JPS6034801B2 - Thermal head for thermal recording device - Google Patents
Thermal head for thermal recording deviceInfo
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は熱記録装置に用いられるサーマルヘッドを製作
するに際し、発熱抵抗体を形成する基板及び前記基板上
に発熱抵抗体を形成したサーマルヘツド‘こ関するもの
である。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a substrate on which a heat generating resistor is formed and a thermal head in which a heat generating resistor is formed on the substrate when manufacturing a thermal head used in a thermal recording device.
熱記録方法は無騒音、メンテナンスフリー、低コスト及
び印字が優れているので、近年各方面から注目され、研
究開発がなされている。The thermal recording method is noiseless, maintenance-free, low cost, and has excellent printing properties, so it has recently attracted attention from various quarters and has been researched and developed.
しかし、静電記録あるいは通電記録等の方法に比較し、
記録速度が小さく、ファクシミリ、電算機用プリンター
等に使用するためには一層の高速化が必要となっている
。However, compared to methods such as electrostatic recording or current recording,
The recording speed is low, and further speeding up is required for use in facsimiles, computer printers, etc.
熱記録の高速化を図るためには配線方法、電気回路等の
改良と共にサーマルヘッド‘こ使用する発熱抵抗体を高
温度で使用する時の耐久性の改善が必要とされている。In order to increase the speed of thermal recording, it is necessary to improve the wiring method, electric circuit, etc., and to improve the durability of the heating resistor used in the thermal head when it is used at high temperatures.
従来、薄膜製造技術で製造されるサーマルヘッド(以下
薄膜サーマルヘッドという)用基板には次のことが要望
される。即ち、1 表面が極めて平滑であること
2 発熱抵抗体で生じた熱を効率良く感熱紙に伝達せし
め、しかも蓄熱による基板の温度上昇の少ないこと3
反り、ねじれがなく、平坦性の良いこと(抵抗体及び電
極等の微細パターンを製作する際フオトェッチ技術を用
いるため)4 発熱抵抗体の劣化を生じしめるアルカリ
イオンの少ないこと等である。Conventionally, the following requirements are required for a substrate for a thermal head (hereinafter referred to as a thin film thermal head) manufactured using thin film manufacturing technology. That is, 1. The surface must be extremely smooth. 2. The heat generated by the heating resistor can be efficiently transferred to the thermal paper, and the temperature of the board must not rise due to heat accumulation. 3.
There is no warping or twisting, and good flatness (because photo-etch technology is used to produce fine patterns for resistors and electrodes, etc.); 4) there are fewer alkali ions that can cause deterioration of heating resistors; and so on.
これらの諸条件より一般にアルミナセラミックス上にガ
ラス層を被覆したグレーズドセラミックスが賞用されて
いる。Due to these conditions, glazed ceramics, which are alumina ceramics coated with a glass layer, are generally preferred.
また、グレーズドセラミックスのガラス層には以下のこ
とが必要されている。Additionally, the glass layer of glazed ceramics requires the following:
1 アルミナとの熱膨張係数が頚以していること(平坦
性をえるため)2 アルミナとの密着性が良いこと
3 平滑なグレーズ面が得られること
これらの諸条件を満足させるグレーズドセラミックスの
グレーズ層は軟化温度の高いものは得にくく、最高使用
温度が限定されているのが現状である。1. The coefficient of thermal expansion is similar to that of alumina (to achieve flatness). 2. Good adhesion to alumina. 3. A smooth glazed surface can be obtained. A glazed ceramic glaze that satisfies these conditions. Currently, it is difficult to obtain a layer with a high softening temperature, and the maximum use temperature is currently limited.
一方、熱記録の高速化への要求によりサーマルヘッド発
熱抵抗体は従来にも増して高温度での耐久性が必要とさ
れている。On the other hand, due to the demand for faster thermal recording, thermal head heating resistors are required to be more durable at high temperatures than ever before.
以上の点に関し、種々検討の結果、サーマルヘッドの高
温度での耐久性を向上させるためには、発熱抵抗体の改
善と共に発熱抵抗体が形成される基板の改善が必要であ
ることが判明した。As a result of various studies regarding the above points, it has been found that in order to improve the durability of the thermal head at high temperatures, it is necessary to improve the heating resistor as well as the substrate on which the heating resistor is formed. .
