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JPS61190708A - Production of thin film magnetic head - Google Patents

Production of thin film magnetic head

Info

Publication number
JPS61190708A
JPS61190708A JP3227985A JP3227985A JPS61190708A JP S61190708 A JPS61190708 A JP S61190708A JP 3227985 A JP3227985 A JP 3227985A JP 3227985 A JP3227985 A JP 3227985A JP S61190708 A JPS61190708 A JP S61190708A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic head
thin film
film magnetic
elements
gap
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3227985A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Mikio Matsuzaki
幹男 松崎
Jiyouichirou Ezaki
江崎 城一朗
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TDK Corp filed Critical TDK Corp
Priority to JP3227985A priority Critical patent/JPS61190708A/en
Publication of JPS61190708A publication Critical patent/JPS61190708A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/48Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
    • G11B5/488Disposition of heads
    • G11B5/4886Disposition of heads relative to rotating disc
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/31Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Magnetic Heads (AREA)
  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a thin film magnetic head having high resolution by forming two thin film head elements at the end part of a slider block having two projected rails at the bottom part with a position shift and different gap depths of pole parts secured between both head elements. CONSTITUTION:A slider block contains a block main body having an oblong section and projected rails 4A and 4B set in parallel with each other and opposite to both side parts of the bottom part of the block main body. These rails 4A and 4B are set at the inner and outer circumferential parts of a magnetic disk respectively. Then thin film magnetic head elements 2A and 2B are formed at an end part with pole parts PA and PB set opposite to each other. Here the gap depths L1 and L2 of both elements 2A and 2B are defined as L2-L1=1mum. Both elements 2A and 2B contain the 1st magnetic layers 22, insulated layers 23, foil-shaped coils 24 and the 2nd magnetic layers 25 formed inside an end substrate 5 containing bases 21 and 26 of Al2O3.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] 本発明は、薄膜磁気ヘッド、時に磁気ティスフ上に浮上
して情報読み書きを行うI It! 6ft気ヘツドの
製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a thin film magnetic head, sometimes floating above a magnetic disk, for reading and writing information. This invention relates to a method of manufacturing a 6ft air head.

し発明の技術的背景とその問題点1 この種の薄膜磁気ヘッドは、底面に2条あるいは3条の
レールを備えたスライダーブロックの端部にiWI!磁
気ヘッド素子を有し、前記レール面を磁気ディスク面に
向けた状態で両面間に作用する相対的空気圧を利用して
この111磁気ヘツドを浮上させつつ磁気ディスク面に
対する情報の読み書きを行うようにしている。
Technical background of the invention and its problems 1 This type of thin-film magnetic head has an iWI! It has a magnetic head element, and with the rail surface facing the magnetic disk surface, relative air pressure acting between both surfaces is used to levitate the magnetic head 111 while reading and writing information on the magnetic disk surface. ing.

このような薄膜磁気ヘッドを製造する従来方法を第6図
を参照して説明する。
A conventional method for manufacturing such a thin film magnetic head will be explained with reference to FIG.

この薄膜磁気ヘッドは、Aj!2o3の基体21   
 ′上に第1の磁性体層22.絶縁1i123.箔状コ
イル24及び第2の磁性体層25を蒸着等の薄膜形成手
段やエツチング処理により形成し、第2の磁性体層25
をさらにA12o3の保護膜26により被覆して磁気ヘ
ッド素子30を形成し、ざらに基体27をスライダー形
状に加工してその端部に磁気ヘッド素子30が配置され
るようにする。そして、第1.第2の磁性体層22.2
5と絶縁庸23とにより形成されるポール部Pをギャッ
プの長さ方向く深さ方向)に研磨することによりこのポ
ール部Pのギャップ長りを所定の寸法となるようにした
ものである。
This thin film magnetic head is Aj! 2o3 base 21
′ on the first magnetic layer 22 . Insulation 1i123. The foil-like coil 24 and the second magnetic layer 25 are formed by thin film forming means such as vapor deposition or by etching.
The base body 27 is further covered with a protective film 26 of A12o3 to form a magnetic head element 30, and the base body 27 is roughly processed into a slider shape so that the magnetic head element 30 is disposed at the end thereof. And the first. Second magnetic layer 22.2
5 and the insulating film 23 is polished in the length direction and the depth direction of the gap, so that the gap length of the pole portion P becomes a predetermined dimension.

このギャップ長しと薄膜磁気ヘッド素子30による相対
出力特性P1と分解能特性P2との関係を第7図示す。
FIG. 7 shows the relationship between the gap length and the relative output characteristics P1 and resolution characteristics P2 of the thin film magnetic head element 30.

