JPS6177676A - Silicon nitride bonded body and bonding method - Google Patents
Silicon nitride bonded body and bonding methodInfo
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- JPS6177676A JPS6177676A JP19672584A JP19672584A JPS6177676A JP S6177676 A JPS6177676 A JP S6177676A JP 19672584 A JP19672584 A JP 19672584A JP 19672584 A JP19672584 A JP 19672584A JP S6177676 A JPS6177676 A JP S6177676A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
「技術分野」
本発明は耐熱、高強度セラミックスの一種である窒化珪
素体の接合体および接合方法に関し、さらに詳しくは窒
化珪素体の表面にアルミニウムもしくはアルミニウム合
金のメタライズ層を形成し、少なくともこのメタライズ
層を介して接合した接合体および接合方法に関する。Detailed Description of the Invention [Technical Field] The present invention relates to a bonded body and a bonding method for a silicon nitride body, which is a type of heat-resistant, high-strength ceramic, and more specifically to a metallized layer of aluminum or aluminum alloy on the surface of a silicon nitride body. The present invention relates to a bonded body and a bonding method in which a bonded body is formed and bonded through at least this metallized layer.
「従来技術およびその問題点」
窒化珪素体、炭化珪素体などの耐熱性および高強度を有
するセラミックスに関する近年の技術開発はめざましく
、ターボチャージャ、タービンブレード、ラジアントチ
ューブ、高温熱交換器など高耐熱性、高耐食性、高強度
性などを必要とされる用途分野への応用が積極的に検討
されている。"Prior art and its problems" Recent technological developments regarding heat-resistant and high-strength ceramics such as silicon nitride bodies and silicon carbide bodies have been remarkable, and high heat-resistant materials such as turbochargers, turbine blades, radiant tubes, and high-temperature heat exchangers have been developed. , its application to fields that require high corrosion resistance, high strength, etc. is being actively considered.
これらのセラミックスを各種用途に使用するにあたり、
金属軸などの金属部材とセラミックスとを接合すること
が必要となる。一般にセラミックス同士あるいはセラミ
ックスと金属体などとを接合するには、セラミックスの
表面に金属をメタライズし、このメタライズ層を介して
被接合部材を融接したり、金属ろう付けしたり、半田付
けすることが行なわれている。When using these ceramics for various purposes,
It is necessary to bond a metal member such as a metal shaft to ceramics. Generally, in order to join ceramics to each other or ceramics to a metal body, it is necessary to metallize the surface of the ceramics and then fusion weld the parts to be joined through this metallized layer, metal brazing, or soldering. It is being done.
従来、窒化珪素体とステンレス鋼の接合方法として、窒
化珪素体の表面にチタンを2〜4 gm厚さにイオンブ
レーティングした後、アルミニウム箔をステンレス鋼と
の間に挾み、アルゴンガス中で約670℃に加熱し接合
する方法が知られている(昭和58年日本金属学会秋期
大会一般講演概要、542ページ参照)。Conventionally, as a method for joining a silicon nitride body and stainless steel, titanium was ion-blated to a thickness of 2 to 4 gm on the surface of the silicon nitride body, and then an aluminum foil was sandwiched between the stainless steel and the silicon nitride body was bonded in an argon gas atmosphere. A method of joining by heating to about 670° C. is known (see summary of general lectures at the Autumn Conference of the Japan Institute of Metals, 1981, p. 542).
しかしながら、この接合方法では、チタンをイオンブレ
ーティングするため、作業能率が悪く、コストも高くな
る問題点があった。However, in this joining method, since titanium is ion-blated, there are problems in that work efficiency is poor and costs are high.
また、CVO、pVD法などによって窒化珪素体などの
セラミックスの表面に金属をメタライズすることも可能
である。Furthermore, it is also possible to metallize the surface of a ceramic such as a silicon nitride body using CVO, pVD, or the like.
しかしながら、これらの方法では、析出層の生成速度が
遅く、また密着力が小さく、さらに接合部分のみの部分
めっきが難しいなどの問題点があり、その後の金属体ま
たはセラミックスとの接合には不適当であった。However, these methods have problems such as slow formation of a precipitate layer, low adhesion, and difficulty in partially plating only the bonded area, making them unsuitable for subsequent bonding with metal objects or ceramics. Met.