本発明は、このような点に鑑み、なされたものであり、
グレーズされた基板上の軟化点が低いガラス層と発熱抵
抗体の間に耐熱性が良く、かつアルカリ含有量の少ない
低アルカリガラス層を介在させ、グレーズドセラミック
スの特長を損うことなくグレーズドセラミックスの最高
使用温度の低い欠点を改善することにより、高温度での
使用に・耐え、熱記録の高速化に有用なサーマルヘッド
を提供するものである。The present invention has been made in view of these points,
By interposing a low-alkali glass layer with good heat resistance and low alkali content between the glass layer with a low softening point on the glazed substrate and the heating resistor, we can create glazed ceramics without sacrificing the characteristics of glazed ceramics. By improving the drawback of a low maximum operating temperature, the present invention provides a thermal head that can withstand use at high temperatures and is useful for speeding up thermal recording.
本発明においてグレーズされる基板の熱伝導性の良い物
質としては、アルミナ、ベリリア、マグネシア等の酸化
物を主成分として焼結させたものが使用される。In the present invention, as a material having good thermal conductivity for the substrate to be glazed, a material obtained by sintering an oxide such as alumina, beryllia, or magnesia as a main component is used.
又、発熱抵抗体としては、棚化ジルコニウム等の棚化物
系発熱抵抗体が経時的に安定で、抵抗値調整が可能であ
り、特に高固有抵抗値の設定が可能なので、耐熱性の良
い基板と縄合せて使用される。In addition, as a heating resistor, shelved zirconium or other shelved heating resistors are stable over time and the resistance value can be adjusted, especially since it is possible to set a high specific resistance value, so it is recommended to use a substrate with good heat resistance. It is used in conjunction with rope.
第1図は従来のサーマルヘッドの一例を示すもので、グ
レーズドセラミックス基板1上に発熱抵抗体2があり、
引出し導体3,4がその上に、さらにその上に保護層5
,6が被覆されている。FIG. 1 shows an example of a conventional thermal head, in which a heating resistor 2 is mounted on a glazed ceramic substrate 1.
The lead-out conductors 3 and 4 are placed on top of that, and a protective layer 5 is placed on top of that.
, 6 are coated.
第2図は本発明によるサーマルヘッドの要部断面図でグ
レーズドセラミックス上にガラス組成物7が被覆されて
いるのが特徴である。その他は第1図の従来のものと同
機である。本発明の実施の態様を実施例で説明すると次
の通りである。FIG. 2 is a sectional view of a main part of the thermal head according to the present invention, and is characterized in that a glass composition 7 is coated on glazed ceramics. The rest of the machine is the same as the conventional one shown in Figure 1. The embodiments of the present invention will be explained below using examples.
板厚0.63肋のアルミナ焼結板上にガラスを被覆した
グレーズドセラミツクス(京都セラミックス株式会社製
、商品名 GS−2)上に、第1表に示す組成の実施例
No.1〜No.7のガラスターゲットをアルゴン中、
高周波スパッタリングによ約2仏ののガラス薄膜として
付着させた。Example No. 1 having the composition shown in Table 1 was placed on glazed ceramics (manufactured by Kyoto Ceramics Co., Ltd., trade name GS-2), which was a glass-covered alumina sintered plate with a plate thickness of 0.63 ribs. 1~No. 7 glass target in argon,
It was deposited as a glass thin film of about 2 mm by radio frequency sputtering.
第 1 表 く重量%)
なお、上記グレーズ層のガラスの軟化点(Ts℃)は6
20午Cであり、またK20とNa20の合計は0.9
%であった。Table 1 (% by weight) The softening point (Ts°C) of the glass in the glaze layer is 6
20 o'clock C, and the sum of K20 and Na20 is 0.9
%Met.
上記ガラス薄膜上に棚化ジルコニウム、ターゲットを用
いアルゴン中で高周波スパッタリングにより約800△
の薄膜抵抗体として形成させ、さらにその上にTi及び
Auを電子ビーム蒸着により各々50△及び1.5仏肌
付着させた。Shelved zirconium was placed on the glass thin film by high-frequency sputtering in argon using a target of about 800△.
The resistor was formed as a thin film resistor, and furthermore, Ti and Au were deposited thereon by electron beam evaporation to a thickness of 50 Δ and 1.5 Δ, respectively.
