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JPS60163973A - 疎水性粉体の製造方法 - Google Patents

疎水性粉体の製造方法

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Publication number
JPS60163973A
JPS60163973A JP59020433A JP2043384A JPS60163973A JP S60163973 A JPS60163973 A JP S60163973A JP 59020433 A JP59020433 A JP 59020433A JP 2043384 A JP2043384 A JP 2043384A JP S60163973 A JPS60163973 A JP S60163973A
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JP
Japan
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acid
powder
producing
group
hydrophobic powder
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JP59020433A
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Susumu Kobayashi
進 小林
Shigenori Kumagai
重則 熊谷
Shigeharu Muto
重晴 武藤
Yutaka Otsu
裕 大津
Hiroshi Fukui
寛 福井
Kazuhisa Ono
和久 大野
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Shiseido Co Ltd
Original Assignee
Shiseido Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS60163973A publication Critical patent/JPS60163973A/ja
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    • A61K8/58Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing atoms other than carbon, hydrogen, halogen, oxygen, nitrogen, sulfur or phosphorus
    • A61K8/585Organosilicon compounds

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、疎水性粉体の製造方法に関する。さらに詳し
くは、粉体の表面でオルガノ水素ポリシロキサンを反応
させて疎水性粉体を製造する際に、酸性物質を添加する
ことを特徴とする疎水性粉体の製造方法に関する。
従来より親水性粉体の疎水化に関しては多くの公知の方
法があり、特にシリコーン油の疎水特性を活用すること
は既に良く知られているところである。
本発明者等は、先に、各種親水性粉体に、反応性シリコ
ーン油の架橋重合開始触媒である金属水酸化物を粉体に
均一混合摩砕させ、その後所定の反応活性量を有するメ
チル水素ポリシロキサンを特に加熱処理することなくメ
カノケミカル的に粉体表面上で架橋重合形成させ、疎水
性粉体を製造する方法を見い出した(特公昭56 43
264 ) 。
上記の方法で得た粉体は、変色もなく、シリコーン単独
樹脂塊を含まない、即ち、出発原料粉体の粒子径とほぼ
同じの、強い疎水性を持つ優れた疎水性粉体であったが
、場合によっては粉体上のオルガノ水素ポリシロキサン
の反応が充分でなく経時でさらに反応が進行するので疎
水性が変化したり、固形状ファンデーションにするとき
の成型性が悪くなったりする場合も見受けられた。
本発明者等は、これらの欠点を改良すべく鋭意研究した
結果、粉体の表面でオルガノ水素ポリシロキサンを反応
させて疎水性粉体を製造する際に、酸性物質を添加する
ことにより・シリコーンの反応率の高い、」二記欠点の
ない疎水性粉体が得られ、しかも、この方法によればメ
カノケミカル反応に限定されず、種々の粉体処理工程が
適用できることを見出した。
即ち、本発明は無機粉体及び有機粉体より選ばれる粉体
の1種または2種以上の表面でオルガノ水素ポリシロキ
サンの1種または2種以上を反応させて疎水性粉体を製
造する際に、酸性物質の1種または2種以上を添加する
ことを特徴とする疎水性粉体の製造方法を提供するもの
である。
本発明に用いられる粉体は・ケイ酸・無水ケイ酸、ケイ
酸マグネシウム、タルク、カオリン、雲母1ベントナイ
ト、オキシ塩化ビスマス、酸化ジルコニウム、酸化マグ
ネシウム、酸化亜鉛、二酸化チタン、炭酸カルシウム、
