JPS5833101B2 - 耐熱性反射板 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は金属または無機質物からなる基板に光を反射す
る層および保護膜層を設けγこ、照明セード等の照明用
、各種光学機械器具用、太陽光用等に好適な反射板に関
するものである。

従来の光反射板はおよそ次のように分類し得られる。

（１）ステンレス或はアルミニウム等の金属の表面をパ
フ研磨、電解研磨、或は化学研磨したもの、（２）鉄或
はアルミニウム等の金属の表面にホーロー処理を施した
もの、 （３）ガラス或は透明樹脂の表面または裏面に真空蒸着
法でアルミニウム等の金属をコーティングするか、或は
銀鏡反応によって銀をコーティングしたもの、 （４）前記（１）まγこは（３）の表面に透明樹脂皮膜
を設けたもの。

が代表的なものである。

しかし、（１）のものは表面研磨を必要とし、パフ研磨
ではその仕上げ表面が粗く、金属表面だけでは正反射性
を出すことは極めて困難である。

また電解研磨まγこは化学研磨では湿式となり、使用す
る化学薬品の公害問題があるばかりでなく、その研磨面
の正反射性はよくなく、光輝面を形成するには不十分で
ある欠点を有する。

（２）のものは、ホーロー処理を施した表面は平滑性は
兎も肉圧反射性は全くなく、殆んどが乱反射光或は分散
光しか得られない。

（３）のものは、その表面が金属であるため、耐薬品性
、耐候性、耐摩耗性が小さく、正反射性はよいが、全反
射性はニッケルやクロム等の金属メッキの場合はよくな
い。

またメッキは湿式であるので使用する化学薬品の公害問
題がある等の欠点がある。

（４）のものは前記のものの欠点を解決せんとしたもの
で、金属表面を保護し、正反射率の高いものとなる点は
優れているが、他方樹脂の耐熱性、耐摩耗性、耐光性、
耐候性、耐薬品性が問題となる。

即ち耐光性、耐熱性、耐候性が悪いものは経時使用する
と、表面が着色したり、或は失透したりすること、表面
を清浄にするため布などで拭くと、摩耗傷が生ずること
、樹脂層が厚くなると、光および熱線の吸収が大きくな
り、表面湯度が上昇し、物性の低下を来たすこと等の欠
点を有する。

以上のように、従来の反射板は全体が金属または無機質
のものからなるものは光の正反射性あるいは全反射性が
悪かったり、または表面の耐薬品性、耐候性、耐摩耗性
が劣ったりの問題点がある。

又樹脂を使用して表面保護をすると、従来の使用樹脂で
は耐熱性、耐光性、耐候性が劣る問題点がある。

本発明は金属または無機質のものからすべてを構威し、
しかも正反射性、全反射性の優れた反射板を提供せんと
するものであり、基板として金属また無機質物を使用し
、これらの表面に金属の真空コーティング層を設け、更
にその上にセラミック類の真空コーティング層を設ける
ことによって完成し得γこものである。

基板の金属としては、例えば鉄、ステンレス。

銅、真 、青銅、白銅、アルミニウム、ジュラルミン等
の単体金属またはその合金は勿論、トタン板、ブリキ板
等のような金属で表面をコーティングした金属板でも差
支えない。

まｆこ基板の無機質としては、ガラス、セラミック、マ
イカ、等が挙げられる。

しかしこれに限定するものではない。本発明の反射板の
光反射面を形成する真空コーティング金属層の金属とし
ては、例えば、アルミニウム、ジュラルミン、銀、ホワ
イトゴールド。

金、ニッケル、クロム等の光輝性金属等が挙げられる。

しかしこれに限定するものではない。これらの金属の真
空コーティング層の上に設ける真空コーティングセラミ
ック層として使用するセラミック材料としては、例えば
、アルミナ、マグネシア、ジルコニア、スピネル等の酸
化物系セラミック、コージェライトの如きキン青石セラ
ミック、高アルミナおよびムライトセラミック、ジルコ
ンセラミック、パイロセラムの如きリシャセラミック、
ステアタイトセラミック、酸化チタンセラミック、セル
シャンセラミック等が挙げられる。

