JPS6035934B2 - チオ官能性ポリシロキサン重合体の製法 - Google Patents
チオ官能性ポリシロキサン重合体の製法Info
- Publication number
- JPS6035934B2 JPS6035934B2 JP51134239A JP13423976A JPS6035934B2 JP S6035934 B2 JPS6035934 B2 JP S6035934B2 JP 51134239 A JP51134239 A JP 51134239A JP 13423976 A JP13423976 A JP 13423976A JP S6035934 B2 JPS6035934 B2 JP S6035934B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- hydrocarbon
- formula
- carbon atoms
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 title claims description 43
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 20
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 title claims description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 27
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 26
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 26
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 20
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Natural products CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 14
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 13
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 13
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 12
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- HTDJPCNNEPUOOQ-UHFFFAOYSA-N hexamethylcyclotrisiloxane Chemical group C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HTDJPCNNEPUOOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 9
- ZQTYRTSKQFQYPQ-UHFFFAOYSA-N trisiloxane Chemical compound [SiH3]O[SiH2]O[SiH3] ZQTYRTSKQFQYPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 8
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- DVNPFNZTPMWRAX-UHFFFAOYSA-N 2-triethoxysilylethanethiol Chemical compound CCO[Si](CCS)(OCC)OCC DVNPFNZTPMWRAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical group C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000004966 cyanoalkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 3
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 18
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 12
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims 2
- YXNNPVNGGPEONZ-UHFFFAOYSA-N 3-[methyl-(3-sulfanylpropyl)-trimethylsilyloxysilyl]propane-1-thiol Chemical group SCCC[Si](C)(O[Si](C)(C)C)CCCS YXNNPVNGGPEONZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 26
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 20
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 19
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 12
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 12
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 10
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 7
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 7
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 7
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004965 chloroalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 3
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 description 2
- SRBFZHDQGSBBOR-IOVATXLUSA-N D-xylopyranose Chemical group O[C@@H]1COC(O)[C@H](O)[C@H]1O SRBFZHDQGSBBOR-IOVATXLUSA-N 0.000 description 2
- 102100035426 DnaJ homolog subfamily B member 7 Human genes 0.000 description 2
- 101000804114 Homo sapiens DnaJ homolog subfamily B member 7 Proteins 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 101100073357 Streptomyces halstedii sch2 gene Proteins 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 229940090012 bentyl Drugs 0.000 description 2
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- CURUTKGFNZGFSE-UHFFFAOYSA-N dicyclomine Chemical group C1CCCCC1C1(C(=O)OCCN(CC)CC)CCCCC1 CURUTKGFNZGFSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical group 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000012263 liquid product Substances 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- JHXWINGYJFCASF-UHFFFAOYSA-N 1-trimethoxysilylpropane-2-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC(C)S JHXWINGYJFCASF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQMFQLVAJGZSQS-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-N-(2-oxo-3H-1,3-benzoxazol-6-yl)acetamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)CC(=O)NC1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1 JQMFQLVAJGZSQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAVZUKSTEKRRJR-UHFFFAOYSA-N 2-butylsulfanylethyl(triethoxy)silane Chemical compound CCCCSCC[Si](OCC)(OCC)OCC OAVZUKSTEKRRJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLLAFJNCDLVLJS-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylsulfanylethyl-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCSCC[Si](C)(OCC)OCC FLLAFJNCDLVLJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]propan-1-one Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CCC(=O)N1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAVCFZPUOKBIHK-UHFFFAOYSA-N 3-[[dimethyl(3-sulfanylpropyl)silyl]oxy-dimethylsilyl]propane-1-thiol Chemical compound SCCC[Si](C)(C)O[Si](C)(C)CCCS IAVCFZPUOKBIHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOSJOHNTERDRIX-UHFFFAOYSA-N 3-butylsulfanylpropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCSCCC[Si](OC)(OC)OC YOSJOHNTERDRIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVNUQDMATQWHLN-UHFFFAOYSA-N 6-ethylsulfanylhexyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCSCCCCCC[Si](OC)(OC)OC JVNUQDMATQWHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100285903 Drosophila melanogaster Hsc70-2 gene Proteins 0.000 description 1
- 241000238631 Hexapoda Species 0.000 description 1
- DBTDEFJAFBUGPP-UHFFFAOYSA-N Methanethial Chemical compound S=C DBTDEFJAFBUGPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008331 Pinus X rigitaeda Nutrition 0.000 description 1
- 235000011613 Pinus brutia Nutrition 0.000 description 1