同図から明らかなようにこの薄膜磁気ヘッド素子30の
ギャップ長りが前記両特性の交差する点に相当する1μ
m±0.5μm程度のときに、最も良好な相対出力及び
分解能が得られることが理解できる。
As is clear from the figure, the gap length of the thin film magnetic head element 30 is 1μ, which corresponds to the intersection of the two characteristics.
It can be seen that the best relative output and resolution can be obtained when the distance is approximately m±0.5 μm.

しかしながら、従来の製造方法では、薄膜磁気ヘッド素
子30の製造工程におけるフォトマスクの配列公差や絶
縁層23のパターン公差、スライダーブロック27の加
工公差、ざらにはポール部Pの研磨誤差等によりギャッ
プ長りにバラツキが生じ、特に±0.5μm程度という
微小寸法のコントロールは極めて難しく、この結果、相
対出力及び分解能双方が良好な薄膜磁気ヘッドを製造す
ることが困難となり、歩留りが極めて悪いという問題が
あった。
However, in the conventional manufacturing method, the gap length is affected by alignment tolerances of the photomask, pattern tolerances of the insulating layer 23, processing tolerances of the slider block 27, polishing errors of the pole portion P, etc. in the manufacturing process of the thin film magnetic head element 30. In particular, it is extremely difficult to control microscopic dimensions of about ±0.5 μm.As a result, it is difficult to manufacture thin-film magnetic heads with good relative output and resolution, resulting in extremely low yields. there were.

[発明の目的コ 本発明は上記事情に鑑みて成されたものであり、歩留り
が良く相対出力及び分解能に優れたfi III 6t
i気ヘツドの製造方法を提供することを目的とするもの
である。
[Object of the Invention] The present invention has been made in view of the above circumstances, and is a fi III 6t which has a high yield and excellent relative output and resolution.
The object of the present invention is to provide a method for manufacturing an i-air head.

[発明の概要1 上記目的を達成するための本発明の概要は、少なくとも
底部に2条の突出レールを有するスライダーブロックの
端部にそれぞれ突出レールに対する位置をずらし、かつ
、ポール部のギャップ長を異ならせて薄膜磁気ヘッド素
子を形成する工程と、各1膜磁気ヘツド素子のポール部
を研磨する工程とからなり、最適のギャップ長を有する
ように研磨されるいずれかの1111*磁気ヘツド素子
を磁電変換素子として用いるようにしたことを特徴とす
るものである。
[Summary of the Invention 1] The outline of the present invention for achieving the above object is to shift the position of each end of a slider block having two protruding rails at the bottom with respect to the protruding rails, and to increase the gap length of the pole portion. It consists of a step of forming thin film magnetic head elements with different thicknesses, and a step of polishing the pole portion of each one-film magnetic head element. It is characterized in that it is used as a magnetoelectric conversion element.

[発明の実施例] 以下に本発明の実施例を詳細に説明する。[Embodiments of the invention] Examples of the present invention will be described in detail below.

まず、スライダーブロック1の端部にポール部のギャッ
プ長が異なる7IJ膜磁気ヘツド素子2A。
First, there is a 7IJ film magnetic head element 2A at the end of the slider block 1 having different gap lengths at the pole portions.

2Bを形成する工程について第1図を参照して説明する
The process of forming 2B will be explained with reference to FIG.

スライダーブロック1は、断面長方形状のブロック本体
3と、このブロック本体3の底部両11t!1部に相対
向して平行配置に形成された突出レール4A、4Bとを
有して構成され、一方の突出レール4Aは磁気ディスク
の内周側に、使方の突出レール4Bは外周側にそれぞれ
配置されるようになっている。
The slider block 1 includes a block body 3 having a rectangular cross section and both bottom portions 11t of this block body 3! It is constructed by having protruding rails 4A and 4B formed in a parallel arrangement facing each other in one part, one protruding rail 4A is on the inner circumferential side of the magnetic disk, and the protruding rail 4B used is on the outer circumferential side. They are arranged respectively.

このスライダーブロック1の一方の端部に、後述するポ
ール部P^、Paをそれぞれ臨ませた形状に薄膜磁気ヘ
ッド素子2A、2Bを形成する。
At one end of this slider block 1, thin film magnetic head elements 2A and 2B are formed in a shape such that pole parts P^ and Pa, which will be described later, are respectively exposed.