次いで、これらをエッチングにより発熱抵抗体及び引出
し導線パターンに形成し、その上に酸化シリコン及び酸
化タンタルを高速スパッタにより各々2仏の及び8仏肌
付着させた。Next, these were formed into a heating resistor and lead-out conductor pattern by etching, and silicon oxide and tantalum oxide were deposited thereon by high-speed sputtering, respectively, in 2 and 8 layers, respectively.
このようにして作ったサ−マルヘッドの分解能は4本/
側であつた。又、以上の工程で作ったサーマルヘッドに
1肌secの矩形電気パルスを50HZのサイクルで1
発熱抵抗体当り2.4Wの電力(1パルスで実用的な印
字濃度の得られる電力)を1時間印加した時の発熱抵抗
体の抵抗値変化を第2表に示した。The resolution of the thermal head made in this way is 4 lines/
It was hot by my side. In addition, a rectangular electric pulse of 1 skin sec was applied to the thermal head made in the above process at a cycle of 50Hz.
Table 2 shows the change in resistance value of the heating resistor when a power of 2.4 W per heating resistor (power that allows practical printing density to be obtained with one pulse) was applied for one hour.
第2表 第2表中の番号は第1表中の番号と各々対応している。Table 2 The numbers in Table 2 correspond to the numbers in Table 1, respectively.
なお、第2表中の比較例1はグレーズドセラミックス上
に直接側化ジルコニウム発熱抵抗体を付着させたもので
他の条件は同じである。第2表より発熱抵抗体と接する
下地物質により抵抗値の劣化が大きい影響を受けること
が判る。In Comparative Example 1 in Table 2, a side-cured zirconium heating resistor was directly adhered to the glazed ceramics, and the other conditions were the same. From Table 2, it can be seen that the deterioration of the resistance value is greatly affected by the underlying material in contact with the heating resistor.
すなわち、K20十Na20SI.0%及び軟化点74
5℃以上で好結果を得ている。なお、第2表中のNo.
6のサーマルヘッドを500時間の長時間テストしたと
ころ、抵抗値変化は十3.4%であり、その寿命が50
腿寺間以上あることが判り、比較例1は同じ長時間テス
トで5畑時間後断線した。That is, K20+Na20SI. 0% and softening point 74
Good results have been obtained at temperatures above 5°C. In addition, No. in Table 2.
When the No. 6 thermal head was tested for 500 hours, the resistance value change was 13.4%, and its lifespan was 500 hours.
It was found that the distance between the thighs and temples was more than that, and in Comparative Example 1, the wire broke after 5 field hours in the same long-term test.
以上により本発明による効果が大きいことが明らかにな
った。次に、前記側化ジルコニウム発熱抵抗体を他の棚
化物発熱抵抗体に変えた例を示す。From the above, it has become clear that the effects of the present invention are significant. Next, an example will be shown in which the lateralized zirconium heating resistor is replaced with another shelved heating resistor.
このサーマルヘッドは第1表中のNo.4のガラス層に
下記の発熱抵抗体を設けたもので、その他の構成は同じ
とした。また各種欄化物を本発明に係るガラス層のない
基板上に作成して比較用のサーマルヘッドとした。これ
らのサーマルヘツド‘こ対して、50HZのサイクル、
パルス中lms、ドット当りの電力2.4Wの矩形波電
気パルスを1時間印加した後の抵抗変化率を第3表に示
した。その結果は本発明によるガラス層の効果が認めら
れた。第3表
さらに本発明による効果は窒化タンタル及びニクロムの
発熱抵抗体において認められた。This thermal head is No. 1 in Table 1. The following heating resistor was provided on the glass layer of No. 4, and the other configurations were the same. In addition, various thermal heads were prepared on the substrate without a glass layer according to the present invention to prepare thermal heads for comparison. For these thermal heads, a 50Hz cycle,
Table 3 shows the resistance change rate after applying a rectangular wave electric pulse of 1 ms during the pulse and a power of 2.4 W per dot for 1 hour. The results confirmed the effectiveness of the glass layer according to the present invention. Table 3 Furthermore, the effects of the present invention were observed in tantalum nitride and nichrome heating resistors.
以上のように、グレーズドセラミツクス上にアルカリ成
分の少ない軟化点の高いガラスを付着させたサーマルヘ
ッド用基板はグレーズドセラミックスの優れた平坦性、
平滑性、熱的性質等の特徴を損うことなく、その最高使
用温度の低い欠点を改善することができ、熱記録の高速
化を図る上で有用なものである。As described above, the thermal head substrate, which is made by adhering glass with a high softening point and low alkaline content on glazed ceramics, has the excellent flatness of glazed ceramics.
