JPS58111183A - ダイナミツクram集積回路装置 - Google Patents
ダイナミツクram集積回路装置Info
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- JPS58111183A JPS58111183A JP56209397A JP20939781A JPS58111183A JP S58111183 A JPS58111183 A JP S58111183A JP 56209397 A JP56209397 A JP 56209397A JP 20939781 A JP20939781 A JP 20939781A JP S58111183 A JPS58111183 A JP S58111183A
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- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Dram (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、M工8IPI!i丁(絶縁ゲート1j1一
界効呆トランジスタ)で構成されたD−RAM(ダイナ
2ツク製ランダム●アク七ス−メセリ)条物回路装置に
関する。
界効呆トランジスタ)で構成されたD−RAM(ダイナ
2ツク製ランダム●アク七ス−メセリ)条物回路装置に
関する。
@1一κ示すように,2交点セル方式のD−11Mにお
ける情報読出し動作は、選択格れたワード@WL及びダ
ミーワード@DWLの電位がクラL/ ヘsz f)h
ラハイレベルκ名れ、メモリセルM−01L及びダi
ーセA/D−01Lk4111底する情報番横用キャパ
シタκ接続されたM181FICTかオン状llKされ
ることによって、上記メモリセルM −OgLとダt−
セルD−01Lとの情報差か動的(Df−夕fiDI,
,DI,に@小電圧差Δvとして境われる。次に、この
黴小電圧葺ΔVか量amセンスアング8▲によって検出
.増幅される。
ける情報読出し動作は、選択格れたワード@WL及びダ
ミーワード@DWLの電位がクラL/ ヘsz f)h
ラハイレベルκ名れ、メモリセルM−01L及びダi
ーセA/D−01Lk4111底する情報番横用キャパ
シタκ接続されたM181FICTかオン状llKされ
ることによって、上記メモリセルM −OgLとダt−
セルD−01Lとの情報差か動的(Df−夕fiDI,
,DI,に@小電圧差Δvとして境われる。次に、この
黴小電圧葺ΔVか量amセンスアング8▲によって検出
.増幅される。
上記一対のデータiiDI,,,DI,の増−された1
号は、カラムスイッチO−8WKよって遇択さnデータ
出力バツファ力OB(−示せず)K伝えられめ力される
。
号は、カラムスイッチO−8WKよって遇択さnデータ
出力バツファ力OB(−示せず)K伝えられめ力される
。
上記ワード@IWI、及びダず−ワード−1)WLはロ
ウデコーダ回路R−DORKよって選択葛れる。
ウデコーダ回路R−DORKよって選択葛れる。
また、カラムスイッチ0−8Wは、カラムデコーダ回路
0−Doll(図示せず)Kよって選択される。
0−Doll(図示せず)Kよって選択される。
上記ワード−WLと一対のデータ@IDL、DI。
との聞[Fi、それヤれを生谷量Odvか形成される。
したかって、ワードIIWLかハイレベルに立ち上ると
き、データIIDL、DLKカップリングノイズか発生
する。このカップリングノイズが一対のデータ41ii
DL、DLK等しく発生すれば、差動酸センスアンプa
AKよって相殺させることができる。このため、従来の
D−RAMでは、上記ワ−)’alWLとデータ@DL
、DXaとの間の寄s谷Il’(LW及び各データ@D
L、DLO寄生容量0゜髪等しくするように設計される
ものであった。
き、データIIDL、DLKカップリングノイズか発生
する。このカップリングノイズが一対のデータ41ii
DL、DLK等しく発生すれば、差動酸センスアンプa
AKよって相殺させることができる。このため、従来の
D−RAMでは、上記ワ−)’alWLとデータ@DL
、DXaとの間の寄s谷Il’(LW及び各データ@D
L、DLO寄生容量0゜髪等しくするように設計される
ものであった。
しかし、本顧発明看O研究によって、上記2交点セル万
式のD−IAMKd、次のような間域点のめることか判
明した。
式のD−IAMKd、次のような間域点のめることか判
明した。
上記データ@DIJ、DL等には、データ麿関谷量04
1が形成されるものである。仁の寄生容量011aKよ
って、メモリアレイ部の最も外側のデータ1ilDLs
−+及びDL、−n Kついては、それぞれ寄生容量0
.4が接続されるに対し、その内駒にデータIsが配置
されるデーターDL、−,ないしDL、−nKついては
、等価的に2倍の寄生容量2’(1(lが接続されると
とになる。
1が形成されるものである。仁の寄生容量011aKよ
って、メモリアレイ部の最も外側のデータ1ilDLs
−+及びDL、−n Kついては、それぞれ寄生容量0
.4が接続されるに対し、その内駒にデータIsが配置
されるデーターDL、−,ないしDL、−nKついては
、等価的に2倍の寄生容量2’(1(lが接続されると
とになる。
したかって、鐘も外−の一対のデータ線DLII。
DLI 、及びDLI−n * DLI−nにおいて
、上記データー関容量Oaa Kアンバランスが生じる
ことになる。この寄生容量’aa ’ ”aaのアンバ
ランスは、轟然のようにデータ線へのカップリングノイ
ズにアンバランスを生じせしめることKなる。
、上記データー関容量Oaa Kアンバランスが生じる
ことになる。この寄生容量’aa ’ ”aaのアンバ
ランスは、轟然のようにデータ線へのカップリングノイ
ズにアンバランスを生じせしめることKなる。
轡に、メモリ容量O増大、言い換えれば、メモリアレイ
の高密度化に伴ない素子の微細化か進むと、同−配縁層
間の寄生容量’aaか大きくなるため、上記データ線へ
のカップリングノイズのアンバランスが増々大きくなる
。
の高密度化に伴ない素子の微細化か進むと、同−配縁層
間の寄生容量’aaか大きくなるため、上記データ線へ
のカップリングノイズのアンバランスが増々大きくなる
。
ちなみに、上記ワード@WLの選択によりデーターDL
、−,,DL、、に@われるカップリンクノイズv、
、 v、’の概略は、次式(1) 、 (2)によって
求められる。
、−,,DL、、に@われるカップリンクノイズv、
、 v、’の概略は、次式(1) 、 (2)によって
求められる。
また、上記寄生容量0゜Fi、メモリセルを構成するM
I81FITのドレイン、基板関接縫容ilを含むもの
でろv1基板バイアス電圧−voの変動によって、その
菩量練が変動することの結果、データ騙に同様なカップ
リングノイズが発生する。
I81FITのドレイン、基板関接縫容ilを含むもの
でろv1基板バイアス電圧−voの変動によって、その
菩量練が変動することの結果、データ騙に同様なカップ
リングノイズが発生する。
この鳩舎にも、上記蛾も外−の一対のデーターDLI−
1r DLI−1及びDLI−n * DLIHKは。
1r DLI−1及びDLI−n * DLIHKは。
アンバランスとなるカップリングノイズか生じる−ので
ある。
ある。
この@明の目的は、ワード巌趨択動作及び基板バイアス
電圧の変動によp一対のデータ層に生じるカップリング
ノイズを等しくするようにしたD−RAM集積回路装置
を提供することにある。
電圧の変動によp一対のデータ層に生じるカップリング
ノイズを等しくするようにしたD−RAM集積回路装置
を提供することにある。
この発明の他の目的は、以下のa明及び図面から明らか
になるであろう。
になるであろう。
以下、この発明を実施ガとともに詳細に説明する。
第2ム図には、この発明の1Is−実施ガのブロック図
が示されている。
が示されている。
この実施ガでは、2交点セル方式のメモリアレイSt有
する。すなわち、一対のデーターDL。
する。すなわち、一対のデーターDL。
DLK対1.て、それぞれセンスアンプ8Aが設けられ
ており、各データIIDL−−+ないしDL、−nKは
、それぞれ所定の行配列の下に設けられ九メモリセルと
、ダミーセルの入出力端子が僧枕されている。また、上
記データ1に対して直交するワード1IWLt−+ない
しwbl−4等と、ダミーワード巌DWL、−藏、DW
LI−、か設けられている。セして、同一の列に配置も
れたワード―及びダミーワード!にはメモリセル及びダ
ミーセルの選択端子かそれぞれaaされている。上記一
対のデータ細カラムスイッチo−5vll構成するM工
811ITt介して、一対の共通データ@OD、0DI
fC%続されている。この共通データーOD、OD#i
、データ出力バッファDOBの入力抱子と、データ人カ
パツファDIRの出力端子vc接続されている。
ており、各データIIDL−−+ないしDL、−nKは
、それぞれ所定の行配列の下に設けられ九メモリセルと
、ダミーセルの入出力端子が僧枕されている。また、上
記データ1に対して直交するワード1IWLt−+ない
しwbl−4等と、ダミーワード巌DWL、−藏、DW
LI−、か設けられている。セして、同一の列に配置も
