JPS59177370A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
- Publication number
- JPS59177370A JPS59177370A JP5159583A JP5159583A JPS59177370A JP S59177370 A JPS59177370 A JP S59177370A JP 5159583 A JP5159583 A JP 5159583A JP 5159583 A JP5159583 A JP 5159583A JP S59177370 A JPS59177370 A JP S59177370A
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- metal
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- pipes
- melting furnace
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/246—Replenishment of source material
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、銅帯等に連続的にＺｎ＋Ａ’−等の金屑めつ
き皮膜を真空蒸着させる真空蒸着装置に関する。
き皮膜を真空蒸着させる真空蒸着装置に関する。
従来この種の真空蒸着装置は、第１図に示すように鋼帯
１が走行する真空槽２内に蒸着鍋３を配置し、かつ大気
中に溶解炉４を配置し、この溶解炉４と蒸発鍋３とを吸
上管５で連通している。上記蒸発鍋３は、上部に蒸発口
６を開口し、内面に保温材７を張り付け、内部に加熱ヒ
ータ８を股ｒしている。
１が走行する真空槽２内に蒸着鍋３を配置し、かつ大気
中に溶解炉４を配置し、この溶解炉４と蒸発鍋３とを吸
上管５で連通している。上記蒸発鍋３は、上部に蒸発口
６を開口し、内面に保温材７を張り付け、内部に加熱ヒ
ータ８を股ｒしている。
この真空蒸着装置は、溶解炉４内のめっき材である溶融
金属９を真空吸引して、吸上管５かも蒸発鍋３に導き、
加熱ヒータ８で加熱して溶融金属９を蒸発させ、鋼帯１
に連続的にめっきする。
金属９を真空吸引して、吸上管５かも蒸発鍋３に導き、
加熱ヒータ８で加熱して溶融金属９を蒸発させ、鋼帯１
に連続的にめっきする。
しかしこの真空蒸着装置は、スタートアップ時に溶解炉
４から蒸発鍋３内に大量の溶融金属９が吸上けられる。
４から蒸発鍋３内に大量の溶融金属９が吸上けられる。
このため溶解炉４の底部にあるドロス１０（溶融金属と
溶解炉壁材との化合物）が一部浮遊して溶融金属９とン
もに吸上管５内に吸上げられるおそれがある。
溶解炉壁材との化合物）が一部浮遊して溶融金属９とン
もに吸上管５内に吸上げられるおそれがある。
一方眼上管５内の溶融金属９は流速が小さい。
例えば溶融金属９がＺｎの場合、Ｚｎ消費量８００〜へ
、吸引管直径１００ｍｍとすると、吸上管５内のＺｎ平
均流速は４ｉと小さく、また流れが層流であるため、吸
引管内壁近傍ではさらに流速が小さくなる。
、吸引管直径１００ｍｍとすると、吸上管５内のＺｎ平
均流速は４ｉと小さく、また流れが層流であるため、吸
引管内壁近傍ではさらに流速が小さくなる。
従って一旦吸上げられたドロス１θけ、押し流きれずに
長時間吸上管５のペント部、５ａや蒸発；堝３との随合
部、５ ｂ伺近などに７帯留する。吸上盾５の内壁にも
多少ドロスが生成してｊ＞す、そのイ；］近にドロスが
？？！？ ｆ？ｊ Ｌ ”ｔいろと、ドロス１゜がひっ
かかったり、成長して吸」−管５を閉塞させる。ドロス
１θで閉ｒ７．＋ｔ、 シ！、−、箇所は、一般に高温
でも容易に１）〕融解せず、排口が困カ１ｒてを、る。
長時間吸上管５のペント部、５ａや蒸発；堝３との随合
部、５ ｂ伺近などに７帯留する。吸上盾５の内壁にも
多少ドロスが生成してｊ＞す、そのイ；］近にドロスが
？？！？ ｆ？ｊ Ｌ ”ｔいろと、ドロス１゜がひっ
かかったり、成長して吸」−管５を閉塞させる。ドロス
１θで閉ｒ７．＋ｔ、 シ！、−、箇所は、一般に高温
でも容易に１）〕融解せず、排口が困カ１ｒてを、る。
このため従来−，吸上管５Ａ閉η４−ｊると、蒸発鍋３
、吸上管５とも新品と交換しなければならなかった。
、吸上管５とも新品と交換しなければならなかった。
本発明は、上記事情に鑑みてなされ／ζもので、その目
的とするところは、運転中の吸上管の閉塞を簡ｊｌｉな
方法で防止することができる真空蓋着装（べを得んとす
るものである３、 すなわち本発明は、被〃）つき材が走行する真空４１〜
内に被、Ｖ）つき材蒸着用蒸発鍋を設け、又大気中に１
又は２以上の溶解炉を設けて溶解炉中の溶融金属（めっ