「発明の目的」
本発明の目的は、窒化珪素体と、金属体やセラミックス
などとを強い接合力でかつ比較的簡単な手段で接合でき
るようにした窒化珪素体の接合体および接合方法を提供
することにある。``Object of the Invention'' The object of the present invention is to provide a bonded body and a bonding method for silicon nitride bodies, which enable bonding of silicon nitride bodies and metal bodies, ceramics, etc. with a strong bonding force and by relatively simple means. It's about doing.
「発明の構成」
本発明による窒化珪素体の接合体は、一対の被接合部材
の少なくとも一方が窒化珪素体である接合体であって、
前記窒化珪素体の表面にアルミニラムもしくはアルミニ
ウム合金のメタライズ層が形成され、少なくともこのメ
タライズ層を介して他方の被接合部材が接合されている
。"Structure of the Invention" A joined body of silicon nitride bodies according to the present invention is a joined body in which at least one of a pair of members to be joined is a silicon nitride body,
A metallized layer of aluminum or aluminum alloy is formed on the surface of the silicon nitride body, and the other member to be joined is joined via at least this metallized layer.
また本発明による窒化珪素体の接合方法は、一対の被接
合部材の少なくとも一方が窒化珪素体である接合方法で
あって、前記窒化珪素体にアルミニウムもしくはアルミ
ニウム合金ヲ900〜1400℃の溶融状態で接触させ
ることによりその表面にメタライズ層を形成し、少なく
ともこのメタライズ層を介して他方の被接合部材を接合
する方法である。Further, the method for joining silicon nitride bodies according to the present invention is a joining method in which at least one of a pair of members to be joined is a silicon nitride body, and the silicon nitride body is coated with aluminum or an aluminum alloy in a molten state at 900 to 1400°C. This is a method in which a metallized layer is formed on the surface by contacting the two members, and the other member to be joined is joined via at least this metallized layer.
このように、本発明では、窒化珪素体の表面に直接アル
ミニウムもしくはアルミニウム合金のメタライズ層を形
成し、このメタライズ層を介して他の被接合部材を接合
するようにする。As described above, in the present invention, a metallized layer of aluminum or an aluminum alloy is directly formed on the surface of a silicon nitride body, and other members to be joined are bonded via this metallized layer.
窒化珪素体は、溶融アルミニウムまたはアルミニウム合
金に対して耐食性が優れているため、従来よりアルミニ
ウムの溶解るつぼ、攪拌治具などに使用されている。こ
のため、窒化珪素体のメタライジング材としてアルミニ
ムもしくはアルミニウム合金を積極的に適用した例はな
かった。ちなみに窒化珪素体からなるアルミニラ光溶解
るつぼではたかだか700℃前後の温度下の大気中で使
われているので、好ましいアルミニウムメタライズ層は
るつぼ表面には形成されない。Silicon nitride bodies have excellent corrosion resistance against molten aluminum or aluminum alloys, and have thus far been used in aluminum melting crucibles, stirring jigs, and the like. For this reason, there has never been an example in which aluminum or an aluminum alloy has been positively applied as a metallizing material for a silicon nitride body. Incidentally, since the aluminium photomelting crucible made of silicon nitride is used in the atmosphere at a temperature of around 700° C. at most, a preferable aluminum metallized layer is not formed on the surface of the crucible.
本発明者らは、窒化珪素体にアルミニウムもしくはアル
ミニウム合金を900〜1400℃の溶融状態で接触さ
せることにより、窒化珪素体の表面にアルミニウムもし
くはアルミニウム合金をメタライズすることが可能であ
り、しかもこうして形成されたメタライズ層を介して金
属体やセラミックスなどを接合すると、極めて強い接合
力が得られることを見出し、本発明を完成するに至った
のである。The present inventors have discovered that it is possible to metallize aluminum or an aluminum alloy on the surface of a silicon nitride body by bringing aluminum or an aluminum alloy into contact with the silicon nitride body in a molten state at 900 to 1400°C, and that it is possible to form metallization in this manner. They discovered that an extremely strong bonding force can be obtained by bonding metal bodies, ceramics, etc. through the metallized layer, which led to the completion of the present invention.
このように、本発明によって窒化珪素体にアルミニウム
もしくはアルミニウム合金を直接メタライズでき、かつ
、強い接合力が得られる理由は、高温下において次のよ
うな反応が接合界面で生じるためと考えられる。As described above, the reason why aluminum or aluminum alloy can be directly metallized on a silicon nitride body and strong bonding strength can be obtained according to the present invention is thought to be that the following reaction occurs at the bonding interface at high temperatures.