れたワード―及びダミーワード!にはメモリセル及びダ
ミーセルの選択端子かそれぞれaaされている。上記一
対のデータ細カラムスイッチo−5vll構成するM工
811ITt介して、一対の共通データ@OD、0DI
fC%続されている。この共通データーOD、OD#i
、データ出力バッファDOBの入力抱子と、データ人カ
パツファDIRの出力端子vc接続されている。
これらのデータバッファDOB、D工m1通して外S回
路との飯号授受jlい換えれば、読出しデーI及び畳込
データの伝達が行なわれる。
路との飯号授受jlい換えれば、読出しデーI及び畳込
データの伝達が行なわれる。
上記ワード−、ダば−ワード聴及び力2ムスイッチc−
ailは、ロウ・カラムデコーダKO−DORで選択さ
れる。このロウ−力2ムデコーダRC!−DORd、多
重化されたロウアドレス、カラムアドレス信号管受ける
アドレスノくツファムDBからのアドレス傷号ム0〜ム
1及びム1+鳳〜ムjt隋絖して、それぞれ選択−作【
行なう。
ailは、ロウ・カラムデコーダKO−DORで選択さ
れる。このロウ−力2ムデコーダRC!−DORd、多
重化されたロウアドレス、カラムアドレス信号管受ける
アドレスノくツファムDBからのアドレス傷号ム0〜ム
1及びム1+鳳〜ムjt隋絖して、それぞれ選択−作【
行なう。
この夷jIIiIiliでは、上記メモリアレイmKお
ける蝋も外111iKk:、tされた一対のデータ森D
L、−1゜DL、−、及びDLI−n + DLi −
n Kおける前述のようなデータ蘇閲各童の不拘−會な
(すために、それぞれ−灯のグミ−データl1lDDL
1−s 1)DLz −I及びDDLi−雪、DDL、
、が般けられている。
ける蝋も外111iKk:、tされた一対のデータ森D
L、−1゜DL、−、及びDLI−n + DLi −
n Kおける前述のようなデータ蘇閲各童の不拘−會な
(すために、それぞれ−灯のグミ−データl1lDDL
1−s 1)DLz −I及びDDLi−雪、DDL、
、が般けられている。
すなわち、上記一対のダミーデータ縁DDL+−s。
DDL、l及びDDL、、、DDL、−意は、上記破も
外lIに配置されたデータ@D’b、 、 、 DL
I −nのさらに外側に、他のデータ線と同様な配列の
下に設けられるものである。
外lIに配置されたデータ@D’b、 、 、 DL
I −nのさらに外側に、他のデータ線と同様な配列の
下に設けられるものである。
これらのグミ−データ1ilDDLs −s r DD
L+−+及びDDLz −v + DDL+ −m K
Fi、その寄生:tHio。
L+−+及びDDLz −v + DDL+ −m K
Fi、その寄生:tHio。
を他のデータ縁と等しくするために1メモリセル。
ダミーメモリセル、センスアンプ8ム及びカラムスイッ
チ用MO8ト?ンジスタQt +Qt rQ畠。
チ用MO8ト?ンジスタQt +Qt rQ畠。
Qaが設けられている。また、を生容童0゜も輯しくす
るため、各ワード膨は上記ダミーデータ鹸とも父差する
ように形成されている。
るため、各ワード膨は上記ダミーデータ鹸とも父差する
ように形成されている。
上記ダミーデータ−は、上記最も外−のデータ111D
L+−s及びDLI、、におけるデーター関谷蓋を他の
データ線と等しく”aaとするためにt7&けられるも
のであるのでダミーデ−ターの情報が読出される必要は
ない。し7tがってグミ−データーに接続されるカラム
スイッチ用MO8)ランジスタQl r Q+ r
Qm + Q−は、オフ状IIIVc保たれる。
L+−s及びDLI、、におけるデーター関谷蓋を他の
データ線と等しく”aaとするためにt7&けられるも
のであるのでダミーデ−ターの情報が読出される必要は
ない。し7tがってグミ−データーに接続されるカラム
スイッチ用MO8)ランジスタQl r Q+ r
Qm + Q−は、オフ状IIIVc保たれる。
次に、1lEZB図(示し穴畳部具体的−実施ガ回路及
び講20図に示したタイtング図に従って、この央1a
例を詳細に説明する。
び講20図に示したタイtング図に従って、この央1a
例を詳細に説明する。
メモリ七ルM−01Lの構成
1ビツトのM−01Ltj情報蓄積用のキャパシタ08
とアドレス選択用のM工8FITQMとからなり、%
t j 、 % □ Jの情報はキャパシタO,に電荷
かあるかないかのsで記憶される。
とアドレス選択用のM工8FITQMとからなり、%
t j 、 % □ Jの情報はキャパシタO,に電荷
かあるかないかのsで記憶される。
情報の絖み出しは、M工8PMTQMtONKして08
を共通のカラムデータ@DLにつなぎ、データーDL+
の電位が01に蓄積された電荷量に応じてどのような変
化が起目るかtセンスすることによって行なわれる。デ
ータ@DLの浮遊菩量CovcwIJもって光電されて
いた電位音電―亀圧V。0とすると、08に蓄積されて
い友情@が’l’(Vo。
を共通のカラムデータ@DLにつなぎ、データーDL+
の電位が01に蓄積された電荷量に応じてどのような変
化が起目るかtセンスすることによって行なわれる。デ
ータ@DLの浮遊菩量CovcwIJもって光電されて
いた電位音電―亀圧V。0とすると、08に蓄積されて
い友情@が’l’(Vo。
の電位)でめった鳴音、アドレス時においてデータIw
DLの電位(vDL)11.IはVo。O電位ノtまで
Toす、それが’0’(GV)であった場き、(vnL
”*’ld (’。* vo。−o、 (v、−Vt
h) )/c0となる。但し、V、FiMI81FKT
QMOゲート電圧、vth#im 18 ? IT G
LMノLtkイlii電圧でめる。こ仁で論II’ 1
’と論[1% o lとの藺の走すなわち検出される
信号量ΔV、ri ΔvII −(vD L ”1 ’−(vDL ”@
’−(VW−vth )” C1/COとなる6 V
、 m V 0゜とすると、信号量Δv、rilv、−
(vo。−vth)・0870゜となる。
DLの電位(vDL)11.IはVo。O電位ノtまで
Toす、それが’0’(GV)であった場き、(vnL
”*’ld (’。* vo。−o、 (v、−Vt
h) )/c0となる。但し、V、FiMI81FKT
QMOゲート電圧、vth#im 18 ? IT G
LMノLtkイlii電圧でめる。こ仁で論II’ 1
’と論[1% o lとの藺の走すなわち検出される
信号量ΔV、ri ΔvII −(vD L ”1 ’−(vDL ”@
’−(VW−vth )” C1/COとなる6 V
、 m V 0゜とすると、信号量Δv、rilv、−
(vo。−vth)・0870゜となる。
メモリセル會小さくシ、かつ共通のデーターに多くのメ
モリセルをつないで高集積大容量のメモリマトリクスに
しであるため、og<cOlすなわちO、/ 0゜は非
常に小さな−Ktkる。従ってΔV、は非常に微少な信
号となっている。
モリセルをつないで高集積大容量のメモリマトリクスに
しであるため、og<cOlすなわちO、/ 0゜は非
常に小さな−Ktkる。従ってΔV、は非常に微少な信
号となっている。
跣み*eoa*a号
このような倣少な備号會検出するための基準としてダず
一竜ルD−OWLか用いられる。D−OWLはキャパシ
タ’amの1!F量IIかC6のはぼ牛分であることt
除重、菖−0WLと同じ製造条件、同じ設計定数で作ら
れている。Oa、はアドレスに先立ってM工8シ罵テQ
□によって接地電位に充電(他方の電極はvo。K固定
)されている。従って、アドレス時に共通のカラムデー
タ@DLK与える儂号変化童Δv、Fi、メモリセルの
それ(Δv8)と同@に次式で表わされる。但し% v
DIはM工θ′1!1テ”DI’のゲート電圧、vth
’はMI8νITq□のしきい線電圧である。
一竜ルD−OWLか用いられる。D−OWLはキャパシ
タ’amの1!F量IIかC6のはぼ牛分であることt
除重、菖−0WLと同じ製造条件、同じ設計定数で作ら
れている。Oa、はアドレスに先立ってM工8シ罵テQ
□によって接地電位に充電(他方の電極はvo。K固定
)されている。従って、アドレス時に共通のカラムデー
タ@DLK与える儂号変化童Δv、Fi、メモリセルの
それ(Δv8)と同@に次式で表わされる。但し% v
DIはM工θ′1!1テ”DI’のゲート電圧、vth
’はMI8νITq□のしきい線電圧である。
ΔvM=(vDl−vth′)・0(L、/C0vDW
” vOoとすると、)vlは次式で表わされる。
” vOoとすると、)vlは次式で表わされる。
Δv11=(vo。−vth′)・0(1,10゜前述
したようK Oa s社0.0約手分に設定塙れている
ため、ΔvlIはΔvIIのはぼ半分に勢しい。
したようK Oa s社0.0約手分に設定塙れている
ため、ΔvlIはΔvIIのはぼ半分に勢しい。
従って、メモリセルのデータ@DLK与える電位f化か
ダミー竜ルのそれ(ΔV、)より小さいか大きいかで′
11.%□Iの情報か判別できる。
ダミー竜ルのそれ(ΔV、)より小さいか大きいかで′
11.%□Iの情報か判別できる。
各u路の配置
Sム1はアドレス時に生ずるこのような電位変化の差管
、タイミング信号(センスアンプ制御信号)φア、で決
まるセンス期間に拡大するセンスアンプであり(動作は
後述する)、1対の平行に配置された相補データII!