すなわち、スライダーブロック1の一方の端部基材5に
は、第2図、第3図(a)、(b)にそれぞれ示すよう
に突出部5A側に位置してギャップ長L1を有する薄膜
11気ヘツド素子2Aを、突出部5B側に位置してギャ
ップ長L2を有する薄膜磁気ヘッド素子2Bをそれぞれ
形成する。このとき、L2−Lt=1μmとする。すな
わら、ポール部P^とポール部Paとはギャップ長を異
ならせた状態となっている。尚、薄膜磁気ヘッド素子2
A、2Bはいずれも既述した第6図に示すものと同様A
12o3の基体21.26を有する端部基材5の内部に
、第1の磁性体層22.絶縁層23、箔状コイル24及
び第2の磁性体層25を形成することにより構成されて
いる。
That is, on one end base material 5 of the slider block 1, as shown in FIGS. 2, 3(a) and 3(b), a thin film 11 is located on the protrusion 5A side and has a gap length L1. The magnetic head element 2A is located on the side of the protrusion 5B, and a thin film magnetic head element 2B having a gap length L2 is formed, respectively. At this time, L2-Lt=1 μm. In other words, the pole portion P^ and the pole portion Pa have different gap lengths. In addition, the thin film magnetic head element 2
Both A and 2B are the same as those shown in Fig. 6 described above.
Inside the end substrate 5 having a 12o3 substrate 21.26, a first magnetic layer 22. It is constructed by forming an insulating layer 23, a foil coil 24, and a second magnetic layer 25.

このようにして異なるギャップ長Lz 、L2を有し、
かつ、その深さ方向の位置を互いにずらした両肩1II
li!!気ヘッド素子2A、2Bをスライダーブロック
1の端部に形成した後、両肩膜磁気ヘッド素子2A、2
Bの各ポール部P^、Paをダイヤ研磨等の研磨手段に
より研磨する。
In this way, having different gap lengths Lz, L2,
and both shoulders 1II whose positions in the depth direction are shifted from each other
li! ! After forming the magnetic head elements 2A, 2B at the ends of the slider block 1, both shoulder membrane magnetic head elements 2A, 2 are formed.
Each pole portion P^, Pa of B is polished by a polishing means such as diamond polishing.

ポール部P^を研磨することにより、薄膜磁気ヘッド素
子2Aのギャップ長が当初のギャップ長L1から第4図
に(a>に示すようなギャップ長LAとなり、このギャ
ップ長LAが1μm±0゜5μmの範囲にあると判別さ
れた場合には、その時点で研磨を中止する。
By polishing the pole portion P^, the gap length of the thin film magnetic head element 2A changes from the initial gap length L1 to the gap length LA shown in FIG. If it is determined that it is within the range of 5 μm, polishing is stopped at that point.

この場合には薄膜磁気ヘッド素子2Aをl1f1電変換
素子として用いることにより、相対比)j及び分解能に
優れた薄膜磁気ヘッドを提供することができる。
In this case, by using the thin film magnetic head element 2A as the l1f1 electric conversion element, it is possible to provide a thin film magnetic head with excellent relative ratio)j and resolution.

一方、ポール部P^、Paに対する研磨深さが第5図(
a)、(b)に示すように第4図(a)に示す場合より
も大きく、ポール部PAのギャップ長が11ギヤツプ長
L^から第5図(a)に示すギャップ長L^′となった
場合には、このポール部P^のギャップ長L^′は1μ
m−0,5μm=0.5μmよりもさらに小さな値とな
り、第5図(b)に示すポール部P8のギャップ長Ls
’がこの場合1μm±0.5μmとなるので薄膜磁気ヘ
ッド素子2Bの方を磁電変換素子として用いる。
On the other hand, the polishing depth for the pole parts P^ and Pa is shown in Fig. 5 (
As shown in a) and (b), the gap length of the pole part PA is larger than the case shown in FIG. 4(a), and the gap length of the pole part PA changes from 11 gap length L^ to the gap length L^' shown in FIG. 5(a). In this case, the gap length L^' of this pole part P^ is 1μ
The value is even smaller than m-0.5μm=0.5μm, and the gap length Ls of the pole portion P8 shown in FIG. 5(b)
' is 1 μm±0.5 μm in this case, so the thin film magnetic head element 2B is used as the magnetoelectric transducer.

このようにして、ギャップ長が1μm±0.5μmの範
囲に研磨されるいずれか一方の薄膜磁気ヘッド素子2A
又は2Bをla磁電変換素子して用いることができ、こ
の結果、711MMm気ヘッドの製造時の歩留りを向上
させることが可能となる。
In this way, either one of the thin film magnetic head elements 2A is polished to a gap length of 1 μm±0.5 μm.
Alternatively, 2B can be used as a la magnetoelectric transducer, and as a result, it is possible to improve the yield when manufacturing a 711MMm head.

