JPS58173836A - 投影整列装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はシリコンウェーハ上に超小型回路を製造するこ
とに関する。投影整列装置あるいはプロジュクションア
ライナーは、回路パターンの光像をウェーハ上に投影す
るために用いられる。前記回路パターンは次にウェーハ
上において、フォトレジスト技術を用いて食刻される。

前記光像は、複数個の鏡からなる光学装置によってウエ
ーノ・上で焦点を合わされる。これらの鏡が正しく整列
さねていて、回路像をウェーハ上に正確に投影できるこ
とが重要である。過去においては、これらの鏡を整列さ
せるための簡単で、明確な方法がなく、あるいは完全に
整列させることは不可能であっても、不整列誤差を測定
するための方法がなかった。

従って、そのような装置やシステムが必要となっている
。

本発明は、光学装置の鏡を、簡単で明確な方法で整列さ
せるため、また鏡によってつくり出されたすべての不整
列度を直接的に測定するための方法と装置を提供するこ
とによって、先行技術の有する問題点を解決する。

本発明は、それぞれに協動的なアライメント用パターン
の類似した列を設けた、第１および第２の目標マスクの
対を採用する。各々のパターンは、十字形のアライメン
ト用パターンと長方形形状に配置された４つの櫛状パタ
ーンとを有する。前記第１目標マスクはマスクホルダー
に取付けられている。

前記第２目標マスクはシリコンウェーハよりも幾分大き
な寸法となっており、ウェーハ面に対して（真空によっ
て）取付けられている。第１目標マスクからのアライメ
ント用パターンは、光学装置の鏡を介して、第２目標マ
スクの対応的なアライメント用パターン上に投影される
。前記パターンの櫛状パターンは可能な限シ整列される
。前記鏡は、全ての協動的なパターンの櫛状パターン間
に完全な整列を得るために、もし必要ならば調節される
。全てのパターンを完全に整列させることが不可能な場
合には、前記櫛状パターンはバーニヤ装置を有していて
、そのバーニヤ装置からは生産仕様との比較のために不
整列度を直接的に測定することかできる。

従って、本発明の目的は、投影整列装置の光学装置の鏡
を整列させるための、改良された装置を提供することに
ある。

本発明の他の目的は、投影整列装置の鏡を整列させるた
めの、簡単で明確な装置を提供することにある。

本発明の他の目的は、回路像の投影の中における全ての
不規則因子を検出するために、目標マスク領域の周囲に
列になった配置された類似的な協動アライメント用パタ
ーンによって、投影整列装置の鏡を整列させるための装
置を提供することにある。

本発明のさらに他の目的は、投影整列装置の鏡を整列さ
せるために、協動的な櫛状パターン対を用いた装置を提
供することにあり、各々の櫛状パターン対は不整列誤差
を直接的に読み取るための、Ｎ’ｌ−ニヤ装置を有して
いる。

本発明のさらに他の目的は、まず鏡の不整列を検出する
ために用いることができ、次に鏡の不整列を修正あるい
は測定するために用いることのできる、協動的なアライ
メント用パターンの列を提供することにある。

本発明のこれらおよびその他の目的、利点、および親規
な特徴は、添付図面を参照しながら以下詳細に説明する
ことによって明らかになるであろう０ 第１図は投影整列装置１に取付けられたマスク１０とウ
エーノ・２０とを示している。本発明が採用しようとし
ている投影整列装置の型式例はパーキン・エルマーのＭ
ＩＣＲＡＬＩＧＮモデル１２０である。マスク１０はマ
スクホルダー１２に取付けられている。ウエーノ・２０
はウエーノ・チャック（図示せず）によってウエーノ＼
面２２に対して取付けられている。前記マスク１０とウ
ェー７・２０とは、複数個の鏡１６からなる光学装置１
５の両側に位置している。この光学装置１５は概略的に
示しであるだけで、光学関係についての詳細な説明は本
発明にとって余り重要ではない。光源５がマスク１０を
通して光を投影し、光学装置１５の鏡１６を介して回路
のパターン像をウェーハ２０へ送る。スコー７０１８あ
るいは１９からなるヴイユー装置１１が設けられていて
、ウェーハ上の回路像のオーバーレイを操作者が監視で
きるようになっている。マスク１０とウエーノ・２０と
の間の相対的な動きを調節することのできる装置（図示
せず）が設けられておシ、従って回路のパターン像の位
置はウェーハ２０上で正しく整列させることができる。