DL億−11DLI−1にその入出力ノードが結合され
ている。データ1IDLt−+。
、タイミング信号(センスアンプ制御信号)φア、で決
まるセンス期間に拡大するセンスアンプであり(動作は
後述する)、1対の平行に配置された相補データII!
DL億−11DLI−1にその入出力ノードが結合され
ている。データ1IDLt−+。
DL、−、に結合されるメモリセルの数は検出稽度【上
げるため等しくされ、DL、 、・DL、−tのそれ
ぞれに1ケずつダミーセルが結合されている。
げるため等しくされ、DL、 、・DL、−tのそれ
ぞれに1ケずつダミーセルが結合されている。
また各メモリセルは1本のワード1lWLと相補対デー
ターロー万との間に納会される。各ワード縁WLi;j
双万のデータm吋と交差しているので、ワード@ILK
生じる雑音成分が静電結合によりデータ麹にのっても、
その雑音成分Fi双方のデータ@に等しく現われ、差動
@C)センスアンプ8ムによって相殺される。
ターロー万との間に納会される。各ワード縁WLi;j
双万のデータm吋と交差しているので、ワード@ILK
生じる雑音成分が静電結合によりデータ麹にのっても、
その雑音成分Fi双方のデータ@に等しく現われ、差動
@C)センスアンプ8ムによって相殺される。
特に1この実施ガでは、最も外胸の一対のデータi1に
おいても、ダミーデーpH1Iteける仁とによplす
べてのデータ1lIKついて、その−関d量’d(lの
合成容量が等しくでI!から、上記ワード線からのカッ
プリングノイズ及び基板バイアス亀EE−v、、のIR
#によるカップリングノイズを均一とすることができる
。しyttIgって、各センスアン18ムにおいて確実
に、上記カップリングノイズ會相殺させることができる
。
おいても、ダミーデーpH1Iteける仁とによplす
べてのデータ1lIKついて、その−関d量’d(lの
合成容量が等しくでI!から、上記ワード線からのカッ
プリングノイズ及び基板バイアス亀EE−v、、のIR
#によるカップリングノイズを均一とすることができる
。しyttIgって、各センスアン18ムにおいて確実
に、上記カップリングノイズ會相殺させることができる
。
相補データ1対DLI−、、DL、1の一方に@縫され
たメモリセルが遣択された揚台、他方のデータi!Il
l#cは必ずダイ−セルか結合されるよう1対のダミー
ワード”1iDWLt 、 、 I)WLI m
の一方か選択される。
たメモリセルが遣択された揚台、他方のデータi!Il
l#cは必ずダイ−セルか結合されるよう1対のダミー
ワード”1iDWLt 、 、 I)WLI m
の一方か選択される。
センス・アンプの動作
このセンス・アンプaA−は1対の交差結合されたM工
!I FIT Q、、I Q、、 t[シ、それらの正
帰還作用により、倣少な信号1mm的に増幅する。この
止瘤遺−作はMIilFm?+4□、がタイミング信号
(センスアンプ制御信号)φ1□によってS過し始める
と同時に開始され、アドレシング時に与えられた電位差
にもとづ龜、高い万のデーーー電位(V、)鉱遥い遥腹
て低い万のそれ(V、)は達い違皺で共にその量か広か
9ながら下降していく。こうしてvlが交差結合MIa
Fm!のしきい値電圧V、hK下降したとき正帰還動作
か終了し、v、の下降はvo。より小さくvTh よ
り大きい電位に留まると共和、vlは最終的VcdOV
K到達する。
!I FIT Q、、I Q、、 t[シ、それらの正
帰還作用により、倣少な信号1mm的に増幅する。この
止瘤遺−作はMIilFm?+4□、がタイミング信号
(センスアンプ制御信号)φ1□によってS過し始める
と同時に開始され、アドレシング時に与えられた電位差
にもとづ龜、高い万のデーーー電位(V、)鉱遥い遥腹
て低い万のそれ(V、)は達い違皺で共にその量か広か
9ながら下降していく。こうしてvlが交差結合MIa
Fm!のしきい値電圧V、hK下降したとき正帰還動作
か終了し、v、の下降はvo。より小さくvTh よ
り大きい電位に留まると共和、vlは最終的VcdOV
K到達する。
アドレッシングの際、一旦破壊されたメモリセルの記憶
情報は、このセンス動作によって得られ7tvIもしく
はvLの電位會そのまま受は域ることによって開俵する
(再書き込みされる)。
情報は、このセンス動作によって得られ7tvIもしく
はvLの電位會そのまま受は域ることによって開俵する
(再書き込みされる)。
論m’t’レベルの補償
しかしながら、vIがvo。に対して一足以上落ち込む
と、何回か読み出し、再書き込み【繰り返しているうち
に論理%□lとして読み取られるところの誤動作が生じ
る。この誤動作を防ぐために設けられたのがアタティプ
リスト7回路ムR・であり、このムR,は、V、に対し
ては何らの影4I【与えずvIのみ管選択的Kv0゜の
電位にブーストする働1&がある。OjI■及び0sl
Fi図向左憫の端子に印加畜れる電圧に応じてその静電
容量か変化するM工aH可度移量累子であり、論理的に
はし暑い線電圧vth t−基準として高い電圧でキャ
パシタができ、低い万の電圧で中ヤパンタかできないと
理解されたい。
と、何回か読み出し、再書き込み【繰り返しているうち
に論理%□lとして読み取られるところの誤動作が生じ
る。この誤動作を防ぐために設けられたのがアタティプ
リスト7回路ムR・であり、このムR,は、V、に対し
ては何らの影4I【与えずvIのみ管選択的Kv0゜の
電位にブーストする働1&がある。OjI■及び0sl
Fi図向左憫の端子に印加畜れる電圧に応じてその静電
容量か変化するM工aH可度移量累子であり、論理的に
はし暑い線電圧vth t−基準として高い電圧でキャ
パシタができ、低い万の電圧で中ヤパンタかできないと
理解されたい。
タイミング信号(アクティブリストア制御信号)φ K
よってMIilFITQ 、Q か導通rg
aa
asしたとき、v8の電位KhるデータSに属する可賞
容量累子0.が充電され、次にタイ2ング傭号(アクテ
ィブリストア制御信号)φr、かハイレベルになったと
きそのデータ1lKJIするwxayya”Qll又は
Qa?のゲート電位かvo。より充分高くなpvHの電
位はvo。に回復される。仁の場合、qam ’ Ql
l7 の電力損失會小さくするためそれヤれのV□ri
★即のないMIliPl’rに比べ小さく設計されてい
る。
よってMIilFITQ 、Q か導通rg
aa
asしたとき、v8の電位KhるデータSに属する可賞
容量累子0.が充電され、次にタイ2ング傭号(アクテ
ィブリストア制御信号)φr、かハイレベルになったと
きそのデータ1lKJIするwxayya”Qll又は
Qa?のゲート電位かvo。より充分高くなpvHの電
位はvo。に回復される。仁の場合、qam ’ Ql
l7 の電力損失會小さくするためそれヤれのV□ri
★即のないMIliPl’rに比べ小さく設計されてい
る。
絖み出し動作
プリチャージ期間
φ2゜かハイレベルのと*(Vo。より鳥い)M工81
FITQg1.q#m が勢通し、相補データ一対DL
、 、 、 DL、−の浮遊容量OoかWooに予光
電される。仁のと龜MXB1?11TQ□4同時にII
#通するので、’1m m Qll Kよる予充111
Kアンバランスが生じても相補データII N D L
t−+ +DL、−,は短絡され同電位の条件に設定
される。
FITQg1.q#m が勢通し、相補データ一対DL
、 、 、 DL、−の浮遊容量OoかWooに予光
電される。仁のと龜MXB1?11TQ□4同時にII
#通するので、’1m m Qll Kよる予充111
Kアンバランスが生じても相補データII N D L
t−+ +DL、−,は短絡され同電位の条件に設定
される。
M工EIFIITQ、、からQa、nそれぞれのソース
・ドレイン関に電圧損失が生じないよう肴印のないM工
8FIllTK比べvrhが低く設定されている。
・ドレイン関に電圧損失が生じないよう肴印のないM工
8FIllTK比べvrhが低く設定されている。
仁のときタイミング信号(ディスチャージ制御信号)φ
4゜KよってMX日ν罵!(、が導通しダミーセルD−
011L4同様に所定の状勝にリセットされる。
4゜KよってMX日ν罵!(、が導通しダミーセルD−
011L4同様に所定の状勝にリセットされる。
ロウアドレス期間
タイミング信号(アドレスバッファ制御信号)φ のタ
イ2ングでアドレスバラファムDBからム1 供給されたロウアドレス信号ム、1ないしA1は。
イ2ングでアドレスバラファムDBからム1 供給されたロウアドレス信号ム、1ないしA1は。
aつ・カツム゛デコーダRO−DORKよってデコード
(解読)されワード線制御信号φ工の立上9と同時にメ
モリ・セルM−oIL及びダオーセルD−OWLの7ド
レツシングが開始される。
(解読)されワード線制御信号φ工の立上9と同時にメ
モリ・セルM−oIL及びダオーセルD−OWLの7ド
レツシングが開始される。
−ζ′その結果、相補デー111吋DLl−1,DIl
l−10関には前述し尺通〕メ篭り一々息の記憶内!!