本発明は上述した実施例に限定されるものではなく、そ
の要旨の範囲内で種々の変形が可能である。
The present invention is not limited to the embodiments described above, and various modifications can be made within the scope of the invention.

例えば上jムした実施例ではスライダーブロック端部に
2個の薄膜磁気ヘッド素子を有する薄膜磁気ヘッドにつ
いて説明したが、この他3個以上の薄膜磁気ヘッド素子
を有する薄膜磁気ヘッドも同様に製造することができる
For example, in the above embodiment, a thin film magnetic head having two thin film magnetic head elements at the end of the slider block has been described, but a thin film magnetic head having three or more thin film magnetic head elements can also be manufactured in the same manner. be able to.

[発明の効果] 以上詳述した本発明によれば、少なくとも2個の簿11
Nm気ヘッド素子の位置を予めずらして形成しておき、
研磨工程でいずれかの薄膜磁気ヘッド素子のギャップ長
を相対出力1分解能の点で最適の値となるようにするも
のであるから相対出力。
[Effect of the invention] According to the present invention detailed above, at least two books 11
The position of the Nm gas head element is shifted in advance and formed.
Relative output is used to set the gap length of one of the thin film magnetic head elements to the optimum value in terms of relative output resolution in the polishing process.

分解能が良好な薄pIA!!気ヘッドを歩留り良く提供
することが可能な製造方法を提供することができる。
Thin pIA with good resolution! ! It is possible to provide a manufacturing method that can provide air heads with a high yield.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の実施例におけるスライダーブロックと
端部基材とを示す斜視図、第2図は端部基材の平面図、
第3図(a)は第2図におけるI−I線拡大概略断面図
、第3図(b)は第2図におけるII−n線拡大概略断
面図、第4図(a)は第3図(a)に示すポール部を研
磨した状態を示す拡大概略断面図、第4図(b)は第4
図(a)に示すポール部に対応する他方のポール部の状
態を示す拡大概略断面図、第5図(a)は第4図(a>
に示すポール部を更に研磨した状態を示す拡大概略断面
図、第5図(b)は第4図(b)に示すポール部を研磨
した状態を示す拡大概略断面図、第6図は従来の薄膜磁
気ヘッドの製造工程を示す要部拡大断面図、第7図は薄
膜磁気ヘッド素子のギャップ長と相対出力及び分解能と
の関係を示すグラフである。 1・・・スライダーブロック、 2A、2B−・・薄1116fl気ヘット素子、4A、
4B・・・突出レール、 P^、Pa・・・ポール部、 Ll、L2・・・ギャップ長、 L^、La・・・ギャップ長、 L^’、La’・・・ギャップ長。 代理人 弁理士 三  澤  正  徨 1−1r′手
続補正占 昭和60年8月12日 昭和60年特許願第32279号 2、発明の名称 薄膜磁気ヘッドの製造方法 3、補正をする者 事件との関係  特許出願人 5、補正命令の日付  自 発 6、補正の対象    明細書 7、補正の内容   別紙の通り (明細書中、「ギャップ長」とあるのを、「ギャップ深
さ」と補正するものである。)明細書 1、発明の名称 薄膜磁気ヘッドの製造方法 2、特許請求の範囲 少なくとも底部に2条の突出レールを有するスライダー
ブロックの端部にそれぞれ突出レールに対する位置をず
らし、かつ、ポール部のギヤツブ深意を異ならせて薄膜
磁気ヘッド素子を形成する工程と、各薄膜磁気ヘッド素
子のポール部を研磨する工程とからなり、最適のギヤツ
ブ区策を有するように研磨されるいずれかの薄膜磁気ヘ
ッド素子を磁電変換素子として用いるようにしたことを
特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。 3、発明の詳細な説明 [発明の技術分野] 本発明は、薄膜磁気ヘッド、時に磁気ティスフ上に浮上
して情報読み書きを行う薄膜磁気ヘッドの製造方法に関
する。 [発明の技術的背景とその問題点1 この種の薄膜磁気ヘッドは、底面に2条おるいは3条の
レールを備えたスライダーブロックの端部に薄膜磁気ヘ
ッド素子を有し、前記レール面を磁気ディスク面に向け
た状態で両面間に作用する相対的空気圧を利用してこの
薄膜磁気ヘッドを浮上させつつ磁気ディスク面に対する
情報の読み占きを行うようにしている。 このような薄膜磁気ヘッドを製造する従来方法を第6図
を参照して説明する。 この薄膜磁気ヘッドは、AJ203の基体21上に第1
の磁性体層22.絶縁層23.箔状コイル24及び第2
の磁性体層25を蒸着等の薄膜形成手段やエツチング処
理により形成し、第2の磁性体層25をざらにA、e2
03の保護膜26により被覆して磁気ヘッド素子30を
形成し、ざらに基体27をスライダー形状に加工してそ
の端部に磁気ヘッド素子30が配置されるようにする。 そして、第1.第2の磁性体層22.25と絶縁層23
とにより形成されるポール部Pをギャップの長さ方向(
深さ方向)に研磨することによりこのポール部Pのギャ
ップ深ざLを所定の寸法となるようにしたものである。 このギャップ深ざLと薄膜磁気ヘッド素子30による相
対出力特性P1と分解能特性P2との関係を第7図示す
。 同図から明らかなようにこの薄膜磁気ヘッド素子30の
ギャップ深ざLが前記両特性の交差する点に相当する1
μm+0.5μm程度のときに、最も良好な相対出力及
び分解能が得られることが理解できる。 しかしながら、従来の製造方法では、薄膜磁気ヘッド素
子30の製造工程におけるフォトマスクの配列公差や絶
縁層23のパターン公差、スライダーブロック27の加
工公差、ざらにはポール部Pの研磨誤差等によりギャッ
プ深ざLにバラツキが生じ、特に±0.5μm程度とい
う微小寸法のコントロールは極めて難しく、この結果、
相対出力及び分解能双方が良好な薄膜磁気ヘッドを製造
することが困難となり、歩留りが極めて悪いという問題
があった。 [発明の目的] 本発明は上記事情に鑑みて成されたものであり、歩留り
が良く相対出力及び分解能に優れた薄膜磁気ヘッドの製
造方法を提供することを目的とするものである。 [発明の概要] 上記目的を達成するための本発明の概要は、少なくとも
底部に2条の突出レールを有するスライダーブロックの
端部にそれぞれ突出レールに対する位置をずらし、かつ
、ポール部のギャップ深さを異ならせて薄膜磁気ヘッド
素子を形成する工程と、各薄膜磁気ヘッド素子のポール
部を研磨する工程とからなり、最適のギャップ深さを有
するように研磨されるいずれかの薄膜磁気ヘッド素子を
磁電変換素子として用いるようにしたことを特徴とする
ものである。 [発明の実施例] 以下に本発明の実施例を詳細に説明する。 まず、スライダーブロック1の端部にポール部のギャッ