また投影された回路像の形状、寸法、および向きを変え
るために、鏡１６を調節的に位置決めするための装置（
１図示せず）も設けられている。

高品質で信頼性のある細密化された集積回路を製作する
ためには、回路のパターン像をウエーノ・２０上で正確
に形状化し、焦点を合わせるために、光学装置１５の鏡
１６を正確に整列させることが重要である。好ましい実
施例においては、その目的はウェーハ２０上にマスクパ
ター／の正確な１対１の儂を作り出すことにある。ウエ
ーノ＼は２次元的なＸ−Ｙ平面内に位置している。理想
的には、この儂はＸ−Ｙ平面の中で、全ての回転誤差や
横倍率誤差を除去した状態で、正確に位置されている。

このような正確な儂の位置決めを行なうために１マスク
１０とウェーハ２０との相対位置は調節可能になってお
り、さらに、鏡本必要ならば調節することができる。し
かしながら、整列を行なわなければならないのが顕微鏡
的な水準にあるので、時にはプロジェクションアライメ
ント装置１の中に、光学装置１５の鏡１６を調節するこ
とによっても除去することのできない機械的な誤差の存
在することがある。過去においては、鏡の整列が狂った
時、また鏡の整列誤差が検出された時でさえも、簡単あ
るいは明確な郭定方法が存在せず、鏡を正しい整列状態
に調節したり、あるいは存在する誤差の量を測定するた
めの良好な装置もなかった。

本発明は鏡の不整列を郭定し、かつ鏡を整列調節し、あ
るいは装置内固有の誤差を郭定するだめの装置を含む。

本発明は第１目標マスク２５および第２目標マスク５０
として示された１対のマスクを利用する０第１目標マス
ク２５はその上に描かれた第１アライメント用パターン
２６の列を有している（第２図参照）。同様に、第２目
標マスク５０もその上に描かれた、対応的な第２アライ
メント用パターン５１の列を有している（第３図参照）
。前記第１アライメント用パターン２６の詳細は第４図
に示され、また対応的な第２アライメント用パターン５
１の詳細は第５図に示されている０第６図は第２アライ
メント用パターン５１上に重ねられて、整列された第１
アライメント用パターン２６を示している。これらの協
動パターン２６．５１が、これから後述するようにして
、光学装置における整列誤差を郭定し、修正するために
利用される。

第１目標マスク２５はマスクホルダー１２の中に固定さ
れている。第２目標マスク５０はシリコンウエーノ・よ
りも少し寸法が大きく、ウエーノ・面２２に対して固定
されている。簡単に説明すると、光源５が第１目標マス
ク２５を介して光を投影し、第１アライメント用パター
ン２６の像を光学装置１５を介して伝達し、第２目標マ
スク５０の対応的な第２アライメント用パターン５１の
上にぶつける。本発明によると、第１目標マスク２５は
第２目標マスク５０に関して（あるいはその逆関係で）
可動的に位置しており、各々の第１アライメント用パタ
ーン２６をそれに対応する第２アライメント用パターン
５１に整列させ、各パターンの対について、第６図に示
したような完全なアライメントを作り出すようになって
いる。もしそのような完全なアライメントが各々のパタ
ーン２６とそれに対応するパターン５１に関して得られ
ない場合には、鏡１６を調節して、全てのパターンにつ
いて完全なアライメントが得られるようにする。

もし鏡１６を調節してもそのようなアライメントが得ら
れない場合には、調節不可能な装置内の組込み誤差がそ
の協動的なパターン２６．５１から直接的に郭定するこ
とができ、これを製作しようとしている回路についての
要求仕様と比較して、このアライメント誤差が許容範囲
内にあるかどうかを郭定することになる。

