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JPS61223791A - アクテイブマトリツクス基板 - Google Patents

アクテイブマトリツクス基板

Info

Publication number
JPS61223791A
JPS61223791A JP60063401A JP6340185A JPS61223791A JP S61223791 A JPS61223791 A JP S61223791A JP 60063401 A JP60063401 A JP 60063401A JP 6340185 A JP6340185 A JP 6340185A JP S61223791 A JPS61223791 A JP S61223791A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thin film
active matrix
film transistor
matrix substrate
film transistors
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60063401A
Other languages
English (en)
Inventor
豊 宮田
隆夫 近村
清一 永田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP60063401A priority Critical patent/JPS61223791A/ja
Publication of JPS61223791A publication Critical patent/JPS61223791A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Shift Register Type Memory (AREA)
  • Liquid Crystal Display Device Control (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、透光性基板上に薄膜トランジスタをマトリッ
クス状に形成したアクティブマトリックス基板に関する
ものであり、液晶を用いた表示装置等に用いられるもの
である。
(従来の技術) 近年、透光性基板に薄膜トランジスタを用いたアクティ
ブマトリックス基板の開発が活発である。
言うまでもなく、これ等のアクティブマトリックス基板
は液晶等を用いた表示装置を目的としたものであるが、
将来的には、大型の一次元或いは二次元イメージセンサ
等の可能性もあり、広い応用が考えられる。
第4図は、薄膜トランジスタを用いた従来のアクティブ
マトリックス基板の回路構成を示すもので、1は多結晶
シリコン或いは非晶質シリコンをその一構成要素とする
透光性基板(図示しない)上に形成した薄膜トランジス
タ、2は薄膜トランジスタ1のドレインに電気的に接続
した透明電極と、カラーフィルタを形成する透光性基板
上の透明な対向電極との間に液晶を注入した液晶表示体
で、この液晶表示体2は映像表示領域3の各画素と対応
する位置に配設されており、液晶による容量以外に、補
助容量としてアクティブマトリックス基板に形成される
容量が付加されることもある。4は薄膜トランジスタ1
のゲートに接続したゲート配線、5は薄膜トランジスタ
1のソースに接続したソース配線である。
このように構成された従来例では、ゲート配線4から1
つのゲートラインを選択すると、ソース配線5を通して
薄膜トランジスタ1のドレインと電気的に接続される透
明電極に所定の電位が与えられる。このとき、透明電極
と対向電極との間に注入されている液晶の先部光性が変
化して、2枚の偏光板により光透過率が変化するもので
、以下、同様に、ゲート配線4から1つのゲートライン
を順次選択していくことにより、1フイールドの画面が
形成される。
(発明が解決しようとする問題点) ところで、アクティブマトリックス基板と外部駆動回路
との接続は、フレキシブルプリント基板によって各ゲー
ト配線4及びソース配線5と直接接続する(例えば、特
開昭52−116195号参照)か。
或いは、映像表示領域外にシフトレジスタを設けて、こ
のシフトレジスタでゲート配線4若しくはソース配線5
を選択して、外部回路との接続本数を少なくする方法が
とられる(例えば、特開昭58−219595号参照)
しかしながら、前者のフレキシブルプリント基板による
ゲート配線4及びソース配線5との直接接続は、液晶表
示装置の解像度を向上させるために画素数を増加させた
場合には、配線間のピッチが小さくなるので、実装が非
常に困難となる問題があった。又、後者のシフトレジス
タを用いる場合には、映像表示領域3の外周部にシフト
レジスタを設けなければならないので1歩留りが低下す
ると共に、特に、水平操作のためには、高い移動度を有
する半導体材料を用いる必要があるので、薄膜トランジ
スタを形成する材料が限定されるという問題があった。
本発明は、前述のような問題に鑑みてなされたもので、
歩留りが大幅に向上し、且つ、製造原価が安くなるアク
ティブマトリックス基板を提供することを目的とするも
のである。
(問題を解決するための手段) 本発明は、映像表示領域に配設された薄膜トランジスタ
のソース配線に映像信号を印加するソース配線を数本1
組にして接続するものである。
(作用) 映像表示領域に配設した薄膜トランジスタのゲート配線
に印加する信号と、ソース配線に直列に接続した薄膜ト
ランジスタの信号切換用ゲート配線に印加する信号とを
制御することにより、映像表示領域に配設したどの薄膜
トランジスタに映像信号を印加するかを選択できる。
(実施例) 以下図面により、本発明の実施例を詳細に説明する。
第1図は、本発明の一実施例におけるアクティブマトリ
ックス基板の回路図であり、6は、コーニング社# 7
059、石英等の透光性基板(図示しない)上に形成し
た半導体薄膜(図示しない)、ゲート絶縁膜(図示しな
い)、ゲート配線7及びソース配線8からなる薄膜トラ
ンジスタ、9は薄膜トランジスタ6のドレインに接続し
た液晶表示体で、薄膜トランジスタ6と液晶表示体9と
は、それぞれ、映像表示領域10の各画素と対応する位
置にマトリックス状に配設されており、而も、マトリッ
クス状に配設された各薄膜トランジスタ6のゲートはゲ
ート配線7によって行毎に並列接続され。
ソースはソース配llA3によって列毎に並列接続され