炭酸マグネシウム1酸化鉄、群青、紺青、酸化クロム、
水酸化クロム、カラミン、カーボンブラック及びこれら
の複合体等の無機粉体及びポリアミド、ポリエステル、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンヘボメラ
ミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ジビ
ニルベンゼン・スチレン共重合体、上記化合物の単量体
の2種以上から成る共重合体、セルロイド、アセチルセ
ルロース、多[t、タンパク質、硬タンパク質、CIピ
グメントイエロー、Cエピグメントオレンジ、Oエピグ
メントレッド為Cエピグメントバイオレット、Cエピグ
メントプル=Scエピグメントグリーン及びCエピグメ
ントブラウン等の有機粉体で、これらのうちから任意の
1種または2種以上が選ばれて用いられる。
本発明で使用されるオルガノ水素ポリシロキサンは下記
一般式で表わされる化合物の1種または2種以上から選
ばれる。これらのうちでもケイ素に直接結合する活性な
水素基を有し・SiH当量(0,0INNaOH水溶液
100℃下にて水素ガス1モルを発生するに必要なオル
ガノ水素ポリシロキサンのグラム数)が550以下のも
の、とくに30〜550のものが好ましい。
(式中、R1は互いに同一でも異なってもよく、水素原
子、水酸基、メチル基、エチル基またはフェニル基を、
R2は水素原子、水酸基、メチル基、エチル基またはフ
ェニル基を・R3は互いに同一でも異なってもよく、水
素原子、水酸基、炭素数1〜羽のアルキル基、フェニル
基、炭素数1〜22のアルコキシ基または炭素数1〜4
のシアノアルキル基を、S4は互いに同一でも異なって
もよく、水素原子、水酸基、炭素数1〜22のアルキル
基、フェニル基、炭素数1〜22のアルコキシ基または
□炭素数1〜4のシアノアルキル基を示し、l % m
 s nは合計で5〜1000の整数を示す。l s 
m % nはそれぞれの構成単位が規則的または不規則
的に結合していてもよく、それぞれの構成単位が何個か
集まったものが規則的または不規則的に結合していても
よい。
SiH当量はオルガノ水素ポリシロキサンの架橋重合度
を決定する重要な要因で、SiH当量が小さければ硬い
被膜、即ち架橋度の高い重合体を、またSiH当量が大
きければ粘稠な被膜、即ち架橋度の低い重合体を形成す
る。su4当量がお以下の場合、極めて硬い被膜形成が
おこり、疎水化は進行するも、出発粉体の有する使用特
性と異りやすく、またシリコーン単独樹脂塊の防止は重
合中間体(オリゴ体)をつくらぬ限り困難である。Si
H当量が550を超えた場合〜軟質被膜形成がおこり、
比較的疎水化は進行しにくい。
(以下余白) オルガノ水素ポリシロキサンの添加量はその出発粉体に
対して01〜2D%(wt / wt )でよく、好ま
しくは出発粉体の比表面積にて決定する。粉体表面特性
が各々の粉体によって異なる為画一的なことは言えない
が、一般に1 m’当り101n9のオルガノ水素ポリ
シロキサンで充分である。
本発明で用いられる酸性物質としては、脂肪酸、多塩基
酸、乳酸、リンゴ酸、タルトロン酸、クエン酸、イソク
エン酸、酒石酸、アスコルビン酸、ビタミンA酸、芳香
族酸、ウロカニン酸、ピロリドンカルボン酸、酸性アミ
ノ酸、中性アミノ酸、アシルアミノ酸、グリコノーδ−
ラクトン、硫酸、塩酸、リン酸、ホウ酸、アミノ酸の無
機酸塩・アミノ酸の有機酸塩、アシルアミノ酸の無機酸
塩、アシルアミノ酸の有機酸塩、無機酸の金属塩等を挙
げることができ、これらのうちから1種又は2種以上が
選ばれる。
従来、オルガノ水素ポリシロキサンの反応促進剤として
は、アルカリ性物質および各種の金属の有機酸塩が用い
られている。特に金属水酸化物を反応促進剤として使用
した疎水性粉体は、前述の如く、変色もなく、疎水性に
優れ、化粧品用粉体として理想に近いものであった(特
公昭56−43264)。
しかしながら、使用したオルガノ水素ポリシロキサンの
反応率の点で改良すべき余地が残されていた。この唯一
の問題点も本発明の酸性物質の添加によって解決される
が、これらの酸性物質の添加量は出発粉体に対して0.
01〜10%(wt/wt)でよく、疎水性の観点から
考えると001〜5%(wt/ wt )が好ましい。
本発明に基づいて疎水性粉体を製造するにあたっては種
々の工程が採用できる。オルガノ水素ポリシロキサンを
原料粉体に添加するには・溶媒に希釈して添加しても良
いし、直接添加してもよい。
又・ガス状にして噴霧しても構わない。これらの操作は
混合攪拌しながら行ってもよく、添加してしかる後に混
合攪拌を行ってもよい。混合攪拌の方法は一般的に用い
られる方法でよく、特別な装置は必要ない。混合攪拌に
メカノケミカル法、具体的にはボールミル、ホジャーサ
イトボールミル、振動ボールミル、振動ロンドミル、振
動ミル、アトライター、ボットミル、ロンドミル、パン
ミル、摺潰機等をもちいることもできる。メカノケミカ
ル法は粉体、酸性物質及びオルガノ水素ポリシロキサン
を均一に混合する方法としては特に優れた方法である。