- 241000018646 Pinus brutia Species 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVAXPOVMRMFJSK-UHFFFAOYSA-N [Na].OS(=O)=O Chemical compound [Na].OS(=O)=O LVAXPOVMRMFJSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- CMWRUTZCSFMXJQ-UHFFFAOYSA-N bis(triphenylsilyloxy)silicon Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)O[Si]O[Si](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 CMWRUTZCSFMXJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005998 bromoethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 230000002939 deleterious effect Effects 0.000 description 1
- CERJDUNGMGRYFT-UHFFFAOYSA-N diethoxy-(2-methoxyethyl)-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCOC CERJDUNGMGRYFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJFZHNQYSBAEEK-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-(2-phenylsulfanylethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCSC1=CC=CC=C1 IJFZHNQYSBAEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLLFKUHHDPMQFR-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](O)(O)C1=CC=CC=C1 OLLFKUHHDPMQFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCLIHDJZGPCUBT-UHFFFAOYSA-N dimethylsilanediol Chemical compound C[Si](C)(O)O XCLIHDJZGPCUBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011067 equilibration Methods 0.000 description 1
- IDGUHHHQCWSQLU-UHFFFAOYSA-N ethanol;hydrate Chemical compound O.CCO IDGUHHHQCWSQLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(trimethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003203 everyday effect Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 125000003784 fluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(F)C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052602 gypsum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010440 gypsum Substances 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- MDLRQEHNDJOFQN-UHFFFAOYSA-N methoxy(dimethyl)silicon Chemical compound CO[Si](C)C MDLRQEHNDJOFQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N octamethylcyclotetrasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003223 protective agent Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 description 1
- 125000006337 tetrafluoro ethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000007970 thio esters Chemical group 0.000 description 1
- UVCYGQNKZSDEFY-UHFFFAOYSA-N tributyl(tributylsilyloxysilyloxy)silane Chemical compound C(CCC)[Si](O[SiH2]O[Si](CCCC)(CCCC)CCCC)(CCCC)CCCC UVCYGQNKZSDEFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEOVSOJRTAYETG-UHFFFAOYSA-N triethoxy(4-methylsulfanylbutyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCSC KEOVSOJRTAYETG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WILBTFWIBAOWLN-UHFFFAOYSA-N triethyl(triethylsilyloxy)silane Chemical compound CC[Si](CC)(CC)O[Si](CC)(CC)CC WILBTFWIBAOWLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMAOTPCQHADLHO-UHFFFAOYSA-N triethyl(triethylsilyloxysilyloxy)silane Chemical compound C(C)[Si](O[SiH2]O[Si](CC)(CC)CC)(CC)CC WMAOTPCQHADLHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIVYLRQLRQGVCW-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3-phenylsulfanylpropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCSC1=CC=CC=C1 DIVYLRQLRQGVCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N trimethyl(methylsilyloxy)silane Chemical compound C[SiH2]O[Si](C)(C)C UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- RPGQGNUWLKOHSR-UHFFFAOYSA-N trioctyl(trioctylsilyloxy)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)O[Si](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC RPGQGNUWLKOHSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVXWAOBTEZUSAH-UHFFFAOYSA-N trioctyl(trioctylsilyloxysilyloxy)silane Chemical compound C(CCCCCCC)[Si](O[SiH2]O[Si](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC ZVXWAOBTEZUSAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHQZLUVCZCAMFU-UHFFFAOYSA-N tripropyl(tripropylsilyloxy)silane Chemical compound CCC[Si](CCC)(CCC)O[Si](CCC)(CCC)CCC KHQZLUVCZCAMFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/22—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
- C08G77/28—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen sulfur-containing groups
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Lubricants (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はポリシロキサン重合体、特にチオ官能性ポリシ
ロキサン重合体およびその製法に関するものである。
ロキサン重合体およびその製法に関するものである。
従釆、水酸基末端ジメチルポリシロキサン流体を酸性白
土の存在下でメトキシ含有シラシクロベンタンチオール
と反応させて含硫シランとジメチルポリシロキサンの縮
合反応を行なわせることにより含硫化合物が調製されて
いる。
土の存在下でメトキシ含有シラシクロベンタンチオール
と反応させて含硫シランとジメチルポリシロキサンの縮
合反応を行なわせることにより含硫化合物が調製されて
いる。
縮合反応において、酸性白士は含硫化合物のメトキシ基
とジメチルポリシロキサンの水酸基との間の縮合を触媒
するだけでなく、水酸基同志の間の縮合をも触媒して化
合物を生成させる働きをする。さらに、この方法は予め
形成された水酸基ジメチルポリシロキサン流体が縮合合
反応の前に製造されていることを要する。同じく米国特
許第３私鼠０５号にはナトリウムスルホハイドラィドを
ジメチルホルムアミドの存在下でＷ−クロロアルキル含
有オルガノボリシロキサンと反応させることにより含硫
シロキサンを製造する方法が開示されている。
とジメチルポリシロキサンの水酸基との間の縮合を触媒
するだけでなく、水酸基同志の間の縮合をも触媒して化
合物を生成させる働きをする。さらに、この方法は予め
形成された水酸基ジメチルポリシロキサン流体が縮合合
反応の前に製造されていることを要する。同じく米国特
許第３私鼠０５号にはナトリウムスルホハイドラィドを
ジメチルホルムアミドの存在下でＷ−クロロアルキル含
有オルガノボリシロキサンと反応させることにより含硫
シロキサンを製造する方法が開示されている。
含藤オルガノポリシロキサンを記述している他の特許は
米国特許、第２９６０４９２号でｔ これにはビニル含
有シロキサンをメルカプタンと反応させてスルホハィド
ラィド基をシロキサンの不飽和ビニル基と結合させるこ
とにより付加物を形成させることが開始されている。米
国特許第総総１４４号には、ケイ素１原子当り１個また
は２個のメルカプトアルキル基を含有するシロキサンを
過酸化物触媒の存在下で不飽和オレフィン基を含有する
ポリヒドロキシル化炭素化合物と反応させることが開示
されている。チオ官能性ポリシロキサン重合体を製造す
る上記諸方法は種々の欠陥を有する。たとえば長い反応
時間がかかる。また反応材料の１つとしてクロアルキル
基またはビニル不飽和をもつシロキサンが要求される。
さらに、クロロアルキル茎またはビニル基のチオ官能基
への完全な転換を得るのがきわめて困難で、従って両方
の官能基をもつ重合体が上記諸方法から得られる。従っ
て本発明の目的はビニル不飽和またはクロロァルキル置
換基を要することのないチオ官能性ポリシロキサン重合
体の製法を提供することである。他の目的は、低い温度
で短かい反応時間しか要しないチオ官能性ポリシロキサ
ンの製法を提供することである。さらに他の目的は、ジ
シロキサンと環式トリシロキサンから広範囲のチオ官能
性シロキサンを製造する方法を提供することである。さ
らに別の目的はクロロアルキルまたはビニル基残澄を含
まないチオ官能性シロキサンを製造することである。上
述諸目的およびその他後述する所から明らかになるであ
ろうその他の目的は、本発明に従い、ジシロキサンとヒ
ドロキシもしくはヒド。
米国特許、第２９６０４９２号でｔ これにはビニル含
有シロキサンをメルカプタンと反応させてスルホハィド
ラィド基をシロキサンの不飽和ビニル基と結合させるこ
とにより付加物を形成させることが開始されている。米
国特許第総総１４４号には、ケイ素１原子当り１個また
