸(厚さ100
0μm)フィルムを得た。このフィルムな岐(機械)方
向に3.6倍延伸し、次いでクリップで両端を把持し、
テンターオープン中でy4(幅)方向に3.7倍に延伸
及び220℃で緊張熱固定してからオープン中より外部
に出し1両端部を除去した。引続いて、この延伸フィル
ムを80℃のロールIC1秒間接触させ、次いで110
℃のロールK1秒間接触させ、フィルムの引取張力なf
i、5 kg /ex’ K PJ4堅し、幾分縦方向
に収縮せしめ75μm0)#さの製品フィルムを得た。
この製品フィルムのうち全幅の約172の幅を中央部か
ら採取しセンタ一部(センター採りという)とした。こ
れ以外のフィルム部分はαt>8X10−6/’Cとな
り、温度膨張率及びその異方性が太き過ぎる。
ら採取しセンタ一部(センター採りという)とした。こ
れ以外のフィルム部分はαt>8X10−6/’Cとな
り、温度膨張率及びその異方性が太き過ぎる。
得られたフィルムの膨張率はムαt≦7.5×10/”
C及びΔαh≦3.5 X ] ]0−6/%RHの異
方性を呈したくすぎない、。
C及びΔαh≦3.5 X ] ]0−6/%RHの異
方性を呈したくすぎない、。
また、このフィルムは60℃、80XRHにおいて72
時間放置したときの寸法変化率は縦方向0.0196.
横方向0.02%であった。このフィルムを磁気ティス
フとしたときのモジュレーションは2%以内であった。
時間放置したときの寸法変化率は縦方向0.0196.
横方向0.02%であった。このフィルムを磁気ティス
フとしたときのモジュレーションは2%以内であった。
結果をまとめて第1表に示した。
実施例2
平均粒径0.12μmのシリカを0.25に含有せしめ
たポリエチレン−2,6−ナフタリンジカルボキシレー
ト樹脂な押出機で溶融し、ギアポンプを使用して定量的
にTタイより押出し、急冷ドラム上で冷却固化させて9
20pmの未延伸フィルムを得る3゜ この未延伸フィルムを実施例1と同様に機械方向に3.
4倍、幅方向に3.7倍1幅方向のトーイン(収縮処]
!1り 13’6の条件で延伸した後、160℃にて熱
固定して一旦巻取った 史に延伸熱処理を経たフィルム
ルールを230℃にて熱処理しなから巻返えした。この
熱処理工程は延伸熱処理とは逆方向に加熱することにな
り、フィルム面内の異方性が減少し、全幅において△α
t≦4X10’/’Cとなる。機械方向に115℃株度
で弛緩処理を施しながら、 7 kg7atr”軸度の
張力で巻取ると均質な等方性のあるフィルムが得られた
。
たポリエチレン−2,6−ナフタリンジカルボキシレー
ト樹脂な押出機で溶融し、ギアポンプを使用して定量的
にTタイより押出し、急冷ドラム上で冷却固化させて9
20pmの未延伸フィルムを得る3゜ この未延伸フィルムを実施例1と同様に機械方向に3.
4倍、幅方向に3.7倍1幅方向のトーイン(収縮処]
!1り 13’6の条件で延伸した後、160℃にて熱
固定して一旦巻取った 史に延伸熱処理を経たフィルム
ルールを230℃にて熱処理しなから巻返えした。この
熱処理工程は延伸熱処理とは逆方向に加熱することにな
り、フィルム面内の異方性が減少し、全幅において△α
t≦4X10’/’Cとなる。機械方向に115℃株度
で弛緩処理を施しながら、 7 kg7atr”軸度の
張力で巻取ると均質な等方性のあるフィルムが得られた
。
実施例3
ポリマーとしてポリ(1,4−シクロヘキシレンジメチ
ン/テレフタレート)85flfitポリ(l、4−シ
クロヘキシレンジメチレンイソフタレート)15部の共
重合物(PCHDTと略記する)を使用し、平均粒径0
.3μmの酸化チタンを0.30 wt、96分散せし
め実施例1と同様な条件でキャスティングを施し、二m
延伸(機械方向延伸倍率3.6倍9幅方向延伸@本3.
