JPS59177371A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
- Publication number
- JPS59177371A JPS59177371A JP5159683A JP5159683A JPS59177371A JP S59177371 A JPS59177371 A JP S59177371A JP 5159683 A JP5159683 A JP 5159683A JP 5159683 A JP5159683 A JP 5159683A JP S59177371 A JPS59177371 A JP S59177371A
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- Japan
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- furnace
- metal
- pan
- furnaces
- pipes
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- Pending
Links
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- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 32
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 32
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/246—Replenishment of source material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、銅帯等（一連続的にＺｎ、Ａｔ等の金属めっ
き皮膜を真空蒸着させる真空蒸着装置に関する。
き皮膜を真空蒸着させる真空蒸着装置に関する。
従来この種の真空蒸着装置は、第１１Ｊに示すように銅
帯Ｉが走行する真空槽２内に蒸着銅３を配置し、かつ大
気中Ｃユ溶解炉４を配置し、この溶解炉４と蒸発鍋３と
を吸上管５で連通している。上記蒸発鍋３は、上部に蒸
発口６を開口し、内面に保温材７を張り゛付け、内部に
加熱ヒータ８を設置している。
帯Ｉが走行する真空槽２内に蒸着銅３を配置し、かつ大
気中Ｃユ溶解炉４を配置し、この溶解炉４と蒸発鍋３と
を吸上管５で連通している。上記蒸発鍋３は、上部に蒸
発口６を開口し、内面に保温材７を張り゛付け、内部に
加熱ヒータ８を設置している。
この真空蒸着装置は、溶解炉４円のめっき材である溶融
全屈９を真空吸引して、吸上ゾ〆５から蒸発鍋３に導き
、加熱ヒータ８で加熱して溶融金属９を蒸発させ、鋼帯
Ｉに連続的ζ−めっきする。
全屈９を真空吸引して、吸上ゾ〆５から蒸発鍋３に導き
、加熱ヒータ８で加熱して溶融金属９を蒸発させ、鋼帯
Ｉに連続的ζ−めっきする。
しかしこの真空蒸着装置は、スタートアップ時（二溶解
炉４から蒸発鍋３内（二大蛍の溶融金属９が吸上げられ
る。このため溶解炉４の庇部にあるドロスＩＯＣ溶融金
属と溶解炉壁材との化合物）が一部浮遊して溶融金Ｍ
９とともに吸上管５円に吸上げられるおそれがある。
炉４から蒸発鍋３内（二大蛍の溶融金属９が吸上げられ
る。このため溶解炉４の庇部にあるドロスＩＯＣ溶融金
属と溶解炉壁材との化合物）が一部浮遊して溶融金Ｍ
９とともに吸上管５円に吸上げられるおそれがある。
−万、吸上管５内の溶融金属９は流速が小さい。例えば
１容融金属９がＺｎの場合、Ｚｎ消゛ｄ！ ８００ Ｋ
Ｆ、／ ｈ 、吸引管直径１００ｍとすると。
１容融金属９がＺｎの場合、Ｚｎ消゛ｄ！ ８００ Ｋ
Ｆ、／ ｈ 、吸引管直径１００ｍとすると。
吸上管５内のＺｎ平均流速は４ ｍｍ 、／ ｓｅｅと
小さく。
小さく。
また流れか層流であるため、吸引管内壁近イ帝ではさら
に流速が小さくなる。
に流速が小さくなる。
従って一旦吸上げられたドロスＩＯは、押し流されずに
長時間吸上管５のベント部５ａや蒸発鍋３との接合部５
ｂ付近などに滞留する。吸上管５の内壁にも多少ドロス
が生成しており、その付近にドロスが滞留していると、
ドロスＩθがひっかかったり、成長−して吸上管５を閉
塞させる。ドロスＩＯで閉塞した箇所は、一般（−扁温
でも容易に再融解せず、復旧が困難である。このため従
来は、吸上管５が閉塞すると、蒸発鍋３′、吸上管５と
も新品と変換しなければならなかった。
長時間吸上管５のベント部５ａや蒸発鍋３との接合部５
ｂ付近などに滞留する。吸上管５の内壁にも多少ドロス
が生成しており、その付近にドロスが滞留していると、
ドロスＩθがひっかかったり、成長−して吸上管５を閉
塞させる。ドロスＩＯで閉塞した箇所は、一般（−扁温
でも容易に再融解せず、復旧が困難である。このため従
来は、吸上管５が閉塞すると、蒸発鍋３′、吸上管５と