パターン２６．５１についてもつと詳細に説明するため
に、第１アライメント用パターン２６を詳細に示してい
る第４図を参照することに１７よう。

第１アライメント用パターン２６は従来的な回路マスク
製法によって第１目標マスク２５上に形成される。第４
図を参照すると、第１アライメント用パターン２６は４
つの櫛状部３０．３５，４０゜４５と、１つの十字線ブ
ラケット２７とを含んでいる。各櫛状部３０，３５，４
０．４５は一列に配置された複数個の歯を有し、また各
々の櫛状部はそれぞれ中心歯３１．３６．４１．４６を
有ｌ〜ている。各々の櫛状部３０．３５，４０．４５は
水平方向あるいは垂直方向に配置された第１櫛パターン
を有している。櫛状部３０と４０とは水平方向に配置さ
れた第１櫛パターンであり、櫛状部３５と４５とは垂直
方向に配置された第１櫛パターンである。この第１７ラ
イメント用パターン２６は中心２８を有している。水平
方向に配置された第１櫛パターン３０．４０は前記中心
２Ｂの上と下に配置されており、また垂直方向に配置さ
れた第１櫛パターン３５．４５は、第４図の中心２８の
それぞれ右と左に配置されている。櫛状部３（ｌ中心歯
３１の左に配置された歯３２ａ〜３２８と、中心歯３１
の右に配置された歯３３ａ〜３３ｅとを有している。同
様に、歯３７ａ〜３７ｅは中心歯３６の下に位置し、歯
３８８〜３８８は中心歯３６の上に、歯４２ａ〜４２ｅ
は中心歯４１の右に、歯４３ａ〜４３ｅはその左に、ま
た歯４７ａ〜４７ｅは中心歯４６の上に、歯４ｓａ〜４
Ｂｅは歯４６の下にそれぞれ位置している。

第２アライメント用パターン５１は第５図に最もよく示
されている。前記パターン５１は従来的な回路マスク製
法によって第２目標マスク５０上に形成されている。ア
ライメント用パターン５１は４つの櫛状部５５，６０，
６５．７０と、パターン５１の中心５３において交差す
る直角線からなる１つの十字線５２とを含んでいる。各
々の櫛状部５５，６０，６５．７０は一列に配置された
複数個の歯を有し、また各々の櫛状部はそれぞれ中心歯
５６．６１．６６．７１を有している。各各の櫛状部５
５．６Ｇ、６５．７０ｔｉ、水平方向あるいは垂直方向
に配置された第２櫛パターンを含んでいる。櫛状部５５
．６５は水平方向に配置された第２櫛パターンであり、
櫛状部６０．７０は垂直方向に配置された第２櫛パター
ンである。

水平方向に配置された第２櫛パターン５５　、６５は中
心５３の上と下に、また垂直方向に配置された第２櫛パ
ターン６０．７０はそれぞれ中心５３の右と左に配置さ
れている。櫛状部５５は中心歯５６の左に配置された歯
５７ａ〜５７８と、中心１１ｉｉｉ５６の右に配置され
た歯Ｓａａ〜ｓｅｅとを有している。同様に、歯６２ａ
〜６２８は歯６１の下に、歯６３ａ〜６３ｅは歯６１の
上に、ｆｉ６７ａ〜６７ｅは歯６６の右に、歯６８ａ〜
６８ｅは左に、歯７２ａ〜Ｔ２ｅは歯７１の上に、肯７
３ａ〜７３ｅは歯７１の下に配置されている０第６図は
、第１アライメント用パターン２６とと第２アライメン
ト用パターン５１とが整列されて位置しているところを
示している。ここで注意しなければならないのは、実際
には操作者はパタ−ン５１の上に重ねられたパターン２
６の像を見ている点である。従って、操作者は実際にマ
スク２５のパターン２６を見ているのではなく、そのパ
ターンの儂を見ているのである。しかしながら議論を簡
単にするために、パターン５１の上に重ねられたパター
ン２６の像を、バター／２６の儂というより、単にパタ
ーン２６として考えることＫする。第６図に示された整
列位置においては、十字線５２は十字線ブラケット２７
の中の中心部に位置し、第１櫛パターンの各中心歯３１
．３６゜４１．４６は、第２櫛パターンの対応的な中心
歯５６．６１．６６．７１と整列されている。この整列
位置においては、第１櫛パターン３０　、３５゜４０．
４５の歯は、第２櫛バターｙ５５．６０゜６５．７０の
歯と直接接触している。第１櫛パターン３０，３５．４
０．４５は第１の箱形状を形成し、第２の箱形状を形成
している第２櫛パターン５５，６０，６５．７０を取り
囲んでいる。中心歯の対３１．５６；３６，６１　；４
１．８６；４６．７１を例外として、その他の第１およ
び第２櫛パターン２６．５１の歯は不整列状態あるいは
オフセット状態になっている。さらＫこのオフセット量
は歯の位置が中心歯から離れる程大きくなる。櫛の対４
０．６５の拡大図である第７図がこのことを明確に示し
ている。図示したように、第７図、においては、中心歯
４１と６６だけが整列されていて、歯６７ａは歯４２ａ
から０．１ミクロンだけ離れ、歯６７ｂは歯４２ｂから
０．２ミクロン離れ、歯６７Ｃは歯４２０から０．３ミ
クロン離れ、歯６７ｄは歯４２ｄから０゜４ミクロン離
れ、歯６７ｅは歯４２ｅから０．５ミクロン離れている
。