は２個のメルカプトアルキル基を含有するシロキサンを
過酸化物触媒の存在下で不飽和オレフィン基を含有する
ポリヒドロキシル化炭素化合物と反応させることが開示
されている。チオ官能性ポリシロキサン重合体を製造す
る上記諸方法は種々の欠陥を有する。たとえば長い反応
時間がかかる。また反応材料の１つとしてクロアルキル
基またはビニル不飽和をもつシロキサンが要求される。
さらに、クロロアルキル茎またはビニル基のチオ官能基
への完全な転換を得るのがきわめて困難で、従って両方
の官能基をもつ重合体が上記諸方法から得られる。従っ
て本発明の目的はビニル不飽和またはクロロァルキル置
換基を要することのないチオ官能性ポリシロキサン重合
体の製法を提供することである。他の目的は、低い温度
で短かい反応時間しか要しないチオ官能性ポリシロキサ
ンの製法を提供することである。さらに他の目的は、ジ
シロキサンと環式トリシロキサンから広範囲のチオ官能
性シロキサンを製造する方法を提供することである。さ
らに別の目的はクロロアルキルまたはビニル基残澄を含
まないチオ官能性シロキサンを製造することである。上
述諸目的およびその他後述する所から明らかになるであ
ろうその他の目的は、本発明に従い、ジシロキサンとヒ
ドロキシもしくはヒド。
力ルボンオキシ含有シランまたはシロキサンとの間の反
応に酸触媒の存在下において環式トリシロキサンを以っ
て作用させる（上記有機ケイ素化合物の少なくとも１つ
はチオール基を含有する）ことから成るチオ官能性ポリ
シロキサンの製法を提供することにより達成される。意
外なことに、本発明の方法は、環式トリシロキサン以外
の環式シロキサンの重合に作用することのできる触媒を
使用したとしても、環式トリシロキサンに限られること
が認められた。本発明で使用しうるオルガノポリシロキ
サンは「式のジシロキサンまたは式 の環式シロキサンであり、ここでＲ（同じものまたは異
なったものでありうる）は炭素原子数１〜１８の一価炭
化水素基またはハロゲン化一価炭化水素基を表わし、Ｍ
は式Ｒ′（ＳＲ‘′′）ｙおよびで表わされる基であり
、ａは０〜６の数、ｙは１〜３の数である。
応に酸触媒の存在下において環式トリシロキサンを以っ
て作用させる（上記有機ケイ素化合物の少なくとも１つ
はチオール基を含有する）ことから成るチオ官能性ポリ
シロキサンの製法を提供することにより達成される。意
外なことに、本発明の方法は、環式トリシロキサン以外
の環式シロキサンの重合に作用することのできる触媒を
使用したとしても、環式トリシロキサンに限られること
が認められた。本発明で使用しうるオルガノポリシロキ
サンは「式のジシロキサンまたは式 の環式シロキサンであり、ここでＲ（同じものまたは異
なったものでありうる）は炭素原子数１〜１８の一価炭
化水素基またはハロゲン化一価炭化水素基を表わし、Ｍ
は式Ｒ′（ＳＲ‘′′）ｙおよびで表わされる基であり
、ａは０〜６の数、ｙは１〜３の数である。
ジシ。
キサンおよび（または）環式トリシロキサンと反応しう
るオルガノケイ素化合物の適当な例は一般式のシラン、
またなは一般式 のシロキサンであり、ここでＲは炭素原子数１〜１８の
一価炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基でありトＭ
は式Ｒ′（ＳＲ′′′）ｙおよびで表わされる基である
。
るオルガノケイ素化合物の適当な例は一般式のシラン、
またなは一般式 のシロキサンであり、ここでＲは炭素原子数１〜１８の
一価炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基でありトＭ
は式Ｒ′（ＳＲ′′′）ｙおよびで表わされる基である
。
Ｒ′は炭素原子数１〜１８で脂肪族不飽和結合を含まな
い置換および禾置換の二価、三価または四価炭化水素基
、炭化水素ューテル、炭化水素チオェーテル、炭化水素
ヱステル、およびＲ′がケイ素−炭素結合を通じてケイ
素原子についている炭化水素チオヱステル基であり、Ｒ
″は水素または炭素原子数１〜１８の一価炭化水素基で
あり、Ｒ…はＲ″と同じものか、または式Ｒ″″×によ
り表わされる基であり、ここで×は−００ＣＲ，ＯＨま
たはシアノアルキル基であり、Ｒ側は炭素原子数１〜１
８で脂肪族不飽和結合を含まぬ二価炭化水素基である。
い置換および禾置換の二価、三価または四価炭化水素基
、炭化水素ューテル、炭化水素チオェーテル、炭化水素
ヱステル、およびＲ′がケイ素−炭素結合を通じてケイ
素原子についている炭化水素チオヱステル基であり、Ｒ
″は水素または炭素原子数１〜１８の一価炭化水素基で
あり、Ｒ…はＲ″と同じものか、または式Ｒ″″×によ
り表わされる基であり、ここで×は−００ＣＲ，ＯＨま
たはシアノアルキル基であり、Ｒ側は炭素原子数１〜１
８で脂肪族不飽和結合を含まぬ二価炭化水素基である。
Ｙは式Ｒ３Ｓｉ○身およびの基であり、ここでＲおよび
Ｒ″は前記と同じ、ｂは０〜３の数、ｃは０〜２の数で
ｂ十ｃの和は１〜２，ｄは０〜２の数、ｅは１〜３の数
、ｍおよびｎは各々０〜９９９の数に等しく、ｍ＋ｎの
和は最小限１である。
Ｒ″は前記と同じ、ｂは０〜３の数、ｃは０〜２の数で
ｂ十ｃの和は１〜２，ｄは０〜２の数、ｅは１〜３の数
、ｍおよびｎは各々０〜９９９の数に等しく、ｍ＋ｎの
和は最小限１である。
Ｒにより表わされる適当な一価炭化水素基の例はアルキ
ル基たとえばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ベン
チル、ヘキシル、オクチル、デシル、オクタデシル；ア
リール基たとえばフェニル、ジフェニルおよびナフチル
；アルカリール基たとえばトリル、キシルおよびエチル
フエニル；アラルキル基たとえばペンジル、Ｑ−フェニ
ルェチル、８−フエニルエチル、Ｑ−フエニルブチルお
よびシクロアルキル基たとえばシクロブチル、シクロベ
ンチルおよびシクロヘキシル基；ハロゲン化炭化水素基
たとえばクロロメチル、ブロモェチル、テトラフルオロ
エチル、フルオロエチル、トリフルオロトリル、ヘキサ
フルオロキシリル等々である。
ル基たとえばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ベン
チル、ヘキシル、オクチル、デシル、オクタデシル；ア
リール基たとえばフェニル、ジフェニルおよびナフチル
；アルカリール基たとえばトリル、キシルおよびエチル
フエニル；アラルキル基たとえばペンジル、Ｑ−フェニ
ルェチル、８−フエニルエチル、Ｑ−フエニルブチルお
よびシクロアルキル基たとえばシクロブチル、シクロベ
ンチルおよびシクロヘキシル基；ハロゲン化炭化水素基
たとえばクロロメチル、ブロモェチル、テトラフルオロ
エチル、フルオロエチル、トリフルオロトリル、ヘキサ
フルオロキシリル等々である。
ＲおよびＲ肌で表わされる二価炭化水素基の適当な例は
エチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ヘキサメチ
レン、オクタメチレン等々である。
エチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ヘキサメチ
レン、オクタメチレン等々である。
三価および四価の炭化水素基の適当な例は式＝ＣＨＣＨ
２−、＝ＣＨＣＱＣ日２ − 、＝ＣＨ（Ｃ比）３−、
＝ＣＨ（ＣＨ２）４−、＝ＣＨ等々である。
２−、＝ＣＨＣＱＣ日２ − 、＝ＣＨ（Ｃ比）３−、
＝ＣＨ（ＣＨ２）４−、＝ＣＨ等々である。
Ｒ″で表わされる一価炭化水素基の適当な例は、アルキ
ル基たとえばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ベン
チル、ヘキシル、オクチル、デシル、オクタデシル：ア
リール基たとえばフェニル、ジフエニル、およびナフチ
ル：アルカリール基たとえばトリル、キシルおよびエチ
ルフェニル：アラルキル基たとえばペンジル、Ｑ−フェ
ニルエチル、Ｂ−フエニルエチル、Ｑ−フエニルフチル
およびシクロアルキル基たとえばシクロブチル、シクロ
ベンチルおよびシクロヘキシルである。
ル基たとえばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ベン
チル、ヘキシル、オクチル、デシル、オクタデシル：ア
リール基たとえばフェニル、ジフエニル、およびナフチ
ル：アルカリール基たとえばトリル、キシルおよびエチ
ルフェニル：アラルキル基たとえばペンジル、Ｑ−フェ
ニルエチル、Ｂ−フエニルエチル、Ｑ−フエニルフチル
およびシクロアルキル基たとえばシクロブチル、シクロ
ベンチルおよびシクロヘキシルである。
Ｒ′（ＳＲ川）ｙ基の適当な例には‐ＣＨ２ＳＨ、‐Ｃ
２ＡＳＨ、− Ｃ３比ＳＨ、 − ＣＨ２ＳＣ４日９、
Ｃ２比ＳＣ２日５ Ｃ３日５ＳＣ６
Ｋ（ＨＳＣ仏 ）２ＣＨＣＨ２ＣＨ２ − 、（ ＨＳ
ＣＨ２ＣＨ２ ）（ ＨＳＣ仏 ） ＣＨ （ ＣＱ
）４ ‐（ＨＳＣ比ＣＨ２）３ＣＣＨ２ＣＨ２ −
、（ＨＳＣＱＣ日２ ）（ＨＳＣＨ２）ＣＨＣＨ（ＣＨ
２ＳＨ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、ＨＳ（ ＣＨ２ ）５
ＣＨ （ ＣＨ２Ｃ泣ＳＨ ） Ｃ比ＣＨ２ＣＨ（ＣＱ
Ｃ日３）−、（ＨＳＣ比ＣＨ２）２ＣＨＣＱＣ日２ −
、（ＨＳＣ比 ）２ＣＨＳＣＨ２Ｃ比ＣＨ２ − 、
（ ＨＳＣＨ２ ）２（ Ｃ２日５ ） ＣＣＨ２ＳＣ
Ｈ２ＣＨ２ＣＨ３（ＨＳＣ比）３ＣＣ比ＳＣＨ２ＣＨ２
Ｃ比−、（ＨＳＣＨ２）（ＨＳＣ＆ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２
）ＣＨＳＣはＣＨ２ＣＨ２ ‐（ＨＳＣ比ＣＨ２ ）２
ＣＨＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ ‐（ ＨＳＣ比 ）
２ （ Ｃ２日５ ） ＣＣＨ２ＳＣ比ＣＨ２Ｓ（ＣＱ
）３ − 、（ ＨＳＣ比）３ＣＣＨ２Ｓ（ＣＨ２）３
Ｓ（ＣＱ）３−、（Ｃ比）３Ｓ （Ｃ比）２ＣＮ等々がある。
２ＡＳＨ、− Ｃ３比ＳＨ、 − ＣＨ２ＳＣ４日９、
Ｃ２比ＳＣ２日５ Ｃ３日５ＳＣ６
Ｋ（ＨＳＣ仏 ）２ＣＨＣＨ２ＣＨ２ − 、（ ＨＳ
ＣＨ２ＣＨ２ ）（ ＨＳＣ仏 ） ＣＨ （ ＣＱ
）４ ‐（ＨＳＣ比ＣＨ２）３ＣＣＨ２ＣＨ２ −
、（ＨＳＣＱＣ日２ ）（ＨＳＣＨ２）ＣＨＣＨ（ＣＨ
２ＳＨ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、ＨＳ（ ＣＨ２ ）５
ＣＨ （ ＣＨ２Ｃ泣ＳＨ ） Ｃ比ＣＨ２ＣＨ（ＣＱ
Ｃ日３）−、（ＨＳＣ比ＣＨ２）２ＣＨＣＱＣ日２ −
、（ＨＳＣ比 ）２ＣＨＳＣＨ２Ｃ比ＣＨ２ − 、
（ ＨＳＣＨ２ ）２（ Ｃ２日５ ） ＣＣＨ２ＳＣ
Ｈ２ＣＨ２ＣＨ３（ＨＳＣ比）３ＣＣ比ＳＣＨ２ＣＨ２
Ｃ比−、（ＨＳＣＨ２）（ＨＳＣ＆ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２
）ＣＨＳＣはＣＨ２ＣＨ２ ‐（ＨＳＣ比ＣＨ２ ）２
ＣＨＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ ‐（ ＨＳＣ比 ）
２ （ Ｃ２日５ ） ＣＣＨ２ＳＣ比ＣＨ２Ｓ（ＣＱ
）３ − 、（ ＨＳＣ比）３ＣＣＨ２Ｓ（ＣＨ２）３
Ｓ（ＣＱ）３−、（Ｃ比）３Ｓ （Ｃ比）２ＣＮ等々がある。
本発明で使用しうるヒドロキシ−およびヒドロカルボン
オキシ含有シランは、シランたとえば３ーメルカプトプ
ロピルトリメトキシシラン、２−メルカプトエチルトリ
エトキシシラン、Ｗ−メルカプトデシルトリヱトキシシ
ラン、ＶＶ−メルカプトヘキシルトリプロポキシシラン
、ＶＶ−メルカプトアミルトリエトキシシラン、２−（
トリエトキシシリル）エチルプチルチオエーテル、３−
（トリメトキシシリル）プロピルブチルチオエーテル、
４−（トリエトキシシリル）ブチルメチルチオエーテル
、２−（メチルジヱトキシシリル）エチルメチルエーテ
ル、２一（メチルジヱトキシシリル）エチルフエニルチ
オエーテル、２−（メチルジエトキシシリル）エチルド
デシルチオエ−テル、６−（トリメトキシシリル）へキ
シルエチルチオヱーテル、メチルトリエトキシシラン、
ジメチルジエトキシシラン、トリメチルヱトキシシラン
、ジメチルシランジオール、ジフエニルシランジオール
等々である。
オキシ含有シランは、シランたとえば３ーメルカプトプ
ロピルトリメトキシシラン、２−メルカプトエチルトリ
エトキシシラン、Ｗ−メルカプトデシルトリヱトキシシ
ラン、ＶＶ−メルカプトヘキシルトリプロポキシシラン
、ＶＶ−メルカプトアミルトリエトキシシラン、２−（
トリエトキシシリル）エチルプチルチオエーテル、３−
（トリメトキシシリル）プロピルブチルチオエーテル、
４−（トリエトキシシリル）ブチルメチルチオエーテル
、２−（メチルジヱトキシシリル）エチルメチルエーテ
ル、２一（メチルジヱトキシシリル）エチルフエニルチ
オエーテル、２−（メチルジエトキシシリル）エチルド
デシルチオエ−テル、６−（トリメトキシシリル）へキ
シルエチルチオヱーテル、メチルトリエトキシシラン、
ジメチルジエトキシシラン、トリメチルヱトキシシラン
、ジメチルシランジオール、ジフエニルシランジオール
等々である。
同じく、少なくとも１個もしくはそれ以上のアルコキシ
またはヒドロキシ基を含む相当するシロキサンまたはそ
の共重合体も本発明で使用しうる。
またはヒドロキシ基を含む相当するシロキサンまたはそ