5i3N 4 + 4Al→3 Si+4
AlN3 5in2 +4 At→3 Si+2
A1203(表面が酸化している場合)
Si3N4 + Al→Al−Si合金+N25i0
2 + Al →Al−9i合金+02本発明で使用
する窒化珪素体は、常圧焼結、ホントプレス、熱間静水
圧プレスなどの焼結方法で焼結した焼結助剤添加の窒化
珪素体;反応焼結方法で焼結した焼結助剤なしの反応焼
結窒化珪素体;あるいは焼結助剤を添加した反応焼結窒
化珪素体をさらに高温で焼結し緻密化した窒化珪素体な
どである。5i3N 4 + 4Al→3 Si+4
AlN3 5in2 +4 At→3 Si+2
A1203 (when the surface is oxidized) Si3N4 + Al→Al-Si alloy + N25i0
2 + Al → Al-9i alloy +02 The silicon nitride body used in the present invention is a silicon nitride body to which a sintering aid is added, which is sintered by a sintering method such as normal pressure sintering, real press, or hot isostatic pressing. ; Reactive sintered silicon nitride body without a sintering aid sintered by a reactive sintering method; Or a silicon nitride body made by sintering a reactive sintered silicon nitride body with a sintering aid added at a higher temperature to make it denser. It is.
また、本発明で使用するアルミニウムは純度が98.0
%以上のものであればよく、アルミニウム合金は銅、珪
素、マンガン、マグネシウム、亜鉛、ニッケル、クロム
、チタン、ビスマスなどを合計で10%以下、好ましく
は5%以下含有するものであればよい。Furthermore, the aluminum used in the present invention has a purity of 98.0.
% or more, and the aluminum alloy may contain copper, silicon, manganese, magnesium, zinc, nickel, chromium, titanium, bismuth, etc. in a total amount of 10% or less, preferably 5% or less.
溶融状態のアルミニウムもしくはアルミニウム合金を窒
化珪素体に接触させる方法としては、浸漬方法(溶融ア
ルミニウムなどの浴中に窒化珪素体を浸す)、上置き方
法(窒化珪素体上に固体アルミニウムなどの片を置き、
加熱して溶融接触させる)、毛細管現象を利用する方法
(窒化珪素体と他方の被接合部材をわずかの間隙を残し
て並置したまま溶融アルミニウムなどの浴に接触させて
メタライジングと接合を同時に行なう)などが採用でき
る。Methods for bringing molten aluminum or aluminum alloy into contact with the silicon nitride body include immersion method (immersing the silicon nitride body in a bath of molten aluminum, etc.), overlaying method (placing a piece of solid aluminum etc. on the silicon nitride body) put,
(heating to bring them into molten contact), a method that utilizes capillary action (metallizing and bonding are performed simultaneously by placing the silicon nitride body and the other member to be joined side-by-side with a slight gap and bringing them into contact with a bath of molten aluminum, etc.) ) etc. can be adopted.
メタライズ温度は900〜1400℃の温度範囲とされ
、900℃より低いとメタライズ層の密着力が弱くなり
、1400℃を超えるとアルミニウムもしくはアルミニ
ウム合金の蒸発が激しく、g量が大きくなるという問題
点が生じる。The metallization temperature is set in a temperature range of 900 to 1400°C, and if it is lower than 900°C, the adhesion of the metallized layer will be weak, and if it exceeds 1400°C, the aluminum or aluminum alloy will evaporate rapidly and the g content will increase. arise.
メタライズの雰囲気は真空、中性雰囲気が適しているが
、大気中であっても溶融金属の上に酸化防止用のフラッ
クスを使用することによりメタライズは可能である。A vacuum or neutral atmosphere is suitable for the metallization, but metallization is possible even in the air by using a flux to prevent oxidation on the molten metal.
以下、本発明の具体例を図面を参照して説明する。Hereinafter, specific examples of the present invention will be described with reference to the drawings.
第1図に示すように、前記のような方法で窒化珪素体1
1の表面にアルミニウムもしくはアルミニウム合金のメ
タライズ層12を形成する。本発明では少なくともこの
メタライズ層12を介して被接合部材を接合する。As shown in FIG. 1, a silicon nitride body 1 is prepared by the method described above.