ている。尚、半導体薄膜には、プラズマCVD法によっ
て形成した水素化非晶質Si、若しくは、減圧CVD法
或いは電子ビーム蒸着法によって形成した多結晶Siを
用い、又、ゲート絶縁膜には、プラズマCVD法によっ
て形成したSiNx。
SiOx、CVD法によって形成したSin、、若しく
は、半導体層の熱酸化膜を用い、更に、ゲート配線7及
びソース配線8には、DCスパッタリング法によって形
成したMo、W、Cr或いはA1等の金属材料或いはM
oSi2等の金属硅化物、減圧CVD法によって形成し
た多結晶Si、若しくは。
DCスパッタリング法或いはRFスパッタリング法によ
って形成したSnO,、Ink、或いはIn、0.(S
nO,)等の透°明電極材料を用いればよく、ゲート配
線7及びソース配線8の配線用材料は多層で用いてもよ
い。11は、それぞれ、映像表示領域10の外側におい
て各ソース配線8に直列に接続した薄膜トランジスタ、
12は隣接する3つの薄膜トランジスタ11のソースを
並列に接続した複数の映像信号入力配線、13は3つ自
修の薄膜トランジスタ11のゲートを順次並列に接続し
た複数の信号切換用ゲート配線である。
このように構成された本実施例の動作を、各配線に印加
する駆動パルス及び信号電圧を示した第2図を参照しな
がら、説明する。
先ず、時間t1では、パルス信号φ。1がゲート配線7
の7□を介して各薄膜トランジスタ6のゲートに印加さ
れると同時に、パルス信号φ6が信号切換用ゲート配線
13の13aを介して薄膜トランジスタllaのゲート
に印加されるので、映像信号入力配線12を介して各薄
膜トランジスタ11のソースに印加されているパルス信
号Vsが、薄膜トランジスタlla及びソース配線8a
を介して薄膜トランジスタ6a1のソースに印加されて
、薄膜トランジスタ6a1のドレイン電圧は所定の設定
電圧となる。
又1時Mt2では、パルス信号φ6□がゲート配線7の
7.を介して各薄膜トランジスタ6のゲートに印加され
ている状態で、パルス信号φ8が信号切換用ゲート配線
13の13トを介して薄膜トランジスタllbのゲート
に印加されるので、映像信号入力配線12を介して各薄
膜トランジスタ11のソースに印加されているパルス信
号Vsが、薄膜トランジスタllb及びソース配線8b
を介して薄膜トランジスタ6b工のソースに印加されて
、薄膜トランジスタ6b1のドレイン電圧が所定の設定
電圧となる。
更に、時間t、では、パルス信号φc1がゲート配線7
の7□を介して各薄膜トランジスタ6のゲートに印加さ
れている状態で、パルス信号φ。が信号切換用ゲート配
線13の13cを介して薄膜トランジスタllcのゲー
トに印加されるので、映像信号入力配線12を介して各
薄膜トランジスタ11のソースに印加されているパルス
信号Vsが、薄膜トランジスタlie及びソース配線8
Cを介して薄膜トランジスタ6c、のソースに印加され
て、薄膜トランジスタ6c1のドレイン電圧が所定の設
定電圧となり、第1の水平操作ラインの表示が終了する
次に、時間t4では、パルス信号φa2がゲート配線7
の7□を介して各薄膜トランジスタ6のゲートに印加さ
れるが、パルス信号φ、、φ8及びφ0が、前述の如く
、信号切換用ゲート配線13の13a、 13b及び1
3cを介して薄膜トランジスタ11a。
11b及びllcのゲートに順次印加されるので、映像
信号入力配線12を介して各薄膜トランジスタ11のソ
ースに印加されているパルス信号Vsが、時間t4t 
ts及び1sにおいて、時間tx* tll及びt2と
同様に、薄膜トランジスタ6 a、 、 6 b、及び
6c。
のソースに順次印加されて、薄膜トランジスタ6 a、
 、 6 b2及び6c、のドレイン電圧が順次所定の
設定電圧になり、第2の水平操作ラインの表示が終了す
る。
以下、前述の如き動作が順次繰り返して行なわれて、第
nの水平操作ラインの薄膜トランジスタ6all、6b
Il及び6cfiのドレイン電圧が順次所定の設定電圧
になれば、1画面分の走査が完了し、信号表示のため各
画素が選択されて、画像表示が可能となる。
第3図は、本発明の他の実施例の構成を示したもので、
第1図の符号と同一符号のものは同一部分を示している
が、前述の実施例においては、映像信号入力配線12の
全ての端子Vs工y Vs2. Vs、。
Vs、、  ・・・を、映像表示領域10の上部にまと
めて設けたが、本実施例においては、例えば、映像信号
入力配線12の奇数番目の端子vs、、 Vs3. ・
・・を映像表示領域10の上部に設け、又、映像信号入
力配線12の偶数番目の端子Vs、 Vs4t  ・・
・を映像表示領域10の下部に設けたものであり、本実
施例のアクティブマトリックス基板の動作は、第1の実
施例と全く同様である。
尚、実施例において、表示手段に液晶を用いた例で説明
したが、本発明における表示手段は何も液晶に限定され
るものではなく、ELを用いた表示手段にも使用でき、
又、PLZTを用いた光シャッタにも使用することがで
きる。更に、液晶の代りに設けた光導電膜のソース配線
に印加する電圧を一定として、ソース配線を流れる電流
の変化を検出するようにすれば、撮像素子にも送用する
ことができる。
(発明の効果) 以上説明したように、本発明によれば、アクティブマト
リックス基板を用いた液晶表示装置或いは他の材料を用
いた表示装置において、解像度を向上させるために画素
数が増加しても、複雑なシフトレジスタを形成する必要
がなくなるので、フレキシブルプリント基板による実装
が容易できるようになると共に、外部回路との接続本数
が173以下になって、配線ピッチが従来の3〜6倍以
上になるので、大幅な歩留りの向上と、製造原価の低減
を図ることができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例におけるアクティブマトリッ
クス基板の回路図、第2図は本発明の一実施例における
アクティブマトリックス基板の駆動方法を説明するため
のタイミングチャート、第3図は本発明の他の実施例に
おけるアクティブマトリックス基板の回路図、第4図は
従来のアクティブマトリックス基板の回路図である。 6.11・・・第1の薄膜トランジスタ、 7・・・ゲ
ート配線、 8 ・・・ソース配線、 9・・・映像表
示手段(液晶表示体)、10・・・映像表示領域、12
・・・映像信号入力配線、13・・・信号切換用ゲート
配線。 特許出願人  松下電器産業株式会社 第2図 DI   ル2  tts  D< 第3図