しかしこれに限定されるものではない。それらの選択は
その使用目的に応じて選択すればよい。

例えば、耐熱、耐酸を必要とする場合には、酸化物セラ
ミック、高アルミナおよびムライトセラミックが望まし
く、耐アルカリを必要とする場合には鉄カンラン、ジャ
モン岩等のセラミックが望ましく、耐熱を必要とする場
合にはキン青石セラミック、リシャセラミック等が望ま
しく、特に熱膨張収縮の少ないことを必要とする場合に
はパイロセラム等のリシャセラミックが望ましい。

金属を基板上に真空コーティングする方法としては、前
記した如′＜、真空蒸着法、スパッタリング法、イオン
ブレーティング法がある。

真空蒸着法は最も簡単な方法であるが、平均自由行路内
での金属蒸着粒子の運動エネルギーのみを利用するもの
である力）ら、多くとも０．１ｅＶ以下のエネルギーし
力）なく、被着体への侵入度も１Å以下となるので、弱
いコーテイング膜しか形成できない。

また被着体と金属膜との接着強度も小さく且つ膜密度も
小さいので、剥離強度が小さい。

該方法における平均自由行路は金属粒子の粒子重量が小
さく、また真空度が高く温度が高い程長くなる。

従って、原子量或は原子直径の小さい金属がコーティン
グしやすく、真空度は少なくとも１０−’Ｔｏｒｒ望ま
しくは１０−”Ｔｏｒｒ以下で行うのがよい。

真空度が１ケタ違うと平均自由行路は１０倍も異なるの
で真空蒸着にとって最も重要なパラメーターである。

例えば、真空下セラミックの熔融状態において、その設
定真空度の２ケタ以上の真空度損失があれば、真空コー
ティング制御が難かしく、又、所望のコーテイング膜強
度が得られにくい。

一方温度は絶対温度の平方根で平均自由行路に寄与する
のでそれ程大きなファクターとはならない０ 合金を用いる場合には、互の金属が分子化合物を作る場
合や、平均自由行路や蒸発速度が似通った場合には、真
空蒸着法を用いることができるが、そうでない場合は、
合金を構成している各金属が別々に解離して蒸着するの
で、不均一な膜や強度の弱い膜となるので、スパッタリ
ング法を用いるのがよい。

スパッタリング法は、真空コーティング法よりも高速の
運動エネルギーを持つ励起粒子を被着体に当ててコーテ
ィングする方法であり、運動エネルギーは数１０〜１０
０ｅＶ余で被着体に数人〜数１００〜数するので、真空
蒸着法に比べて強度および耐久性の高いコーテイング膜
が得られ、金属コーテイング膜の反射性も力）なりよい
。

また、合金のコーティングの場合、真空蒸着法において
は合金の融溶物の蒸発によって行うに対し、本方法は固
体ターゲットからの昇華によって気体を発生するため成
分解離が起りにくいので、コーティングすることができ
る特長を有する。

しかし、コーティング材料は円板状や円柱状の如き特殊
な形状に成形した所謂ターゲットとして使用しなければ
ならない不便さと、コーティング速度がおそいので、生
産能率が悪い欠点がある。

イオンブレーティング法は更に数種の方法に別れるが、
コーティング効率のよい方法を用いｆこ場合は、数ｋｅ
Ｖのエネルギーで、数１００人被看体に侵入したコーテ
イング膜を得ることができる。

この方法は前記三方法と異なり、中性粒子ではなく、陽
イオン粒子を利用する方法である。

陽イオン粒子は電場を力）けた被着体、即ちカソードに
向って電圧加速されて動くので、飛行速度はスパッタリ
ング法よりも更に速くなる。

また粒子が陽イオンであるため粒子径が小さいので、そ
の平均自由行路は同温回正では真空蒸着法やスパッタリ
ング法よりも長くなる。

イオンブレーティング法の代表的なものを挙げると次の
通りである。

（１）プラズマイオンブレーティング法 １０−２〜１Ｏ−３Ｔｏｒｒの減圧下、数１００〜数１
０００Ｖの重臣を、コーティング材料と被着体との間に
印加して、グロー放電を行い、生じたプラズマによって
蒸発中性粒子をイオン化してコーティングする方法であ
る。

この方法の特徴はイオン化率が数１０％高く強力なコー
テイング膜を形成することができ、且つ電場の電気力線
に沿って粒子が飛行するので、裏面コーティングが可能
であるという利点がある。

