JPS5848060B2 - 感ガス素子 - Google Patents
感ガス素子Info
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- JPS5848060B2 JPS5848060B2 JP53144087A JP14408778A JPS5848060B2 JP S5848060 B2 JPS5848060 B2 JP S5848060B2 JP 53144087 A JP53144087 A JP 53144087A JP 14408778 A JP14408778 A JP 14408778A JP S5848060 B2 JPS5848060 B2 JP S5848060B2
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Landscapes
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は感ガス素子に係り、特に、ガス検出感度及び高
温安定性に優れた感ガス素子に関する。
温安定性に優れた感ガス素子に関する。
酸化物半導体表面にガスが接触すると、酸化物半導体の
表面の比抵抗が変化することを利用した感ガス素子が知
られている。
表面の比抵抗が変化することを利用した感ガス素子が知
られている。
例えば、N型半導性を示すZoo,Sn02 ,F’e
203等に還元性ガスが接触すると抵抗値は減少し、ま
た酸化性ガスが接触すると、抵抗値は増加する。
203等に還元性ガスが接触すると抵抗値は減少し、ま
た酸化性ガスが接触すると、抵抗値は増加する。
またP型半導性を示す酸化物半導体においては抵抗値の
増減が逆の関係を示す。
増減が逆の関係を示す。
上記のごとき酸化物半導体において、各種ガスとの反応
性すなわち選択性は、半導体表面温度、表面電子レベル
の構造、気孔率および気孔の大きさ等により決まるが、
一般にぱ酸化物半導体のみでは感ガス素子として感度が
小さく、選択性も十分とは言えない。
性すなわち選択性は、半導体表面温度、表面電子レベル
の構造、気孔率および気孔の大きさ等により決まるが、
一般にぱ酸化物半導体のみでは感ガス素子として感度が
小さく、選択性も十分とは言えない。
そこで従来は、St02tAt203,Si02−A7
203系化合物などに担持されr,mPt,Pdなどを
触媒として用い、素子を300℃程度の高温に保ち感度
を上げる事が試みられている。
203系化合物などに担持されr,mPt,Pdなどを
触媒として用い、素子を300℃程度の高温に保ち感度
を上げる事が試みられている。
これらの触媒を用いた場合、ガス検出感度及び高温安定
性が無触媒の場合に比べ改善されるものの必ずしも充分
なものではなかった。
性が無触媒の場合に比べ改善されるものの必ずしも充分
なものではなかった。
さらに上記SiO2,At203,SiO2−At20
,系化合物などの酸化物担体を用いた場合、担体自体が
触媒金属と共同して作用するため、金属酸化物半導体か
らなるガス感応体の抵抗値を増大せしめ、また、担体自
体が触媒機能を有するため雑ガスに反応し感ガス素子の
誤動作の要因となっていた。
,系化合物などの酸化物担体を用いた場合、担体自体が
触媒金属と共同して作用するため、金属酸化物半導体か
らなるガス感応体の抵抗値を増大せしめ、また、担体自
体が触媒機能を有するため雑ガスに反応し感ガス素子の
誤動作の要因となっていた。
本発明は上記の点に鑑みガス検出感度を著しく向上せし
め、さらに高温における長期安定性を改善した感ガス素
子を提供する事を目的とする。
め、さらに高温における長期安定性を改善した感ガス素
子を提供する事を目的とする。
本発明は=討の電極間に設けられた金属酸化物半導体か
らなるガス感応体に白金、パラジウム、ロジウム、レニ
ウム、またはそれらの化合物から選ばれた少なくとも一
種か担持された窒化ケイ素を触媒として用いた感ガス素
子であり、特に前記触媒を触媒層としてガス感応体表面
に設けることにより長期安定性が改善されるというもの
である,つまり本発明において昏増媒Q担体として窒化
ケイ素を用いる事により、高温における熱的安定性が高
められ、さらにガス検出感度を従来に比べ6〜10程度
向上させることができる。
らなるガス感応体に白金、パラジウム、ロジウム、レニ
ウム、またはそれらの化合物から選ばれた少なくとも一
種か担持された窒化ケイ素を触媒として用いた感ガス素
子であり、特に前記触媒を触媒層としてガス感応体表面
に設けることにより長期安定性が改善されるというもの
である,つまり本発明において昏増媒Q担体として窒化
ケイ素を用いる事により、高温における熱的安定性が高
められ、さらにガス検出感度を従来に比べ6〜10程度