プ深さが異なる薄膜磁気ヘッド素子2A。 2Bを形成する工程について第1図を参照して説明する
。 スライダーブロック1は、断面長方形状のブロック本体
3と、このブロック本体3の底部両側部に相対向して平
行配置に形成された突出レール4A、4Bとを有して構
成され、一方の突出レール4Aは磁気ディスクの内周側
に、他方の突出レール4Bは外周側にそれぞれ配置され
るようになっている。 このスライダーブロック1の一方の端部に、後述するポ
ール部PA、PBをそれぞれ臨ませた形状に薄膜磁気ヘ
ッド素子2A、2Bを形成する。 すなわち、スライダーブロック1の一方の端部基材5に
は、第2図、第3図(a)、(b)にそれぞれ示すよう
に突出部5A側に位置してギャップ深ざLlを有する薄
膜磁気ヘッド素子2Aを、突出部5B側に位置してギャ
ップ深ざL2を有する薄膜磁気ヘッド素子2Bをそれぞ
れ形成する。このとき、L2−11=1μmとする。す
なわち、ポール部PAとポール部Paとはギャップ深さ
を異ならせた状態となっている。尚、薄膜磁気ヘッド素
子2A、2Bはいずれも既述した第6図に示すものと同
様Al2O3の基体21.26を有する端部基材5の内
部に、第1の磁性体層22.絶縁層23.箔状コイル2
4及び第2の磁性体H25を形成することにより構成さ
れている。 このようにして異なるギャップ深ざLl、L2を有し、
かつ、その深さ方向の位置を互いにずらした両肩膜磁気
ヘッド素子2A、2Bをスライダーブロック1の端部に
形成した後、両肩膜磁気ヘッド素子2A、2Bの各ポー
ル部PA、Paをダイヤ研磨等の研磨手段により研磨す
る。 ポール部PAを研磨することにより、薄膜磁気ヘッド素
子2Aのギャップ深さが当初のギャップ深さLlから第
4図に(a)に示すようなギャップ深さLAとなり、こ
のギャップ深さLAが1μm±0.5μmの範囲にある
と判別された場合には、その時点で研磨を中止する。 この場合には薄膜磁気ヘッド素子2Aを磁電変換素子と
して用いることにより、相対出力及び分解能に優れた薄
膜磁気ヘッドを提供することができる。 一方、ポール部PA、PBに対する研磨深さが第5図(
a>、(b)に示すように第4図(a)に示す場合より
も大きく、ポール部PAのギャップ深さがギャップ深さ
LAから第5図(a)に示すギャップ深さLA’となっ
た場合には、このポール部PAのギャップ深さLA’は
1μm−0,5μm=0.5μmよりもざらに小ざな値
となり、第5図(b)に示すポール部Paのギャップ深
さLB′がこの場合1μm±0.5μmとなるので薄膜
磁気ヘッド素子2Bの方を磁電変換素子として用いる。 このようにして、ギャップ深さが1μm+ Q 。 5μmの範囲に研磨されるいずれか一方の薄膜磁気ヘッ
ド素子2A又は2B@磁電変換素子として用いることが
でき、この結果、薄膜磁気ヘッドの製造時の歩留りを向
上させることが可能となる。 本発明は上述した実施例に限定されるものではなく、そ
の要旨の範囲内で種々の変形が可能である。 例えば上述した実施例ではスライダーブロック端部に2
個の薄膜磁気ヘッド素子を有する薄膜磁気ヘッドについ
て説明したが、この他3個以上の薄膜磁気ヘッド素子を
有する薄膜磁気ヘッドも同様に製造することができる。 [発明の効果] 以上詳述した本発明によれば、少なくとも2個の薄膜磁
気ヘッド素子の位置を予めずらして形成しておき、研磨
工程でいずれかの薄膜磁気ヘッド素子のギャップ深さを
相対出力2分解能の点で最適の値となるようにするもの
であるから相対出力。 分解能が良好な薄膜磁気ヘッドを歩留り良く提供するこ
とが可能な製造方法を提供することができる。 4、図面の簡単な説明 第1図は本発明の実施例にあけるスライダーブロックと
端部基材とを示す斜視図、第2図は端部基材の平面図、
第3図(a)は第2図におけるI−T線拡大概略断面図
、第3図(b)は第2図にあけるII−II線拡大概略
断面図、第4図(a)は第3図(a>に示すポール部を
研磨した状態を示す拡大概略断面図、第4図(b)は第
4図(a)に示すポール部に対応する他方のポール部の
状態を示す拡大概略断面図、第5図(a)は第4図(a
>に示すポール部を更に研磨した状態を示す拡大概略断
面図、第5図(b)は第4図(b)に示すポール部を研
磨した状態を示す拡大概略断面図、第6図は従来の薄膜
磁気ヘッドの製造工程を示す要部拡大断面図、第7図は
薄膜磁気ヘッド素子のギャップ深さと相対出力及び分解
能との関係を示すグラフである。 1・・・スライダーブロック、 2A、2B・・・薄膜磁気ヘッド素子、4A、4B・・
・突出レール、 PA、Pa・・・ポール部、 LL 、L2・・・ギャップ深さ、 LA、LB・・・ギャップ深さ、 LA’、LB’・・・ギVツブ深さ。
FIG. 1 is a perspective view showing a slider block and an end base material in an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view of the end base material,
3(a) is an enlarged schematic sectional view taken along the line I-I in FIG. 2, FIG. 3(b) is an enlarged schematic sectional view taken along the line II-n in FIG. (a) is an enlarged schematic cross-sectional view showing the polished state of the pole part, and FIG. 4(b) is the fourth
An enlarged schematic sectional view showing the state of the other pole part corresponding to the pole part shown in FIG. 5(a), FIG.
5(b) is an enlarged schematic sectional view showing the pole part shown in FIG. 4(b) in a further polished state. FIG. 6 is an enlarged schematic sectional view showing the pole part shown in FIG. FIG. 7 is an enlarged sectional view of a main part showing the manufacturing process of the thin film magnetic head, and is a graph showing the relationship between the gap length, relative output, and resolution of the thin film magnetic head element. 1...Slider block, 2A, 2B-...Thin 1116fl air head element, 4A,