これと同様な配置が、第７図の＊４１．６６の右側にお
け、る歯４３ａ〜４３ｅと歯６ａａ〜６８ｅについても
なされておシ、全ての歯は中心歯に関して対称的に形成
されている。第１アライメント用パターン２６の歯とｔ
ｌ／ｃ２アライメント用パターン５１の歯との間のこの
よく考えられたオフセットが、本発明における、不整列
誤差を測定するためのバーニヤとして用いられる。例え
ば、第７図において、中心歯４１．６６が整列されてお
らず、その代わりに、歯６７ｃと４２Ｃとが整列されて
いた場合には、操作者は第１アライメント用パターン２
６は０．６ミクロンだけ右側へ不整列状態になっている
ことを知ることになる。従ってその操作者はこの誤差を
除去、調節するために、適幽な調節を行なうであろう（
その方法は後述する。）。

もしこの誤差を調節除去することができない場合には、
との櫛歯のバーニヤは調節不可能な装置誤差を直接的に
示すことになる。本発明において、第１櫛パターンの歯
は第２櫛パターンの歯よりも０．１ミクロンだけ間隔が
広くなっているが、本発明はそのような間隔寸法に限定
されるものではなく、上述したバーニヤの効果を生み出
すために歯と歯の間をどのようにずらしてもよいであろ
う。

第１アライメ／ト用パターン２６は、第２図に示したよ
うな第１目標マスク２５上に゛列Ｔ６となって配置され
、第２アライメ／ト用パターン５１は、第６図に示した
ような対応的な列８１となって配置されている。

第２図を参照すると、前記列７６は第１目標マスク２５
の中心に位置した、中心配置の第１アライメント用パタ
ーン２６ａを含む、第１アライメント用パターンの水平
方向の列２６ｂは中心パターン２６ａの左に位置し、第
１アライメント用パターンの水平方向の列２６０は中心
パターン２６ａの右に位置している。第１アライメ／ト
用パターンの垂直方向の列２６ｄは中心パターン２６ａ
の直上に位置し、第１アライメント用パターンの垂直方
向の列２６ｅは中心パターン２６ａの直下に位置し７で
いる。また第１アライメント用パターンの４５度ずれた
方向の列２６ｆ、２６ｇ、２６ｈ。

２６１もまた図のように設けられている。全てのこれら
のパターン２６ａ〜２６１は、第４図に示した第１アラ
イメント用パターン２６と同一である。

第６図を参照すると、前記パターン２６ａ〜２６ｉの各
々には、第２目標マスク５０上に対応的な第２アライメ
ント用パターン５１ａ〜５１１を有していることがわか
るであろう０各パターン５１８〜５１１は第５図に示し
たパターン５１と同−である。前記パターン５１ａ〜５
１１は第３図に示したように、列８１におけるチェッカ
ー盤格子８０上に配置されている。第１目標マスク２５
がマスクホルダー１２に固定され、第２目標２スク５０
がウェーハ面２２の中に適正に固定されている時には、
第１アライメント用パターン２６８〜２６１の各々の儂
は第２マスク５ｏ上の対応的な第２アライメント用パタ
ーン５１ａ〜５１１上に重ねられる。

前記パターン列７６．８１はそれぞれ、第１マスク２５
および第２マスク５ｏを、完全にではないが、全体的に
カバーする。第１マスク２５と第２マスク５０を完全に
カバーするために、パターン２６．５１はチェッカー盤
７５．８０の各々の正方形部分７７．８２の中に位置さ
れなければならない。しかしながら、マスク２５と像面
５０を完全にカバーしているそのようなパターン２６．
５１の列は操作者を混同させる。従って本発明は、第１
マスク２５と第２マスク５０を、不必要に混同すること
なく、全体的にカバーするよう罠なった列７６．８１を
含む。

