JPS59157057A - エステル化合物 - Google Patents
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- JPS59157057A JPS59157057A JP3161583A JP3161583A JPS59157057A JP S59157057 A JPS59157057 A JP S59157057A JP 3161583 A JP3161583 A JP 3161583A JP 3161583 A JP3161583 A JP 3161583A JP S59157057 A JPS59157057 A JP S59157057A
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Landscapes
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- Liquid Crystal Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は液晶相を示し、かつ低粘性の新規な化合物及び
それを含有することを特徴とする組成物に関する。
それを含有することを特徴とする組成物に関する。
液晶表示素子は液晶物質が持つ光学異方性及び誘電異方
性を利用したものであるが、その表示様式によってTN
型(ねじれネマチック型)、DS型(動的散乱型)、ゲ
スト・ホスト型、DAP型、二周波型など各種の方式に
分けられ、夫々の使用に適する液晶物質の性質は異る。
性を利用したものであるが、その表示様式によってTN
型(ねじれネマチック型)、DS型(動的散乱型)、ゲ
スト・ホスト型、DAP型、二周波型など各種の方式に
分けられ、夫々の使用に適する液晶物質の性質は異る。
いずれの液晶物質も水分、空気、熱、光等に安定である
ことが必要であることは共通しており、又、室温を中心
として出来るだけ広い温度範囲で液晶相を示し、更に表
示累子の種類によ2て異なる最適な誘電異方性値(以下
Δεと略記することかある。)を南する様にしなければ
ならない。現在のところ単一化合物ではこの様な栄件を
Y114たす物質はなく、数釉の液晶化合物や非液晶化
合物′ff:混合して得られる液晶組成物を実用に供し
でいる。
ことが必要であることは共通しており、又、室温を中心
として出来るだけ広い温度範囲で液晶相を示し、更に表
示累子の種類によ2て異なる最適な誘電異方性値(以下
Δεと略記することかある。)を南する様にしなければ
ならない。現在のところ単一化合物ではこの様な栄件を
Y114たす物質はなく、数釉の液晶化合物や非液晶化
合物′ff:混合して得られる液晶組成物を実用に供し
でいる。
本発明の目的はこの様な液晶組成物の一成分として手5
−用であり、特にΔε値を調節するに適したルー規な液
晶化合物を提供することにある。
−用であり、特にΔε値を調節するに適したルー規な液
晶化合物を提供することにある。
即ち、本発明は一般式
(上式中工ζは炭素数1−10のアルキル基を示し、X
およびYはそれぞれF又はCtを示す) で表わされるトランス−4−(トランス−4−アルコキ
シメチルシクロヘキシル)シクロヘキサンカルボンR−
214−1ノ\ロゲノフエニルエステルによるエステル
化合物及びこれを少なくとも一種含有することを特徴と
する液晶組成物である。
およびYはそれぞれF又はCtを示す) で表わされるトランス−4−(トランス−4−アルコキ
シメチルシクロヘキシル)シクロヘキサンカルボンR−
214−1ノ\ロゲノフエニルエステルによるエステル
化合物及びこれを少なくとも一種含有することを特徴と
する液晶組成物である。
本発明の化合物はΔεが−0,1と小さく、又粘度が低
く、液晶組成物に加えることによシもとの液晶組成物の
電気的特性、すなわちしきい値電圧及び飽和電圧を下げ
ることができる。
く、液晶組成物に加えることによシもとの液晶組成物の
電気的特性、すなわちしきい値電圧及び飽和電圧を下げ
ることができる。
又、本発明の化合物はネマチック−透明点(N−I点)
が高く、近年要求されている高温液晶組成物、すなわち
N−I点の80℃以上のものに応用できる。又他の液晶