の共重合体も本発明で使用しうる。
これらポリシロキサンの適当な例はモノェトキシ末端ブ
ロック８−メルカプトェチルプロピルポリシロキサンま
たはメチルジェトキシシリル末端ブロックＢーメルカプ
トプチルメチルポロシロキサン、モノヒドロキシ末端ブ
ロック８ーメルカプトエチルメチルポリシロキサン、ジ
ヒドロキシ末端ブ。ツクジメチルポリシロキサン、ジェ
トキシ末端ブロックジメチルポリシロキサンである。こ
れらポリシ。キサンは、トリアルキルアルコキシシラン
とチオール含有オルガノポリシロキサンとの共加水分解
および縮合によるか、または環式チオール含有オルガノ
ポリシロキサンとケイ素原子を含有する支配的にケイ素
結合したァルコキシ基との平衡により精造されうる。ジ
シロキサンおよび（または）環式トリシ。
ロック８−メルカプトェチルプロピルポリシロキサンま
たはメチルジェトキシシリル末端ブロックＢーメルカプ
トプチルメチルポロシロキサン、モノヒドロキシ末端ブ
ロック８ーメルカプトエチルメチルポリシロキサン、ジ
ヒドロキシ末端ブ。ツクジメチルポリシロキサン、ジェ
トキシ末端ブロックジメチルポリシロキサンである。こ
れらポリシ。キサンは、トリアルキルアルコキシシラン
とチオール含有オルガノポリシロキサンとの共加水分解
および縮合によるか、または環式チオール含有オルガノ
ポリシロキサンとケイ素原子を含有する支配的にケイ素
結合したァルコキシ基との平衡により精造されうる。ジ
シロキサンおよび（または）環式トリシ。
キサンと共に最初の反応材料の１つとして使用しうるそ
の他のヒドロキシおよび（または）ヒドロカルボンオキ
シ・ケイ素化合物は米国特許第３６５５７１３号に開示
されているシラシクロベンタンチオール化合物である。
の他のヒドロキシおよび（または）ヒドロカルボンオキ
シ・ケイ素化合物は米国特許第３６５５７１３号に開示
されているシラシクロベンタンチオール化合物である。
適当なシロキサンの、例はジシロキサンたとえばへキサ
メチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、ヘキ
サプロピルジシロキサン、ヘキサオクチルジシロキサン
、ジー（３−メルカプトプ。
メチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、ヘキ
サプロピルジシロキサン、ヘキサオクチルジシロキサン
、ジー（３−メルカプトプ。
ピル）テトラメチルジシロキサン等々である。本発明で
使用しうる環式シロキサンの例はへキサメチルシクロト
リシロキサン、ヘキサエチルトリシロキサン、ヘキサフ
エニルトリシロキサン、ヘキサブチルトリシロキサン、
ヘキサオクチルトリシロキサン、１，２，３ートリメチ
ルー１，２，３ートリフェニルシクロトリシロキサン類
等々である。本発明の組成物は、ジシロキサンおよび（
または）ヒドロキシおよび（または）ヒドロカルボンオ
キシ含有またはシロオキサンの間の反応に酸触媒の存在
下で環式トリシロキサンを以つて作用させる（これら化
合物の少なくとも１つはチオールを含有する）ことによ
り製造される。
使用しうる環式シロキサンの例はへキサメチルシクロト
リシロキサン、ヘキサエチルトリシロキサン、ヘキサフ
エニルトリシロキサン、ヘキサブチルトリシロキサン、
ヘキサオクチルトリシロキサン、１，２，３ートリメチ
ルー１，２，３ートリフェニルシクロトリシロキサン類
等々である。本発明の組成物は、ジシロキサンおよび（
または）ヒドロキシおよび（または）ヒドロカルボンオ
キシ含有またはシロオキサンの間の反応に酸触媒の存在
下で環式トリシロキサンを以つて作用させる（これら化
合物の少なくとも１つはチオールを含有する）ことによ
り製造される。
反応に作用させるのに使用されうる触媒は酸性白土およ
び有機機、無機酸で、ｐＫ値１．０以下、より好適には
水溶液中０．７以下のものである。
び有機機、無機酸で、ｐＫ値１．０以下、より好適には
水溶液中０．７以下のものである。
使用しうる適当な酸触媒はペンゾスルホン酸、パラ−ト
ルヱンスルホン酸、硫酸、亜硫酸、硝酸、過塩素酸、塩
酸ならびにフィルトロール蛇．１３およびＭ．２４とし
てフイルトロール・コーポレイシヨンから販売されてい
る酸性白土である。触媒の量は臨界的ではないが、反応
材料すなわちシランとシロキサンの総重量に対し約０．
００３％から約１０％重量までをチオ官能組成物を作る
反応中に使用することが好ましい。これより多量を使用
してもよいが、本発明の意図は生成する組成物の官能性
を変えることのない触媒系を堤供することにある。一般
に、反応が完了した後は、触媒の存在が生成重合体の性
質に有害に作用することがあるから、触媒を除去または
破壊することが望ましい。
ルヱンスルホン酸、硫酸、亜硫酸、硝酸、過塩素酸、塩
酸ならびにフィルトロール蛇．１３およびＭ．２４とし
てフイルトロール・コーポレイシヨンから販売されてい
る酸性白土である。触媒の量は臨界的ではないが、反応
材料すなわちシランとシロキサンの総重量に対し約０．
００３％から約１０％重量までをチオ官能組成物を作る
反応中に使用することが好ましい。これより多量を使用
してもよいが、本発明の意図は生成する組成物の官能性
を変えることのない触媒系を堤供することにある。一般
に、反応が完了した後は、触媒の存在が生成重合体の性
質に有害に作用することがあるから、触媒を除去または
破壊することが望ましい。
触媒の除去は、たとえば水で洗うことによりなしうるし
、また塩基性試薬で中和することにより破壊しうる。さ
らに、或る触媒、たとえば酸性白土は反応混合物を炉適
することにより破壊しうる。反応は約２５ｑｏから約２
００℃までの範囲の温度で０．虫時間から数日間の期間
にわたり、所望により炭化水素溶剤の存在下で導きうる
。或る条件の下では、たとえば無水酸触媒を使用したと
きなどは、反応を行なうため触媒量のプロトン化合物が
要求される。プロトン化合物の語は、反応性水素をもつ
化合物、たとえばメタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノールなどのようなアルコールおよび水を意味
する。フ。。トン化合物の量は臨界的でなく、シランお
よびシロキサンの総重量に対し約０．０００１〜約１０
％の範囲でよい。反応は溶剤なしでも導きうるが、溶剤
を用いるならシランおよびシ。キサンの重量に対し約１
〜５０％で用いることができる。適当な炭化水素溶剤の
例ではへブタン、ベンゼン、トルヱン、キシレン等々で
ある。さらに、反応は不活性雰囲気内で導くのが好まし
い。本発明のチオ官能性オルガノポリシロキサンは金属
保護剤として、および金属基質上の雛型剤として使用さ
れうる。
、また塩基性試薬で中和することにより破壊しうる。さ
らに、或る触媒、たとえば酸性白土は反応混合物を炉適
することにより破壊しうる。反応は約２５ｑｏから約２
００℃までの範囲の温度で０．虫時間から数日間の期間
にわたり、所望により炭化水素溶剤の存在下で導きうる
。或る条件の下では、たとえば無水酸触媒を使用したと
きなどは、反応を行なうため触媒量のプロトン化合物が
要求される。プロトン化合物の語は、反応性水素をもつ
化合物、たとえばメタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノールなどのようなアルコールおよび水を意味
する。フ。。トン化合物の量は臨界的でなく、シランお
よびシロキサンの総重量に対し約０．０００１〜約１０
％の範囲でよい。反応は溶剤なしでも導きうるが、溶剤
を用いるならシランおよびシ。キサンの重量に対し約１
〜５０％で用いることができる。適当な炭化水素溶剤の
例ではへブタン、ベンゼン、トルヱン、キシレン等々で
ある。さらに、反応は不活性雰囲気内で導くのが好まし
い。本発明のチオ官能性オルガノポリシロキサンは金属
保護剤として、および金属基質上の雛型剤として使用さ
れうる。
これら組成物は金属表面にその腐蝕および高温酸化に対
する抵抗を改善するため適用されうる。同じくこれら組
成物はポリウレタンなどのような物質の被覆材としてお
よび雛型剤として有効である。以下に本発明の実施例を
示す。
する抵抗を改善するため適用されうる。同じくこれら組
成物はポリウレタンなどのような物質の被覆材としてお
よび雛型剤として有効である。以下に本発明の実施例を
示す。
すべての部は特に断らない限り重量による。例１
７０ｑ Ｃに加熱したへキサメチルシクロトリシロキサ
ン１２．７６部を含有する反応容器に３−メルカプトプ
ロピルトリメトキシシラン２８．２部、水０．５部およ
び酸性白土（前記フィルトロールＭ．１３）２５．５部
を添加する。
ン１２．７６部を含有する反応容器に３−メルカプトプ
ロピルトリメトキシシラン２８．２部、水０．５部およ
び酸性白土（前記フィルトロールＭ．１３）２５．５部
を添加する。
容器を１００００に加熱し、この温度に３時間維持する
。ついで容器内容物を６０００に冷やし、炉過する。揮
発分は２００００、１メートル以下で８．０時間で留去
される。澄んだ透明な液が得られ、粘度は２６０で１０
比ｓである。核磁気共鳴分折で、生成物はＣＨ３０：Ｈ
ＳＣ３比：Ｓｉ（ＣＨ３）２のモル比３：１：１００で
あることが示される。生成物のＳＨ含量は約０．４３％
である。産出した組成物を銅基質に適用し、被覆された
基質についでヱポキシカル・ウレタンＮｏ．１８５０フ
オーム“Ｂ”ＰａＫ（Ｕ．Ｓ．ジプサムより発売）の層
を適用する。
。ついで容器内容物を６０００に冷やし、炉過する。揮
発分は２００００、１メートル以下で８．０時間で留去
される。澄んだ透明な液が得られ、粘度は２６０で１０
比ｓである。核磁気共鳴分折で、生成物はＣＨ３０：Ｈ
ＳＣ３比：Ｓｉ（ＣＨ３）２のモル比３：１：１００で
あることが示される。生成物のＳＨ含量は約０．４３％
である。産出した組成物を銅基質に適用し、被覆された
基質についでヱポキシカル・ウレタンＮｏ．１８５０フ
オーム“Ｂ”ＰａＫ（Ｕ．Ｓ．ジプサムより発売）の層
を適用する。
基質とウレタン層の間にすぐれた雛型が行なわれる。上
記で製造されたチオ官能性ポリシロキサンの代りにトリ
メチルシリル末端ブロックジメチルポリシロキサンを用
いる場合は、ウレタン層が被覆した銅基質に粘着する。
記で製造されたチオ官能性ポリシロキサンの代りにトリ
メチルシリル末端ブロックジメチルポリシロキサンを用
いる場合は、ウレタン層が被覆した銅基質に粘着する。
例２
３−メルカプトプロピルトリメトキシシランの代りに２
−メルカプトェチルトリェトキシシラン（２５００で３
５比ｓ）３１部を使用すること以外は例１の方法を繰返
す。
−メルカプトェチルトリェトキシシラン（２５００で３
５比ｓ）３１部を使用すること以外は例１の方法を繰返
す。
この結果の生成物の粘度は２５００で９技ｓである。核
磁気共鳴分析によりＣ２日５０：ＨＳＣ２日５：Ｓｉ（
ＣＨ３）２の比は３：１：９６であることが示される。
生成物中のＳＨの％は約０．４１％である。この生成物
は、銅基質とポリウレタン層との間の雛型剤として銅基
質に適用したとき、すぐれた雛型性を示す。
磁気共鳴分析によりＣ２日５０：ＨＳＣ２日５：Ｓｉ（
ＣＨ３）２の比は３：１：９６であることが示される。
生成物中のＳＨの％は約０．４１％である。この生成物
は、銅基質とポリウレタン層との間の雛型剤として銅基
質に適用したとき、すぐれた雛型性を示す。
例３３−メルカプトプロピルトリメトキシシランの代り
にＷ−メルカプトアミトリェトキシシラン紙．３部を用
いる以外、例１の方法を繰返す。
にＷ−メルカプトアミトリェトキシシラン紙．３部を用
いる以外、例１の方法を繰返す。
得られた生成物の粘度は２５ｑｏで９＆ｓである。核磁
気共鳴分析によりＣ２虫○：ＨＳＣ５日，ｏ：Ｓｊ（Ｃ
Ｈ３）２の比は２．９５：１：９７であることが示され
る。生成物中のＳＨ％は約０．４％である。例４ ３ーメルカプトプロピルトリメトキシシランの代りにＷ
ーメルカプトデシルトリェトキシシラン４８．３部を用
いる以外、例１の方法を繰返す。
気共鳴分析によりＣ２虫○：ＨＳＣ５日，ｏ：Ｓｊ（Ｃ
Ｈ３）２の比は２．９５：１：９７であることが示され
る。生成物中のＳＨ％は約０．４％である。例４ ３ーメルカプトプロピルトリメトキシシランの代りにＷ
ーメルカプトデシルトリェトキシシラン４８．３部を用
いる以外、例１の方法を繰返す。
得られた生成物の粘度は２５ｑ０で１０１ｃｓである。
核磁気共鳴分析によりＣ２比○：ＨＳＣ，ｏＨ幻：Ｓｉ
（ＣＨ３）２の比は２．９：１：１０２であることが示
される。生成物中のＳＨ％は約０．３９％である。例５ ３−メルカプトプロピルトリメトキシシランの代りに２
一（トリェトキシシリル）エチルブチルチオェーテル４
０．２部を用いる以外、例１の方法を繰返す。
核磁気共鳴分析によりＣ２比○：ＨＳＣ，ｏＨ幻：Ｓｉ
（ＣＨ３）２の比は２．９：１：１０２であることが示
される。生成物中のＳＨ％は約０．３９％である。例５ ３−メルカプトプロピルトリメトキシシランの代りに２
一（トリェトキシシリル）エチルブチルチオェーテル４
０．２部を用いる以外、例１の方法を繰返す。
得られた生成物の粘度は２５℃で１０比ｓである。核磁
気共鳴分析によりＣＨ２０：ＳＣ比：Ｓｉ（ＣＨ３）２
の比は１．３：１：５０であることが示される。例６ ３−メルカプトプロピルトリメトキシシランの代りに３
一（トリメトキシシリル）プロピルフェニルチオエーテ
ル３９．２部を用いる以外、例１の方法を繰返す。