し力）しカソードの温度上昇が大きく、被着体の耐熱性
が要求されることと平均自由行路が短いため大型の物を
コーティングする場合には工夫が必要である欠点を有す
る。

（２）ＲＦダイオンブレーティング 法発粒子を高周波発振コイルの中を通過させ、イオン化
してコーティングする方法である。

この方法の特徴は、グロー放電を用いないため、１０−
３〜１０−’Ｔｏｒｒの真空度でもコーティングできる
ことと、カソードの温ｖ上昇が少ない利点を有するが、
反面イオン化率が小さいこと及びＲＦコイルの直径以上
のコーティングが困難であるので、投影面積の広いコー
ティングが出来にくい欠点がある。

（３）印加重臣法 （１）のプラズマイオンブレーティング法と同様の条件
で、但し減圧度をＩ Ｆ’ 〜１０−５Ｔｏｒ ｒで真
空コーティングを行わしめる印加重臣法である。

本方法においては、目に見えるグロー放電はほとんど観
察されないが、カソード電流は十分観察することが出来
、１Ｏ−４Ｔｏｒｒ程量の真空度より真空度が低く、且
つ電圧勾配が数１０■／ｃＩｒＬ以上の場合においては
かなり効果を有する方法である。

この方法はプラズマイオンブレーティング法と真空蒸着
法との中間の特徴を有する方法である。

（４）イオンガンを使用する方法 第１〜第３の方法は予め抵抗加熱や電子線で蒸発させた
粒子を、電場やプラズマ或は高周波でイオン化するに対
し、この方法はガンによって直接イオン化する方法であ
る。

この方法の代表的なものとしては、高周波を用いるｉ−
ガン法とホローカソード法とがある。

いずれもイオン化効率が高く、真空度が高い真空系でも
コーティングが可能である利点を有する。

イオンブレーティング法を行う場合はこれらの特徴を十
分留意してコーティングを行うことが大切である。

さもなければ金属コーティングの場合、光輝面が着色し
たり或は濁ったりして反射率を低下させることになる。

反射性金属をコーティングする場合は、反射性を良好に
するため空気等の反応性ガスを可及的に除去して置く必
要がある。

さもないと、全反射率が落ちたり、或は反射面が着色し
たりまたは変色することがある。

セラミックの真空コーティングは前記の金属を真空コー
ティングする装置を使用してコーティングすることがで
きる。

し力）しながら、金属とセラミックとの操作は相当異な
る。

その第１はセラミックの融解又は昇華、蒸発に要するエ
ネルギーは金属の場合のエネルギーに比べてはるかに高
いことである。

従って、いずれのコーティング法をとる場合においても
、コーティング時間は金属の場合に比べて長くなり、ま
た気化やイオン化を行う方法もセラミックの場合がより
限定される。

例えば金属の多くは高融点金属を用いた抵抗加熱によっ
て融解し気化することが出来るが、セラミックのほとん
どは抵抗加熱を用いることが出来ず電子線やイオン流に
よって気化しなければならない。

また第２の相違として、金属は熱伝度が大きいため、−
Ｓを加熱すれば全体が均一に熱せられ融解するが、セラ
ミックの場合は加熱された部分およびその近傍のみが融
解することが多い。

本発明において用いる結晶性セラミックは金属とは異な
った真空コーティング特性をもっているので、この点に
も留意して真空コーティングを行わなければならない。

その典型的な例として、例えばアルミナの通常コーティ
ングを行う場合には、その膜は黄色乃至酷い場合には黒
褐色になることが多いが、本発明においてはかくの如き
場合には酸素を十分に補給するか、内は酸素と反応コー
ティングせしめてこの問題を解決することに成功し、こ
れにより無色透明のコーテイング膜が得られγこ。

次にセラミックの平均自由行路は多くの場合金属の平均
自由行路よりも短かいので、他の条件が同一の場合金属
よりも高真空度或は高温度或は高イオン化率等のより厳
しい条件で行わなければならない。

例えばアルミニウムは１Ｏ−４Ｔｏｒｒ台でも真空蒸着
出来るが二酸化硅素は１Ｏ−５Ｔｏｒｒ台の真空度で蒸
着しなければ良好なコーテイング膜を得ることが困難で
ある。

スパッタリングの場合は、セラミックは金属の場合に比
べてコーティング速度がはる力）に遅くなる。

イオンブレーティングの場合は金属に比べてセラミック
のイオン化が困難であることと、コーティングされた被
着体すなわちカソードが絶縁されるため、イオンブレー
ティングが行いにくくなることが有る。