、例えばビフェニル、フェニルシクロヘキサン、アゾキ
シ、シッフペース系の液晶組成物にもよく混合でき、そ
の応用範囲は広い。又新しい表示方式としての二周波法
にも応用できる可能性がある。
が高く、近年要求されている高温液晶組成物、すなわち
N−I点の80℃以上のものに応用できる。又他の液晶
、例えばビフェニル、フェニルシクロヘキサン、アゾキ
シ、シッフペース系の液晶組成物にもよく混合でき、そ
の応用範囲は広い。又新しい表示方式としての二周波法
にも応用できる可能性がある。
つぎに本発明の化合物の製造法を示す。まず目的物に対
応する4−(トランス−4−アルコキシメチルシクロヘ
キシル)安息香酸をインアミルアルコール中金属ナトリ
ウムで還元してトランス−4−(トランス−4−アルコ
キシメチルシクロヘキシル)シクロヘキサンカルボン酸
とし、ついで塩化チオニルと反応させてトランス−4−
()ランス−4−アルコキシメチルシクロヘキシル)シ
クロヘキサンカルボン酸クロリドとし、ついでピリジン
存在下2.4−ジノzロゲノフェノールと反応して目的
の化合物を得る。これを化学式で示すと次のように表わ
すことができる。
応する4−(トランス−4−アルコキシメチルシクロヘ
キシル)安息香酸をインアミルアルコール中金属ナトリ
ウムで還元してトランス−4−(トランス−4−アルコ
キシメチルシクロヘキシル)シクロヘキサンカルボン酸
とし、ついで塩化チオニルと反応させてトランス−4−
()ランス−4−アルコキシメチルシクロヘキシル)シ
クロヘキサンカルボン酸クロリドとし、ついでピリジン
存在下2.4−ジノzロゲノフェノールと反応して目的
の化合物を得る。これを化学式で示すと次のように表わ
すことができる。
11
(上式中R,X、Yは前記と同じものである。)以下実
施例によシ本発明の化合物の製造法及び使用例について
更に詳細に説明する。
施例によシ本発明の化合物の製造法及び使用例について
更に詳細に説明する。
各物中、結晶相をC,ネマチック相をN1透明相を工と
略記する。
略記する。
実施例1
〔トランス−4−(トランス−4−メトキシメチルシク
ロヘキシル)シクロヘキサンカルボンR−2,4−ジフ
ルオロフェニルエステルの製造〕 (1)トランス−4−(トランス−4−メトキシメチル
シクロヘキシル)シクロヘキサンカルボン酸の製造 4−()ランス−4−メトキシメチルシクロヘキシル)
安息香酸10gをインアミルアルコール2.51と共に
かくはんし、90°Cまで加熱し、次いで金属ナトリウ
ム80fIを加えた。そのまま還流をつづけながら8時
間で金属ナトリウムを更に180yを加えていくと反応
液はしだいに均一になった。反応終了後、放冷して10
0℃にして、次に水を加えながらイソアミルアルコール
を留去し、次に水を−21加えた。
ロヘキシル)シクロヘキサンカルボンR−2,4−ジフ
ルオロフェニルエステルの製造〕 (1)トランス−4−(トランス−4−メトキシメチル
シクロヘキシル)シクロヘキサンカルボン酸の製造 4−()ランス−4−メトキシメチルシクロヘキシル)
安息香酸10gをインアミルアルコール2.51と共に
かくはんし、90°Cまで加熱し、次いで金属ナトリウ
ム80fIを加えた。そのまま還流をつづけながら8時
間で金属ナトリウムを更に180yを加えていくと反応
液はしだいに均一になった。反応終了後、放冷して10
0℃にして、次に水を加えながらイソアミルアルコール
を留去し、次に水を−21加えた。
次いで6 N−HCtを21加え、完全に滝性にした。
析出した沈殿を沖過し、水洗した。次いで充分に乾燥し
た。
た。
(2)エステル化
(1)で製造したトランス−4−(トランス−4−メト
キシメチルシクロヘキシル)シクロヘキサンカルボンt
jk12.69 (0,01モル)と均化チオニル10
ystをフラスコに入れ、80°Cに加温した。3時間
で系が均一になった。過剰の塩化チオニルを減圧にて留
去した。油状物のトランス−4−()ランス−4−メト
キシメチルシクロヘキシル)シクロヘキサンカルボン酸
クロリドを得た。一方、2.4−ジフルオロフェノール
1.8 F/ (0,01モル)をピリジン10g/に
とかしておいたものに先に得られた酸クロリドを加え、
乾燥トルエン100 ml加え、よくふりまぜ、−晩装