に−とづ自はぼΔv、/2の電圧差か生じる。
l−10関には前述し尺通〕メ篭り一々息の記憶内!!
に−とづ自はぼΔv、/2の電圧差か生じる。
センシンク
タイミング1号(七ンスアンプ制御信号)φア、により
MI!iFl’rQ、、、が導通し始めると同WIIV
Cセンスアンプ8ム鑞は正帰me作を開始し、アドレス
時に生じたΔV、/Zの検出偏号を増幅する。増幅動作
かは埋完了したのち、タイミング備考(アクティブリス
トア制御信号)φr、に同期して前述したアタテイプリ
スト7回路ムR#か論理tlJのレベルtv0゜に回復
する。
MI!iFl’rQ、、、が導通し始めると同WIIV
Cセンスアンプ8ム鑞は正帰me作を開始し、アドレス
時に生じたΔV、/Zの検出偏号を増幅する。増幅動作
かは埋完了したのち、タイミング備考(アクティブリス
トア制御信号)φr、に同期して前述したアタテイプリ
スト7回路ムR#か論理tlJのレベルtv0゜に回復
する。
データ出カー作
タイ2ング傷号(アドレスバッファ制御信号)φ、。K
同期してアドレスパラファムDBから送られてきたカラ
ムアドレス信号ム1+烏ないしムjはロウ・カラムデコ
ーダRO−DORで解読され、次いでタイぎンダ慣号(
カラムスイッチ制御信号)φYKよって選択されたカラ
ムアドレスにおけるメモリセルM−OWLの記憶情報が
カラムスイッチ0−8W農を介してコモンデータkOD
L1.ODL。
同期してアドレスパラファムDBから送られてきたカラ
ムアドレス信号ム1+烏ないしムjはロウ・カラムデコ
ーダRO−DORで解読され、次いでタイぎンダ慣号(
カラムスイッチ制御信号)φYKよって選択されたカラ
ムアドレスにおけるメモリセルM−OWLの記憶情報が
カラムスイッチ0−8W農を介してコモンデータkOD
L1.ODL。
K伝−Im逼れる。
次にタイミング信号(データ出力バツ7ア及びメインア
ンプ制御信号)φ。、によってメインアンプ・データ出
力バッファ0ム&D01か動作し、読み取った記憶情報
がチップの出力端子り。utK送り出される。なおこの
0ム&DOIlは書き込み時にはタイ電ング信号(デー
タ出力バッファ制御信号)−IIVにより不動作にされ
る。
ンプ制御信号)φ。、によってメインアンプ・データ出
力バッファ0ム&D01か動作し、読み取った記憶情報
がチップの出力端子り。utK送り出される。なおこの
0ム&DOIlは書き込み時にはタイ電ング信号(デー
タ出力バッファ制御信号)−IIVにより不動作にされ
る。
書き込み動作
aウアドレッシング期間
プリチャージ、アト・レッシング、センシンク動作は前
述の読み出し動作と食〈同じである。従って相補データ
iI吋DLI−,,DL、−一には入力書き込み情報”
inの論理値にか盲わず本来書き込み【行なうべきメモ
リセルの記憶情報か絖み出される。との読み出し情報は
後述の書き込み動作によって無視されることに&つでい
るのでここまでの動作は実質的にはロウアドレスの選択
か行なわれていると考えてよい。
述の読み出し動作と食〈同じである。従って相補データ
iI吋DLI−,,DL、−一には入力書き込み情報”
inの論理値にか盲わず本来書き込み【行なうべきメモ
リセルの記憶情報か絖み出される。との読み出し情報は
後述の書き込み動作によって無視されることに&つでい
るのでここまでの動作は実質的にはロウアドレスの選択
か行なわれていると考えてよい。
書き込み期間
読み出し動作と同機タインアンプ(カラムスイッチ制御
信号)φxKM期して選択されたカツムに位置するデー
タ線対”I l * D恥−一がカラムスイッチ0−
8ftk介してコモンデーター−0DL、、0DLIK
結合される。
信号)φxKM期して選択されたカツムに位置するデー
タ線対”I l * D恥−一がカラムスイッチ0−
8ftk介してコモンデーター−0DL、、0DLIK
結合される。
次にタイミング信号(データ入カバツ77制御傭号)−
my’同期してデータ入力バッファDよりから供給され
る相補書虐込み入力信号d、冨弓;かカラムスイッチo
−sw、に介してメモリ・セルM−ORLK@@込まれ
る。このとき、センスアンプ8ム・も−作しているかデ
ータ入力バッファDIR(2)出力インピーダンスか低
いので、カラムデータ崖対DLs−s r DLI
HK境ゎれる情報は人力D1nの情報によって決定され
る。
my’同期してデータ入力バッファDよりから供給され
る相補書虐込み入力信号d、冨弓;かカラムスイッチo
−sw、に介してメモリ・セルM−ORLK@@込まれ
る。このとき、センスアンプ8ム・も−作しているかデ
ータ入力バッファDIR(2)出力インピーダンスか低
いので、カラムデータ崖対DLs−s r DLI
HK境ゎれる情報は人力D1nの情報によって決定され
る。
リフレツシエ動作
リフレツシエ竺メモリセルM−01LK記lされた失な
われつつある情報【一旦カツム共通データーDLK貌み
出し、−み出した情報を七ンスアングJ3A、[ひにア
クティブリストア回路ムR,に1って1傷したレベルに
して貴び動電すセル舅−0NLK@@込むことによって
行なわれる。従ってリアレツシエの動作は絖み出し動作
でm明したツシングないしセンシング期 間の動作と同様である。ただしこの場瞼、カラムスイッ
チa−SW・は不動作にして金力2ム同時にゆっ各。つ
順番えリレ、ツ、−8行なわれ、。
われつつある情報【一旦カツム共通データーDLK貌み
出し、−み出した情報を七ンスアングJ3A、[ひにア
クティブリストア回路ムR,に1って1傷したレベルに
して貴び動電すセル舅−0NLK@@込むことによって
行なわれる。従ってリアレツシエの動作は絖み出し動作
でm明したツシングないしセンシング期 間の動作と同様である。ただしこの場瞼、カラムスイッ
チa−SW・は不動作にして金力2ム同時にゆっ各。つ
順番えリレ、ツ、−8行なわれ、。
°纂2D図には、他の要部−実施内のブロック図が示さ
れて−る。
れて−る。
この実施内では、上記11E2ム図の実施例と異なり、
上記メそリアレイにおける最も外囲のデータ11D−L
t−t * DL鳳−n O外−に設けられるダミーデ
ータ@DDL儂−,,DDL・−■のようにそれぞれ1
本で構成されている。これKより、各データ縁について
合成線間容量を少ないダミーデータ−で尋しくしている
。また、上記ダミーデータ練DDLl−,、DDL、I
−、Kri、II2ム図のダミーデータ巌DDL+−s
及びDDLI−s と同様にメモリセルMツチ用MO8
)ラレジスタQIIQI−巌絖され、センスアンプを構
成する回路素子の一部で構成されたダミーセンスアンプ
D8Aが接続されている。
上記メそリアレイにおける最も外囲のデータ11D−L
t−t * DL鳳−n O外−に設けられるダミーデ
ータ@DDL儂−,,DDL・−■のようにそれぞれ1
本で構成されている。これKより、各データ縁について
合成線間容量を少ないダミーデータ−で尋しくしている
。また、上記ダミーデータ練DDLl−,、DDL、I
−、Kri、II2ム図のダミーデータ巌DDL+−s
及びDDLI−s と同様にメモリセルMツチ用MO8
)ラレジスタQIIQI−巌絖され、センスアンプを構
成する回路素子の一部で構成されたダミーセンスアンプ
D8Aが接続されている。
これにより2〆Z−データIIIDDLII−t r
DDLt −sの寄生容量0゜を他のデータ層のそれと
等しくしている。
DDLt −sの寄生容量0゜を他のデータ層のそれと
等しくしている。
上記ダミーデータ*DDL+−I、DDL+−sは。
上記最も外−のデータ1llDL+−1r DL+−n
Kおけ”るデータ線容量量を他のデータ1liKお
けるデーター関谷量と勢しく20.、とするために設け
られるものであり、ダミーデータil DDL・−・、
’DDLI−aの情報が続出される必1!はない。した
がってダミーデータaiFi、コモンデータ巌CtDL
l 、 0DLlに接続されていない。
Kおけ”るデータ線容量量を他のデータ1liKお
けるデーター関谷量と勢しく20.、とするために設け
られるものであり、ダミーデータil DDL・−・、
’DDLI−aの情報が続出される必1!はない。した
がってダミーデータaiFi、コモンデータ巌CtDL
l 、 0DLlに接続されていない。
112IC図には、その發部具体的−実施例の回路図か
示されている。この−施胸では、ダイーデーターDDL
t−urll続される上記ダi−センスアンプDIiム
の一路構成が異体的に示されている。
示されている。この−施胸では、ダイーデーターDDL
t−urll続される上記ダi−センスアンプDIiム
の一路構成が異体的に示されている。
丁なわち、差動蓋七ンスアングSムを構成する回路菓子
のうち、一本のデータ縁と!I続畜れる回Ili!I素
子によって、ダミーセンスアンプD8ムが構成されてい
る。し7tかつて、ダミーセンスアンプD a A’
u %上記差動llll−にンスアンプ日ムの約手分の
一路素子で構成されることになる。 −この実施
例回路の動作は、前記第2B及び纂2Oat参照して説
明したものと同様であるので、その説@を省略する。
