JPS61227191A - 溶融塩浴中溶解金属含量の連続的調整法及び電解槽への前記金属の塩の連続的供給における前記方法の使用 - Google Patents
溶融塩浴中溶解金属含量の連続的調整法及び電解槽への前記金属の塩の連続的供給における前記方法の使用Info
- Publication number
- JPS61227191A JPS61227191A JP61068271A JP6827186A JPS61227191A JP S61227191 A JPS61227191 A JP S61227191A JP 61068271 A JP61068271 A JP 61068271A JP 6827186 A JP6827186 A JP 6827186A JP S61227191 A JPS61227191 A JP S61227191A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal
- electrolytic cell
- bath
- content
- potential
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 29
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 29
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 title description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 22
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 15
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 8
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 abstract description 6
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 abstract description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 abstract 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 abstract 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 8
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 6
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 description 5
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 241000202814 Cochliomyia hominivorax Species 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910001514 alkali metal chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001617 alkaline earth metal chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- PDPJQWYGJJBYLF-UHFFFAOYSA-J hafnium tetrachloride Chemical compound Cl[Hf](Cl)(Cl)Cl PDPJQWYGJJBYLF-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 206010033799 Paralysis Diseases 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001515 alkali metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001618 alkaline earth metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000005518 electrochemistry Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910021381 transition metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25C—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25C7/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells; Servicing or operating of cells