4B...Protruding rail, P^, Pa...Pole part, Ll, L2...Gap length, L^, La...Gap length, L^', La'...Gap length. Agent Patent Attorney Tadashi Misawa 1-1r' Procedural Amendment August 12, 1985 Patent Application No. 32279 of 1985 2 Title of Invention Method of Manufacturing Thin Film Magnetic Head 3 Related: Patent applicant 5, Date of amendment order Initiator 6, Subject of amendment Description 7, Contents of amendment As attached (In the specification, "gap length" is amended to read "gap depth" ) Description 1, Title of the Invention Method for manufacturing a thin film magnetic head 2, Claims A slider block having at least two protruding rails at the bottom thereof has a pole at each end thereof, the positions of which are shifted relative to the protruding rails. The process consists of a process of forming thin film magnetic head elements with different gear depths in the parts, and a process of polishing the pole parts of each thin film magnetic head element. A method of manufacturing a thin film magnetic head, characterized in that a magnetic head element is used as a magnetoelectric conversion element. 3. Detailed Description of the Invention [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a method for manufacturing a thin film magnetic head, and sometimes a thin film magnetic head that levitates on a magnetic disk to read and write information. [Technical background of the invention and its problems 1 This type of thin-film magnetic head has a thin-film magnetic head element at the end of a slider block that has two or three rails on the bottom surface. With the thin-film magnetic head facing the magnetic disk surface, relative air pressure acting between both surfaces is used to fly the thin-film magnetic head while reading information on the magnetic disk surface. A conventional method for manufacturing such a thin film magnetic head will be explained with reference to FIG. This thin film magnetic head has a first
magnetic layer 22. Insulating layer 23. Foil coil 24 and second
A second magnetic layer 25 is formed by a thin film forming method such as vapor deposition or an etching process, and the second magnetic layer 25 is roughly A, e2.
03 to form a magnetic head element 30, and the base body 27 is roughly processed into a slider shape so that the magnetic head element 30 is disposed at the end thereof. And the first. Second magnetic layer 22, 25 and insulating layer 23
The pole part P formed by
By polishing in the depth direction), the gap depth L of the pole portion P is set to a predetermined dimension. The relationship between the gap depth L and the relative output characteristics P1 and resolution characteristics P2 of the thin film magnetic head element 30 is shown in FIG. As is clear from the figure, the gap depth L of the thin film magnetic head element 30 corresponds to the point where the above two characteristics intersect.
It can be seen that the best relative output and resolution can be obtained when the distance is about .mu.m+0.5 .mu.m. However, in the conventional manufacturing method, the gap depth is affected by alignment tolerances of photomasks, pattern tolerances of the insulating layer 23, processing tolerances of the slider block 27, and polishing errors of the pole portion P in the manufacturing process of the thin-film magnetic head element 30. Variations occur in the length L, and it is extremely difficult to control the minute dimensions, especially around ±0.5 μm.As a result,