9倍)を行ったのち、順方向及び逆方向に2回熱処理を
実施例2の蒙領で実施した。第1回熱処理は140℃で
あり、第2回目は225℃において幅方向Vc256の
トーイン(制限収縮)を施した。この結果、△αt≦5
X10 /”C+Δαh≦2X10 ’へRハロ の等方性をもつフィルムが得られた。
ン/テレフタレート)85flfitポリ(l、4−シ
クロヘキシレンジメチレンイソフタレート)15部の共
重合物(PCHDTと略記する)を使用し、平均粒径0
.3μmの酸化チタンを0.30 wt、96分散せし
め実施例1と同様な条件でキャスティングを施し、二m
延伸(機械方向延伸倍率3.6倍9幅方向延伸@本3.
9倍)を行ったのち、順方向及び逆方向に2回熱処理を
実施例2の蒙領で実施した。第1回熱処理は140℃で
あり、第2回目は225℃において幅方向Vc256の
トーイン(制限収縮)を施した。この結果、△αt≦5
X10 /”C+Δαh≦2X10 ’へRハロ の等方性をもつフィルムが得られた。
史に、フィルムロールのま〜で、65℃(50XRH)
において48時間エージングを施したところ、60℃、
80%K1−1O)雰囲気に72時間放置したときの寸
法変化率は縦方向0.02%(収縮)、横方向0.01
96 (伸び)であった。この共重合フィルムは等方性
を呈し磁気ディスクとして優れていることが判った。
において48時間エージングを施したところ、60℃、
80%K1−1O)雰囲気に72時間放置したときの寸
法変化率は縦方向0.02%(収縮)、横方向0.01
96 (伸び)であった。この共重合フィルムは等方性
を呈し磁気ディスクとして優れていることが判った。
これらの試験結果を第1表に示した。
比較例1
実施例1に使用したポリエチレンテレフタレートに、平
均粒桂1.0μmのカオリンを0.3wtX添加し、キ
スティングの後二s延伸(機械方向延伸@率3浦;幅方
向延伸倍率3.8)を施し。
均粒桂1.0μmのカオリンを0.3wtX添加し、キ
スティングの後二s延伸(機械方向延伸@率3浦;幅方
向延伸倍率3.8)を施し。
更にトーイン(幅方向11111限収縮):3九σ〕条
件で220℃で熱固定した。得られたフィルムは。
件で220℃で熱固定した。得られたフィルムは。
センター採りのもの
△αt>8X10 / ℃t△αh≦4刈O−6/%
R)1両側部分のもの △αt>5xto ’/T:、 △ah>むxlo
/%RHであった。いずれも異方性(jlI張率)
が高(、また150℃、 go96Rn 72時間の寸
法変化は縦方向0.0996.横方向0.04 X (
伸長)と寸法安定性も不良であった。
R)1両側部分のもの △αt>5xto ’/T:、 △ah>むxlo
/%RHであった。いずれも異方性(jlI張率)
が高(、また150℃、 go96Rn 72時間の寸
法変化は縦方向0.0996.横方向0.04 X (
伸長)と寸法安定性も不良であった。
比較例2
ポリエチレンテレフタレート(固有粘度0.58 ”I
に添加物を用いずに製膜、二軸延伸(機械方向延伸@率
3.614@方向延伸1き率3.7)及び熱固定(22
0℃;トーイン396)を施したものはΔαt!=g1
2×10−67℃と異方性が大きい上K、寸法安定性(
60℃、 8096RH、72時間の経過後)も縦方向
0.9九(収縮)、幅方向0.04316(III’長
)と大ぎかった、このフィルムは表面が著しく平滑なた
め磁気ディスクとして試験当初はms%性が良好なもの
の耐久性が低く、表向が荒れてきて】000万パスに遅
しないうちに不良化(電磁変換%性の急激な低下)した
。
に添加物を用いずに製膜、二軸延伸(機械方向延伸@率
3.614@方向延伸1き率3.7)及び熱固定(22
0℃;トーイン396)を施したものはΔαt!=g1
2×10−67℃と異方性が大きい上K、寸法安定性(
60℃、 8096RH、72時間の経過後)も縦方向
0.9九(収縮)、幅方向0.04316(III’長
)と大ぎかった、このフィルムは表面が著しく平滑なた
め磁気ディスクとして試験当初はms%性が良好なもの
の耐久性が低く、表向が荒れてきて】000万パスに遅
しないうちに不良化(電磁変換%性の急激な低下)した
。
Claims (1)
- 温度膨張率の面内異方性が8×10^−^6/℃以下で
あり、湿度膨張率の面内異方性が4×10^−^6/%
RH以下であり、中心線平均表面粗さ(Ra)が0.0
03〜0.04μmの範囲でありかつ60℃、80%R
Hの温湿度条件下に72時間おいた際の寸法変化率が0
.02%以下であるフレキシブルディスクに供し得るポ