A metallized layer 12 of aluminum or an aluminum alloy is formed on the surface of the substrate 1. In the present invention, the members to be joined are joined through at least this metallized layer 12.
第2図に示す具体例は、窒化珪素体11.11をメタラ
イズ層12を介して互いに融接したものである。かかる
接合体は、窒化珪素体11.11の間にアルミニウムも
しくはアルミニウム合金を介在させて900〜1400
℃に加熱することによって得られる。In the specific example shown in FIG. 2, silicon nitride bodies 11 and 11 are fusion-welded to each other with a metallized layer 12 interposed therebetween. Such a joined body has aluminum or aluminum alloy interposed between the silicon nitride bodies 11 and 11, and
Obtained by heating to ℃.
第3図に示す具体例は、窒化珪素体11の表面に形成さ
れたメタライズ層】2に、金属ろう13を介して金属体
14を接合したものである。In the specific example shown in FIG. 3, a metal body 14 is bonded to a metallized layer 2 formed on the surface of a silicon nitride body 11 via a metal solder 13.
第4図に示す具体例は、窒化珪素体It、 11の表面
にそれぞれ形成されたメタライズ層12.12を金属ろ
う13を介して互いに接合したものである。In the specific example shown in FIG. 4, metallized layers 12 and 12 formed on the surfaces of silicon nitride bodies It and 11 are bonded to each other via a metal solder 13.
第5図に示す具体例は、窒化珪素体11の表面に形成さ
れたメタライズ層12の上に、さらに金属層!5を形成
し、この全8層15に半田】8を介して金属体14を接
合したものである。この場合、金属層15は、銅、ニッ
ケル、黄銅、鉛−スズ合金などの電解メッキや、例えば
塩化第一銅、炭化水素を用いて高温、乾式で行なうカッ
パライジング処理などによって形成できる。In the specific example shown in FIG. 5, a metal layer is added on the metallized layer 12 formed on the surface of the silicon nitride body 11! 5 is formed, and a metal body 14 is bonded to all eight layers 15 via solder 8. In this case, the metal layer 15 can be formed by electrolytic plating of copper, nickel, brass, lead-tin alloy, etc., or by dry copperizing treatment at high temperature using, for example, cuprous chloride or hydrocarbon.
第6図に示す具体例は、窒化珪素体11.11の表面に
形成されたメタライズ層12.12の上に、それぞれ金
属層15.15を形成し、これらの金属層15、
□15を半田1θを介して互いに接合したものである
。In the specific example shown in FIG. 6, metal layers 15.15 are formed on the metallized layers 12.12 formed on the surface of the silicon nitride body 11.11, and these metal layers 15,
□15 are joined to each other via solder 1θ.
第7図に示す具体例は、第6図の例をさらに応用したも
のであり、半田16による接合の際、金属層15.15
の間に金属電極17を入れて接合したものである。The specific example shown in FIG. 7 is a further application of the example shown in FIG.
A metal electrode 17 is inserted between the two and bonded.
なお、本発明は、窒化珪素体と他のセラミックスとの接
合にも適用できる。Note that the present invention can also be applied to bonding a silicon nitride body and other ceramics.
「発明の実施例」
実施例1
常圧焼結窒化珪素体(10ma+ X lOmmX 2
0mm) (7)先端部分5+mを真空中で1300℃
の溶融アルミニウムに1分間浸漬し、アルミニウムのメ
タライズ層を形成した。このメタライズ層の上にワセリ
ンを薄く塗布し、さらに塩化第一銅の粉末を均一に塗布
した後、大気中450℃の炉中で20分間保持して銅の
層を形成した。そして、この窒化珪素体の銅の層にコパ
ール合金体(10mm X 1oaa+X 20ma+
)を半田呼ばして窒化珪素体と金属体との接合体を得た
。“Embodiments of the invention” Example 1 Pressure-sintered silicon nitride body (10 ma+
0mm) (7) Tip part 5+m in vacuum at 1300℃
was immersed in molten aluminum for 1 minute to form an aluminum metallized layer. Vaseline was applied thinly onto this metallized layer, and then cuprous chloride powder was evenly applied, followed by holding in a furnace at 450° C. in the atmosphere for 20 minutes to form a copper layer. Then, a copper alloy body (10mm x 1oaa+X 20ma+
) was called solder to obtain a bonded body of a silicon nitride body and a metal body.