向上させることができる。
なお実用上窒化ケイ素に対する前記金属の量は0.05
wt%〜10wt%が好ましい。
wt%〜10wt%が好ましい。
すなわち担持される金属量が0.05wt%未満では十
分な感度を得る事が困難となり、また10wt%を超え
ると通電開始後の安定作動に入るまでの時間が長くなる
。
分な感度を得る事が困難となり、また10wt%を超え
ると通電開始後の安定作動に入るまでの時間が長くなる
。
以下本発明を構造例により詳細に説明する。
例えば第1図及び第2図に断面的に示すごとく、筒状絶
縁基体1外周面に一対の電極2を有し、前記筒状絶縁基
体1および電極2を被覆するようにガス感応体3が設け
られ、本発明に係る感ガス素子4が得られる。
縁基体1外周面に一対の電極2を有し、前記筒状絶縁基
体1および電極2を被覆するようにガス感応体3が設け
られ、本発明に係る感ガス素子4が得られる。
なお本発明に係る触媒は、第1図に示す如く上記ガス感
応体3に添加してもよいし、また第2図に示す如くガス
感応体3表面に触媒層5として設けてもよい。
応体3に添加してもよいし、また第2図に示す如くガス
感応体3表面に触媒層5として設けてもよい。
なお第1図に示す如き構造とする場合は実用上窒化ケイ
素量をガス感応体に対し、20〜50wt俤とする事が
好ましい。
素量をガス感応体に対し、20〜50wt俤とする事が
好ましい。
また前記のように構成された感ガス素子4は例えば第3
図に斜視的に示す如くピン足上に組み立てられる。
図に斜視的に示す如くピン足上に組み立てられる。
なお第3図中6はヒータ用リード線を、Iは電極用リー
ド線を、8は加熱用ヒータを、9は絶縁板をそれぞれ示
す。
ド線を、8は加熱用ヒータを、9は絶縁板をそれぞれ示
す。
また本発明に係る感ガス素子は以下の如く製造される。
**される。
まず窒化ケイ素粉末を所定量秤取し、これにH2PtC
t2・6H20 もしくはPtCt2 静液を加えペー
スト状とし、一定時間攪拌する。
t2・6H20 もしくはPtCt2 静液を加えペー
スト状とし、一定時間攪拌する。
この後減圧下で一定時間含浸させた後乾燥し電気炉で焼
戊することにより触媒が得られる。
戊することにより触媒が得られる。
次にガス感応体として例えばZnO−Cr203系の金
属酸化物半導体を秤取し、前記触媒と加え、メチルセル
ロース等のバインダーを適当量加えてボールミルなどで
一定時間混合しペーストとする。
属酸化物半導体を秤取し、前記触媒と加え、メチルセル
ロース等のバインダーを適当量加えてボールミルなどで
一定時間混合しペーストとする。
このペーストを前記電極2を有する筒状絶縁基体1表面
に塗布し、乾燥後300〜1000℃で焼成して、第1
図に示す如き構造の感ガス素子4を得た。
に塗布し、乾燥後300〜1000℃で焼成して、第1
図に示す如き構造の感ガス素子4を得た。
また第2図に示す如き構造の感ガス素子4を製造する場
合、触媒およびガス感応体は前述と同様のものを用い、
まず筒状絶縁基体1表面にガス感応体のペーストを塗布
、乾燥した後300〜1000℃で焼成する。
合、触媒およびガス感応体は前述と同様のものを用い、
まず筒状絶縁基体1表面にガス感応体のペーストを塗布
、乾燥した後300〜1000℃で焼成する。
次に前記ガス感応体3表面に触媒のペーストを塗布、乾
繰した後300〜800℃で暁成することにより触媒層
5を形或すればよい。
繰した後300〜800℃で暁成することにより触媒層
5を形或すればよい。
上記の如く製造した第1図または第2図の如き構造の感
ガス素子4は第3図の如く取り付けて使用される。
ガス素子4は第3図の如く取り付けて使用される。
以下本発明を実施例により詳細に説明する。
ガス感応体として、95ZnO−5Cr203系酸化物
半導体を用い触媒として、窒化ケイ素と、ptct2と
を用いた第2図の如き構造の感ガス素子のC4H10
ガスに対する感度を従来例と併せて第1表に示す。
半導体を用い触媒として、窒化ケイ素と、ptct2と
を用いた第2図の如き構造の感ガス素子のC4H10
ガスに対する感度を従来例と併せて第1表に示す。
なおRoは空気中における感ガス素子の抵抗値をまたR
gは0.2vot%の被検出ガス中における抵抗値をそ
れぞれ示し、さらに感度はRo/Rgで示す。
gは0.2vot%の被検出ガス中における抵抗値をそ
れぞれ示し、さらに感度はRo/Rgで示す。
この結果第1表から明らかな如く実施例、比較例共に空
気中における抵抗値は増加するが、その程度は、実施例
の方がはるかに小さい。
気中における抵抗値は増加するが、その程度は、実施例
の方がはるかに小さい。
一方C4H to ガス0.2votS中では実施例
においては素子抵抗が減少しているのに対し、従来例で