これはプラスはイオンブレーティングのようにカソード
電圧が高くイオン電流が大きいイオンブレーティング法
の場合には特に著しい。

この様な場合には被着体をカソードとせず被着体の近傍
に金属網を作つγこカソードを用意することによってか
なり改善される。

プラズマイオンブレーティングの場合は印加電圧をイオ
ン化電圧以上通常１０に■以下ぐらいに保ち、少なくと
も１Ｏ−３Ｔｏｒｒ以上ＩＴｏｒｒ以下、望ましくは１
Ｏ−２Ｔｏｒｒ台の減圧度でコーティングを行う。

減圧度が高すぎるとグロー放電が行をなくなったり陰極
暗部が消失したりし反対に減圧度が低くすぎるとアーク
放電やスパーク放電が起こり都合が悪くなることがある
。

ＲＦイオンブレーティングや高周波イオン化ガン、ホロ
ーカソード等の如きイオン発生装置を用いる場合には、
最高１Ｏ−４Ｔｏｒｒに至る真空度でもコーティングす
ることが可能な場合もある。

イオン化率が十分に高い場合は、真空蒸着の場合よりも
物質粒子の平均自由行路が長くなり且つ又印加電圧が大
きくなると平均自由行路がさらに長くなるので、減圧度
が低くてもコーティングが可能なことがイオンブレーテ
ィングの利点である。

但しセラミックのイオン化電圧は大きく、平均自由行路
は短かいので出来るだけ励起電圧の大きいプラズマイオ
ンブレーティングを行うかさもなければホロカソードや
高周波イオンガンを用いることが望ましい。

この際平均自由行路やイオン速度があまり異なる材料を
用いると膜面が失透しγこり変色したりする事があり又
コーテイング膜が不均−組成となることがあるので化学
的に出来るだけ均一な材料を用いることが望ましい。

又酸素欠損になることがあるので酸素雰囲気下でコーテ
ィングすることが望ましい。

このようにして得られだ反射板は製造後直に高耐久性を
発揮できるものもあるが、一般には（１）室温で数日放
置する。

（２）熱変形温度以下で数１０分〜数時間加温する。

（３）熱変形温度以下で加温と冷却を数回繰り返す等の
熟成を行うことにより、耐久性を増加させることができ
る。

本発明の反射板は、 （１）金属と結晶性セラミックとは、共に真空コーティ
ングするので、連続的に同一装置により行い得られ製造
が容易である。

（２）結晶性のセラミックを真空コーティングするので
、従来の樹脂塗料を使用する場合と異なり、光反射金属
膜と同じレプリカの薄膜を形成し得られるので、保護膜
による光の屈折や吸収は極めて少なく、全反射率や正反
射率、屈折率の変化が少ない上、樹脂保護膜の如き経時
的失透或は着色劣化も少ない。

（３）光透過性セラミック層は耐熱性、耐光性、耐候性
、耐溶剤性が優れており、その表面は緻密であるため、
経時使用しても、油による汚染を受けても浸食されるこ
とがナク、シかも汚染物の拭き取りによっても摩耗傷も
少ないので、長期使用に耐え得る耐油性、耐摩耗性の強
いものである。

（４）前記光透過性セラミックの膜は樹脂塗料に比べ、
真空コーティングにより薄膜でよく、熱伝導度も大きい
ので、照明器具反射板と使用する場合、コーテイング膜
の温ｉ上昇も小さい。

（５）基板は金属また無機物であるので、耐熱性が高く
、従って１反射板金体も耐熱性の高いものとなる。

等の優れた効果を有する。

実施例 １ 厚さ０．１ ｃｒｎ 、縦横とも１５ｃＩｒＬの表面平
滑なナトリウムガ゛ラス板を真空コーターのペルジャー
内に入れ、ハースライナの真上に平行で３０（Ｉ’ｍの
位置に保持し、真空度を２Ｘ１０−５Ｔｏｒｒにした後
。

電子ビームでアルミニウムを加熱蒸発させ、室温に保っ
た基板に表２の１に示す如き印加電圧−３ｋＶ、ＥＢ出
力２．５ｋＷ、コーティング圧力４〜６×１Ｏ−５Ｔｏ
ｒｒの条件下で３０秒間真空コーティングを行つｆこ。