この接合体の曲げ強度は8kg/ma+2を示し、破断
箇所は半田層内であった。The bending strength of this joined body was 8 kg/ma+2, and the fracture location was within the solder layer.
実施例2
熱間静水圧プレスで焼結した窒化珪素体(]0■X i
ommX 20mm)の端面の間に0.5mm厚さの6
061アルミニウム合金板を挾み、10Torrのアル
ゴン雰囲気中で1200℃130秒間保持することによ
り、窒化珪素体同士の接合体を得た。この接合体の曲げ
強度は18 kz/■2を示し、破断箇所はアルミニウ
ム合金層の内部であった。Example 2 Silicon nitride body sintered by hot isostatic pressing (]0■X i
6 with a thickness of 0.5 mm between the end faces of
A bonded body of silicon nitride bodies was obtained by sandwiching the 061 aluminum alloy plates and holding them at 1200° C. for 130 seconds in an argon atmosphere of 10 Torr. The bending strength of this joined body was 18 kHz/■2, and the fracture location was inside the aluminum alloy layer.
「発明の効果J
以上説明したように、本発明によれば、窒化珪素体にア
ルミニウムもしくはアルミニウム合金を900〜140
0℃の溶融状態で接触させることによりその表面にメタ
ライズ層を形成し、少なくともこのメタライズ層を介し
て金属体やセラミックスを接合するようにしたので、比
較的簡単な手段により接着力の極めて強い接合体を得る
ことができる。"Effect of the Invention J As explained above, according to the present invention, aluminum or aluminum alloy is added to the silicon nitride body to
By contacting them in a molten state at 0°C, a metallized layer is formed on their surfaces, and the metal bodies and ceramics are bonded at least through this metallized layer, so a bond with extremely strong adhesive force can be achieved by a relatively simple means. You can get a body.
第1図は窒化珪素体の表面にアルミニウムもしくはアル
ミニウム合金のメタライズ層を形成した状態を示す断面
図、第2図、第3図、第4図、第5図、第8図および第
7図は本発明による接合体のそれぞれ別の具体例を示す
断面図である。
図中、11は窒化珪素体、12はメタライズ層、13は
金属ろう、14は金属体、15は金属層、1Bは半田、
17は金属電極である。Figure 1 is a cross-sectional view showing a state in which a metallized layer of aluminum or aluminum alloy is formed on the surface of a silicon nitride body, and Figures 2, 3, 4, 5, 8, and 7 are FIG. 4 is a cross-sectional view showing different specific examples of the joined body according to the present invention. In the figure, 11 is a silicon nitride body, 12 is a metallized layer, 13 is a metal solder, 14 is a metal body, 15 is a metal layer, 1B is solder,
17 is a metal electrode.
Claims (12)
である接合体において、前記窒化珪素体の表面にアルミ
ニウムもしくはアルミニウム合金のメタライズ層が形成
され、少なくともこのメタライズ層を介して他方の被接
合部材が接合されていることを特徴とする窒化珪素体の
接合体。(1) In a bonded body in which at least one of a pair of members to be joined is a silicon nitride body, a metallized layer of aluminum or an aluminum alloy is formed on the surface of the silicon nitride body, and at least one of the members to be joined is connected to the other member to be joined through the metallized layer. A joined body of silicon nitride bodies, characterized in that members are joined.
はいずれも窒化珪素体であって、前記メタライズ層を介
して互いに融接されている窒化珪素体の接合体。(2) A bonded body of silicon nitride bodies according to claim 1, wherein both of the members to be joined are silicon nitride bodies, and the silicon nitride bodies are fusion-welded to each other via the metallized layer.
は窒化珪素体と金属体であって、この窒化珪素体の表面
に形成された前記メタライズ層に金属ろうを介して前記
金属体が接合されている窒化珪素体の接合体。(3) In claim 1, the members to be joined are a silicon nitride body and a metal body, and the metal body is attached to the metallized layer formed on the surface of the silicon nitride body through a metal solder. A bonded body of silicon nitride bodies.
はいずれも窒化珪素体であって、これらの窒化珪素体の
表面に形成された前記メタライズ層が金属ろうを介して
互いに接合されている窒化珪素体の接合体。(4) In claim 1, the members to be joined are all silicon nitride bodies, and the metallized layers formed on the surfaces of these silicon nitride bodies are joined to each other via a metal solder. A bonded body of silicon nitride bodies.