There was a problem in that it was difficult to manufacture a thin film magnetic head with good relative output and resolution, and the yield was extremely low. [Object of the Invention] The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a thin film magnetic head with a high yield and excellent relative output and resolution. [Summary of the Invention] The outline of the present invention for achieving the above object is to shift the position of each end of a slider block having two protruding rails at the bottom with respect to the protruding rails, and to adjust the gap depth of the pole portion. The method consists of a step of forming thin film magnetic head elements with different gap depths, and a step of polishing the pole portion of each thin film magnetic head element. It is characterized in that it is used as a magnetoelectric conversion element. [Embodiments of the Invention] Examples of the present invention will be described in detail below. First, there is a thin film magnetic head element 2A at the end of the slider block 1 having different gap depths in the pole portion. The process of forming 2B will be explained with reference to FIG. The slider block 1 includes a block main body 3 having a rectangular cross section, and protruding rails 4A and 4B that are arranged in parallel and facing each other on both sides of the bottom of the block main body 3. The protruding rail 4A is disposed on the inner circumferential side of the magnetic disk, and the other protruding rail 4B is disposed on the outer circumferential side. At one end of this slider block 1, thin film magnetic head elements 2A and 2B are formed in such a shape that pole portions PA and PB, which will be described later, are exposed, respectively. That is, on one end base material 5 of the slider block 1, as shown in FIGS. 2, 3(a) and 3(b), there is a thin film located on the protrusion 5A side and having a gap depth Ll. The magnetic head element 2A is located on the side of the protrusion 5B, and a thin film magnetic head element 2B having a gap depth L2 is formed, respectively. At this time, it is assumed that L2-11=1 μm. That is, the pole portion PA and the pole portion Pa have different gap depths. The thin film magnetic head elements 2A and 2B each have a first magnetic layer 22.26 inside an end base material 5 having an Al2O3 base body 21. Insulating layer 23. foil coil 2
4 and a second magnetic body H25. In this way, having different gap depths Ll, L2,
After forming both shoulder film magnetic head elements 2A and 2B whose positions in the depth direction are shifted from each other at the end of the slider block 1, the respective pole parts PA and Pa of both shoulder film magnetic head elements 2A and 2B are formed. Polish by a polishing means such as diamond polishing. By polishing the pole portion PA, the gap depth of the thin film magnetic head element 2A changes from the initial gap depth Ll to the gap depth LA shown in FIG. 4(a), and this gap depth LA is 1 μm. If it is determined that it is within the range of ±0.5 μm, polishing is stopped at that point. In this case, by using the thin film magnetic head element 2A as a magnetoelectric transducer, it is possible to provide a thin film magnetic head with excellent relative output and resolution. On the other hand, the polishing depth for pole parts PA and PB is shown in Figure 5 (
a>, as shown in (b), the gap depth of the pole part PA is larger than the case shown in FIG. In this case, the gap depth LA' of the pole part PA becomes a value roughly smaller than 1 μm - 0.5 μm = 0.5 μm, and the gap depth of the pole part Pa shown in FIG. 5(b) Since LB' is 1 μm±0.5 μm in this case, the thin film magnetic head element 2B is used as the magnetoelectric transducer. In this way, the gap depth is 1 μm+Q. It can be used as either one of the thin film magnetic head elements 2A or 2B@magnetoelectric transducer which is polished to a range of 5 μm, and as a result, it is possible to improve the yield during manufacturing of the thin film magnetic head. The present invention is not limited to the embodiments described above, and various modifications can be made within the scope of the invention. For example, in the embodiment described above, there are two