き材）を枠数の吸上管を介して蒸発鍋に導く際に、少な
くとも１つのＵＪｐＬ上管に溶融金属移動用電磁ボン７
°を数句けて吸上管内の溶融金属を常時流動させること
を特徴とする。
的とするところは、運転中の吸上管の閉塞を簡ｊｌｉな
方法で防止することができる真空蓋着装（べを得んとす
るものである３、 すなわち本発明は、被〃）つき材が走行する真空４１〜
内に被、Ｖ）つき材蒸着用蒸発鍋を設け、又大気中に１
又は２以上の溶解炉を設けて溶解炉中の溶融金属（めっ
き材）を枠数の吸上管を介して蒸発鍋に導く際に、少な
くとも１つのＵＪｐＬ上管に溶融金属移動用電磁ボン７
°を数句けて吸上管内の溶融金属を常時流動させること
を特徴とする。
以−ト本発明’５：’ ｌ’Ｘｌ示する実施例を参照し
て説明する。第２図は真空蓋着装ｆｆ’ｃ、の概略断面
図である。この装置は、被めっき材であるり１４帯１１
が走行する真空槽１２内に蒸発鍋１．７を配置している
。蒸発鍋１３は、上部に銅帯１ノに対向して蒸発口１４
を設け、内面に保温材１５を張り付け、内部に加熱ヒー
タ１６を配置している。
て説明する。第２図は真空蓋着装ｆｆ’ｃ、の概略断面
図である。この装置は、被めっき材であるり１４帯１１
が走行する真空槽１２内に蒸発鍋１．７を配置している
。蒸発鍋１３は、上部に銅帯１ノに対向して蒸発口１４
を設け、内面に保温材１５を張り付け、内部に加熱ヒー
タ１６を配置している。
蒸発鍋１３の底部には、２本の吸上管１７゜１８が接続
され、各吸上管１７．１８は溶解炉１９内に開口してい
る。溶解炉１９はゝ、大気中に設置され、内部にめっき
材である溶融金属２０が入っている。また吸上管１８に
は溶融金属移動用電磁ボン７″２１が取付けられている
。
され、各吸上管１７．１８は溶解炉１９内に開口してい
る。溶解炉１９はゝ、大気中に設置され、内部にめっき
材である溶融金属２０が入っている。また吸上管１８に
は溶融金属移動用電磁ボン７″２１が取付けられている
。
この真空蒸着装置は、溶解炉Ｉ９内の溶融金属２０を吸
上管１７．１８を介して蒸発＃１１３に真空吸引し、加
熱ヒータ１６で加熱蒸発させて銅帯１１の表面に蒸着め
っきする。
上管１７．１８を介して蒸発＃１１３に真空吸引し、加
熱ヒータ１６で加熱蒸発させて銅帯１１の表面に蒸着め
っきする。
更にこの真空蒸着装置は、蒸着めっきの繰業中に′ｔ：
５磁ボンｆ２ノを操作し７て吸上管Ｉ８内の溶融金属２
０を上方又は下方に、Ｆ−動さぜ、このことにより溶融
金ｐｒＱ２０をｊｊ；、、上管１８、Ａ￥ 発Ｍ１３、
吸上管１７及び溶解炉１９の間で強制的に循環きせる。
５磁ボンｆ２ノを操作し７て吸上管Ｉ８内の溶融金属２
０を上方又は下方に、Ｆ−動さぜ、このことにより溶融
金ｐｒＱ２０をｊｊ；、、上管１８、Ａ￥ 発Ｍ１３、
吸上管１７及び溶解炉１９の間で強制的に循環きせる。
この場合溶融金属２０の循環１片は、溶融金属２０の消
費−辰とは焦関係であり、電磁７１？ン７”２１により
溶融金属流速を従来に比べて非常に太きぐすることがで
き、又流れの向きを逆転させることができる。従って吸
上管１７．１８のベンド部１７ａ、１８ａ、接合部１７
ｂ、１８ｂ等にドロス２２が滞留せず、吸上管１７．１
８が閉塞するのを防止することができる。
費−辰とは焦関係であり、電磁７１？ン７”２１により
溶融金属流速を従来に比べて非常に太きぐすることがで
き、又流れの向きを逆転させることができる。従って吸
上管１７．１８のベンド部１７ａ、１８ａ、接合部１７
ｂ、１８ｂ等にドロス２２が滞留せず、吸上管１７．１
８が閉塞するのを防止することができる。
次に本発明の他の実施例につき第３図にもとづいて説明
する。
する。
図示する真空蒸着装置は、２本の吸上管１７゜１８を蒸
発鍋１３に１３〜ｌ ｔ、て互いに対向する位置に取付
け、それぞれの下端を別の溶解炉１９゜１９′に浸漬１
〜だもので、吸上管１７．１８の下）“ｆ；劫付近の内
部にフィルター２３を設けている。
発鍋１３に１３〜ｌ ｔ、て互いに対向する位置に取付
け、それぞれの下端を別の溶解炉１９゜１９′に浸漬１
〜だもので、吸上管１７．１８の下）“ｆ；劫付近の内
部にフィルター２３を設けている。
フィルター２３は溶融金属２０と反応しない材質、例え
ば溶融金属２０がＺｎあるいはＡ／１．の場合は、Ａ４
０３ 、 ＺｒＯ２、ＳＩＣ、Ｃ、Ｓｉ３Ｎ４ 、 Ｔ
ｌＯ２ｈどのセラミックや、 Ｍｏ 、 Ｗ 、タンタ
ル々どの高融点金属が使用される。
ば溶融金属２０がＺｎあるいはＡ／１．の場合は、Ａ４
０３ 、 ＺｒＯ２、ＳＩＣ、Ｃ、Ｓｉ３Ｎ４ 、 Ｔ
ｌＯ２ｈどのセラミックや、 Ｍｏ 、 Ｗ 、タンタ
ル々どの高融点金属が使用される。
この装置によれば第２図に示すものと同様ドロス２２の
滞留による吸上管１７．１８の閉塞を防止することがで
きる。更に吸上管１７．ＩＦＬが蒸着鍋Ｉ３の両側にあ
るので、蒸着鍋１３内の溶融金属２θの局部的な滞留を