本発明の協動マスク２５．５０の基本構造について説明
してきたが、光学装置１５の鏡１６を正しく整列させる
ために、それらは次の様にして用いられる。

前述したように、投影整列装置は、マスク１０とウェー
ハ２０との間に調節的な相対運動を行ない、マスク１０
からウェハー２０上に回路パターンの像を正しく位置づ
けるための装置を含む。また、鏡１６を調節的に位置づ
けして、ウェーハ２０上に投影される回路パターンの像
の形状、寸法、向きを変化させるための装置も設けられ
ている０ 本発明に関して用いられる投影整列装置（パーキン・エ
ルマーのＭＩＣＲＡＬＩＧＡＮモデル１２０）の１つに
おいては、装置１はマスク１０あるいはウェーハ２０の
いずれかを調節的に位置づけるように選択４ることかで
きる。ここでは、もちろん、整列手順中において、マス
ク１０は第１目標マスク２５に対して取換えられ、ウェ
ーハ２０は第２目標マスク５０に対して取換えられる。

結果として、整列手順において、前記装置１は第１目標
マスク２５あるいは第２目標マスク５ｏを調節的に位置
づけるために選択される。

操作者がヴイユー装置１７をのぞきながら、低出力で倍
率を設定し、第２目標マスク５ｏをウェーハ２２に対し
て配置し、マスク２５と５０との間を粗く整列させるよ
うにウェーハ上に手で位置決めする。操作者は第２目標
マスク５ｏに重ねられた第１アライメント用パターンの
ｇＩ２６を見る。

パターン２６を対応的なパターン５１と粗く整列させる
ために、第２目標マスク５０をウェーハ面内において手
で位置決めすると、第２目標マスク５０は真空を加えて
それを面内に固定する。操作者は次に２つの垂直方向に
間隔をおいたパターン対２６ｅ、５１ｅと２６ａと５１
ｄとを高出力倍率で選択し、装置１のスイッチを高出力
倍率に入れ、これら２つのパターン対をスプリットスク
リーン偉として同時に見る。このスプリットスクリーン
儂においては、スコープト８あるいは１９の１つがパタ
ーン対２６ｅ、５１ｅあるいは２６ｄ。

５１ｄの１つの上に位置し、他のスコープが他のパター
ン対の上に位置する。操作者は相対駆動機構のセレクタ
ーを作動させ、第２目標マスク５０を調節位置に選択す
る。この相対駆動機構が操作され、第２目標マスク５０
をＸ−Ｙ面の中で移動し７、またマスク５０を回転させ
る。前記相対駆動機構Ｖｉ、ｘ−ｙ面内での移動を行な
うためのジョイスティック（図示せず）と、マスク５０
０回転運動を行なうためのシータ制御回転ノブ（図示せ
ず）とを含む。ジョイスティックと、シータ制御装置と
を用いて第２目標マスク５０を移動させ、操作者は各パ
ターン対２６ｅ　、５１　ｅと２６ｄ、５１６における
４つの櫛の対を整列させる。

これらのパターン対２６ｄ１５１ｄと２６ｅ。

５１ｅができるだけ最善に整列されると−、操作者は装
置１を低出力倍率に戻し、スコー７０１８あるいは１９
の１つを中心のパターン対２６ａ、５１ａの直上へ移動
させる。台架移動スイッチが入れられ、第１目標マスク
２５と第２目標マスク５０の両方が同時に動かされて、
スコープ１８　（スコープ１８が選択されたものとする
）を最も離れたパターン対２６ｂ、５１ｂの上へ位置づ
けされる。