は窒化珪素体と金属体であって、この窒化珪素体の表面
に形成された前記メタライズ層上にさらに金属層が形成
され、この金属層に半田を介して前記金属体が接合され
ている窒化珪素体の接合体。(5) In claim 1, the members to be joined are a silicon nitride body and a metal body, and a metal layer is further formed on the metallized layer formed on the surface of the silicon nitride body, and A bonded body of a silicon nitride body, in which the metal body is bonded to a metal layer via solder.
はいずれも窒化珪素体であって、これらの窒化珪素体の
表面に形成された前記メタライズ層上にさらに金属層が
それぞれ形成され、これらの金属層が半田を介して互い
に接合されている窒化珪素体の接合体。(6) In claim 1, each of the members to be joined is a silicon nitride body, and a metal layer is further formed on each of the metallized layers formed on the surfaces of these silicon nitride bodies, A bonded body of silicon nitride bodies in which these metal layers are bonded to each other via solder.
である接合方法において、前記窒化珪素体にアルミニウ
ムもしくはアルミニウム合金を900〜1400℃の溶
融状態で接触させることによりその表面にメタライズ層
を形成し、少なくともこのメタライズ層を介して他方の
被接合部材を接合することを特徴とする窒化珪素体の接
合方法。(7) In a joining method in which at least one of a pair of members to be joined is a silicon nitride body, a metallized layer is formed on the surface by bringing aluminum or an aluminum alloy into contact with the silicon nitride body in a molten state at 900 to 1400°C. A method for joining silicon nitride bodies, characterized in that the other member to be joined is joined through at least this metallized layer.
はいずれも窒化珪素体とし、これらの窒化珪素体の間に
アルミニウムもしくはアルミニウム合金を介在させて9
00〜1400℃に加熱する窒化珪素体の接合方法。(8) In claim 7, each of the members to be joined is a silicon nitride body, and aluminum or an aluminum alloy is interposed between these silicon nitride bodies.
A method for joining silicon nitride bodies by heating to 00 to 1400°C.
は窒化珪素体と金属体とし、この窒化珪素体の表面に前
記メタライズ層を形成し、このメタライズ層に前記金属
体を金属ろう付けする窒化珪素体の接合方法。(9) In claim 7, the members to be joined are a silicon nitride body and a metal body, the metallized layer is formed on the surface of the silicon nitride body, and the metal body is metal-brazed to the metallized layer. A method for joining silicon nitride bodies.
材はいずれも窒化珪素体とし、これらの窒化珪素体の表
面に前記メタライズ層を形成し、このメタライズ層を互
いに金属ろう付けする窒化珪素体の接合方法。(10) In claim 7, each of the members to be joined is a silicon nitride body, the metallized layer is formed on the surface of these silicon nitride bodies, and the metallized layer is metallized to each other. How to join the body.
材は窒化珪素体と金属体とし、この窒化珪素体の表面に
前記メタライズ層を形成し、さらにこのメタライズ層上
に金属層を形成し、この金属層に前記金属体を半田付け
する窒化珪素体の接合方法。(11) In claim 7, the members to be joined are a silicon nitride body and a metal body, the metallized layer is formed on the surface of the silicon nitride body, and a metal layer is further formed on the metallized layer. . A method for joining a silicon nitride body, in which the metal body is soldered to the metal layer.
材はいずれも窒化珪素体とし、これらの窒化珪素体の表
面に前記メタライズ層を形成し、さらにこのメタライズ
層上に金属層をそれぞれ形成し、これらの金属層を互い
に半田付けする窒化珪素体の接合方法。(12) In claim 7, each of the members to be joined is a silicon nitride body, the metallized layer is formed on the surface of these silicon nitride bodies, and further a metal layer is formed on each of the metallized layers. and a method of joining silicon nitride bodies in which these metal layers are soldered together.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19672584A JPS6177676A (en) | 1984-09-21 | 1984-09-21 | Silicon nitride bonded body and bonding method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19672584A JPS6177676A (en) | 1984-09-21 | 1984-09-21 | Silicon nitride bonded body and bonding method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6177676A true JPS6177676A (en) | 1986-04-21 |
Family
ID=16362554
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19672584A Pending JPS6177676A (en) | 1984-09-21 | 1984-09-21 | Silicon nitride bonded body and bonding method |
Country Status (1)
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JP (1) | JPS6177676A (en) |
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