- C25C7/06—Operating or servicing
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はグルノープル国立電気化学電気冶金学高等学校
(1’Ecole Nationale 5up5ri
eure d’E1ectrochimie et d
’ E1ectrom5tallurgie )の研宛
所で行なわれた研究の成果であシ、溶融塩浴中に溶解す
る遷移金属の含量を連続的に調整する方法と、電解槽に
前記金属の塩を連続供給する場合の前記方法の使用とに
係る。
(1’Ecole Nationale 5up5ri
eure d’E1ectrochimie et d
’ E1ectrom5tallurgie )の研宛
所で行なわれた研究の成果であシ、溶融塩浴中に溶解す
る遷移金属の含量を連続的に調整する方法と、電解槽に
前記金属の塩を連続供給する場合の前記方法の使用とに
係る。
当業者に公知のように、遷移金属はこれら金属の塩化物
の少なくとも1つをアルカリ及び/又はアルカリ土類金
属塩化物からなる溶融塩浴中に予め溶解し、これを電解
槽内で連続的に電解することにより工業的に製造し得る
。
の少なくとも1つをアルカリ及び/又はアルカリ土類金
属塩化物からなる溶融塩浴中に予め溶解し、これを電解
槽内で連続的に電解することにより工業的に製造し得る
。
本明細書における遷移金属とは、メンデレーエフ(Me
ndeleeりの特定分類による第■b族、第vb族、
第■b族に属する総ての金属、特ζζチタン、ジルコニ
ウム、ハフニウム、タンタル、ニオブ及びノセナジウム
を意味する。
ndeleeりの特定分類による第■b族、第vb族、
第■b族に属する総ての金属、特ζζチタン、ジルコニ
ウム、ハフニウム、タンタル、ニオブ及びノセナジウム
を意味する。
また、連続電解とはカン−Pでの金属の析出及び採取と
アノードでの塩素の発生とが、新たな塩化物の導入によ
って連続的に相殺されるような方法を意味すると理解さ
れたい。前記塩化物導入は浴中に溶解される製造すべき
金属の含量を比較的一定していて且つ好ましくは最適の
値、即ち電解槽の良好な作動にとって最も好ましい値に
維持するために行なう。
アノードでの塩素の発生とが、新たな塩化物の導入によ
って連続的に相殺されるような方法を意味すると理解さ
れたい。前記塩化物導入は浴中に溶解される製造すべき
金属の含量を比較的一定していて且つ好ましくは最適の
値、即ち電解槽の良好な作動にとって最も好ましい値に
維持するために行なう。
このような方法では、溶解金属含量を効果的に一定の値
に維持するためには、電解槽で消費された量に正確に相
幽する量の新しい塩化物を電解槽に供給しなければなら
ない。
に維持するためには、電解槽で消費された量に正確に相
幽する量の新しい塩化物を電解槽に供給しなければなら
ない。
理論的には前記量はカッ−rに析出した金属の量に比例
し、従って電解槽に流れる電流の量に比例するため、供
給すべき塩化物量の決定には、電解電流の強さと経過時
間との測定値を用いるのが適切なように思われる。しか
しながら実際正ζは電流、当該金属塩化物の供給及び収
率の変動が不可避であるため、前述の如き方法を用いる
と溶解金属含量と最適含量との間にずれが生じ、このず
れは電解槽の作動時間が長ければ長い程大きくなる。
し、従って電解槽に流れる電流の量に比例するため、供
給すべき塩化物量の決定には、電解電流の強さと経過時
間との測定値を用いるのが適切なように思われる。しか
しながら実際正ζは電流、当該金属塩化物の供給及び収
率の変動が不可避であるため、前述の如き方法を用いる
と溶解金属含量と最適含量との間にずれが生じ、このず
れは電解槽の作動時間が長ければ長い程大きくなる。
従って浴中の溶解金属含量を効果的に調整するためには
別の方法を用いなければ表らない。
別の方法を用いなければ表らない。
一般的に用いられている方法は浴を定期的に採取し、分
析にかけ、その結果に応じて供給すべき金属塩化物量を
調整することからなる。しかしながらこの操作は複雑で
あり、何よりも応答が遅いため、前記ずれが定期的番こ
多少は減少しても、浴中の溶解金属塩化物含量が最適値
に等しくなることは殆んどない。
析にかけ、その結果に応じて供給すべき金属塩化物量を
調整することからなる。しかしながらこの操作は複雑で
あり、何よりも応答が遅いため、前記ずれが定期的番こ
多少は減少しても、浴中の溶解金属塩化物含量が最適値
に等しくなることは殆んどない。
浴の組成を連続的に制御し、従って前記ずれを大幅に減
少せしめるという点でより有利な方法も提案された。こ
の方法では析出すべき金属の棒からなり且つ溶融塩浴中
に浸漬される溶解金属計測電極を使用する。これらの電
極は通常浴中の溶解金属含量の関数たる電位を示す。従
ってこの電位を測定して基準電極と比較しさえすれば調
整すべき含量を知ることができる。しかしながら残牛な
ことに、係数10の溶解金属含量変化に関しては前記電
位のマヒが数十mV民下で1、雀り込−とれでは正確な
調整に不十分である。
少せしめるという点でより有利な方法も提案された。こ