置した。反応液を水にあけ、6N塩酸、2N水酸化ナト
リウム、ついで中性になるまで水洗した。トルエン層を
無水硫酸ナトリウムで乾燥後沖過し、トルエンを減圧に
て留去した。残った油状物をエタノールで再結晶して目
的のトランス−4−()?ンスー4−メトキシメチルシ
クロヘキシル)シクロヘキサンカルボンg−z、4−ジ
フルオロフェニルエステルを得た。収量2.2f、収率
57%。そのC−N点は75.5〜77.0℃、N−I
点は168.6°Cであった。
キシメチルシクロヘキシル)シクロヘキサンカルボンt
jk12.69 (0,01モル)と均化チオニル10
ystをフラスコに入れ、80°Cに加温した。3時間
で系が均一になった。過剰の塩化チオニルを減圧にて留
去した。油状物のトランス−4−()ランス−4−メト
キシメチルシクロヘキシル)シクロヘキサンカルボン酸
クロリドを得た。一方、2.4−ジフルオロフェノール
1.8 F/ (0,01モル)をピリジン10g/に
とかしておいたものに先に得られた酸クロリドを加え、
乾燥トルエン100 ml加え、よくふりまぜ、−晩装
置した。反応液を水にあけ、6N塩酸、2N水酸化ナト
リウム、ついで中性になるまで水洗した。トルエン層を
無水硫酸ナトリウムで乾燥後沖過し、トルエンを減圧に
て留去した。残った油状物をエタノールで再結晶して目
的のトランス−4−()?ンスー4−メトキシメチルシ
クロヘキシル)シクロヘキサンカルボンg−z、4−ジ
フルオロフェニルエステルを得た。収量2.2f、収率
57%。そのC−N点は75.5〜77.0℃、N−I
点は168.6°Cであった。
実施例2〜3
実施例1におけるトランス−4−()、7ンスー4−メ
トキシメチルシクロヘキシル)シクロヘキサンカルボン
酸の代シに他のアルキル基を有スルトランス−4−()
ランス−4−フルコキシメチルシクロヘキシル)シクロ
ヘキサンカルボン酸と2−フルオロ−4−クロロフェノ
ール、2.4−ジクロロフェノール、2.4−ジフルオ
ロフェノール又は2−10ロー4−フルオロフェノール
を用いて実施例1に準じた操作を行って第1表に示す目
的の化合物を製造した。
トキシメチルシクロヘキシル)シクロヘキサンカルボン
酸の代シに他のアルキル基を有スルトランス−4−()
ランス−4−フルコキシメチルシクロヘキシル)シクロ
ヘキサンカルボン酸と2−フルオロ−4−クロロフェノ
ール、2.4−ジクロロフェノール、2.4−ジフルオ
ロフェノール又は2−10ロー4−フルオロフェノール
を用いて実施例1に準じた操作を行って第1表に示す目
的の化合物を製造した。
これらの物性値を実施例1の結果と共に第1表に示した
。
。
実施例4(使用列)
4−ベンチルー4′−シアノビフェニル45重量%
4−へクチルー4′−シアノビフェニル29重量%
4−オクチルオキシ−4′−シアノビフェニル16重量
% 4−ベンチルー4′−シアノテルフェニル11重量% なる組成の液晶混合物のN−I点は68.3°C1粘に
は20℃で4.6ep、誘電異方性は+12.4であっ
た。この液晶混合物をケイ素でコーティングし、ラビン
グ処理した酸化スズ透明El、極を備えた2枚の基板を
組み立てた厚さlOpmのセルに封入して液晶セルとし
、25゛Cでその特性を測定したところ、しきい電圧1
.65V、飽イ0電圧2.81Vであった。
% 4−ベンチルー4′−シアノテルフェニル11重量% なる組成の液晶混合物のN−I点は68.3°C1粘に
は20℃で4.6ep、誘電異方性は+12.4であっ
た。この液晶混合物をケイ素でコーティングし、ラビン
グ処理した酸化スズ透明El、極を備えた2枚の基板を
組み立てた厚さlOpmのセルに封入して液晶セルとし
、25゛Cでその特性を測定したところ、しきい電圧1
.65V、飽イ0電圧2.81Vであった。
この液晶混合物90重量部および本発明の実施例1のト
ランス−4−(ト5ンスー4−メトキシメチルシクロヘ
キシル)シクロヘキサンカルボン酸−2,4−ジフルオ
ロフェニルエステル1oN量部からなる組成物のN−I
点は73,0℃に上昇し、粘度は20°Cで42cp、
誘電異方性は+10.5と夫々低くなυ、又しきい値電
圧は1.60V、飽和電圧は2.20Vと低くなった。
ランス−4−(ト5ンスー4−メトキシメチルシクロヘ