その後更に真空度を２Ｘ１０−５Ｔｏｒｒにした後、ペ
ルジャー内に酸素ガスを５Ｘ１０−３Ｔ□ｒｒまでに導
入し、再び２Ｘ１０−’Ｔｏｒｒまで減圧にし、同じ操
作を２回繰り返した後、酸素雰囲気中で電子ビームでマ
グネシアを加熱蒸発せしめ、印加電圧−０，７ｋＶ、Ｅ
Ｂ出力１ ｋＷ、コーティング圧カフ〜９Ｘ１０−５Ｔ
ｏｒｒの条件下で５分間真空コーティングを行った。

得られたマグネシアの光透過性の保護膜を有する反射板
は１０％の水酸化ナトリウム水溶液で３０分間浸漬した
結果、反射率を始め、表面の変色など外観に例ら変化な
くその上ゴバン目テスト００ では１００と優れた密着性を示すことが判った。

しγこがって水酸化ナトリウム等のアルカリ性薬品生産
工場の照明器具の反射板として最適である。

又、ビルのロビー、フロア−、ジョールーム等の室内々
装材ミラーとしても好適である。

実施例 ２ 厚さ０．０４ｃＩｆＬ、縦横とも１０ｃＩｒＬの表面平
滑なステンレス板をスパッタリング装置内の基板ホルダ
ー保持し、一方、ターゲットとしては板状ニッケルを用
いて、基板とターゲット間の距離を１０ｃＩｒＬに設定
し、ペルジャー内の減圧度を６Ｘ１０−６Ｔｏｒｒに排
気した後、アルゴンガスを導入して２×１Ｏ−３Ｔｏｒ
ｒに昇圧後シャッターを閉じたまま出力４．５ ｋＷ
、周波数１３．５６ ＭＨｚの高周波で５分間クリニン
グスパッタリングをしてターゲット表面の浄化と安定化
を行い、次に、シャッターを開き、７分間ニッケルのス
パッタリングを行った。

次に、ターゲットとして板状アルミナを用いて、上記と
同じ距離に設定し、同じ条件下でシャッターを閉じたま
ま１０分間クリニングスパッタリングをし、その後、シ
ャッターを開き、１００分間アルミナのスパッタリング
を行った。

得られたアルミナの光透過性の保護膜を有する反射板を
１８０℃の恒温槽中で耐熱テストを行い、水道水中に３
日間浸漬した結果、いずれも異常な変化はなく、その上
、ガーゼで強くこすっても傷がつかず、ゴバン目テスト
による剥離もなく、耐熱性、耐水性、耐摩耗性、密着性
の優れた反射板であった。

これを物品ケースのミラー、店舗、ビルのロビー、フロ
ア−、ジョールーム等の内装材ミラーとして好適である
。

実施例 ３ 厚さ０．１ ｃｔｒｔ 、縦横とも１０ｃｒｆＬの表面
平滑なアルミ板を充分に脱脂洗浄し乾燥させたものを、
真空コーターのハースライナの真上８ｃｒｒＬの処に装
着された直径：ｔｏｃＩＩＬ、高さ１０（１７７２の高
周波発振コイルより上方４ｃＴＬの位置に保持し、ペル
ジャー内の真空度をｌＸ１Ｏ−５Ｔｏｒｒにした後、ア
ルゴンガスを導入して５ Ｘ １Ｏ−３Ｔｏｒｒに昇圧
後再び１×１Ｏ−５Ｔｏｒｒに減圧し、同じ操作を２回
繰り返した後、アルゴンガス分圧を５〜６Ｘ１０−４Ｔ
ｏｒｒに保ちながら表２の３に示す如き印加電圧−１，
５ｋＶ、ＥＢ出力１．５〜２ｋＷの条件下でＲＦ出力３
００Ｗ、周波数１３．５６ＭＨｚ 、基板が室温の状態
で電子ビームによりアルミニウムを加熱蒸発させ、蒸発
粒子を高周波コイルの中を通過せしめて３０秒間コーテ
ィングを行った。