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)映像表示領域に配設された透明電極からなる複数
    の映像表示手段と、前記映像表示手段をドレインに接続
    させて、透光性基板上に形成した複数の第1の薄膜トラ
    ンジスタと、前記第1の薄膜トランジスタを駆動するた
    めの信号が入力するソース配線群及びゲート配線群と、
    前記ソース配線群の各線にドレインをそれぞれ接続した
    複数の第2の薄膜トランジスタと、前記複数の第2の薄
    膜トランジスタのソースに接続した線を複数本毎に束ね
    てなる複数の映像信号入力配線と、前記複数の第2の薄
    膜トランジスタのゲートに接続した複数の信号切換用ゲ
    ート配線とが具備されていることを特徴とするアクティ
    ブマトリックス基板。
  2. (2)前記第2の薄膜トランジスタは、前記映像表示領
    域のいずれか一辺で、前記映像信号入力配線と前記ソー
    ス配線群とに接続されることを特徴とする特許請求の範
    囲第(1)項記載のアクティブマトリックス基板。
  3. (3)前記第2の薄膜トランジスタは、前記映像表示領
    域のいずれか二辺で、前記映像信号入力配線と前記ソー
    ス配線群とに接続されることを特徴とする特許請求の範
    囲第(1)項記載のアクティブマトリックス基板。
  4. (4)前記第1及び第2の薄膜トランジスタは、多結晶
    シリコン或いは水素化非晶質シリコンを一構成要素とし
    て含むことを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載
    のアクティブマトリックス基板。
JP60063401A 1985-03-29 1985-03-29 アクテイブマトリツクス基板 Pending JPS61223791A (ja)

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