防止できる。
滞留による吸上管１７．１８の閉塞を防止することがで
きる。更に吸上管１７．ＩＦＬが蒸着鍋Ｉ３の両側にあ
るので、蒸着鍋１３内の溶融金属２θの局部的な滞留を
防止できる。
更にまたフィルター２３．２３を備えているので、吸−
上管１７．１Ｂ、蒸発鍋１３内へのドロス２２の吸込み
量が少なくなり、閉塞の危険性がより少なくなる。
上管１７．１Ｂ、蒸発鍋１３内へのドロス２２の吸込み
量が少なくなり、閉塞の危険性がより少なくなる。
なお溶解炉及び吸上管は、実施例に限らず３個以上でも
よい。壕だ１つの吸上管に限らず他の吸上管に電磁、３
ｆンゾを取付けてもよい。
よい。壕だ１つの吸上管に限らず他の吸上管に電磁、３
ｆンゾを取付けてもよい。
以−Ｆの如く本発明によれば、吸上管に電磁ポンプを取
付けるという簡単な構造で、吸上管の閉塞を防止するこ
とができる顕著な効果を奏する。
付けるという簡単な構造で、吸上管の閉塞を防止するこ
とができる顕著な効果を奏する。
４１ン１而のＴｔｊ’ｌ ？）”、ｃ説、”Ｉ］ｔ（１
１図は従来の真空蒸着装置、１の概略断面図、ｔｆ３２
図ｊｄ本発明の一月施例を示す真空Ａ亡着装置の概略断
面図、第３図は本発明の他の実）、１！ｉ例を示す直２
蒸着装置６の概略断面図である。
１図は従来の真空蒸着装置、１の概略断面図、ｔｆ３２
図ｊｄ本発明の一月施例を示す真空Ａ亡着装置の概略断
面図、第３図は本発明の他の実）、１！ｉ例を示す直２
蒸着装置６の概略断面図である。
１ノ・・銅帯、１２・・・真空槽、１３・・蒸発鍋、１
４・・・蒸発１］、１５・・・保温材、１６・・・加熱
ヒータ、１７．１８・・・吸上管、１９．１９’・・・
溶解炉、２０・・溶融全屈、２１・・・電碌ポング、２
２・・・ドロス、２３・・フィルタ。
４・・・蒸発１］、１５・・・保温材、１６・・・加熱
ヒータ、１７．１８・・・吸上管、１９．１９’・・・
溶解炉、２０・・溶融全屈、２１・・・電碌ポング、２
２・・・ドロス、２３・・フィルタ。
出頬人復代皿人 弁理士 鈴 江 武 彦第 ３ 凶
第１頁の続き
０発 明 者 和気完治
広島市西区観音新町四丁目６番
２２号三菱重工業株式会社広島造
船所内
■出 願 人 日新製鋼株式会社
東京都千代田区丸の内３丁目４
番１号
Claims (1)
- 被めっき材が走行する真空槽内に設けられた被めっき材
蒸着用蒸発鍋と、大気中に設けられた溶解炉と、同溶解
炉中の溶融金属をそれぞれ上ｉ己蒸発鍋に導く複数の吸
上管と、少なくとも１つの吸上管にＪ１７伺けた溶融金
属移動用電磁ポンプとを共（ｉｉｉｉ Ｌブれことを／
１″′１′徴とする真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5159583A JPS59177370A (ja) | 1983-03-29 | 1983-03-29 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5159583A JPS59177370A (ja) | 1983-03-29 | 1983-03-29 | 真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59177370A true JPS59177370A (ja) | 1984-10-08 |
Family
ID=12891260
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5159583A Pending JPS59177370A (ja) | 1983-03-29 | 1983-03-29 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59177370A (ja) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0184338A2 (en) * | 1984-12-04 | 1986-06-11 | The Secretary of State for Defence in Her Britannic Majesty's Government of the United Kingdom of Great Britain and | Alloy production by vapour condensation |
| US5216742A (en) * | 1992-02-19 | 1993-06-01 | Leybold Aktiengesellschaft | Linear thermal evaporator for vacuum vapor depositing apparatus |