気共鳴分析によりＣＨ２０：ＳＣ比：Ｓｉ（ＣＨ３）２
の比は１．３：１：５０であることが示される。例６ ３−メルカプトプロピルトリメトキシシランの代りに３
一（トリメトキシシリル）プロピルフェニルチオエーテ
ル３９．２部を用いる以外、例１の方法を繰返す。
得られた生成物の粘度は２５ｏｏで９＄ｓである。核磁
気共鳴分析によりＣ６ＱＣ日３０：ＳＣＨ２：Ｓｉ（Ｃ
Ｈ３）２の比は１：３：１：９６であることが示される
。例７ ３ーメルカプトプロピルトリメトキシシランの代りに２
一（メチルジェトキシシリル）エチルフェニルチオェー
テル３８．８部を用いる以外、例１の方法を繰返す。
気共鳴分析によりＣ６ＱＣ日３０：ＳＣＨ２：Ｓｉ（Ｃ
Ｈ３）２の比は１：３：１：９６であることが示される
。例７ ３ーメルカプトプロピルトリメトキシシランの代りに２
一（メチルジェトキシシリル）エチルフェニルチオェー
テル３８．８部を用いる以外、例１の方法を繰返す。
得られた生成物の粘度は２５ｑｏで９枕ｓである。核磁
気共鳴分析によりＣ６日５：ＣＱＯ：ＳＣＨ２：Ｓｉ（
ＣＨ３）２の比は１：２．９：１：９６である。例８ ３ーメルカプトプロピルトリメトキシシランの代りに式 の化合物２３部を用いる以外、例１の方法を繰返す。
気共鳴分析によりＣ６日５：ＣＱＯ：ＳＣＨ２：Ｓｉ（
ＣＨ３）２の比は１：２．９：１：９６である。例８ ３ーメルカプトプロピルトリメトキシシランの代りに式 の化合物２３部を用いる以外、例１の方法を繰返す。
得られた生成物の粘度は２５℃で１０比ｓである。核磁
気共鳴分析によりＣ広○：ＨＳＣＨ：Ｓｉ（ＣＨ３）２
の比は１：１：９７．５であることが示される。生成物
のＳＨ舎量は約０．４２％である。例９７０ｑｏに加熱
されたへキサメチルシクロトリシロキサン１１ｉ碇郡を
含有する反応容器にを１４１部、水０．５部「 および
前記酸性白土２５部を添加する。
気共鳴分析によりＣ広○：ＨＳＣＨ：Ｓｉ（ＣＨ３）２
の比は１：１：９７．５であることが示される。生成物
のＳＨ舎量は約０．４２％である。例９７０ｑｏに加熱
されたへキサメチルシクロトリシロキサン１１ｉ碇郡を
含有する反応容器にを１４１部、水０．５部「 および
前記酸性白土２５部を添加する。
容器を１００ｑｏに加熱し、３時間維持する。ついで容
器内容物を６０ｏ０に冷やし、炉過する。揮発分は２０
０℃、１トール以下で４時間かけて留去される。澄んだ
透明な液が得られ、粘度は２５ｑｏで３比ｓである。核
磁気共鳴分析によりＨＳＣ３日６：Ｓｉ（ＣＨ３）２の
モル比は１：１２であることが示される。生成物のＳＨ
含量は約３．０％である。例 １０ １〆反応容器にへキサメチルシクロトリシロキサン２７
７部とトルェン２５部を添加する。
器内容物を６０ｏ０に冷やし、炉過する。揮発分は２０
０℃、１トール以下で４時間かけて留去される。澄んだ
透明な液が得られ、粘度は２５ｑｏで３比ｓである。核
磁気共鳴分析によりＨＳＣ３日６：Ｓｉ（ＣＨ３）２の
モル比は１：１２であることが示される。生成物のＳＨ
含量は約３．０％である。例 １０ １〆反応容器にへキサメチルシクロトリシロキサン２７
７部とトルェン２５部を添加する。
容器を７０℃に加熱し、ついで２−メルカプトェチルト
リェトキシシラン１９．碇部、水１４部、ヘキサメチル
ジシロキサン１碇部および前記酸性白土６部を容器に加
える。反応諸材料を還流温度に加熱し、水とエタノール
を約１５５ｏｏの容器温度にまで共雛留去する。ついで
反応諸材料を室温に冷やし、触媒を炉過により除去する
。ついで揮発分を１９０ｑ○、１トール以下で３時間か
けて留去する。約２１２部の清澄液状生成物が得られ、
粘度は２５℃で４４．１ｃｓである。
リェトキシシラン１９．碇部、水１４部、ヘキサメチル
ジシロキサン１碇部および前記酸性白土６部を容器に加
える。反応諸材料を還流温度に加熱し、水とエタノール
を約１５５ｏｏの容器温度にまで共雛留去する。ついで
反応諸材料を室温に冷やし、触媒を炉過により除去する
。ついで揮発分を１９０ｑ○、１トール以下で３時間か
けて留去する。約２１２部の清澄液状生成物が得られ、
粘度は２５℃で４４．１ｃｓである。
核磁気共鳴分析により、Ｃ２は○：ＨＳＣ２Ａ：Ｓｉ（
ＣＨ３）２のモル比は１：１：私．８であることが示さ
れる。生成物のＳＨ含童は０．７７％である。約２０．
８部の水−エタノール共雛混合物が得られ、これは分析
の結果エタノール７．３部、水１０．５部およびトルェ
ン２．８部から成っていた。約払．あ部の揮発分がスト
リッピングで除去される。例１１ ２−メルカブトヱチルトリェトキシシランの代りに３ー
メルカプトプロピルトリメトキシシラン１６．７部を用
いる以外、例１０の手続を繰返す。
ＣＨ３）２のモル比は１：１：私．８であることが示さ
れる。生成物のＳＨ含童は０．７７％である。約２０．
８部の水−エタノール共雛混合物が得られ、これは分析
の結果エタノール７．３部、水１０．５部およびトルェ
ン２．８部から成っていた。約払．あ部の揮発分がスト
リッピングで除去される。例１１ ２−メルカブトヱチルトリェトキシシランの代りに３ー
メルカプトプロピルトリメトキシシラン１６．７部を用
いる以外、例１０の手続を繰返す。
約１９６．３部の澄んだ液状生成物（粘度２５ｑ０で１
１＆ｓ）が得られる。核磁気共鳴分析によりＨＳＣ３日
６：Ｓｉ（Ｃ＆）２のモル比は１：４２であることが示
される。例 １２ ３ーメルカプトプロピルトリメトキシシラン１６．７部
と濃硫酸１部を用いる以外は例ｉｏの手続を繰返す。
１＆ｓ）が得られる。核磁気共鳴分析によりＨＳＣ３日
６：Ｓｉ（Ｃ＆）２のモル比は１：４２であることが示
される。例 １２ ３ーメルカプトプロピルトリメトキシシラン１６．７部
と濃硫酸１部を用いる以外は例ｉｏの手続を繰返す。
また水は用いない。触媒は１０．の部の重炭酸ナトリウ
ムで中和する。や）濁った液体が得られ、これを２回炉
遇した後の粘度は２５００で１５比ｓである。核磁気共
鳴分析によりＨＳＣ３日６：Ｓｉ（ＣＨ３）２のモル比
は１．０：３３．３であることを示される。生成物のＳ
Ｈ舎量は約０．６６％である。例 １３硫酸の代りに濃
硝酸１部を用いる以外、例１２の手続を繰返す。
ムで中和する。や）濁った液体が得られ、これを２回炉
遇した後の粘度は２５００で１５比ｓである。核磁気共
鳴分析によりＨＳＣ３日６：Ｓｉ（ＣＨ３）２のモル比
は１．０：３３．３であることを示される。生成物のＳ
Ｈ舎量は約０．６６％である。例 １３硫酸の代りに濃
硝酸１部を用いる以外、例１２の手続を繰返す。
約１７０部の濁った液が回収され、粘度は２５ｏ０で４
１枕ｓである。核磁気共鳴分析によりＣＨ３０：ＨＳＣ
３日６：Ｓｉ（ＣＨ３）２のモル比が１．０：１．０：
５２であることが示された。この生成物のＳＨ含量は約
０．５％である。例 １４ 硫酸の代りにパラートルェンスルホン酸１．０部を用い
る以外、例１２の手続を繰返す。
１枕ｓである。核磁気共鳴分析によりＣＨ３０：ＨＳＣ
３日６：Ｓｉ（ＣＨ３）２のモル比が１．０：１．０：
５２であることが示された。この生成物のＳＨ含量は約
０．５％である。例 １４ 硫酸の代りにパラートルェンスルホン酸１．０部を用い
る以外、例１２の手続を繰返す。
や）濁った液約１８４部が回収され、２５００で３６４
ｃｓの粘度である。核磁気共鳴分析によりＣＨ３０：Ｈ
ＳＣ３日６：Ｓｉ（ＣＨ３）２のモル比が０．５６：１
．０：４２であることが示された。この生成物のＳＨ舎
量は約０．９６％である。例 １５ 硫酸の代りに濃過塩素酸１部を用いる以外例１２の手続
を繰返す。
ｃｓの粘度である。核磁気共鳴分析によりＣＨ３０：Ｈ
ＳＣ３日６：Ｓｉ（ＣＨ３）２のモル比が０．５６：１
．０：４２であることが示された。この生成物のＳＨ舎
量は約０．９６％である。例 １５ 硫酸の代りに濃過塩素酸１部を用いる以外例１２の手続
を繰返す。
約２０７部の褐色透明な液が回収され、粘度は２５℃で
２６＆ｓである。核磁気共鳴分析によりＣＨ３０：ＨＳ
Ｃ３日６：Ｓｉ（Ｃ比）２のモル比が０．２７：１．０
：５１．５であることが示された。この生成物のＳＨ含
量は約０．７８％である。例 １６ 硫酸の代りに濃塩酸２部を用いる以外、例１２の手続を
繰返す。
２６＆ｓである。核磁気共鳴分析によりＣＨ３０：ＨＳ
Ｃ３日６：Ｓｉ（Ｃ比）２のモル比が０．２７：１．０
：５１．５であることが示された。この生成物のＳＨ含
量は約０．７８％である。例 １６ 硫酸の代りに濃塩酸２部を用いる以外、例１２の手続を
繰返す。
約１５３．８部の透明液が回収され、粘度は２５ｑ０で
約５９．１ｃｓである。核磁気共鳴分析によりＣＨ３０
：ＨＳＣ３日６：Ｓｉ（ＣＨ３）２のモル比が０．９５
：１．０：３８．５であることが示された。この生成物
のＳＨ含量は約０．７２％である。例 １７ 硫酸の代りに５．６部のフィルトロールＮｏ．２４（フ
ィルトロール・コーポレイションの酸性白土）を用い、
０．５部の水を使用する以外、例１２の手続を繰返す。
約５９．１ｃｓである。核磁気共鳴分析によりＣＨ３０
：ＨＳＣ３日６：Ｓｉ（ＣＨ３）２のモル比が０．９５
：１．０：３８．５であることが示された。この生成物
のＳＨ含量は約０．７２％である。例 １７ 硫酸の代りに５．６部のフィルトロールＮｏ．２４（フ
ィルトロール・コーポレイションの酸性白土）を用い、
０．５部の水を使用する以外、例１２の手続を繰返す。
約９７部の透明液が回収され、粘度は２５午Ｃで１０次
ｓである。核磁気共鳴分析は、ＨＳＣ３ＨＢ：Ｓｉ（Ｃ
Ｈ３）２のモル比１：３５．６であることを示す。生成
物のＳＨ含量は約０．６７％である。例１８ 例１０の比較として、１その反応容器にオクタメチルシ
クロテトラシロキサン２７７部、トルェン２５部、２−
メルカプトェチルトリェトキシシラン１９部、水１４部
、ヘキサメチルジシロキサン１碇部、および酸性白土（
フィルトロールＮｏ．１３）６部を入れる。
ｓである。核磁気共鳴分析は、ＨＳＣ３ＨＢ：Ｓｉ（Ｃ
Ｈ３）２のモル比１：３５．６であることを示す。生成
物のＳＨ含量は約０．６７％である。例１８ 例１０の比較として、１その反応容器にオクタメチルシ
クロテトラシロキサン２７７部、トルェン２５部、２−
メルカプトェチルトリェトキシシラン１９部、水１４部
、ヘキサメチルジシロキサン１碇部、および酸性白土（
フィルトロールＮｏ．１３）６部を入れる。
反応系を還流温度に加熱し、水とエタノールを共穣蒸留
し、ディーン・スターク・ヘッド‘こ集める。
し、ディーン・スターク・ヘッド‘こ集める。
反応系は３日間還流し、１日ごとに試料を取り出し、揮
発分を除去する。３日後、反応容器の中味はまだ揮発性
で、何ら反応が生じていないことが示された。
発分を除去する。３日後、反応容器の中味はまだ揮発性
で、何ら反応が生じていないことが示された。
例 １９
７０ｏＣに加熱したへキサメチルシクロトリシロキサン
１２７６部を含有する反応容器に水０．５部と式により
示されるメルカプト官能性シロキサン３灘．５部と酸性
白土（フィルトロール舷．１３）２５部を添加する。
１２７６部を含有する反応容器に水０．５部と式により
示されるメルカプト官能性シロキサン３灘．５部と酸性
白土（フィルトロール舷．１３）２５部を添加する。
容器を１００００に加熱し「 この温度に３時間維持す
る。容器内容物をついで６０℃に冷やし「炉過する。揮
発分は１８５ｏｏ、１トール以下で３時間かけて留適す
る。澄んだ透明液が得られ、これは大気に当てるとガム
状組成物に硬化する。核磁気共鳴分析は、Ｃ比○：ＨＳ
Ｃ３日６：Ｓｉ（ＣＨ３）２のモル比が０．１９：１．
０：５．０であることを示す。生成物のＳＨ含量は約６
．０％である。例 ２０ ２そ容器にへキサメチルシクロトリシロキサン１００碇
部、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン３５．
４部および３０岬で１斑時間乾燥してある酸性白士（フ
ィルト。
る。容器内容物をついで６０℃に冷やし「炉過する。揮
発分は１８５ｏｏ、１トール以下で３時間かけて留適す
る。澄んだ透明液が得られ、これは大気に当てるとガム
状組成物に硬化する。核磁気共鳴分析は、Ｃ比○：ＨＳ
Ｃ３日６：Ｓｉ（ＣＨ３）２のモル比が０．１９：１．
０：５．０であることを示す。生成物のＳＨ含量は約６
．０％である。例 ２０ ２そ容器にへキサメチルシクロトリシロキサン１００碇
部、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン３５．
４部および３０岬で１斑時間乾燥してある酸性白士（フ
ィルト。
−ル柚．１３）２０．７部を入れる。反応系を３時間１
００ｑ０に加熱する。３時間後、試料を取り出す。
００ｑ０に加熱する。３時間後、試料を取り出す。
全試料は室温で硬化したが、これは融点６４．５ｑ○の
へキサメチルシクロトリシロキサンが重合しなかったこ
とを示す。この反応容器に約２部の水を入れ、反応系を
３時間１００ｑ０に加熱する。系を室温に冷やし、触媒
を炉週により除去する。揮発分を真空ストリッピングに
より除去すると約５８安部の澄んだ液が得られる。生成
物の粘度は２５ｑＣで８４Ｘｓで、核磁気共鳴分析によ
りＣＨ３０：ＨＳＣ３は：Ｓｊ（ＣＨ３）２の比は１：
１：３５である。この例は反応を行なうのにプロトン化
合物が必要であることを示す。例 ２１ ５夕の容器にへキサメチルシクロトリシロキサン２２０
碇郡、トルエン１５碇郡および１，３−ジ（３ーメルカ
プトプロピル）テトラメチルジシロキサンを入れる。