も新品と変換しなければならなかった。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、その目的
とするところは、運転中の吸上管の閉塞を簡単な方法で
防止すること′力（できる真空蒸着装置を得んとするも
のである。
とするところは、運転中の吸上管の閉塞を簡単な方法で
防止すること′力（できる真空蒸着装置を得んとするも
のである。
すなわち本発明は、被めっき材が走行する真空槽内に被
めっき材蒸着用蒸発鍋を設け、又大気中に也数の溶解炉
を設けて、各溶解炉中の溶融金属（めっき材）を吸上管
を介して蒸発鍋に導く際（−１少なくとも１つの溶解炉
に溶解炉上下動平膜を取付けて、運転中に溶解炉２上下
させ、もって吸上管内の溶融金属を常時流動させること
を特牧とする。
めっき材蒸着用蒸発鍋を設け、又大気中に也数の溶解炉
を設けて、各溶解炉中の溶融金属（めっき材）を吸上管
を介して蒸発鍋に導く際（−１少なくとも１つの溶解炉
に溶解炉上下動平膜を取付けて、運転中に溶解炉２上下
させ、もって吸上管内の溶融金属を常時流動させること
を特牧とする。
以下本発明を図示する実施例を％照して説明する。第２
図は真空蒸着装ｊ１＼の４１ｉ洗略１．ｊ’ｌ’ ｍ＋
−である。この真空蒸石装置は、被めつさ材である４Ｈ
，ｊ帯ＩＩが定行する真空槽Ｉ２内（−蒸発ｉ・Ｉ４
ｒ ａン配設している。この蒸発鍋Ｉ３は、上部ｊ”
迂ｊ’！ ’１ＨＩＩに対向して蒸発ロＩ４ン設け、内
面に保温材Ｉ５を張り付け、更に内部（−加熱ヒータ１
６を配置している。
図は真空蒸着装ｊ１＼の４１ｉ洗略１．ｊ’ｌ’ ｍ＋
−である。この真空蒸石装置は、被めつさ材である４Ｈ
，ｊ帯ＩＩが定行する真空槽Ｉ２内（−蒸発ｉ・Ｉ４
ｒ ａン配設している。この蒸発鍋Ｉ３は、上部ｊ”
迂ｊ’！ ’１ＨＩＩに対向して蒸発ロＩ４ン設け、内
面に保温材Ｉ５を張り付け、更に内部（−加熱ヒータ１
６を配置している。
この蒸発鍋Ｉ３の底部には、２本の吸上管ｌ７Ｉ８が按
６？され、各吸上管Ｉ７゜Ｉ８は雛解炉Ｉ９，２θ内に
開口している。各播屏炉ｌ９ｔ２０は、それぞれ大気中
（−設置され、内部（二めっき材である溶融金属２Ｉが
入っている。行溶解炉１９．２０は、上下動手段である
リフター２２．２３上（二載りされている。
６？され、各吸上管Ｉ７゜Ｉ８は雛解炉Ｉ９，２θ内に
開口している。各播屏炉ｌ９ｔ２０は、それぞれ大気中
（−設置され、内部（二めっき材である溶融金属２Ｉが
入っている。行溶解炉１９．２０は、上下動手段である
リフター２２．２３上（二載りされている。
この真空蒸着装置は、溶解炉１９ 、２”０円の浴融金
属２Ｉン吸上管１９．２０ン弁して蒸発鍋Ｉ３に真空吸
引し、７Ｉａ＊小ヒータＺ６で加メ、４′−蒸発させて
ｉｆ１帯ＩＩの表面に蒸着めっきする。
属２Ｉン吸上管１９．２０ン弁して蒸発鍋Ｉ３に真空吸
引し、７Ｉａ＊小ヒータＺ６で加メ、４′−蒸発させて
ｉｆ１帯ＩＩの表面に蒸着めっきする。
更にこの真空蒸着装置は、蒸着めっきの操業中Ｃユリフ
タ−２２を操作して、溶解炉Ｚ９を上下動させる。溶解
炉１９を上方（−移動させると、圧力差が一定であるた
め蒸発鍋１３同の溶融金属２１（めっき材）のレベルが
上昇する。すると、蒸発鍋１３内の溶融金属レベルと溶
解炉２０の溶融金属レベルとの差が定常時より大きくな
り、蒸発鍋Ｉ３から溶解炉２０へ溶融金属２Ｉが流入す
る。すなわち、溶解炉Ｘ９から溶解炉２０へ溶融金属２
Ｚが移動する。また逆に溶解炉１９を下げると、溶解炉
２０から蒸発鍋Ｉ３を通って溶解炉Ｚ！９に溶融金属２
Ｉが移動する。
タ−２２を操作して、溶解炉Ｚ９を上下動させる。溶解
炉１９を上方（−移動させると、圧力差が一定であるた
め蒸発鍋１３同の溶融金属２１（めっき材）のレベルが
上昇する。すると、蒸発鍋１３内の溶融金属レベルと溶
解炉２０の溶融金属レベルとの差が定常時より大きくな
り、蒸発鍋Ｉ３から溶解炉２０へ溶融金属２Ｉが流入す
る。すなわち、溶解炉Ｘ９から溶解炉２０へ溶融金属２
Ｚが移動する。また逆に溶解炉１９を下げると、溶解炉
２０から蒸発鍋Ｉ３を通って溶解炉Ｚ！９に溶融金属２
Ｉが移動する。
この場合浴融金属２１の移動量は、溶融金属２Ｉの消費
址とは無関係であり、溶解炉Ｉ９の上下動の回数を増す
こと（−よって移動量を大きくできる。このため吸上管
１７．１８内の溶融金属流速を従来に比べて非常に大き
くすることができ、又部れの向きを逆転させることがで
きる。従って吸上管７７ 、 ’ｉ８のベンド部ｘｙａ
・１ Ｂ −ａ ”ン°接合ＦｆｌＳ１７ ｂ 、 Ｉ
８ ｂ等にドロス２４が滞留せず、吸上管Ｚ７．１Ｂ
か閉塞するのを防止することができる。
址とは無関係であり、溶解炉Ｉ９の上下動の回数を増す
こと（−よって移動量を大きくできる。このため吸上管
１７．１８内の溶融金属流速を従来に比べて非常に大き
くすることができ、又部れの向きを逆転させることがで
きる。従って吸上管７７ 、 ’ｉ８のベンド部ｘｙａ
・１ Ｂ −ａ ”ン°接合ＦｆｌＳ１７ ｂ 、 Ｉ
８ ｂ等にドロス２４が滞留せず、吸上管Ｚ７．１Ｂ
か閉塞するのを防止することができる。