のうち、一本のデータ縁と!I続畜れる回Ili!I素
子によって、ダミーセンスアンプD8ムが構成されてい
る。し7tかつて、ダミーセンスアンプD a A’
u %上記差動llll−にンスアンプ日ムの約手分の
一路素子で構成されることになる。 −この実施
例回路の動作は、前記第2B及び纂2Oat参照して説
明したものと同様であるので、その説@を省略する。
第3ム図は、約′64にビットのメ篭りセルV。
それぞれ口1列(ロウ)X256行(カラム)−32,
768ビツト(32にビット)の記憶容11に持つ2つ
のメモリセルマトリタス(メモリアレイM−ムR1協9
M−ム!IY、)K分けて配列したD−RAM−路構成
図【示している。この図における主要なブロックit実
際の幾何学的な配置に会わせて描かれている。
768ビツト(32にビット)の記憶容11に持つ2つ
のメモリセルマトリタス(メモリアレイM−ムR1協9
M−ム!IY、)K分けて配列したD−RAM−路構成
図【示している。この図における主要なブロックit実
際の幾何学的な配置に会わせて描かれている。
各メモリアレイM−ムRYI、M−ムity、ooつ系
のアドレス選択II(ワードIIWII)Kは、ロウア
ドレス信号ム0〜ム−K IIII−jv%て得られる
2″麿128通pのデコード出力信号が、各ロウデコー
ダ(兼ワードドツィ/()R−DOR,、R−DORI
よp印加される。
のアドレス選択II(ワードIIWII)Kは、ロウア
ドレス信号ム0〜ム−K IIII−jv%て得られる
2″麿128通pのデコード出力信号が、各ロウデコー
ダ(兼ワードドツィ/()R−DOR,、R−DORI
よp印加される。
力9 A f :s−ダ0−DORは、カラムアドレス
信号ム會〜ムIiK基づいて128通りのデコード出力
信号を提供する。このカッム遇択用デコード出力信号は
、左右のメモリアレイ並びに各メモリアレイ内の祷り会
う上下のカラムに対して、すなわちf!rI″i4つの
カラムに対して共通である。
信号ム會〜ムIiK基づいて128通りのデコード出力
信号を提供する。このカッム遇択用デコード出力信号は
、左右のメモリアレイ並びに各メモリアレイ内の祷り会
う上下のカラムに対して、すなわちf!rI″i4つの
カラムに対して共通である。
これら4つのカラムのうちいずれか1)t−選択するた
めに1アドレス信号ム1およびム―か割り当てらhる。
めに1アドレス信号ム1およびム―か割り当てらhる。
丙えばム1#′i左右の選択、ムmld上下の選択K1
1llN)当てられる。
1llN)当てられる。
アドレス信号ム1 、ムa K2Tiづいて4通りの組
み曾せに解読するのかφア1jJfr!i号発生回路φ
y1j−8G″′Cあり、その出力信号≠7゜0.φア
。1゜φア1..φア、に基づいてカラムを切り換える
のがカラムスイッチセレクタ08W −s、 、 os
w −s。
み曾せに解読するのかφア1jJfr!i号発生回路φ
y1j−8G″′Cあり、その出力信号≠7゜0.φア
。1゜φア1..φア、に基づいてカラムを切り換える
のがカラムスイッチセレクタ08W −s、 、 os
w −s。
でめる。
このように、メモリアレイのカラムを選択するためのデ
コーダは、カラムデコーダ0−DORをよびカラムスイ
ッチセレクタosw −al 、 osw−!■の2段
に分割される。デスーダt−2段に分割し7tねらいは
、筐ずIEIK、工0チッグ内で無駄な空白部分か生じ
ないようにすることにある。っ箇9、カラムデコーダ0
−DORの左右一対の出力信号iIt担う比較的大きな
面横倉有するNORゲートの縦方向の配列間隔(ピッチ
)倉、メモリセルのカラム配列ピッチに会わせることK
ある。
コーダは、カラムデコーダ0−DORをよびカラムスイ
ッチセレクタosw −al 、 osw−!■の2段
に分割される。デスーダt−2段に分割し7tねらいは
、筐ずIEIK、工0チッグ内で無駄な空白部分か生じ
ないようにすることにある。っ箇9、カラムデコーダ0
−DORの左右一対の出力信号iIt担う比較的大きな
面横倉有するNORゲートの縦方向の配列間隔(ピッチ
)倉、メモリセルのカラム配列ピッチに会わせることK
ある。
すなわち、デコーダを2段に分割することrcよって、
前記NORゲート管構成するトランジスタの数が低減さ
れ、その占有面積を小さくできる。
前記NORゲート管構成するトランジスタの数が低減さ
れ、その占有面積を小さくできる。
デコーダ12段に分割しfe第゛2のねらいは、1つの
アドレス信号庫に接続される前記NORゲートの数tm
少させることにより、1つのアドレス信号線の有する負
荷?@<L、スイッチングスピードを向上畜せることに
ある。
アドレス信号庫に接続される前記NORゲートの数tm
少させることにより、1つのアドレス信号線の有する負
荷?@<L、スイッチングスピードを向上畜せることに
ある。
アドレスバツファムDBFi、マルチプレクスちれたそ
れぞれ8つの外部アドレス信号ムロ−11g台−〜ムl
1t−bそれぞれ811I類O相補対アドレス信号(a
・、i「)〜(at + lL7 ) : (as *
as )〜(aH,a+s)に加工し、工0チッグ内
の動作に会わせたタイiングφAR,,lφ、。でデコ
ーダ回路に送出する。
れぞれ8つの外部アドレス信号ムロ−11g台−〜ムl
1t−bそれぞれ811I類O相補対アドレス信号(a
・、i「)〜(at + lL7 ) : (as *
as )〜(aH,a+s)に加工し、工0チッグ内
の動作に会わせたタイiングφAR,,lφ、。でデコ
ーダ回路に送出する。
この実施例において、メモリアレイM−ムRY。
及びM−ムR1愈の最も外部、首い換えれば最上卸及び
歳大部にそれヤれダt−データl1lDDL菖−1゜D
DL、−嘗、DDLI−錫、DDL、l及びカフムスイ
ッチ用MO8)ランジスタQ+ r Qs + Q
m + Q4が設けられている。
歳大部にそれヤれダt−データl1lDDL菖−1゜D
DL、−嘗、DDLI−錫、DDL、l及びカフムスイ
ッチ用MO8)ランジスタQ+ r Qs + Q
m + Q4が設けられている。
2マット方式64に−D−RAMKおけるアドレス設定
過櫓の回路動作【、第3ム図、第3B図に従って貌明す
る。
過櫓の回路動作【、第3ム図、第3B図に従って貌明す
る。
一1tcIつ糸のアドレスバッファ制御信号−Allか
ハイレベルに立上るととによって、ロウアドレス傷号ム
・〜ム・に対応した7棟−の相補対ロウアドレス信号(
aslms)〜(1・、a−)か、アドレスバラファム
DBからロウア、ドレス1lR−ムDLt弁して口中デ
コーダR−DOR,、R−DOR,に印加される。
ハイレベルに立上るととによって、ロウアドレス傷号ム
・〜ム・に対応した7棟−の相補対ロウアドレス信号(
aslms)〜(1・、a−)か、アドレスバラファム
DBからロウア、ドレス1lR−ムDLt弁して口中デ
コーダR−DOR,、R−DOR,に印加される。
次にワード−制御信号φ!が71イレベルに立上ること
によって、口中デコーダ’R−DOR,、R−DOR,
がアクティブとな9、各メモリアレイ舅−ムRY暑2M
−ムR1■のワード@IWLのうちそれぞれ1本つつか
選択され、ハイレベルにされる。
によって、口中デコーダ’R−DOR,、R−DOR,
がアクティブとな9、各メモリアレイ舅−ムRY暑2M
−ムR1■のワード@IWLのうちそれぞれ1本つつか
選択され、ハイレベルにされる。
次にカラム糸のアドレスバッファll1iJ@411号
φ、。
φ、。
がハイレベルに立上ることによって、カラムアドレス信
号A・〜ムIIK対応した7檀類の相補対カラムアドレ
ス信号(as a as )〜(1L181 all
)かアドレスパラファムDBからカラムアドレス−0−
ムDL會介してカラムデコーダ0−DORに印加される
。
号A・〜ムIIK対応した7檀類の相補対カラムアドレ
ス信号(as a as )〜(1L181 all
)かアドレスパラファムDBからカラムアドレス−0−
ムDL會介してカラムデコーダ0−DORに印加される
。
との結果カラムデコーダ0−DORの128対の出力信
号銀のうち1対かハイレベルとなり、こノハイレベル信
号が力2ムスイッチセレクタcsW−8易 、、osw
−saに印加される。
号銀のうち1対かハイレベルとなり、こノハイレベル信
号が力2ムスイッチセレクタcsW−8易 、、osw
−saに印加される。
次にカラムスイッチ制御信号φ1かハイレベルに立上る
と、φ71j信号発生回路φアij 8Gか動作可能と
なる。
と、φ71j信号発生回路φアij 8Gか動作可能と
なる。
一方、すでにアドレス信号ム!に吋応した相輛対傷号(
at l ay )はアドレスバッファ制御信号φ、R
かハイレベルになったとIK、’*たアドレス信号ムs
K対応した相補対tr号(a@+am)はアドレスバッ
ファ制御信号φ、。がハイレベルになりたときに、それ
ぞれφyij信号発生all路φy1.−8GjlC即
加されている。従って力2ムスイッチ制lul!≠1か