へキサメチルシクロトリシロキサンが重合しなかったこ
とを示す。この反応容器に約２部の水を入れ、反応系を
３時間１００ｑ０に加熱する。系を室温に冷やし、触媒
を炉週により除去する。揮発分を真空ストリッピングに
より除去すると約５８安部の澄んだ液が得られる。生成
物の粘度は２５ｑＣで８４Ｘｓで、核磁気共鳴分析によ
りＣＨ３０：ＨＳＣ３は：Ｓｊ（ＣＨ３）２の比は１：
１：３５である。この例は反応を行なうのにプロトン化
合物が必要であることを示す。例 ２１ ５夕の容器にへキサメチルシクロトリシロキサン２２０
碇郡、トルエン１５碇郡および１，３−ジ（３ーメルカ
プトプロピル）テトラメチルジシロキサンを入れる。
系を７０午０に加熱し、容器に３ーメルカプトプ。ピル
メチルジメトキシシラン９碇郡、水９碇部および酸性白
土（フィルトロール船．１３）５の都を入れる。系を３
時間１００℃に加熱する。３時間後、系を６０ｑｏに冷
やし、炉過する。
メチルジメトキシシラン９碇郡、水９碇部および酸性白
土（フィルトロール船．１３）５の都を入れる。系を３
時間１００℃に加熱する。３時間後、系を６０ｑｏに冷
やし、炉過する。
揮発分は１８．５℃、１トール以下で４．畑時間留去す
る。澄んだ透明液が得られ、粘度は２５ｑｏで６比ｓで
ある。核磁気共鳴分析はＨＳＣ３日６：Ｓｉ（ＣＨ３）
２のモル比が１：１６．５であることを示す。生成物の
ＳＨ含量は約２．１％である。例 ２２ ジメチルメトキシシラン６礎部と水１部を用いる以外〜
例２１の手続を繰返す。
る。澄んだ透明液が得られ、粘度は２５ｑｏで６比ｓで
ある。核磁気共鳴分析はＨＳＣ３日６：Ｓｉ（ＣＨ３）
２のモル比が１：１６．５であることを示す。生成物の
ＳＨ含量は約２．１％である。例 ２２ ジメチルメトキシシラン６礎部と水１部を用いる以外〜
例２１の手続を繰返す。
澄んだ透明液が得られ、粘度は２５００で３比ｓである
。核磁気共鳴分析はＣ松○；ＨＳＣ３日６；Ｓｉ（Ｃ＆
）２のモル比が２：１．０：３０であることを示す。生
成物のＳＨ含量は約１．４％である。上記諸例の反応は
大気圧（約７６０側Ｈｇ）で導かれたがふ反応は大気圧
以上で導いてもよい。
。核磁気共鳴分析はＣ松○；ＨＳＣ３日６；Ｓｉ（Ｃ＆
）２のモル比が２：１．０：３０であることを示す。生
成物のＳＨ含量は約１．４％である。上記諸例の反応は
大気圧（約７６０側Ｈｇ）で導かれたがふ反応は大気圧
以上で導いてもよい。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ｐＫ値１．０以下の触媒存在下で、環式トリシロキ
サンを下記（１）式のシランおよび（２）式のシロキサ
ンより成る群から選ばれたケイ素化合物と反応させるこ
とから成り、（１）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （２）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここで、環式トリシロキサンまたはケイ素化合物は少な
くとも１つのチオール基を含有し、Ｒは一価炭化水素基
およびハロゲン化一価炭化水素基（各々炭素原子数１〜
１８）より成る群から選ばれ、ＭはＲ′（ＳＲ′″）＿
ｙおよび▲数式、化学式、表等があります▼ より成る群から選ばれ、Ｒ′は脂肪族不飽和結合を含ま
ず炭素原子数１〜１８を有する置換および未置換の二価
、三価および四価の炭化水素基、炭化水素エーテル、炭
化水素チオエーテル、炭化水素エステル、ならびにＲ′
がケイ素−炭素結合を通じてケイ素についている炭化水
素チオエステル基より成る群から選ばれ、Ｒ″は水素お
よび炭素原子数１〜１８の一価炭化水素基より成る群か
ら選ばれ、Ｒ′″はＲ″と式Ｒ″″Ｘにより表わされる
基とより成る群から選ばれ、Ｘは▲数式、化学式、表等
があります▼ および シアノアルキル基より成る群から選ばれ、Ｒ″″は脂肪
族不飽和結合を含まず炭素原子数１〜１８を有する二価
炭化水素基であり、Ｙは▲数式、化学式、表等がありま
す▼ ＲＣ ＝０および ▲数式、化学式、表等があります▼ （ＲおよびＲ″は上記と同じ） より成る群から選ばれ、ｂは０〜３の数、ｃは０〜３の
数であり、ｂ＋ｃの和は３までの数、ｄは０〜２の数、
ｅは１〜３の数、ｍとｎは各々０〜９９９の数に等しく
ｍ＋ｎの和は少なくとも１，ｙは１〜３の数であるとこ
ろのチオ官能性ポリシロキサン重合体の製法。 ２ 環式トリシロキサンが式 Ｍ＿ａＲ＿６＿−＿ａＳｉ＿３Ｏ＿３ 〔ここでＲは一価炭化水素基およびハロゲン化一価炭化
水素基（各々炭素原子数１〜１８）より成る群から選ば
れ、ａは０〜６の数、ＭはＲ′（ＳＲ′″）＿ｙおよび
▲数式、化学式、表等があります▼より成る群から選ば
れたので、Ｒ′は脂肪族不飽和結合を含まず炭素原子数
１〜１８を、有する置換おむび未置換の二価、三価およ
び四価の炭化水素基、炭化水素エーテル、炭化水素チオ
エーテル、炭化水素エステルならびにＲ′がケイ素−炭
素結合を通じてケイ素についている炭化水素チオエステ
ル基より成る群から選ばれ、Ｒ′″は水素、炭素原子数
１〜１８の一価炭化水素基および式Ｒ″″Ｘにより表わ
される基より成る群から選ばれ、Ｘは▲数式、化学式、
表等があります▼および シアノアルキル基より成る群から選ばれた基、Ｒ″″は
炭素原子数１〜１８で脂肪族不飽和結合を含まない二価
炭化水素基であり、ｙは１〜３の数である。 〕により示される特許請求の範囲第１項記載の製法。 ３ 反応が炭化水素溶剤の存在下で導かれる特許請求の
範囲第１項記載の製法。 ４ 溶剤がトルエンである特許請求の範囲第３項記載の
製法。 ５ 反応が２００℃までの温度で導かれる特許請求の範
囲第１項記載の製法。 ６ 反応がプロトン化合物の存在下で導かれる特許請求
の範囲第１項記載の製法。 ７ プロトン化合物が水である特許請求の範囲第６項記
載の製法。 ８ プロトン化合物がアルコールである特許請求の範囲
第６項記載の製法。 ９ 環式トリシロキサンがヘキサメチルシクロトリシロ
キサンである特許請求の範囲第１項記載の製法。 １０ ケイ素化合物がメルカプトアルキルトリヒドロカ
ルボンオキシシランである特許請求の範囲第１項記載の
製法。 １１ ケイ素化合物がメルカプトアルキルトリアルコキ
シシランである特許請求の範囲第１０項記載の製法。 １２ ケイ素化合物がβ−メルカプトエチルトリエトキ
シシランである特許請求の範囲第１０項記載の製法。 １３ ケイ素化合物がメルカプトアルキルトリアルコキ
シシランである特許請求の範囲第１０項記載の製法。 １４ ケイ素化合物がチオエーテルアルキルトリアルコ
キシシランである特許請求の範囲第１項記載の製法。 １５ ケイ素化合物がチオール含有シランの加水分解よ
り得られる特許請求の範囲第１項記載の製法。 １６ ケイ素化合物が３−メルカプトプロピルトリメト
キシシランの加水分解から得られる特許請求の範囲第１
５項記載の製法。 １７ ケイ素化合物β−メルカプトエチルトリエトキシ
シランの加水分解から得られる特許請求の範囲第１５項
記載の製法。 １８ ｐＫ値１．０以下の触媒存在下で、環式トリシロ
キサンとオルガノジシロキサンとを含有する混合物を、
下記（１）式のシランおよび（２）式のシロキサンより
成る群から選ばれたケイ素化合物と反応させることから
成り、（１）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （２）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここで、環式トリシロキサンまたはジシロキサン、また
はケイ素化合物は少なくとも１つのチオール基を含有し
、Ｒは一価炭化水素基およびハロゲン化一価炭化水素基
（各々炭素原子数１〜１８）より成る群から選ばれ、Ｍ
はＲ′（ＳＲ′″）＿ｙおよび▲数式、化学式、表等が
あります▼より成る群から選ばれ、ここでＲ′は脂肪族
不飽和結合を含まず炭素原子数１〜１８の置換および未
置換の二価、三価および四価の炭化水素基。 炭化水素エーテル、炭化水素チオエーテル、炭化水素エ
ステル、ならびにＲ′がケイ素−炭素結合を通じてケイ
素についている炭化水素チオエステル基より成る群から
選ばれ、Ｒ″は水素および炭素原子数１〜１８の一価炭
化水素基より成る群から選ばれ、Ｒ′″はＲ″と式Ｒ″
″Ｘにより表わされる基とより成る群から選ばれ、Ｘは
▲数式、化学式、表等があります▼ および シアノアルキル基より成る群から選ばれ、Ｒ″″は脂肪
族不飽和結合を含まず炭素原子数１〜１８の二価炭化水
素基であり、Ｙは▲数式、化学式、表等があります▼ ＲＣ＝０お よび ▲数式、化学式、表等があります▼ （ＲおよびＲ″は上記と同じ） より成る群から選ばれ、ｂは０〜３の数、ｃは０〜３の
数で、ｂ＋ｃの和は３までの数、ｄは０〜２の数、ｅは
１〜３の数、ｍとｎは各々０〜９９９の数に等しくｍ＋
ｎの和は少なくとも１，ｙは１〜３の数であるところの
チオ官能性ポリシロキサン重合体の製法。 １９ オルガノジシロキサンが式 Ｍ＿ａＲ＿（＿６＿−＿ａ＿）Ｓｉ＿２Ｏ〔ここでＲは
一価炭化水素基およびハロゲン化一価炭化水素基（各々
炭素原子数１〜１８）より成る群から選ばれ、ａは０〜
６の数、ＭはＲ′（ＳＲ′″）＿ｙおよび▲数式、化学
式、表等があります▼より成る群から選ばれたもので、
Ｒ′は脂肪族不飽和結合を含まず炭素原子数１〜１８を
有する置換および未置換の二価、三価および四価の炭化
水素基、炭化水素エーテル、炭化水素チオエーテル、炭
化水素エステルならびにＲ′がケイ素−−炭素結合を通
じてケイ素原子についている炭化水素チオエステル基よ
り成る群から選ばれ、Ｒ′″は水素、炭素原子数１〜１
８の一価炭化水素基および式Ｒ″″Ｘにより表わされる
基より成る群から選ばれ、Ｘは▲数式、化学式、表等が
あります▼ および シアノアルキル基より成る群から選ばれた基、Ｒ″″は
脂肪族不飽和結合を含まず炭素原子数１〜１８を有する
二価炭化水素基であり、ｙは１〜３の数である。 〕により示される特許請求の範囲第１８項記載の製法。 ２０ オルガノジシロキサンがヘキサメチルジシロキサ
ンである特許請求の範囲第１８項記載の製法。 ２１ ジシロキサンがジ（３−メルカプトプロピル）テ
トラメチルジシロキサンである特許請求の範囲第１８項
記載の製法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US630475 | 1975-11-10 | ||
| US05/630,475 US4046795A (en) | 1975-11-10 | 1975-11-10 | Process for preparing thiofunctional polysiloxane polymers |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5260900A JPS5260900A (en) | 1977-05-19 |
| JPS6035934B2 true JPS6035934B2 (ja) | 1985-08-17 |
Family
ID=24527326
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51134239A Expired JPS6035934B2 (ja) | 1975-11-10 | 1976-11-10 | チオ官能性ポリシロキサン重合体の製法 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4046795A (ja) |
| JP (1) | JPS6035934B2 (ja) |
| AT (1) | AT358818B (ja) |
| AU (1) | AU497777B2 (ja) |
| BE (1) | BE848135A (ja) |
| CA (1) | CA1091382A (ja) |
| DE (1) | DE2649854C2 (ja) |
| FR (1) | FR2330715A1 (ja) |
| GB (1) | GB1570779A (ja) |
| IT (1) | IT1066778B (ja) |
| NL (1) | NL183034C (ja) |
Families Citing this family (58)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4251277A (en) * | 1978-04-24 | 1981-02-17 | Sws Silicones Corporation | Compositions containing thiofunctional polysiloxanes |
| US4230816A (en) * | 1978-12-11 | 1980-10-28 | Sws Silicones Corporation | Thiofunctional polysiloxane polymers |
| US4289867A (en) * | 1978-12-11 | 1981-09-15 | Sws Silicones Corporation | Organofunctional polysiloxane polymers and a method for preparing the same |