の方法では析出すべき金属の棒からなり且つ溶融塩浴中
に浸漬される溶解金属計測電極を使用する。これらの電
極は通常浴中の溶解金属含量の関数たる電位を示す。従
ってこの電位を測定して基準電極と比較しさえすれば調
整すべき含量を知ることができる。しかしながら残牛な
ことに、係数10の溶解金属含量変化に関しては前記電
位のマヒが数十mV民下で1、雀り込−とれでは正確な
調整に不十分である。
本出願人はこの種の方法の感度を向上させるべく研究を
行ない、電解浴で通常使用させる溶解遷移金属含量範囲
、即ち1〜10重量係では、浴中に比較的少量の特定イ
オンを添加すれば前記電位の変化を大幅に増幅させ得る
ことを発見するに紋った。
行ない、電解浴で通常使用させる溶解遷移金属含量範囲
、即ち1〜10重量係では、浴中に比較的少量の特定イ
オンを添加すれば前記電位の変化を大幅に増幅させ得る
ことを発見するに紋った。
このようにして本出願人は、アルカリ及び/又はアルカ
リ土類金属フッ化物を、含まれるフッ素対浴中溶解遷移
金属量のモル比が2.5〜15になるような量だけ浴中
に導入することを特徴とする方法を開発した。前記モル
比の値を4〜8にすれば感度は更に著しく増加する。こ
のような添加を行なうと±2.5%の溶解金属含量変化
に対して数百mVの電位変化が得られ、従って前記含量
の正確な制御が可能になる。
リ土類金属フッ化物を、含まれるフッ素対浴中溶解遷移
金属量のモル比が2.5〜15になるような量だけ浴中
に導入することを特徴とする方法を開発した。前記モル
比の値を4〜8にすれば感度は更に著しく増加する。こ
のような添加を行なうと±2.5%の溶解金属含量変化
に対して数百mVの電位変化が得られ、従って前記含量
の正確な制御が可能になる。
この方法は実際には、電解槽の良好な作動を実現せしめ
る最適含量が既知であるため、この含量と前記モル比と
に基づいて添加すべきフッ化物量を算出することからな
る。このフッ化物は浴形成時に浴中に導入する。
る最適含量が既知であるため、この含量と前記モル比と
に基づいて添加すべきフッ化物量を算出することからな
る。このフッ化物は浴形成時に浴中に導入する。
電解槽には計測電極と基準電極とを具備し、析出すべき
遷移金属の塩化物を最適量導入し、溶解するに十分な時
間が経過した後で所謂電解の開始前に電位を測定する。
遷移金属の塩化物を最適量導入し、溶解するに十分な時
間が経過した後で所謂電解の開始前に電位を測定する。
溶解金属含量は浴の分析によって確認し得る。
次いで電解槽を始動させ、測定電位が一定の値を維持す
るように金属塩化物を供給しながら規則正しく作動させ
る。前記測定を電解槽への連続的供給に利用し得ること
は明白である。即ち、測定電位を浴の最適含量に対応す
る目標電位(potentielde consign
e )と絶えず比較し、その結果に応じて塩化物供給量
を調整しさえすればよい。この方法を用いれば金属塩化
物の供給量を極めて微細に調節し得、電解の間中溶解金
属含量を極めて正確に制御し得る。
るように金属塩化物を供給しながら規則正しく作動させ
る。前記測定を電解槽への連続的供給に利用し得ること
は明白である。即ち、測定電位を浴の最適含量に対応す
る目標電位(potentielde consign
e )と絶えず比較し、その結果に応じて塩化物供給量
を調整しさえすればよい。この方法を用いれば金属塩化
物の供給量を極めて微細に調節し得、電解の間中溶解金
属含量を極めて正確に制御し得る。
電解槽に計測電極及び基準電極を組込むことは難しい可
能性もある。そこで本出願人は従来の電解槽に存在する
手段の利用を試みた。
能性もある。そこで本出願人は従来の電解槽に存在する
手段の利用を試みた。
電解槽の内壁が金属の場合にはこれを計測電極として使
用できることが判明した。実際、計測電極は析出すべき
金属で構成しなければならないのであるから、析出すべ
き金属の塩化物の存在下で予電解を行なう間に、電解槽
のアノードとタンク壁面との間に直流を流してみた。こ
のようにするとタンク壁面上に得られる金属析出物が計
測電極の役割を完全に果し得ることが判明した。必要で
あればこの壁面上の析出金属を電解中に定期的に繰返し
形成してもよく、又はタンクのカソード成極により永続
的に形成することもできる。
用できることが判明した。実際、計測電極は析出すべき
金属で構成しなければならないのであるから、析出すべ
き金属の塩化物の存在下で予電解を行なう間に、電解槽
のアノードとタンク壁面との間に直流を流してみた。こ
のようにするとタンク壁面上に得られる金属析出物が計
測電極の役割を完全に果し得ることが判明した。必要で
あればこの壁面上の析出金属を電解中に定期的に繰返し
形成してもよく、又はタンクのカソード成極により永続
的に形成することもできる。
本出願人はまた、基準電極の設置の省略も試みた。即ち
基準電極の代シに電解槽のアノードを使用するのである
。しかし表からこの場合はアノードに流れる電解電流I
に起因して電位制御回路に抵抗降下が生じる。これは測
定を乱し、実際の浴中溶解塩化物含量について誤った指
示を与える原因となる。そこで本出願人は計測電極と7
ノードとの間に後述の如き構造の抵抗降下補正器を配置