リエステルフィルム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60265092A JPS62124926A (ja) | 1985-11-27 | 1985-11-27 | ポリエステルフイルム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60265092A JPS62124926A (ja) | 1985-11-27 | 1985-11-27 | ポリエステルフイルム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62124926A true JPS62124926A (ja) | 1987-06-06 |
JPH0362134B2 JPH0362134B2 (ja) | 1991-09-25 |
Family
ID=17412486
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60265092A Granted JPS62124926A (ja) | 1985-11-27 | 1985-11-27 | ポリエステルフイルム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62124926A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63288735A (ja) * | 1987-05-21 | 1988-11-25 | Teijin Ltd | ポリエステルフイルム |
WO1993020553A1 (en) * | 1992-04-02 | 1993-10-14 | Teijin Limited | Biaxially oriented base film and floppy disk for high-density magnetic recording made therefrom |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59129932A (ja) * | 1983-01-14 | 1984-07-26 | Toray Ind Inc | 磁気デイスク |
JPS59139131A (ja) * | 1983-01-12 | 1984-08-09 | Diafoil Co Ltd | 磁気デイスク用ポリエステルフイルム |
JPS6080125A (ja) * | 1983-10-07 | 1985-05-08 | Toray Ind Inc | 積層フィルム |
JPS6085437A (ja) * | 1983-10-18 | 1985-05-14 | Teijin Ltd | 磁気記録フレキシブルデイスク |
JPS60113319A (ja) * | 1983-11-25 | 1985-06-19 | Teijin Ltd | 垂直磁気記録媒体 |
-
1985
- 1985-11-27 JP JP60265092A patent/JPS62124926A/ja active Granted
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59139131A (ja) * | 1983-01-12 | 1984-08-09 | Diafoil Co Ltd | 磁気デイスク用ポリエステルフイルム |
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JPS6080125A (ja) * | 1983-10-07 | 1985-05-08 | Toray Ind Inc | 積層フィルム |
JPS6085437A (ja) * | 1983-10-18 | 1985-05-14 | Teijin Ltd | 磁気記録フレキシブルデイスク |
JPS60113319A (ja) * | 1983-11-25 | 1985-06-19 | Teijin Ltd | 垂直磁気記録媒体 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63288735A (ja) * | 1987-05-21 | 1988-11-25 | Teijin Ltd | ポリエステルフイルム |
WO1993020553A1 (en) * | 1992-04-02 | 1993-10-14 | Teijin Limited | Biaxially oriented base film and floppy disk for high-density magnetic recording made therefrom |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0362134B2 (ja) | 1991-09-25 |
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