なお溶解炉及び吸上管は２個（−限らず３個以上でもよ
い。また１つの溶解炉に限らず他の溶解炉も上下動でさ
るようＣ−シてもよＸｌ）。
い。また１つの溶解炉に限らず他の溶解炉も上下動でさ
るようＣ−シてもよＸｌ）。
以上の如く本発明によれば、溶解炉を上下動させるとい
う簡単な方法で、吸上管の閉塞を防止することができる
顕著な効果を奏する。
う簡単な方法で、吸上管の閉塞を防止することができる
顕著な効果を奏する。
第１図は従来の真空蒸着装置の概略断面図、第２図は本
発明の一実施例を示す真空蒸着装置の概略断面図である
。 ＩＩ・・・銅帯（被めっき材）、Ｉ２・・・真空槽。 Ｉ３・・・蒸発鍋、Ｉ４・・・蒸発口、ＩＳ・・・保温
材、Ｉ６・・・加熱ヒータ、Ｉ’？、１Ｂ・・・吸上管
、１９゜２０・・・溶解炉、２１・・・溶′ｉ金属、２
２．２３・・・リフター（上下動手段］２４・・・ドロ
ス、１７３１１８ｍ・・・ベンド部、１１ｂ、１８ｂ・
・・接合部。 出鵬人復代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１頁の続き ０発 明 者 和気完治 広島市西区観音新町四丁目６番 ２２号三菱重工業株式会社広島造 船所内 ■出 願 人 日新製鋼株式会社 東京都千代田区丸の内３丁目４ 番１号 、−３７１−
発明の一実施例を示す真空蒸着装置の概略断面図である
。 ＩＩ・・・銅帯（被めっき材）、Ｉ２・・・真空槽。 Ｉ３・・・蒸発鍋、Ｉ４・・・蒸発口、ＩＳ・・・保温
材、Ｉ６・・・加熱ヒータ、Ｉ’？、１Ｂ・・・吸上管
、１９゜２０・・・溶解炉、２１・・・溶′ｉ金属、２
２．２３・・・リフター（上下動手段］２４・・・ドロ
ス、１７３１１８ｍ・・・ベンド部、１１ｂ、１８ｂ・
・・接合部。 出鵬人復代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１頁の続き ０発 明 者 和気完治 広島市西区観音新町四丁目６番 ２２号三菱重工業株式会社広島造 船所内 ■出 願 人 日新製鋼株式会社 東京都千代田区丸の内３丁目４ 番１号 、−３７１−
Claims (1)
- 被めっき材が走行する真空槽内に設けられた被めっき材
蒸着用蒸発鍋と、大気中に設けられた複数の溶解炉と、
同溶解炉中の溶融金属をそれぞれ上記蒸発鍋に導く複数
の吸上管と、少なくとも１つの溶解炉（ユ取付けた溶解
炉上下動手段とを具備したことを特徴とする真空蒸着装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5159683A JPS59177371A (ja) | 1983-03-29 | 1983-03-29 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5159683A JPS59177371A (ja) | 1983-03-29 | 1983-03-29 | 真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59177371A true JPS59177371A (ja) | 1984-10-08 |
Family
ID=12891286
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5159683A Pending JPS59177371A (ja) | 1983-03-29 | 1983-03-29 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59177371A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04135953U (ja) * | 1991-05-31 | 1992-12-17 | 日新製鋼株式会社 | 真空蒸着めつきにおける溶融金属供給装置 |
| EP1357200A1 (en) * | 2002-04-25 | 2003-10-29 | Eastman Kodak Company | Thermal PVD apparatus with detachable vapor source(s) |
-
1983
- 1983-03-29 JP JP5159683A patent/JPS59177371A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04135953U (ja) * | 1991-05-31 | 1992-12-17 | 日新製鋼株式会社 | 真空蒸着めつきにおける溶融金属供給装置 |
| EP1357200A1 (en) * | 2002-04-25 | 2003-10-29 | Eastman Kodak Company | Thermal PVD apparatus with detachable vapor source(s) |
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