することにした。
基準電極の代シに電解槽のアノードを使用するのである
。しかし表からこの場合はアノードに流れる電解電流I
に起因して電位制御回路に抵抗降下が生じる。これは測
定を乱し、実際の浴中溶解塩化物含量について誤った指
示を与える原因となる。そこで本出願人は計測電極と7
ノードとの間に後述の如き構造の抵抗降下補正器を配置
することにした。
本発明は添付図面に基づく以下の非限定的具体例の説明
からより良く理解されよう。
からより良く理解されよう。
第1図では電解槽が密封蓋2で閉鎖された金属タンク1
からなシ、この蓋2に発生塩素回収室4を持つアノード
3と、カソード5と、気体塩化ハフニウム供給管6とが
固定されている。これら各機械要素は塩化カリウムと塩
化す) IJウムとの混合物からなる塩浴7の中に浸漬
され−る。
からなシ、この蓋2に発生塩素回収室4を持つアノード
3と、カソード5と、気体塩化ハフニウム供給管6とが
固定されている。これら各機械要素は塩化カリウムと塩
化す) IJウムとの混合物からなる塩浴7の中に浸漬
され−る。
供給システムは粉末塩化ハフニウム9を収容する密閉容
器8からなる。この容器はモータ11で駆動するスクリ
ューウオーム1 ・Oと連通する。管を底lζ有し、こ
のモータによって前記塩化物が容器8から管6と連通す
る気化器12方向へ移送される。
器8からなる。この容器はモータ11で駆動するスクリ
ューウオーム1 ・Oと連通する。管を底lζ有し、こ
のモータによって前記塩化物が容器8から管6と連通す
る気化器12方向へ移送される。
電解槽の給電と、電位の制御と、電解槽への塩化物供給
制御とを行なうシステムは、 −導線14を介して電解槽のアノードに接続される正極
と、導線15を介して電解槽のカッ−rに接続される負
極とを有する直流源13、−シャント17の端子A及び
Bを介して導線14に接続されると共に、端子Cを介し
てタンク1に連結された導線18に接続される抵抗降下
補正器16、 を含み、 一装置16の端子A及びDが測定電位を基準電位と比較
する比較器19に接続され、測定電位が基準電位の絶対
値より大きい絶対値を有する場合には前記比歇器が導1
s20を介してモータ11に信号を送出する。
制御とを行なうシステムは、 −導線14を介して電解槽のアノードに接続される正極
と、導線15を介して電解槽のカッ−rに接続される負
極とを有する直流源13、−シャント17の端子A及び
Bを介して導線14に接続されると共に、端子Cを介し
てタンク1に連結された導線18に接続される抵抗降下
補正器16、 を含み、 一装置16の端子A及びDが測定電位を基準電位と比較
する比較器19に接続され、測定電位が基準電位の絶対
値より大きい絶対値を有する場合には前記比歇器が導1
s20を介してモータ11に信号を送出する。
第2図1ζは演算増幅器AOPと、同一値を有する2つ
の抵抗器R1と、可変及び可調整抵抗器Rvとからなる
抵抗降下補正器が示されている。アノードと計測電極(
電解槽のタンク)との間では端子AとCとの間で電圧−
Uが測定される。この電圧は検知したい電位Eと抵抗降
下項RIとからなシ、式U=E+RIで示される。Rは
溶融浴の幾何学的条件、性質及び温度にのみ依存する一
定の抵抗を表わす。■の値に関係なく項几Iを取出すた
めには、第1図に符号17で示されているシャント倍率
rを介して工に比例する値rIの電圧を測定する。第2
図の回路に適用される網及び分岐点の法則により出力電
圧Sの答は 5=U−(R1−r/Rv)I 又は 8=E+(R−R1−r/Rv)I となる。
の抵抗器R1と、可変及び可調整抵抗器Rvとからなる
抵抗降下補正器が示されている。アノードと計測電極(
電解槽のタンク)との間では端子AとCとの間で電圧−
Uが測定される。この電圧は検知したい電位Eと抵抗降
下項RIとからなシ、式U=E+RIで示される。Rは
溶融浴の幾何学的条件、性質及び温度にのみ依存する一
定の抵抗を表わす。■の値に関係なく項几Iを取出すた
めには、第1図に符号17で示されているシャント倍率
rを介して工に比例する値rIの電圧を測定する。第2
図の回路に適用される網及び分岐点の法則により出力電
圧Sの答は 5=U−(R1−r/Rv)I 又は 8=E+(R−R1−r/Rv)I となる。
操作の最初に、次の関係
R=R1−rlPLv
が得られるようにRvの値を調整することからなる較正
を行なう。この時点で8=Eとなる。これは工の値には
無関係であシ、従ってその変動には左右されず、第3図
に示したように溶解金属含量にのみ依存する。この信号
Sは比較器19に送られる。
を行なう。この時点で8=Eとなる。これは工の値には
無関係であシ、従ってその変動には左右されず、第3図
に示したように溶解金属含量にのみ依存する。この信号
Sは比較器19に送られる。
第3図は抵抗降下補正されたアノード(通常塩素に標準
)と比較したタンク(ハフニウム製計測電極)の電位E
又はS(単位ボルト)の変化を浴中溶解ハフニウム含量
(チ)とフッ素量対ハフニウム量のモル比Rとの関数と
して表わす曲線である。
)と比較したタンク(ハフニウム製計測電極)の電位E
又はS(単位ボルト)の変化を浴中溶解ハフニウム含量