原料粉体、酸性物質及びオルガノ水素ポリシロキサンの
添加順序は特に限定されない。
原料粉体と酸性物質を混合した後にオルガノ水素ポリシ
ロキサンを添加してもよいし、原料粉体に酸性物質とオ
ルガノ水素ポリシロキサンの混合物を添加してもよいし
、原料粉体とオルガノ水素ポリシロキサンの混合物に酸
性物質を添加してもよい。
以上の製造方法を加熱下で実施すれば反応はより速やか
に進行する。
本発明の製造方法によって、シリコーン樹脂被覆された
疎水性粉体は、化粧品用粉末、プラスチック用無機添加
剤(補強剤、着色剤等)、ゴム用無機添加剤(主に接着
剤)、磁気テープ用(磁性(以下余白) 酸化鉄)、塗料、インク用無機顔料、滑剤等に広く利用
される。
以下に実施例によって本発明をさらに詳細に説明する。
タン200重量部の混合物を50°Cで攪拌下に関分加
熱還流した後、100°Cで2時間加熱攪拌しジクロ室
タンを留去した。この時のメチル水素ポリシロキサンの
反応率は62%であった。
比較例1 クエン酸を添加せずに、実施例1と全く同様に処理した
ところ、メチル水素ポリシロキサンの反応率は10%で
あった。
実施例2 二酸化チタン犯重量部、タルク46.8重量部の混合粉
体を・リン酸0.2重量部と共に振動ボールミル(中央
化工機工型、1.5 H))中にてに分間混合摩砕後・
SIH当量145のメチル水素ポリシロキサン3重量部
を添加し、上記振動ボールミルにテア0分混合摩砕した
。この時のメチル水素ポリシロキサンの反応率は58%
であった。
比較例2 リン酸の代りに水酸化カルシウムを用いた点以外は実施
例2と全く同様にして処理した時のメチル水素ポリシロ
キサンの反応率は]9%であった。
実施例3 二酸化チタン、カオリン、酸化マグネシウム、ケイ酸、
チタン被覆雲母の等量混合粉体85重量部、グルタミン
酸5重量部およびSiH当景550のメチル水素ポリシ
ロキサ210重量部をボットミル中にて5時間混合摩砕
した。この時のメチル水素ポリシロキサンの反応率は6
7%であった0比較例3 グルタミン酸を添加せずに、実施例3と同く同様に処理
した時のメチル水素ポリシロキサンの反応率は12%で
あった0 (以下余白) 実施例4 黒色酸化鉄89.5重量部、ナイロンパウダー5重量部
、硫酸亜鉛05重量部およびSiH当量252のメチル
水素ポリシロキサン5重量部をボットミル中にて5時間
混合摩砕した。この時のメチル水素ポリシロキサンの反
応率は49%であった。
比較例4 硫酸亜鉛の代りに水酸化アルミニウムを用い、実施例4
と全く同様に処理した時のメチル水素ポリシロキサンの
反応率は16%であった。
実施例5 赤色酸化鉄犯重量部、タルク48.9重量部、乳酸01
重量部およびSiH当量35のエチル水素ポリシロキサ
ン1重量部をボットミル中にて5時間混合摩砕した。こ
の時のエチル水素ポリシロキサンの反応率は42%であ
った。
比較例5 乳酸の代りに水酸化マグネシウムを用い、実施例5と全
く同様に処理した時のエチル水素ポリシロキサンの反応
率は18%であった。
実施例6 黄色酸化鉄925重量部、カオリン5重量部、酒石酸0
5重量部、SiH当量79のメチルエチル水素ポリシロ
キサン2重量部をボットミル中にて5時間混合摩砕した
。この時のメチルエチル水素ポリシロキサンの反応率は
51%であった。
比較例6 酒石酸の代りに水酸化アルミニウムを用い、実施例6と
全く同様に処理した時のメチルエチル水素ポリシロキサ
ンの反応率は9%であった。
実施例7 黄色酸化鉄513重量部、カオリン5重量部、アジピン
酸0.2重量部、リンゴ酸05重量部、SiH当量14
5のメチル水素ポリシロキサン2重量部およびSl、H
当量127のメチルフェニル水素ポリシロキサン1重量
部をボットミル中にて5時間混合摩砕した。この時のメ
チルフェニル水素ポリシロキサンの反応率は57%であ
った。
比較例7 アジピン酸およびリンゴ酸を添加せずに、実施例7と全
く同様に処理した時のメチルフェニル水素ポリシロキサ
ンの反応率は6%であった。
実施例1〜7、比較例1〜7において、オルガノ水素ポ
リシロキサンの反応率は以下の方法で算出した。
特許出願人 株式会社 資 生 堂 手続補正書く自発) 昭和59年3月5日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 、F。
−、g″・ 1、事件の表示 昭和59年特許願第20433号 2、発明の名称 疎水性粉体の製造方法 3、補正をする者 4、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 5、補正の内容 (1)明細書第13頁下から1行目「接着剤」とあるを
、「着色剤」と補正します。
(2)明細書第14頁下から3行目「中央化工機I型」
とあるを、「中央化工機1型」と補正します。
(3)明細書第17頁下から4行目「メチルフェニル」
とあるを、「オルガノ」と補正します。
(4)明細書第18頁第1行目「メチルフェニル」とあ
るを、「オルガノ」と補正します。
以 上

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) 無機粉体及び有機粉体より選ばれる粉体の1種