装置１は次に高出力倍率に選択され、操作者はパターン
対２６ｂ、５１ｂの不整列誤差を観察する。

操作者はこの不整列誤差（もしあれば）をチェックして
、次に倍率を低出力に戻し、台架を操作し２てマスク２
５と５０とを一時に動かしてスコープ１８を最も離れた
パターン対２６Ｃ，５１Ｃの直上に位置づける。再び装
置１は高出力倍率にスイッチを入れられ、操作者はパタ
ーン対２６Ｃ９５’ＩＣの不整列誤差を観察する０この
パターン対２６ｃ　、５１　ｃの不整列誤差（もしあれ
ば）が、パターン対２６ｂ、５１ｂについて述べた不整
列誤差と比較される。この比較から各種の誤差が郭定さ
れる。例えば、もしパターン２６Ｃの櫛がある方向にず
れていて、パターン２６ｂの櫛がその反対方向にずれて
いると、回転誤差が存在することになる。あるいは、も
し櫛パターン２６Ｃと櫛パターン２６ｂの両方が対応す
る櫛パターン５１Ｃ９５１ｂの外側に位置されておれば
、増大誤差（即ち、列７６が列８１よりも大きい）が存
在することになる。その逆に、櫛パターン２６ｂ、２６
ｃが櫛パターン５１Ｃ１５１ｂから内側に向がって位置
していると、像には減衰誤差（即ち、列７６が列８１よ
りも小さい）が存在するととＫなる。

各種の不整列および誤差を直接的に測定し、もし可能で
あわば調節を行なうために、櫛の歯のバーニヤ装置が用
いられる。もし可能ならは回転誤差はシータ制御装置に
よって最初に修正される。もしこの回転不整列がシータ
調節によって除去することができなければ、鏡１６によ
って回転誤差が誘発されているので、ｆＭ１６を調節し
なければならない。この目的のために、鏡１６には回転
調節用のノブ（図示せず）が設けられている。増大誤差
および減衰誤差は、鏡１６を調節する倍率調節ノブ（図
示せず）によって修正される。これらの誤差はこれらの
制御装置を用いてできるだけ最善に修正される。しかし
ながら、一度でも、鏡の位置を変えると、鏡１６を調節
すれば今までのアライメントが全てくずれることになる
ので、パターン対２６ｄ、５１ｄと２６８．５１　ｅと
を（前述したようにして）再び整列させるために最初に
戻る必要がある。この手順は、全てのパターン２６ａ、
〜２６１と５１ａ〜５１１とができるだけ最善に整列さ
れるまで、順を追って゛繰返される。一旦この整列がな
されると、光学装置１５の鏡１６はさらにできるだけ整
列され、本装置１は製造準備に入る。前記マスク２５．
５０は回路マスク１０と製造ウェーハ２０とに置換えら
れ、超小皺回路のウェーハ製造が開始される。鏡の温度
あるいは小さな製造上の欠陥によっである種の誤差が生
じる。

これらの誤差は調節除去するとと゛はできないが、それ
らは櫛のバー二゛ヤ装置から直接的に測定することかで
゛き、従って操作者はあらゆる装置誤差を知ることによ
り、これらの装置誤差に対して適当に考察を加えること
ができる。

パターン２６ａ〜２６１および５１ａ〜５１１の協動的
な列７６．８１は、パターン対の間に十分な間隔をとっ
ており、操作者が不必要な混同をすることなしに選択さ
れた対について焦点を合わせることができるようになっ
ている。この列７６゜８１はまたウェーと・表面を全体
的にカバーし、従って投影された偉における全ての不規
則因子を郭定することができる。例えば、全てのパター
ン対が、最・も外側のパターン対２６ｒ、５１ｒ（たま
たまこのパターン対を選んだだけである）を除いて整列
されるどい′うことがあり得る。このようにどのパター
ン対２６ｆ、５１ｆだけが単独に不整列状態になってい
るということは、像の中に局部化された不規則な個所を
与える鏡１６の欠陥であることを示している。櫛のバー
ニヤ装置はこのような不規則因子の大きさを郭定するた
めに用いられ、操作者はその不規則因子を知如、各種装
置における計画製造工程の中で、適当に必要な考察を加
えることができる。

今までのことから、本発明は高度に発明的な方法と装置
とを含んでおり、投影整列装置１の鏡を比較的簡単かつ
効率的に整列させ、シリコンウェーハ製造において高品
質で正確な超小型回路を生産することができる。

本発明の好ましい実施例について今まで説明してきたが
、当業界によってその教示範囲の中で他の修正、変更を
行なうことが可能であり、従って、本発明は添付した特
許請求の範囲にのみ限定されるものである。