(チ)とフッ素量対ハフニウム量のモル比Rとの関数と
して表わす曲線である。
この曲線は750Cで溶融したKCノ、NaCノ等モル
量浴(KO256重量転NaCj 44重量%)に1.
1−のフッ素をNaF (2,5重量饅)形態で加えた
ものに関する曲線である。このグラフでは浴中溶解ハフ
ニウム含量が0.5重量%から5重量−に変化する時に
750mVの電位変化が見られる。
量浴(KO256重量転NaCj 44重量%)に1.
1−のフッ素をNaF (2,5重量饅)形態で加えた
ものに関する曲線である。このグラフでは浴中溶解ハフ
ニウム含量が0.5重量%から5重量−に変化する時に
750mVの電位変化が見られる。
ここlζは示さない別の曲線からは、4.11のフッ素
を加えると、1〜8%のハフニウム重量変化の場合も同
じ電位変化が得られることが判明した。
を加えると、1〜8%のハフニウム重量変化の場合も同
じ電位変化が得られることが判明した。
より一般的には、最大限の変化、従って最大限の正確さ
けフッ素/溶解金属そル比が4〜80間にある時に得ら
れるが、この比を2.5〜150間にして4許容度の高
い結果を得ることができる。
けフッ素/溶解金属そル比が4〜80間にある時に得ら
れるが、この比を2.5〜150間にして4許容度の高
い結果を得ることができる。
本発明は遷移金属を、その塩化物のアルカリ又はアルカ
リ土類金属塩化物溶融浴中での連続電解によりa造した
い場合には如何なる場合でも適用し得る。
リ土類金属塩化物溶融浴中での連続電解によりa造した
い場合には如何なる場合でも適用し得る。
第1図は電解タンクからなる計測電極と、アノ−+”か
らなる基準電極と、抵抗降下補正器とを介して本発明の
方法が実施される、塩化物供給システム付ハフニウム展
造用電解槽の簡略説明図、第2図は前記補正器の簡略説
明図、第3図は基準(アノーr十補正器)と比較したタ
ンク(計測電)イ 極)の電位Eの変化を浴中溶解ハフニウム含量の関数と
して示す曲線グラフである。 1・・・タンク、2・・・蓋、3・・・アノード、4・
・・塩素回収室、5・・・カソード、10・・・スクリ
ューウオーム、 11・・・モータ、12・・・気化
器、13・・・直流源、16・・・抵抗降下補正器、1
7・・・シャント、19・・・比較器、AOP・・・演
算増幅器。
らなる基準電極と、抵抗降下補正器とを介して本発明の
方法が実施される、塩化物供給システム付ハフニウム展
造用電解槽の簡略説明図、第2図は前記補正器の簡略説
明図、第3図は基準(アノーr十補正器)と比較したタ
ンク(計測電)イ 極)の電位Eの変化を浴中溶解ハフニウム含量の関数と
して示す曲線グラフである。 1・・・タンク、2・・・蓋、3・・・アノード、4・
・・塩素回収室、5・・・カソード、10・・・スクリ
ューウオーム、 11・・・モータ、12・・・気化
器、13・・・直流源、16・・・抵抗降下補正器、1
7・・・シャント、19・・・比較器、AOP・・・演
算増幅器。
Claims (5)
- (1)遷移金属をその塩化物の少なくとも1つから得る
ために電解槽内に配置された溶融塩化物浴の中に溶解さ
れる当該遷移金属の含量を連続的に調整する方法であつ
て、前記浴中に浸漬された前記遷移金属の計測電極の電
位を測定して基準電極と比較することからなり、前記浴
中にアルカリ及び/又はアルカリ土類金属フツ化物を含
有フツ素対溶解遷移金属のモル比が2.5から15の間
に含まれるような量だけ導入することを特徴とする方法
。 - (2)前記モル比が4から8の間に含まれることを特徴
とする特許請求の範囲第1項に記載の方法。 - (3)前記計測電極を、当該遷移金属を析出させた電解
槽金属壁面で構成することを特徴とする特許請求の範囲
第1項に記載の方法。 - (4)基準電極を、抵抗降下補正器を具備した電解槽ア
ノードで構成することを特徴とする特許請求の範囲第1
項に記載の方法。 - (5)電解槽に当該遷移金属の塩化物を連続的に供給す
るための特許請求の範囲第1項に記載の方法の使用であ
つて、測定電位を当該遷移金属の塩化物の浴中最適含量
に対応する目標電位と比較し、測定電位の絶対値が目標
電位の絶対値より大きい値を維持する限り供給命令を出
すことを特徴とする使用。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR8505196 | 1985-03-28 | ||
FR8505196A FR2579629B1 (fr) | 1985-03-28 | 1985-03-28 | Procede de controle en continu de la teneur en metal dissous dans un bain de sels fondus et son application a l'alimentation continue d'une cellule d'electrolyse en sels dudit metal |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61227191A true JPS61227191A (ja) | 1986-10-09 |
JPH033753B2 JPH033753B2 (ja) | 1991-01-21 |