| US4257699A (en) * | 1979-04-04 | 1981-03-24 | Xerox Corporation | Metal filled, multi-layered elastomer fuser member |
| US4272179A (en) * | 1979-04-04 | 1981-06-09 | Xerox Corporation | Metal-filled elastomer fuser member |
| US4264181A (en) * | 1979-04-04 | 1981-04-28 | Xerox Corporation | Metal-filled nucleophilic addition cured elastomer fuser member |
| US4281094A (en) * | 1979-12-03 | 1981-07-28 | Dow Corning Corporation | Novel mercaptoorganopolysiloxanes |
| EP0034191A1 (en) * | 1980-02-14 | 1981-08-26 | SWS Silicones Corporation | Process for preparing thiofunctional polysiloxane polymers and products obtained thereby |
| DE3021043A1 (de) * | 1980-06-03 | 1981-12-10 | Wacker-Chemie GmbH, 8000 München | Verfahren zur herstellung von organo(poly)siloxanen mit sic-gebundenen thiolgruppen |
| US4622412A (en) * | 1984-08-21 | 1986-11-11 | Charles Piskoti | Process for preparation of mercapto silicone fluid |
| DE3433654A1 (de) * | 1984-09-13 | 1986-03-20 | Wacker-Chemie GmbH, 8000 München | Durch ultraviolett-licht vernetzbare organopolysiloxanmassen und verfahren zum einbetten von elektronischen bauteilen |
| US4587320A (en) * | 1984-12-21 | 1986-05-06 | Dow Corning Corporation | Method for making carboxyfunctional silicone glycols |
| US5015717A (en) * | 1986-12-22 | 1991-05-14 | Wacker Silicones Corporation | Sulfur-containing organopolysiloxane waxes and a method for preparing the same |
| FR2611730B1 (fr) * | 1987-02-24 | 1989-06-16 | Rhone Poulenc Chimie | Diorganopolysiloxane a fonction alpha-mercaptoester utile comme stabilisant des polymeres a base de chlorure de polyvinyle |
| FR2645868B1 (fr) * | 1989-04-13 | 1991-06-14 | Rhone Poulenc Chimie | Copolymere sequence polydiorganosiloxane/ disulfure de thiurame, sa preparation et son utilisation dans la polymerisation de monomeres vinyliques |
| US5237020A (en) * | 1989-04-13 | 1993-08-17 | Rhone-Poulenc Chimie | Polydiorganosiloxane/thiuram disulfide block copolymers and radical polymerization of vinyl monomers therewith |
| US5034445A (en) * | 1989-05-26 | 1991-07-23 | Genesee Polymers Corporation | Stabilized polysiloxane fluids and a process for making same |
| US5034446A (en) * | 1989-05-26 | 1991-07-23 | Genesee Polymers Corporation | Stabilized polysiloxane fluids and a process for making the same |
| US5202190A (en) * | 1989-08-14 | 1993-04-13 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method of making vinyl-silicone copolymers using mercapto functional silicone chain-transfer agents and release coatings made therewith |
| US5057619A (en) * | 1989-08-14 | 1991-10-15 | Minnesota Mining And Manufacturing Co. | Siloxane iniferter compounds, block copolymers made therewith and a method of making the block copolymers |
| US5200436A (en) * | 1989-08-14 | 1993-04-06 | Minnesota Mining And Manufacture Company | Siloxane iniferter compounds, block copolymers made therewith and a method of making the block copolymers |
| US5089336A (en) * | 1989-08-14 | 1992-02-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | General purpose siloxane release coatings |
| US5032460A (en) * | 1989-08-14 | 1991-07-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method of making vinyl-silicone copolymers using mercapto functional silicone chain-transfer agents and release coatings made therewith |
| US5061965A (en) * | 1990-04-30 | 1991-10-29 | Xerox Corporation | Fusing assembly with release agent donor member |
| US5468477A (en) | 1992-05-12 | 1995-11-21 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Vinyl-silicone polymers in cosmetics and personal care products |
| TW268969B (ja) * | 1992-10-02 | 1996-01-21 | Minnesota Mining & Mfg | |
| US6183929B1 (en) | 1999-08-02 | 2001-02-06 | Xerox Corporation | Functional fusing agent |
| US6485835B1 (en) | 1999-08-16 | 2002-11-26 | Xerox Corporation | Functional fusing agent |
| US6045961A (en) * | 1999-08-17 | 2000-04-04 | Xerox Corporation | Thermally stable silicone fluids |
| US6261688B1 (en) | 1999-08-20 | 2001-07-17 | Xerox Corporation | Tertiary amine functionalized fuser fluids |
| US6890657B2 (en) * | 2001-06-12 | 2005-05-10 | Eastman Kodak Company | Surface contacting member for toner fusing system and process, composition for member surface layer, and process for preparing composition |
| US6582871B2 (en) | 2001-06-12 | 2003-06-24 | Heidelberger Druckmaschinen Ag | Toner fusing system and process for electrostatographic reproduction, fuser member for toner fusing system and process, and composition for fuser member surface layer |
| US6617090B2 (en) | 2001-06-12 | 2003-09-09 | Heidelberger Druckmaschinen Ag | Toner fusing system and process for electrostatographic reproduction |
| US6894137B2 (en) * | 2002-06-05 | 2005-05-17 | Easman Kodak Company | Block polyorganosiloxane block organomer polymers and release agents |
| US7084202B2 (en) * | 2002-06-05 | 2006-08-01 | Eastman Kodak Company | Molecular complexes and release agents |
| EP1387224A3 (en) * | 2002-08-02 | 2011-11-16 | Eastman Kodak Company | Fuser member, apparatus and method for electrostatographic reproduction |
| EP1388765A3 (en) * | 2002-08-09 | 2010-04-07 | Eastman Kodak Company | Sleeved fuser member |
| US8092359B1 (en) | 2002-11-13 | 2012-01-10 | Eastman Kodak Company | Fuser member and fuser member surface layer |
| US7056578B2 (en) * | 2002-11-13 | 2006-06-06 | Eastman Kodak Company | Layer comprising nonfibrillatable and autoadhesive plastic particles, and method of preparation |
| US7195853B1 (en) | 2002-11-13 | 2007-03-27 | Eastman Kodak Company | Process for electrostatographic reproduction |
| US7291399B2 (en) * | 2003-08-30 | 2007-11-06 | Xerox Corporation | Fuser fluid compositions |
| US20050195261A1 (en) * | 2004-03-05 | 2005-09-08 | Eastman Kodak Company | Fuser for ink jet images and ink formulations |
| MX2007013682A (es) * | 2005-05-02 | 2008-04-09 | Trican Well Service Ltd | Metodo para formar suspensiones acuosas transportables, mediante hidrofobizacion de particulas. |