【図面の簡単な説明】

ｊ１１図は投影整列装置の概略図、第２図は第１目標マ
スクと、第１アライメント用パターンの列とを示す平面
図で、その第１７ライメ／ト用パターンは簡単で、大体
の表現となっており、＃Ｉ３図は第２目標マスクと、第
２アライメント用パターンの列とを示す平面図で、この
第２アライメント用パターンも簡単で、大体の表現とな
っており、第４図は第１７ライメント用パターンの詳細
図、第５図は第２アライメント用パターンの詳細図、第
６図は整列された位置における第１および第２のアライ
メント用パターンの詳細図、第７図は整列された位置に
おける協動アライメント用パター／の対における、協動
的な櫛状パターン対４０゜図において １・・・投影整列、　　５・・・光源、１０・・・回路
マスク、１２・・・マスクホルダー、１５・・・光学装
置、　１６・・・鏡、２０・・・クエーハ、　　２２・
・・ウェー７１面、２５・・・第１目標マスク、 ２６・・・第１アライメント用パターン、２＄ａ、５１
ａ・・・マスク中心、 ３０．４０・・・垂直パターン、 ３５．４５・・・水平パターン、 ５０・・・第２目標マスク、 ５１・・・第２アライメント用パターン、５５．６５・
・・垂直パターン、 ６０．７０・・・水平パターン、である０代理人　浅　
　村　　　皓 外４名

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 回路パターンを含んだ回路マスクを固定するのに適した
   回路マスクホルダーと、ウエーノ・面内にウェハを固定
   するための装置と、複数個の鏡を含んだ光学装置と、前
   記回路マスクを通して光を投影し、前記回路パターンの
   像を前記光学装置を介して伝送し、前記ウェーハの上へ
   投影するための光源と、前記光学装置の前記鏡を整列さ
   せるための装置とを有する投影整列装置において；（ハ
   ）少なくとも２つの第１アライメント用パターンを有し
   た第１目標マスクであって、前記第１目標マスクは中心
   を有し、前記第１アライメント用パターンの内の少なく
   とも１つは前記マスク中心から垂直方向に配置され、前
   記第１アライメント用パターンの少なくとも１つは前記
   マスク中心から水平方向に配置され、各々の前記第１ア
   ライメント用パターンは水平方向に配置されたパターン
   と垂直方向に配置されたパターンとを有し、前記第１目
   標マスクは前記マスクホルダーに固定されている、その
   第１目標マスクと； ←）少なくとも２つの第２アライメント用パターンを有
   した第２目標マスクであって、前記第２目標マスクは中
   心を有し、前記第２７ライメント用パターンの内の少な
   くとも１つは前記マスク中心から垂直方向に配置され、
   前記第２アライメント用パターンの内の少なくとも１つ
   は前記マスク中心から水平方向に配置され、各々の前記
   第２アライメント用パターンは水平方向に配置されたパ
   ターンと垂直方向に配置されたパターンとを有し、前記
   第２目標マスクは前記ウェーハ面に固定されている、そ
   の第２目標マスクと； （ハ）　前記第１目標マスクと第２目標マスクとの間で
   相対的な運動を行なわせるための装置と；に）前記光学
   装置の前記複数個の鏡を調節するための装置と； を含み、前記光源は前記第１回路マスクを介して光を投
   影し、前記第１アシイメント用パターンの像を前記光学
   装置を介［７て伝送し、前記第２回路マスクの上に重ね
   、前記第１アライメント用パターンと第２アライメント
   用パターンとは、前記第１アライメント用パターンが前
   記第２アライメント用パターンの上に重ねられて、整列
   されているような整列位置に位置し、前記垂直方向に配
   置された第１アライメント用パターンの前記水平パター
   ンと垂直パターンとは、前記整列位置においては、前記
   垂直方向に配置された第２アライメント用パターンの前
   記水平パターンと垂直パターンとに対してそれぞれ整列
   されており、前記水平方向に配置された第１アライメン
   ト用パターンの前記水平パターンと垂直パターンとは、
   前記整列位置においては前記水平方向に配置された第２
   アライメント用パターンの前記水平パターンと垂直パタ
   ーンとに対してそれぞれ整列されており、前記相対運動
   をさせるための装置は前記第１アライメント用パターン
   と前記第２アライメント用パターンとを前記整列位置に
   位置させようとするものであることを特徴とする投影整
   列装置。