Family
ID=9317977
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61068271A Granted JPS61227191A (ja) | 1985-03-28 | 1986-03-26 | 溶融塩浴中溶解金属含量の連続的調整法及び電解槽への前記金属の塩の連続的供給における前記方法の使用 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4657643A (ja) |
EP (1) | EP0198775B1 (ja) |
JP (1) | JPS61227191A (ja) |
AT (1) | ATE34586T1 (ja) |
CA (1) | CA1251161A (ja) |
DE (1) | DE3660222D1 (ja) |
FR (1) | FR2579629B1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0633161A (ja) * | 1992-05-12 | 1994-02-08 | Europ Du Zirconium Cezus:Co | 均質で純粋なインゴットに加工することのできる耐熱金属合金及び該合金の製造方法 |
JP2015098626A (ja) * | 2013-11-19 | 2015-05-28 | 住友電気工業株式会社 | 精製金属の製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2828251A (en) * | 1953-09-30 | 1958-03-25 | Horizons Titanium Corp | Electrolytic cladding process |
FR1154129A (fr) * | 1955-05-31 | 1958-04-02 | Union Carbide & Carbon Corp | Procédé électrolytique semi-continu |
US2975111A (en) * | 1958-03-19 | 1961-03-14 | New Jersey Zinc Co | Production of titanium |
FR2494725A1 (fr) * | 1980-11-27 | 1982-05-28 | Armand Marcel | Nouveau dispositif et procede pour l'alimentation en ticl4 des cellules d'electrolyse pour la preparation du titane |
-
1985
- 1985-03-28 FR FR8505196A patent/FR2579629B1/fr not_active Expired
-
1986
- 1986-03-12 US US06/839,131 patent/US4657643A/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-03-25 CA CA000504974A patent/CA1251161A/fr not_active Expired
- 1986-03-26 EP EP86420087A patent/EP0198775B1/fr not_active Expired
- 1986-03-26 JP JP61068271A patent/JPS61227191A/ja active Granted
- 1986-03-26 DE DE8686420087T patent/DE3660222D1/de not_active Expired
- 1986-03-26 AT AT86420087T patent/ATE34586T1/de not_active IP Right Cessation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0633161A (ja) * | 1992-05-12 | 1994-02-08 | Europ Du Zirconium Cezus:Co | 均質で純粋なインゴットに加工することのできる耐熱金属合金及び該合金の製造方法 |
JP2015098626A (ja) * | 2013-11-19 | 2015-05-28 | 住友電気工業株式会社 | 精製金属の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3660222D1 (en) | 1988-06-30 |
CA1251161A (fr) | 1989-03-14 |
EP0198775B1 (fr) | 1988-05-25 |
ATE34586T1 (de) | 1988-06-15 |
JPH033753B2 (ja) | 1991-01-21 |
FR2579629B1 (fr) | 1987-05-07 |
EP0198775A1 (fr) | 1986-10-22 |
FR2579629A1 (fr) | 1986-10-03 |