    又は2種以上の表面でオルガノ水素ポリシロキサンの1
    種又は2種以上を反応させて疎水性粉体を製造する際に
    、酸性物質の1種又は2種以上を添加することを特徴と
    する疎水性粉体の製造方法。
  2. (2) 無機粉体がケイ酸、無水ケイ酸、ケイ酸マグネ
    シウム、タルク、カオリン、雲母、ベントナイト、チタ
    ン被覆雲母、オキシ塩化ビスマス、酸化ジルコニウム、
    酸化マグネシウム、酸化亜鉛、二酸化チタン、炭酸カル
    シウム、炭酸マグネシウム、酸化鉄、群青、紺青、酸化
    クロム、水酸化クロム、カラミン及びカーボンブラ、り
    のいずれかである特許請求の範囲第(1)項記載の疎水
    性粉体の製造方法。
  3. (3) 有機粉体がポリアミド、ポリエステル、ポリエ
    チレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリウレタン
    、ビニル樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フッ素樹脂
    、ケイ素樹脂、アクリル酸樹脂、メラミン樹脂、エポキ
    シ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ジビニルベンゼン・ス
    チレン共重合体、上記化合物の単量体の2種以上から成
    る共重合体、セルロイド、アセチルセルロース、多糖類
    、タンパク質、硬タンパク質、CIピダメントイエロー
    、CIピグメントオレンジ、CIピグメントレ、ド、C
    エビグメントバイオレット、CIピゲメントブルー、C
    Iピグメントグリーン及び0丁ピグメントブラウンのい
    ずれかである特許請求の範囲第【1】項記載の疎水性粉
    体の製造方法。
  4. (4) オルガノ水素ポリシロキサンが下記一般式で表
    わされる化合物のいずれかである特許請求の範囲第(1
    )項ないし第(3)項のいずれかに記載の疎水性粉体の
    製造方法。 (式中、R1は互いに同一でも異なってもよく、水素原
    子、水酸基、メチル基、エチル基またはフェニル基を、
    R2は水素原子、水酸基、メチル基、エチル基またはフ
    ェニル基を、R3は互いに同一でも異なってもよく、水
    素原子、水酸基、炭素数1〜羽のアルキル基、フェニル
    基、炭素数1〜22のアルコキシ基または炭素数1〜4
    のシアノアルキル基を、R4は互いに同一でも異なって
    もよく、水素原子、水酸基、炭素数1〜22のアルキル
    基、フェニル基、炭素数1〜22のアルコキシ基または
    炭素数1〜4のシアノアルキル基を示し、7.m、nは
    合計で5〜1000の整数を示す。l、mXnはそれぞ
    れの構成単位が規則的又は不規則的に結合していてもよ
    く、それぞれの構成単位が何個か集まったものが規則的
    又は不規則的に結合していてもよい。)
  5. (5) オルガノ水素ポリシロキサンのSiH当ff1
    (0,01N NaOH水溶液100°C下にて水素ガ
    ス1モルを発生するに必要なオルガノ水素ポリシロキサ
    ンのグラム数)がw〜550である特許請求の範囲第(
    4)項記載の疎水性粉体の製造方法。
  6. (6) オルガノ水素ポリシロキサンの添加量が粉体に
    対して0.1〜加重量%である特許請求の範囲第(1)
    項ないし第(5)項のいずれかに記載の疎水性粉体の製
    造方法。
  7. (7)酸性物質が脂肪酸、多塩基酸、乳酸、リンゴ酸、
    タルトロン酸、クエン酸、イソクエン酸、酒石酸、アス
    コルビン酸、ビタミンA酸、芳香族酸、ウロカニン酸、
    ピロリドンカルボン酸、酸性アミノ酸、中性アミノ酸、
    アシルアミノ酸、グルフッ−δ−ラクトン、硫酸、塩酸
    、リン酸、ホウ酸、アミノ酸の無機酸塩、アミノ酸の有
    機酸塩、アシルアミノ酸の無機酸塩、アシルアミノ酸の
    有機酸塩及び無機酸の金属塩のいずれかである特許請求
    の範囲第(1)項ないし第(6)項のいずれかに記載の
    疎水性粉体の製造方法。
  8. (8) 酸性物質の添加量が粉体に対して001〜lO
    重量%である特許請求の範囲第(1)項ないし第(7)
    項のいずれかに記載の疎水性粉体の製造方法。
  9. (9)メカノケミカル的に反応を行う特許請求の範囲第
    (1)項ないし第(8)項のいずれかに記載の疎水性粉
    体の製造方法。
  10. (10)加熱下にて反応を行う特許請求の範囲第(9)
    項記載の疎水性粉体の製造方法。 (以下余白)
JP59020433A 1984-02-07 1984-02-07 疎水性粉体の製造方法 Granted JPS60163973A (ja)

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