| US20100104752A1 (en) * | 2007-03-20 | 2010-04-29 | Arcelormittal France | Method for coating a substrate and metal alloy vacuum deposition facility |
| KR101164872B1 (ko) * | 2004-12-27 | 2012-07-19 | 주식회사 포스코 | 고품질 도금강판 생산을 위한 건식도금장치 |
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| WO2021057920A1 (zh) | 2019-09-26 | 2021-04-01 | 宝山钢铁股份有限公司 | 一种真空镀膜装置 |
| CN113957389A (zh) * | 2020-07-21 | 2022-01-21 | 宝山钢铁股份有限公司 | 一种具有多孔降噪及均匀化分配金属蒸汽的真空镀膜装置 |
| CN113957390A (zh) * | 2020-07-21 | 2022-01-21 | 宝山钢铁股份有限公司 | 一种具有气垫缓冲腔的真空镀膜装置 |
| CN113957391A (zh) * | 2020-07-21 | 2022-01-21 | 宝山钢铁股份有限公司 | 一种采用芯棒加热结构均匀分配金属蒸汽的真空镀膜装置 |
| WO2022018133A1 (de) * | 2020-07-21 | 2022-01-27 | Voestalpine Stahl Gmbh | Verfahren zum abscheiden von metallischen werkstoffen |
| WO2022017425A1 (zh) | 2020-07-21 | 2022-01-27 | 宝山钢铁股份有限公司 | 一种采用混匀缓冲结构均匀分配金属蒸汽的真空镀膜装置 |
-
1983
- 1983-03-29 JP JP5159583A patent/JPS59177370A/ja active Pending
Cited By (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0184338A2 (en) * | 1984-12-04 | 1986-06-11 | The Secretary of State for Defence in Her Britannic Majesty's Government of the United Kingdom of Great Britain and | Alloy production by vapour condensation |
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| JP2015519469A (ja) * | 2012-03-30 | 2015-07-09 | タタ、スティール、ネダーランド、テクノロジー、ベスローテン、フェンノートシャップＴａｔａ Ｓｔｅｅｌ Ｎｅｄｅｒｌａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｂｖ | 液体金属を蒸発器に供給する方法および装置 |
| AU2013242397B2 (en) * | 2012-03-30 | 2017-06-15 | Posco | Method and apparatus for feeding liquid metal to an evaporator device |
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| WO2021057920A1 (zh) | 2019-09-26 | 2021-04-01 | 宝山钢铁股份有限公司 | 一种真空镀膜装置 |
| CN113957389A (zh) * | 2020-07-21 | 2022-01-21 | 宝山钢铁股份有限公司 | 一种具有多孔降噪及均匀化分配金属蒸汽的真空镀膜装置 |
| CN113957390A (zh) * | 2020-07-21 | 2022-01-21 | 宝山钢铁股份有限公司 | 一种具有气垫缓冲腔的真空镀膜装置 |
| CN113957391A (zh) * | 2020-07-21 | 2022-01-21 | 宝山钢铁股份有限公司 | 一种采用芯棒加热结构均匀分配金属蒸汽的真空镀膜装置 |
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| CN113957389B (zh) * | 2020-07-21 | 2023-08-11 | 宝山钢铁股份有限公司 | 一种具有多孔降噪及均匀化分配金属蒸汽的真空镀膜装置 |
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