US4657643A (en) | 1987-04-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CA1277370C (en) | Method of measuring the effective inhibitor concentration during a deposition of metal from aqueous electrolytes and an apparatus therefor | |
CN101109092A (zh) | 铝电解槽能量平衡控制方法 | |
Kaneko et al. | Electrochemistry of rare earth fluoride molten salts | |
US4668350A (en) | Controlling AlF3 addition to Al reduction cell electrolyte | |
US2908619A (en) | Production of titanium | |
US2848397A (en) | Electrolytic production of metallic titanium | |
US4654129A (en) | Process for accurately maintaining a low alumina content in an electrolytic smelting cell for the production of aluminum | |
JPS61227191A (ja) | 溶融塩浴中溶解金属含量の連続的調整法及び電解槽への前記金属の塩の連続的供給における前記方法の使用 | |
CA1179751A (en) | Controlling metal electro-deposition using electrolyte containing, two polarizing agents | |
US4921584A (en) | Anode film formation and control | |
Constantin et al. | Electrochemical studies on cerium (III) in molten fluoride mixtures | |
Ferry et al. | Zinc metal electrodeposition reaction process in ZnCl2 2NaCl melt | |
RU2296188C2 (ru) | Способ регулирования электролизера для получения алюминия | |
Schwarz et al. | Electrorefining of aluminium scrap from chloride melts | |
US4049507A (en) | Electrodepositing method | |
JPS5810996B2 (ja) | アルミニウム電解槽に対するアルミナ供給の制御方法 | |
US4118291A (en) | Method of electrowinning titanium | |
US4392924A (en) | Process for controlling the permeability of diaphragms in the preparation of polyvalent metals by electrolysis and an electrolysis cell for carrying out the process | |
JPS5833314B2 (ja) | チタン生成用電解槽 | |
RU2023058C1 (ru) | Способ управления процессом электролитического получения алюминия в электролизере | |
US2956936A (en) | Process for the production of metallic niobium or tantalum by the electrolysis of melts | |
CA1062195A (en) | Method and apparatus for electrolytic production of persulfates | |
Kamavaram et al. | Electrorefining of aluminum in C6mimCl+ AlCl3 ionic liquid at near room temperature | |
Wendt et al. | Basic Data and Engineering for Electrolytic Raffination of Aluminium Scrap from Chloride Melts | |
Kulcsár et al. | THE EFFECT OF TIN CONCENTRATION ON THE ELECTRODE PROCESSES OF TIN ELECTRO-REFINING IN HCl SOLUTIONS |