| US9714371B2 (en) | 2005-05-02 | 2017-07-25 | Trican Well Service Ltd. | Method for making particulate slurries and particulate slurry compositions |
| US7462661B2 (en) * | 2005-07-19 | 2008-12-09 | Xerox Corporation | Release fluid additives |
| US7459203B2 (en) * | 2005-11-17 | 2008-12-02 | Eastman Kodak Company | Fuser member |
| US7452594B2 (en) * | 2005-11-17 | 2008-11-18 | Eastman Kodak Company | Fuser member system and process |
| AU2008243667B2 (en) | 2007-04-26 | 2013-11-07 | Trican Well Service Ltd | Control of particulate entrainment by fluids |
| CN101910224B (zh) * | 2007-12-28 | 2012-11-14 | 3M创新有限公司 | 纳米粒子、乙烯基单体和有机硅的共聚物 |
| JP2011508058A (ja) * | 2007-12-28 | 2011-03-10 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ナノ粒子、ビニルモノマー、及びシリコーンのコポリマー |
| KR101696493B1 (ko) | 2008-12-17 | 2017-01-13 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 실리콘-함유 공중합체의 벌크 중합 |
| CA2690768A1 (en) | 2010-01-21 | 2011-07-21 | Trican Well Services Ltd. | Compositions and methods for enhancing fluid recovery for hydraulic fracturing treatments |
| US20120164570A1 (en) * | 2010-12-22 | 2012-06-28 | Jerry Alan Pickering | Thermally conductive fuser coating |
| CN104066770B (zh) | 2011-11-25 | 2016-10-19 | Lg化学株式会社 | 有机聚硅氧烷 |
| TWI473840B (zh) | 2011-11-25 | 2015-02-21 | Lg Chemical Ltd | 製造有機聚矽氧烷的方法 |
| US9932514B2 (en) | 2014-04-25 | 2018-04-03 | Trican Well Service Ltd. | Compositions and methods for making aqueous slurry |
| CA2856942A1 (en) | 2014-07-16 | 2016-01-16 | Trican Well Service Ltd. | Aqueous slurry for particulates transportation |
| CA2880646A1 (en) | 2015-01-30 | 2016-07-30 | Trican Well Service Ltd. | Composition and method of using polymerizable natural oils to treat proppants |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3392182A (en) * | 1963-02-28 | 1968-07-09 | Goldschmidt Ag Th | Novel organosilicon compounds and process for their preparation |
| US3388144A (en) * | 1965-07-15 | 1968-06-11 | Dow Corning | Polymercaptoorgano and polyhydroxyorgano silanes and siloxanes |
| DE2008426A1 (ja) * | 1969-02-27 | 1970-09-10 | ||
| US3655713A (en) * | 1970-07-13 | 1972-04-11 | Dow Corning | Silacyclopentane thiols and thiolates |
| US3957844A (en) * | 1972-08-14 | 1976-05-18 | Union Carbide Corporation | Process for making mercapto substituted silicon compounds |
-
1975
- 1975-11-10 US US05/630,475 patent/US4046795A/en not_active Expired - Lifetime
-
1976
- 1976-10-12 AU AU18574/76A patent/AU497777B2/en not_active Expired
- 1976-10-26 CA CA264,184A patent/CA1091382A/en not_active Expired
- 1976-10-29 DE DE2649854A patent/DE2649854C2/de not_active Expired
- 1976-11-08 IT IT52072/76A patent/IT1066778B/it active
- 1976-11-09 NL NLAANVRAGE7612444,A patent/NL183034C/xx not_active IP Right Cessation
- 1976-11-09 BE BE172191A patent/BE848135A/xx not_active IP Right Cessation
- 1976-11-09 AT AT831576A patent/AT358818B/de not_active IP Right Cessation
- 1976-11-10 FR FR7633877A patent/FR2330715A1/fr active Granted
- 1976-11-10 JP JP51134239A patent/JPS6035934B2/ja not_active Expired
- 1976-11-10 GB GB46775/76A patent/GB1570779A/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ATA831576A (de) | 1980-02-15 |
| NL183034B (nl) | 1988-02-01 |
| CA1091382A (en) | 1980-12-09 |
| IT1066778B (it) | 1985-03-12 |
| BE848135A (fr) | 1977-05-09 |
| JPS5260900A (en) | 1977-05-19 |
| GB1570779A (en) | 1980-07-09 |
| AT358818B (de) | 1980-10-10 |
| NL183034C (nl) | 1988-07-01 |
| AU1857476A (en) | 1978-04-20 |
| DE2649854C2 (de) | 1984-07-12 |
| AU497777B2 (en) | 1979-01-04 |
| DE2649854A1 (de) | 1977-05-12 |
| FR2330715B1 (ja) | 1979-09-21 |
| FR2330715A1 (fr) | 1977-06-03 |
| US4046795A (en) | 1977-09-06 |
| NL7612444A (nl) | 1977-05-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6035934B2 (ja) | チオ官能性ポリシロキサン重合体の製法 | |
| JP2857203B2 (ja) | オルガノシリコーン縮合生成物の製造方法 | |
| US4251277A (en) | Compositions containing thiofunctional polysiloxanes | |
| EP0586240B1 (en) | Alkoxy endblocked polydiorganosiloxane and room temperature vulcanizable silicone elastomers made therefrom | |
| US5384383A (en) | Pristine phenylpropylalkylsiloxanes | |
| JPS582966B2 (ja) | アクリレ−トカンノウセイポリシロキサンジユウゴウタイ ノ セイゾウホウ | |
| US5254645A (en) | Cluster azasilacycloalkyl functional polysiloxanes | |
| US5015717A (en) | Sulfur-containing organopolysiloxane waxes and a method for preparing the same | |
| US4552942A (en) | Silanes and compositions prepared therefrom | |
| CA1145887A (en) | Sulfur containing polysiloxane polymers and a method for preparing the same | |
| US4230816A (en) | Thiofunctional polysiloxane polymers | |
| US5110967A (en) | Crosslinkers and chain extenders for room temperature vulcanization or crosslinking of polymers | |
| JPH03170530A (ja) | 片末端分岐状アミノアルキル基封鎖オルガノポリシロキサン及びその製造方法 | |
| US4612055A (en) | Stabilized blends of thiofunctional polysiloxane fluids and organopolysiloxane fluids and a process for stabilizing the same | |
| US4764577A (en) | Curable polymeric composition | |
| JPH03146558A (ja) | オルガノシリコーン処理シリカ及びそれを含む組成物、並びにその組成物の製造方法 | |
| USRE32504E (en) | Room temperature stable organopolysiloxane compositions | |
| US3423445A (en) | Pentahalophenylethylsilanes and siloxanes | |
| JPS63101388A (ja) | ジオキソラン置換有機ケイ素化合物及びその製造方法 | |
| US4908228A (en) | Dioxolane, diol and diacrylate silicon compounds and method for their preparation and use | |
| CA1073323A (en) | Compositions containing thiofunctional polysiloxanes | |
| JP2000086765A (ja) | 有機ケイ素組成物 | |
| US4072655A (en) | Organosilicon compounds as additives for curable organopolysiloxane compositions | |
| US5516867A (en) | Modified hydrogen silsesquioxane resin | |
| DE69930825T2 (de) | Verfahren zur Herstellung funktionalisierter Siloxane, Zusammensetzungen, die solche Siloxane enthalten und daraus hergestellte Artikel |