次に、真空圧力をＩ Ｘ １０”−５Ｔｏｒｒに減圧し
た後、酸素ガスを導入し、５ Ｘ １０−”Ｔｏｒｒ程
度に昇圧し再びＩ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒに減圧し、同
じ操作を２回繰り返しγこ後、酸素の雰囲気中で印加電
圧−１ｋＶ、ＥＢ出力１〜１．５ｋＷ、コーティング圧
力５〜７Ｘ１０−’Ｔｏｒｒの条件下で、同じ方法によ
ってアルミナをコーティングしγこ。

得られたアルミナの無色透明な保護膜を有する反射板を
１８０℃の恒温槽内において耐熱試験を行った結果、反
射率を始め、表面の変化もなく、耐熱度の高い反射板で
あり、又水道水中に３日間浸漬しても異状な変化はな力
）つた。

ガーゼで強くこすっても傷がつかず、ゴバン目テストに
よる剥離もなく、耐熱性、耐水性、耐摩耗性、密着性の
優れγこ反射板であつＴこ。

ビルのロビー、フロア−。ジョールーム等の室内々装材
ミラーとして破損する事なく安全性に富み、且つ室内を
明るく彩り、インテリアの効果を高める最適な反射板で
ある。

実施例 ４ 厚さＯ，ＩｃｒｒＬ、縦横とも１５ｃｒｒＬのアルミ板
に脱脂洗浄を施して乾燥させた後、真空コーターのペル
ジャー内に入れ、ハースライナの真上に平行で２５（１
’７７１の距離に保持し、真空度を２Ｘ１０−５Ｔｏｒ
ｒにしγこ後窒素ガスを導入して５ Ｘ １Ｏ−３Ｔｏ
ｒｒに昇圧後再び２Ｘ１０−５Ｔｏｒｒに減圧し、同じ
操作を２回繰返しだ後窒素雰囲気中で表２の４に示す如
キ印加電圧１ｋＶ、ＥＢ出力１．５ｋＷ、コーティング
圧力２〜３ Ｘ １０”−”Ｔｏｒｒの条件下でグロー
放電を起こさせ、電子ビームで以って金属チタンを加熱
蒸発せしめ、５分間チタンの反応コーティングを行った
。

次に、真空度をｌＸ１Ｏ−５Ｔｏｒｒにした後酸素ガス
を導入して５Ｘ１０−”Ｔｏｒｒに昇圧後、再びｌＸｌ
０−５Ｔｏｒｒに減圧し、同じ操作を２回繰返しだ後酸
素雰囲気中で電子ビームを以ってムライトを加熱蒸発せ
しめ、印加電圧−〇、７ｋＶ、ＥＢ出力１．５ｋＷ、コ
ーティング圧力８〜９Ｘ １Ｏ−５Ｔｏｒｒの条件下で
７分間真空コーティングを行った。

透明なムライト保護膜を有する窒化チタンの反射板を１
８０℃の恒温槽中で耐熱テストを行ない、水道水中に３
日間浸漬した結果、いずれも異状な変化はなく、耐熱度
、耐湿度の高い反射板であり。

その上、ガーゼで強くこすっても傷がつ力）ず、耐摩耗
性の優れたものであった。

窒化チタンは美しい金色の光沢を呈するので室内装飾ミ
ラー、天井材光反射ミラー、店舗やジョールームの内装
ミラーとして好適である。

表１は本発明の実施態様を表記したものであり、表２は
本発明の各実施例における実施条件を表記したものであ
る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 金属まｆこは無機質の基板上に光輝性金属の真空コ
   ーティング層を設け、更にその上に光透過性のセラミッ
   ク真空コーティング層を設けてなる耐熱性反射板。 ２１０−１〜１Ｏ−５Ｔｏｒｒの真空下セラミックの熔
   融状態において、その設定真空度の１００倍以内の真空
   度損失しかもたらさない特許請求の範囲第１項記載のセ
   ラミックを真空コーティングした反射板。 ３ 原料が結晶質であるセラミックを用いて真空コーテ
   ィングした特許請求の範囲第１項記載のセラミックの真
   空コーティング反射板。 ４ 真空コーティングしたセラミック層が結晶質である
   特許請求の範囲第１項記載の反射板。 ５ セラミック材料としては、アルミナ、マグネシア、
   ジルコニア、スピネル等の酸化物系セラミック、高アル
   ミナ及びムライトセラミック、ジルコンセラミック、パ
   イロセラムの如きリシャセラミック等を真空コーティン
   グした特許請求の範囲第１項記載の反射板。