ノ曳イレベルになると、これとほぼ同時c#ytj信号
発生回路φ7l−8Gはカラムス(ツf* し1 fi
081− B、 、 08W −BIVC傷号を送出
する。
at l ay )はアドレスバッファ制御信号φ、R
かハイレベルになったとIK、’*たアドレス信号ムs
K対応した相補対tr号(a@+am)はアドレスバッ
ファ制御信号φ、。がハイレベルになりたときに、それ
ぞれφyij信号発生all路φy1.−8GjlC即
加されている。従って力2ムスイッチ制lul!≠1か
ノ曳イレベルになると、これとほぼ同時c#ytj信号
発生回路φ7l−8Gはカラムス(ツf* し1 fi
081− B、 、 08W −BIVC傷号を送出
する。
このようにして、カラムスイッチQ−1iWl、0−a
m、における会計512のトランジスタ対のうち一対が
選択され、メモリアレイ内の一対のデータ#pLがコ峰
ンデー/1lOD、bK接続される。
m、における会計512のトランジスタ対のうち一対が
選択され、メモリアレイ内の一対のデータ#pLがコ峰
ンデー/1lOD、bK接続される。
1g21図及び!1!2B!glの実施例に従ったメモ
リアレイM−ムR1およびダミー7レイD−ムRYのレ
イアウトパターン1114ム−KOEって説明する。
リアレイM−ムR1およびダミー7レイD−ムRYのレ
イアウトパターン1114ム−KOEって説明する。
II4ム図に示すメモリアレイM−ムRYはメモリセル
M−01Lの複数儂か半導体基板IK配列されたもので
ある。−万、IIK4ムfgK示すダミー7レイD−ム
R1はff−セルD−cIeIJの値数−か牛IJI体
基板IK配列iれたものである。
M−01Lの複数儂か半導体基板IK配列されたもので
ある。−万、IIK4ムfgK示すダミー7レイD−ム
R1はff−セルD−cIeIJの値数−か牛IJI体
基板IK配列iれたものである。
箇ず、第4ム図に示すメモリアレイM−ムRYは以下の
ように構成されている。
ように構成されている。
半導体基板10表中でMI8シ1テQ、と記憶用キャパ
シタO,から構成された複数のメモリセルM −01L
ftlJt−互イに分離fる7’tめ、フィールド絶縁
glL2が緋5図に示したパターンを基本として形成さ
れている。
シタO,から構成された複数のメモリセルM −01L
ftlJt−互イに分離fる7’tめ、フィールド絶縁
glL2が緋5図に示したパターンを基本として形成さ
れている。
このような基本パターンルールと異なって、第1多結晶
シリコン層6Kt源電圧v0゜を印加するためのコンタ
クトホールOH,の′下sKフィー彫ド絶縁1!2mが
ガ外的に配置されている。従って、このコンタクトホー
ルOH・付近でのアルミニウム層と多結晶シリコン層と
の相互反応に基づいて形成されるアルミ・シリコン合金
がコンタクトホールOH・直下の絶縁at−貫通し亭都
体基&1の表向に不所望に到達するという事故を防止す
ることができる。
シリコン層6Kt源電圧v0゜を印加するためのコンタ
クトホールOH,の′下sKフィー彫ド絶縁1!2mが
ガ外的に配置されている。従って、このコンタクトホー
ルOH・付近でのアルミニウム層と多結晶シリコン層と
の相互反応に基づいて形成されるアルミ・シリコン合金
がコンタクトホールOH・直下の絶縁at−貫通し亭都
体基&1の表向に不所望に到達するという事故を防止す
ることができる。
このフィールド絶縁換2およびゲート絶縁膜3上にはメ
モリセルM−OWL中の記憶用キャパシタ0.の−芳の
亀−として使用する纂l多結晶シリコン層6が纂6図に
示したパターンを基本として形成されている。
モリセルM−OWL中の記憶用キャパシタ0.の−芳の
亀−として使用する纂l多結晶シリコン層6が纂6図に
示したパターンを基本として形成されている。
嘔らに、1Il)!lk晶シリコン層6上には第4ム図
のたて方向に沿って第2多結晶シリコン層8によって形
成されたところのワードII W L t−6〜wL、
−sか延びている。
のたて方向に沿って第2多結晶シリコン層8によって形
成されたところのワードII W L t−6〜wL、
−sか延びている。
さらに、上記記憶用キャパシタ0.0−電極としての多
結晶シリコン層6に上記コンタクトホールCH@を弁し
て電―電圧v0゜を供給するための1を一一給WMv0
o4が、第4ム図のよこ方向に延ひている。
結晶シリコン層6に上記コンタクトホールCH@を弁し
て電―電圧v0゜を供給するための1を一一給WMv0
o4が、第4ム図のよこ方向に延ひている。
一方、アルミニウム層10によって形成されたところの
ダミーデータ、@DI)L、 I2.DDLl、及び
データ騙DLI−1、DLI−tが、鉋憾ム図に示すよ
うに上起電―供給線v0゜−1とは埋平行に#gひてい
る。タ°i−データ巌DDLI−−は;ンタタトホール
OH,f介してメモリセルM−01L中の菖工5PIC
TQ のドレイン領域に飯続され、ダは−デ菖 一タ麿DDL、−はコンタクトホール0T1skfrし
て他(DI モリ*ルM −01L中のMI8FITQ
Mのドレイン領域KiI続塙れている。また、データw
DL1−1 * phi 1はメ電−データ1il
DD’L1−+ +DDL、−・とil!lIIIaK
mAム−のよこ方向に延び、所定の部分でコンタクトホ
ール會介してメモリセルM−01L中の菖工#PKTQ
、Mのドレ、イン@域KWIailれている。
ダミーデータ、@DI)L、 I2.DDLl、及び
データ騙DLI−1、DLI−tが、鉋憾ム図に示すよ
うに上起電―供給線v0゜−1とは埋平行に#gひてい
る。タ°i−データ巌DDLI−−は;ンタタトホール
OH,f介してメモリセルM−01L中の菖工5PIC
TQ のドレイン領域に飯続され、ダは−デ菖 一タ麿DDL、−はコンタクトホール0T1skfrし
て他(DI モリ*ルM −01L中のMI8FITQ
Mのドレイン領域KiI続塙れている。また、データw
DL1−1 * phi 1はメ電−データ1il
DD’L1−+ +DDL、−・とil!lIIIaK
mAム−のよこ方向に延び、所定の部分でコンタクトホ
ール會介してメモリセルM−01L中の菖工#PKTQ
、Mのドレ、イン@域KWIailれている。
次に、114ム図に示すダず−セルD−01CLは以下
のように構成されている。
のように構成されている。
半導体基板10!に面の一部分にはフィールド絶縁61
Bが形成され、半導体基板io鉄表面他の部分にはゲー
ト絶縁lI3か形成されている。
Bが形成され、半導体基板io鉄表面他の部分にはゲー
ト絶縁lI3か形成されている。
このフィールド絶ashおよびゲートlA縁−3上に第
4ム図に示すたて方向に沿って第1多結晶シリコン層1
5痺、151が互いに@聞して延びている。この纂!多
結晶シリコン層15a 、15bの−はダ2−セルD−
CtML中のキャパシタOd、の容量値を決定する上で
極めて重管である。この第1多紬蟲シリコン層15aと
all)結晶シリコン層tsbとの間にはC1牛導体働
域14か位置している。このN+型!P#i#体領域1
4は複数のダミーセルD−OWLの共通アースラインと
して使用される。
4ム図に示すたて方向に沿って第1多結晶シリコン層1
5痺、151が互いに@聞して延びている。この纂!多
結晶シリコン層15a 、15bの−はダ2−セルD−
CtML中のキャパシタOd、の容量値を決定する上で
極めて重管である。この第1多紬蟲シリコン層15aと
all)結晶シリコン層tsbとの間にはC1牛導体働
域14か位置している。このN+型!P#i#体領域1
4は複数のダミーセルD−OWLの共通アースラインと
して使用される。
さらに、allll多結晶シリコツja上[は@2多結
晶シリコンJ11によって形成されたところのダミーワ
ード*DWLt−6か延びている。このダミーワード@
jI)WLI利はダミーセルD−OWL中のMx s
y l T ta、、t>l −)Kl!tlll*L
テいる。−万、lll2BtjlJK示したディスチャ
ージ制御信号−4゜を印加するために第2多結晶シリコ
ン層によって形成されたところの制御信号−φ4゜−1
,かダミーワードIf)DWL+−+から離されるとと
もにこれと平行に延ひている。この制御信号−≠1゜−
いはダt−セルD−OWL中のMよりνN T tり、
のゲート電極を構成している。
晶シリコンJ11によって形成されたところのダミーワ
ード*DWLt−6か延びている。このダミーワード@
jI)WLI利はダミーセルD−OWL中のMx s
y l T ta、、t>l −)Kl!tlll*L
テいる。−万、lll2BtjlJK示したディスチャ
ージ制御信号−4゜を印加するために第2多結晶シリコ
ン層によって形成されたところの制御信号−φ4゜−1
,かダミーワードIf)DWL+−+から離されるとと
もにこれと平行に延ひている。この制御信号−≠1゜−
いはダt−セルD−OWL中のMよりνN T tり、
のゲート電極を構成している。
同様K、ダミーワード#DWL+−tおよび制御信号φ
と平行にダミーワード1kDWL+−雪おdo