は増加している。
においては素子抵抗が減少しているのに対し、従来例で
は増加している。
この結果、実施例では従来例に比ベ数倍の感度の上昇が
認められる。
認められる。
次に上記と同様とし、触媒および検出ガスの種類を変え
た場合の感度を比較例と併せて第2表に示す。
た場合の感度を比較例と併せて第2表に示す。
この結果第2表から明らかな如く、本発明に係る感ガス
素子は優れた感度を示す事が明らかである。
素子は優れた感度を示す事が明らかである。
なおそれぞれにおげるRo,Rgは第1表と同様の傾向
を示し、またPd,Pt,Re,Rhなどは酸化物,塩
化物、硝酸化物の形で加えても同様の効果が得られた。
を示し、またPd,Pt,Re,Rhなどは酸化物,塩
化物、硝酸化物の形で加えても同様の効果が得られた。
また、本発明に係る感ガス素子を第1図の如き構造とし
た場合も第2表と同様の感度を得る事ができたが、寿命
の点では第2図の如き構造とした場合の方が5〜10倍
優れていた。
た場合も第2表と同様の感度を得る事ができたが、寿命
の点では第2図の如き構造とした場合の方が5〜10倍
優れていた。
第1図及び第2図は本発明に係る感ガス素子の構造例を
示す断面図、第3図は本発明素子を用いる装置例を示す
斜視図。 1・・・筒状絶縁基体、2・・・電極、3・・・ガス感
応体、4・・・感ガス素子、5・・触媒層。
示す断面図、第3図は本発明素子を用いる装置例を示す
斜視図。 1・・・筒状絶縁基体、2・・・電極、3・・・ガス感
応体、4・・・感ガス素子、5・・触媒層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一対の電極間に設けられた金属酸化物半導体からな
るガス感応体に、白金、パラジウム、ロジウム、レニウ
ムまたはそれらの化合物から選ばれた少なくとも一種が
担持された窒化ケイ素を触媒として用いた事を特徴とす
る感ガス素子。 2 %許請求の範囲第1項において、触媒を触媒層とし
てガス感応体表面に設けた事を特徴とする感ガス素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP53144087A JPS5848060B2 (ja) | 1978-11-24 | 1978-11-24 | 感ガス素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP53144087A JPS5848060B2 (ja) | 1978-11-24 | 1978-11-24 | 感ガス素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5570734A JPS5570734A (en) | 1980-05-28 |
JPS5848060B2 true JPS5848060B2 (ja) | 1983-10-26 |
Family
ID=15353923
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP53144087A Expired JPS5848060B2 (ja) | 1978-11-24 | 1978-11-24 | 感ガス素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5848060B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0650293B2 (ja) * | 1985-06-24 | 1994-06-29 | フイガロ技研株式会社 | ガスセンサ |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5319093A (en) * | 1976-08-03 | 1978-02-21 | Osaka Gas Co Ltd | Detecting element for co |
-
1978
- 1978-11-24 JP JP53144087A patent/JPS5848060B2/ja not_active Expired
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5319093A (en) * | 1976-08-03 | 1978-02-21 | Osaka Gas Co Ltd | Detecting element for co |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5570734A (en) | 1980-05-28 |
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