It is possible to improve the drawback of a low maximum operating temperature without impairing characteristics such as smoothness and thermal properties, and is useful for increasing the speed of thermal recording.
なお、本発明は上記の実施例に限定されるものでない。Note that the present invention is not limited to the above embodiments.
即ち、1 本発明に使用するセラミックスの基板はアル
ミナに代えてべリリア、サファイア、金属等の熱伝導率
の良いものも使用できる。That is, 1. For the ceramic substrate used in the present invention, materials with good thermal conductivity such as beryllia, sapphire, metal, etc. can be used instead of alumina.
2 本発明のガラス層形成手段は、高速スパッタ、イオ
ンプレ−ティング、電子ビーム蒸着、CVD等によるが
、どの方法にあってもグレーズド層との接着性は良い。2. The means for forming the glass layer of the present invention is high-speed sputtering, ion plating, electron beam evaporation, CVD, etc., but any method provides good adhesion to the glazed layer.
3 上記ガラス層の厚さは、薄すぎると下地の影響をう
けやすく、厚すぎるとガラス層における蓄熱が生じて高
速記録に好ましくない。従って、厚さの好ましい範囲は
0.2〜504、特に好ましい範囲は1〜10仏である
。4 本発明は厚膜サーマルヘッド、/・ィブリット集
積回路用基板等にも利用することができる。3. If the thickness of the glass layer is too thin, it will be susceptible to the influence of the underlying material, and if it is too thick, heat will accumulate in the glass layer, which is not preferable for high-speed recording. Therefore, the preferred range of thickness is 0.2 to 50 mm, particularly preferably 1 to 10 mm. 4 The present invention can also be used for thick film thermal heads, substrates for hybrid integrated circuits, etc.
第1図は感熱記録装置に従来使用されているサーマルヘ
ッドであり、第2図は本発明によるサ−マルヘツドで、
夫々要部の断面を拡大して示したものである。
1・・・・・・グレーズドセラミックス基板、2・・・
・・・発熱抵抗体、3,4・・・・・・引出し導体、5
,6・・・・・・保護層、7・・・・・・ガラス層。
第1図
第2図FIG. 1 shows a thermal head conventionally used in a thermal recording device, and FIG. 2 shows a thermal head according to the present invention.
Each is an enlarged cross-section of the main part. 1... Glazed ceramics substrate, 2...
... Heating resistor, 3, 4 ... Output conductor, 5
, 6... Protective layer, 7... Glass layer. Figure 1 Figure 2
Claims (1)
ド基板と、該グレーズド基板上に被覆されていて軟化点
が745℃以上で、その含有する酸化ナトリウムと酸化
カリウムの合量が1.0重量%以下の低アルカリガラス
層と、該低アルカリガラス層上に配された発熱抵抗体と
を有することを特徴とする熱記録装置用サーマルヘツド
。 2 低アルカリガラス層の厚さが0.2〜50μmであ
る特許請求の範囲第1項記載のサーマルヘツド。 3 発熱抵抗体が硼化ジルコニウムである特許請求の範
囲第1項ないし第2項記載のサーマルヘツド。[Scope of Claims] 1. A glazed substrate in which a glass layer is coated on a material with good thermal conductivity, and a compound of sodium oxide and potassium oxide that is coated on the glazed substrate and has a softening point of 745°C or higher, and contains sodium oxide and potassium oxide. 1. A thermal head for a thermal recording device, comprising a low alkali glass layer having an amount of 1.0% by weight or less, and a heating resistor disposed on the low alkali glass layer. 2. The thermal head according to claim 1, wherein the low alkali glass layer has a thickness of 0.2 to 50 μm. 3. The thermal head according to claims 1 and 2, wherein the heating resistor is zirconium boride.
Priority Applications (4)
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JP52122623A JPS6034801B2 (en) | 1977-10-13 | 1977-10-13 | Thermal head for thermal recording device |
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DE19782821950 DE2821950A1 (en) | 1977-05-19 | 1978-05-19 | Head for thermal printing with stable resistance - obtd. by sputtering a metal boride resistance heating element onto a glazed substrate |
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Family Applications (1)
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- 1977-10-13 JP JP52122623A patent/JPS6034801B2/en not_active Expired
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