−Ll よひ制伽信号縁φ が延びている。
と平行にダミーワード1kDWL+−雪おdo
−Ll よひ制伽信号縁φ が延びている。
do−ム■
そして、さらにダi−データーDDLI−儂、DDLl
−1gデータi1D岬−磨、DLI−か1114ム図
に示すようにメモリアレイ輩−ムR1から嬌びている。
−1gデータi1D岬−磨、DLI−か1114ム図
に示すようにメモリアレイ輩−ムR1から嬌びている。
DDLI−tはコンタクトホールO1l烏f介してダi
−−ktbD−011tOM18PKTQD、(i)ド
L/(ン懺域に@絖され、9石−一 4同嫌にコンタク
トホール0H4t−介して他のD−01L中のM工8P
ITQD、のドレイン1域KW!続されている。
−−ktbD−011tOM18PKTQD、(i)ド
L/(ン懺域に@絖され、9石−一 4同嫌にコンタク
トホール0H4t−介して他のD−01L中のM工8P
ITQD、のドレイン1域KW!続されている。
II?1lCFi、上記レイアウトパターンにおいて示
した切断@X5−X−で切断した場合の工OwT面構造
が示されている。
した切断@X5−X−で切断した場合の工OwT面構造
が示されている。
周辺回路、ガ見ば第21m1K示したセンスアン/’S
ムの一部のレイアウトパI−ンrl14B図に示す。
ムの一部のレイアウトパI−ンrl14B図に示す。
第4B図において、ムRはアクティブリストフ部、PO
Fiデータ麿プリチャージ用回wsmである。
Fiデータ麿プリチャージ用回wsmである。
アクティブリストア藝ムRKは1IZB図に示し次アク
ティブリストアムR,か2@配置されている。
ティブリストアムR,か2@配置されている。
すなわち、菖4B!!IIK示した矢印ム@に一つのア
クティブリストアか構成され、矢印B儒に他のアクティ
ブリストアが構jllれている。そして、このアクティ
ブリストア鄭ムR中にはそれぞれのアクティブリストア
に対して共通のアクティブリストア制御信号##yg−
y、、*φ1゜−L$Pよび電源電圧@V0゜−Lか1
14I1図に示すように配置されている。
クティブリストアか構成され、矢印B儒に他のアクティ
ブリストアが構jllれている。そして、このアクティ
ブリストア鄭ムR中にはそれぞれのアクティブリストア
に対して共通のアクティブリストア制御信号##yg−
y、、*φ1゜−L$Pよび電源電圧@V0゜−Lか1
14I1図に示すように配置されている。
一部、プリチャージ回路回路@POKは上記2個のアク
ティブリストアに吋応した2個のデータ融グリチャージ
用回路か配置されている。そして、このグリチャージ用
回路鄭PO中には亀位珈vDアー5.プリチャージ制作
信号蘇φ 、そ10−シ してII4ム図のメそリアレイM−ムRXK延びるり゛
t−データII DDIaトj # D DLj −4
及びデータ*DLl−1、DL、−・が′144B図に
ボすように配置されている。
ティブリストアに吋応した2個のデータ融グリチャージ
用回路か配置されている。そして、このグリチャージ用
回路鄭PO中には亀位珈vDアー5.プリチャージ制作
信号蘇φ 、そ10−シ してII4ム図のメそリアレイM−ムRXK延びるり゛
t−データII DDIaトj # D DLj −4
及びデータ*DLl−1、DL、−・が′144B図に
ボすように配置されている。
第2B図中のMエージ1!Q□〜嶋、およびキャパシタ
0JI11 ” !IIIか1E4B図に示すように配
rtsれる。
0JI11 ” !IIIか1E4B図に示すように配
rtsれる。
銅7図には、上記レイアウトパターンにシbて不シタ切
fljhXm −Xs 、 Is −Xs テ切断L
7を場合の工01r1ml構造が示されてiる。
fljhXm −Xs 、 Is −Xs テ切断L
7を場合の工01r1ml構造が示されてiる。
!40図KIIi、第2B図及び第21図の実施例K(
i[つたメモリアレイM−ムR1及びダぜ一7レイD−
ムRYのレイアウトパターン図が示されている。
i[つたメモリアレイM−ムR1及びダぜ一7レイD−
ムRYのレイアウトパターン図が示されている。
この爽m内での基本的レイアウトは、纂4ム図と同様で
ある。ただ、第2D図、纂21図の実施例では、1本の
ダミーデータ1IIIIDDLt−tでJll成される
こと虻伴ない、纂8本目からデーターDL、 。
ある。ただ、第2D図、纂21図の実施例では、1本の
ダミーデータ1IIIIDDLt−tでJll成される
こと虻伴ない、纂8本目からデーターDL、 。
が構成されている。
*4D図には、その周辺回路、ガ見ば誤21図に示した
ダイー竜ンスアンプD8ム、センスアンプaムの一部の
レイアウトパターン図が示逼れている。
ダイー竜ンスアンプD8ム、センスアンプaムの一部の
レイアウトパターン図が示逼れている。
この実施ガでは、fオーデーIIIかDDLI−1のよ
うに1本で構成されるのに伴ない、ダi−センスアンプ
D8ムのアクティブリストア部ムR及びプリチャージ回
路sPOか、第4B図のレイプラト又FilW1図のセ
ンスアンプBムに比べて、省略され、占44面積か小さ
くなって帆る。このことt除!、1I4B図のレイアウ
トと基本的には同様である。
うに1本で構成されるのに伴ない、ダi−センスアンプ
D8ムのアクティブリストア部ムR及びプリチャージ回
路sPOか、第4B図のレイプラト又FilW1図のセ
ンスアンプBムに比べて、省略され、占44面積か小さ
くなって帆る。このことt除!、1I4B図のレイアウ
トと基本的には同様である。
以上11明したこの実施ガによれは、拳も外−に配置さ
れるデータ@D石−1,DL、nの名らに外陶に同様な
ダi−デーメl1iIかI&けられるので。
れるデータ@D石−1,DL、nの名らに外陶に同様な
ダi−デーメl1iIかI&けられるので。
各データsについて、その會#IcI/1関容重f 2
c a aと等しくする仁とができる。したがって、
ワード−、ダイ−ワード―からのカップリングノイズ及
び基板バイアス電圧−V□の変動によるカップリングノ
イズか、−的のデータ1kfDLt−11DLt−+等
において等しく発生するために、 差@型センスアング
8ムによって、それぞれ相殺させることができる。
c a aと等しくする仁とができる。したがって、
ワード−、ダイ−ワード―からのカップリングノイズ及
び基板バイアス電圧−V□の変動によるカップリングノ
イズか、−的のデータ1kfDLt−11DLt−+等
において等しく発生するために、 差@型センスアング
8ムによって、それぞれ相殺させることができる。
これKより、センスアンプ8ムに入力される値小電圧が
上記カップリングノイズに影41されないから、誤動作
を防止でき、入力レベルマージンを大きくすることかで
きる。
上記カップリングノイズに影41されないから、誤動作
を防止でき、入力レベルマージンを大きくすることかで
きる。
さらに、メモリ容ttfiIl)trimビットのよう
に大きくする揚台において、この発明kjI用すること
により、可能な@pデーI−関の距at小塙くして、デ
ーター関容量0(lIiの容量−を大lくするものとし
てもその前述のような愚影善があられれない。したかつ
て、高密縦のメモリアレイ、首い換えれば、大メモリ移
量化には、仁の発明の技術′志想扛不町久のものとなる
。
に大きくする揚台において、この発明kjI用すること
により、可能な@pデーI−関の距at小塙くして、デ
ーター関容量0(lIiの容量−を大lくするものとし
てもその前述のような愚影善があられれない。したかつ
て、高密縦のメモリアレイ、首い換えれば、大メモリ移
量化には、仁の発明の技術′志想扛不町久のものとなる
。
この発明は、前記実施ガに限定畜れない。
メモリアレイの構成は、前記2マット方式のものの他、
例えば約64にビットのメモリセル會、128列(ロウ
)×64行(カラム) = 8192ピツ)(81ビツ
ト)の記tall量を持つ8つのメモリアレイM−ムR
Y、〜−に分けて配列し7t8マット方式等稙々変形で
きるものである。
例えば約64にビットのメモリセル會、128列(ロウ
)×64行(カラム) = 8192ピツ)(81ビツ
ト)の記tall量を持つ8つのメモリアレイM−ムR
Y、〜−に分けて配列し7t8マット方式等稙々変形で
きるものである。
また、ダイ−データ1Il0寄生答量C0#i、前記メ
モリ七^、ダi−*鳥、センスアンプに供え、これらと
等価な容量手段で#ILき換えるものとしてもよい。
モリ七^、ダi−*鳥、センスアンプに供え、これらと
等価な容量手段で#ILき換えるものとしてもよい。
図面01ll畢な説明
第1図は、従来技術の−IPIlを示すプロッタ図。
112ム胞は、この発明のIl!部−興施it’ll會
示すプロッタ図、第2D図は、その喪都具体的−笑論例
を示す回路図、1EZa図は、ヤのタイtング図、纂2
D1glは、他の11部−実施ガを示すプロッタ図。
示すプロッタ図、第2D図は、その喪都具体的−笑論例
を示す回路図、1EZa図は、ヤのタイtング図、纂2
D1glは、他の11部−実施ガを示すプロッタ図。