Although a thin film magnetic head having three thin film magnetic head elements has been described, a thin film magnetic head having three or more thin film magnetic head elements can also be manufactured in the same manner. [Effects of the Invention] According to the present invention described in detail above, at least two thin film magnetic head elements are formed with their positions shifted in advance, and the gap depth of one of the thin film magnetic head elements is adjusted relative to each other in the polishing process. Relative output because it is intended to achieve the optimum value in terms of output 2 resolution. A manufacturing method that can provide a thin film magnetic head with good resolution and a high yield can be provided. 4. Brief description of the drawings FIG. 1 is a perspective view showing a slider block and an end base material in an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view of the end base material,
Figure 3 (a) is an enlarged schematic sectional view taken along the IT line in Figure 2, Figure 3 (b) is an enlarged schematic sectional view taken along the line II-II in Figure 2, and Figure 4 (a) is an enlarged schematic sectional view taken along the line II-II in Figure 2. FIG. 4(b) is an enlarged schematic cross-sectional view showing the polished state of the pole part shown in FIG. 4(a), and FIG. Figure 5(a) is similar to Figure 4(a).
5(b) is an enlarged schematic sectional view showing the pole part shown in FIG. 4(b) in a further polished state. FIG. 6 is an enlarged schematic sectional view showing the pole part shown in FIG. FIG. 7 is an enlarged sectional view of a main part showing the manufacturing process of the thin film magnetic head, and FIG. 7 is a graph showing the relationship between the gap depth, relative output, and resolution of the thin film magnetic head element. 1...Slider block, 2A, 2B...Thin film magnetic head element, 4A, 4B...
・Protruding rail, PA, Pa...Pole part, LL, L2...Gap depth, LA, LB...Gap depth, LA', LB'...Gi V knob depth.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 少なくとも底部に2条の突出レールを有するスライダー
ブロックの端部にそれぞれ突出レールに対する位置をず
らし、かつ、ポール部のギャップ長を異ならせて薄膜磁
気ヘッド素子を形成する工程と、各薄膜磁気ヘッド素子
のポール部を研磨する工程とからなり、最適のギャップ
長を有するように研磨されるいずれかの薄膜磁気ヘッド
素子を磁電変換素子として用いるようにしたことを特徴
とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
A step of forming thin film magnetic head elements by shifting the positions of the ends of the slider block having at least two protruding rails on the bottom thereof with respect to the protruding rails and making the gap lengths of the pole parts different; 1. A method for manufacturing a thin film magnetic head, comprising the step of polishing a pole portion of a thin film magnetic head, and using any of the thin film magnetic head elements polished to have an optimum gap length as a magnetoelectric transducer.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7540505B2 (en) 2002-02-06 2009-06-02 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Stabilizer system
US12097741B2 (en) 2019-05-03 2024-09-24 Bayerische Motoren Werke Aktiengesellschaft Stabilizer assembly for a two-track vehicle

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