JPS5994758A - フオトマスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （１）　　発明の属する技術分野 本発明は、写真蝕刻によるパターンニングに使用するフ
ォトマスクの構造に関する。

（２）　　従来技術の説明 従来から用いられている、フォトマスクと、パターンニ
ング全丁べき物との間？離して露光させるプロキシミテ
ィ露光法は、フォトマスクあるいは、パターンニングす
べき物が歪んでいる時、あるいは、露光機の精度が悪い
場合、その位置によってフォトマスクとパターンニング
すべきものとの間隔が変化してしまい、露光部全体を均
一な間隔にすることができないため、パターンニングの
精度が悪くなる欠点があった。

（３）発明の目的 本発明は、フォトマスクと、パターンニングするべき物
とを密着させても、フォトマスクのパターン部分とパタ
ーンニングするべき物とが、密着しない様フォトマスク
の全面に均一な段差を形成し、フォトマスクのパターン
部分とパターンニングするべき物との間隔が、一様にな
るフォトマスクを提供するものである。

（４）発明の構成 フォトマスクパターン面と、パターンニングすべき物と
の開音わずかに離して露光を行うプロキシミティ露光は
、その間隔がフォトマスク及び、パターンニングすべき
物に歪みがある時、あるいは、露光機の精度により、露
光部全面にわたって一様にならない。通常密着露光は、
プロキシミティ露光より精度を必要とせず露光装置が簡
単になり、さらにフォトマスク及び露光すべき物体に歪
みがあったとしても、密着させることによって歪み合っ
て補正される。したがってフォトマスクのパターン面側
のパターン部以外の箇所の一部にパターン面に対し凸部
を有すること全特徴とするフォトマスクを使用し密Ｎ露
光をすることにより露光部全体にわたって均一で精度の
良いプロキシミティ露光が実現できる。

（５）発明の原理と作用の説明 グロキシミティ露光を行う場合、パターン部分以外は密
着しても良い。そこで、フォトマスクのパターン部分以
外の箇所の一部にパターン面に対し凸ｆｆｉ＜ｋ有する
フォトマスクを用いて密着露光を行うとパターン部分で
は全体にわたって均一なプロキシミティ露光ができる。

（６）実施例 次に本発明の実施例について図面を参照して説明する。

第１図を参照すると、本発明の第１の実施例は、フォト
マスクにある、パターン１、そのパターンより大きな段
差２を含む、フォトマスク３となる。第１図で示したフ
ォトマスクを露光すべき物体４に密着させているのが第
２図である。第２図で強く密着させると、フォトマスク
及び、露光すべき物体が最初歪んでいたとしても、共に
歪み合い、密着性が、全体にわたってホホ均一となる。

このとき、フォトマスクのパターン１は均一な段差２が
あるため、露光すべき物体４から全体にわたって均一に
離れており、間隔が均一なプロキシミティ露光となり、
パターンニング精度を上げることができる。

均一な段差２の形は、断面的に、丸みをおびていても、
角ぼっていても良く、さらに、フォトマスクの面状での
分布は、格子状でも、点状でも第１案とほぼ同一の効果
金得ることができる。

（７）発明の効果 本発明は以上説明した様ＥＣ，フォトマスクのパターン
面にパターン部の段差より、大きな段差全均一に持つフ
ォトマスクを構成することによＬＭ度の良い均一なプロ
キシミティ露光を得られる。

”４、図面の簡単な説明 第１図は本発明の一実施例を施したフォトマスクの断面
図、第２図は第１図で示したフォトマスクと露光すべき
物体を密着させた断面図、である。

なお図において、 １・・・・・・フォトマスクのパターン部、２・・印・
パターン以外の所にある凸部％３・・・・・・パターン
以外の箇所の一部にパターン面に対し凸部を有するフォ
トマスク、４・・・・・・露光すべき物体、である。

灼　１　図 ２２図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. フォトマスクのパターン面側の１パタ一ン部以外の箇所
   の一部にパターン面に対し凸部含有することを特徴とす
   る７オトマスク。