キシル)シクロヘキサンカルボン酸−2,4−ジフルオ
ロフェニルエステル1oN量部からなる組成物のN−I
点は73,0℃に上昇し、粘度は20°Cで42cp、
誘電異方性は+10.5と夫々低くなυ、又しきい値電
圧は1.60V、飽和電圧は2.20Vと低くなった。
以上
Claims (2)
- (1)一般式 (上式中Rは炭素鶴1〜10のアルキル基を示し、Xお
よびYはそれぞれF又はCtを示す) で表わされるトランス−4−(トランス−4−アルコキ
シメチルシクロヘキシル)シクロヘキサンカルボン1d
2−2.4−ジノ)ロゲノフェニルエステルニヨルエス
テル化合物。 - (2)一般式 (上式中Rは炭素数1〜lOのアルキル基を示し、Xお
よびYはそれぞれF又はCtを示す) で表わされるトランス−4−(トランス−4−アルコキ
シメチルシクロヘキシル)シクロヘキサンカルボンgl
−2,4−ジハロゲノフェニルエステルによるエステル
化合物を少なくとも一種含有することを特徴とする液晶
組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3161583A JPS59157057A (ja) | 1983-02-26 | 1983-02-26 | エステル化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3161583A JPS59157057A (ja) | 1983-02-26 | 1983-02-26 | エステル化合物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59157057A true JPS59157057A (ja) | 1984-09-06 |
Family
ID=12336112
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3161583A Pending JPS59157057A (ja) | 1983-02-26 | 1983-02-26 | エステル化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59157057A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4694098A (en) * | 1981-02-25 | 1987-09-15 | Hitachi, Ltd. | Colorless liquid crystalline compounds |
US4710315A (en) * | 1984-04-16 | 1987-12-01 | Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung | Anisotropic compounds and liquid crystal mixtures therewith |
-
1983
- 1983-02-26 JP JP3161583A patent/JPS59157057A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4694098A (en) * | 1981-02-25 | 1987-09-15 | Hitachi, Ltd. | Colorless liquid crystalline compounds |
US4710315A (en) * | 1984-04-16 | 1987-12-01 | Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung | Anisotropic compounds and liquid crystal mixtures therewith |
USRE36849E (en) * | 1984-04-16 | 2000-09-05 | Merck Patent Gmbh | Anisotropic compounds and liquid crystal mixtures therewith |
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