821図は、その簑部真体的−実施釣を示す回路図、a
aム図は、この発明の−*mht−示すD−81Mの−
ai*戚図、飢8B図は、そのタイミング−11部4ム
図は、メ篭すアレイM−ARY、ダi−アレイD−ムR
1の一実施?Ilt示すレイアウトパターン図、Il[
4BIIは、センスアンプSAの一部の一実施例を示す
レイアウトパターン図、第4C図は、メモリアレイ、ダ
ミーアレイの他の一実論ガ會示すレイアウトパターン図
、第4D図は、センスアンプ8ムの一部の他の一実mガ
を示すレイアウトパターン図、誕5図は、フィーみド絶
縁秦2の基本パターン図、謝6図は多結晶シリコン層6
0基本パターン園%属7図は第4ム、4B。
aム図は、この発明の−*mht−示すD−81Mの−
ai*戚図、飢8B図は、そのタイミング−11部4ム
図は、メ篭すアレイM−ARY、ダi−アレイD−ムR
1の一実施?Ilt示すレイアウトパターン図、Il[
4BIIは、センスアンプSAの一部の一実施例を示す
レイアウトパターン図、第4C図は、メモリアレイ、ダ
ミーアレイの他の一実論ガ會示すレイアウトパターン図
、第4D図は、センスアンプ8ムの一部の他の一実mガ
を示すレイアウトパターン図、誕5図は、フィーみド絶
縁秦2の基本パターン図、謝6図は多結晶シリコン層6
0基本パターン園%属7図は第4ム、4B。
4C図に示したレイアウトパターン上の切断−11XI
、X雪−Xg r Xg−Xgで切断した場曾の
IC断面構造を示す。
、X雪−Xg r Xg−Xgで切断した場曾の
IC断面構造を示す。
1・・・P型牛魯陣基板、2・・・フィールドIe縁−
53・・・ゲートi/8鰍−14,14・・・M[半導
体曽域、6・・・柩l多帖晶シリコン層、7・・・N@
表面反転層、8・・・纏2多結晶シリコン層、9・・・
P2O,1G・・・アルミニウム層。
53・・・ゲートi/8鰍−14,14・・・M[半導
体曽域、6・・・柩l多帖晶シリコン層、7・・・N@
表面反転層、8・・・纏2多結晶シリコン層、9・・・
P2O,1G・・・アルミニウム層。
第 1 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 2交点セル万式のメ彎すアレイsk有するD−R
AM集lR1gl路鉄置において、上記メモリアレイ鄭
の最も外t、=″配置された一端のデータ鱒の外−にダ
ミーデータ森tそれぞれ設けたことt物像とする集積回
路装置。 2、 上記ダミーデータiIIは、データーと同様にメ
モリセルが嶺lIcされるとともにワード−と交差して
いること七特徴とする特許請求の諸戸第1鷹記畝のD−
RムMJk#回路装置。 3、 上記ダは−データ―は、データーとul禄に2本
で栴成され、ダミー竜ンスアンプがiiI絖されている
こと1*愼とする特許請求の範囲第1又は纂2積記載の
D−RAM集検(ロ)路装置。 4、 上記ダミーデー!−は、1本で構成葛れるとと4
hK、1本のデータ*に接続されたセンスアンプ′km
威する一路素子と同様な蘭路木子が接続されていること
1411徴とする特許請求の範188に1又はsgm記
載のD−RAM集lll−絡装置。
Priority Applications (14)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56209397A JPS58111183A (ja) | 1981-12-25 | 1981-12-25 | ダイナミツクram集積回路装置 |
FR8218573A FR2519177B1 (fr) | 1981-12-25 | 1982-11-05 | Dispositif a circuits integres de memoire ram dynamique |
GB08232804A GB2112568B (en) | 1981-12-25 | 1982-11-17 | A dynamic ram integrated circuit device |
KR8205428A KR900007275B1 (ko) | 1981-12-25 | 1982-12-03 | 다이나믹(Dynamic) RAM 집적회로 장치 |
DE19823247538 DE3247538A1 (de) | 1981-12-25 | 1982-12-22 | Integrierte dynamische speicherschaltungsvorrichtung mit direktem zugriff |
US06/452,446 US4551820A (en) | 1981-12-25 | 1982-12-23 | Dynamic RAM integrated circuit device |
IT24991/82A IT1153915B (it) | 1981-12-25 | 1982-12-24 | Dispositivo a circuito integrato a ram dinamica |
GB08505714A GB2155239B (en) | 1981-12-25 | 1985-03-06 | A dynamic ram integrated circuit device |
SG881/87A SG88187G (en) | 1981-12-25 | 1987-10-12 | A dynamic ram integrated circuit device |
SG87487A SG87487G (en) | 1981-12-25 | 1987-10-12 | A dynamic ram integrated circuit device |
MY798/87A MY8700798A (en) | 1981-12-25 | 1987-12-30 | A dynamic ram integrated circuit device |
MY799/87A MY8700799A (en) | 1981-12-25 | 1987-12-30 | A dynamic ram integrated circuit device |
HK17/88A HK1788A (en) | 1981-12-25 | 1988-01-07 | A dynamic ram integrated circuit device |
HK18/88A HK1888A (en) | 1981-12-25 | 1988-01-07 | A dynamic ram integrated circuit device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56209397A JPS58111183A (ja) | 1981-12-25 | 1981-12-25 | ダイナミツクram集積回路装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58111183A true JPS58111183A (ja) | 1983-07-02 |
JPH0381233B2 JPH0381233B2 (ja) | 1991-12-27 |
Family
ID=16572215
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56209397A Granted JPS58111183A (ja) | 1981-12-25 | 1981-12-25 | ダイナミツクram集積回路装置 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4551820A (ja) |
JP (1) | JPS58111183A (ja) |
KR (1) | KR900007275B1 (ja) |
DE (1) | DE3247538A1 (ja) |
FR (1) | FR2519177B1 (ja) |
GB (2) | GB2112568B (ja) |
HK (2) | HK1788A (ja) |
IT (1) | IT1153915B (ja) |
MY (1) | MY8700799A (ja) |
SG (1) | SG88187G (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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- 1981-12-25 JP JP56209397A patent/JPS58111183A/ja active Granted
-
1982
- 1982-11-05 FR FR8218573A patent/FR2519177B1/fr not_active Expired
- 1982-11-17 GB GB08232804A patent/GB2112568B/en not_active Expired
- 1982-12-03 KR KR8205428A patent/KR900007275B1/ko not_active Expired
- 1982-12-22 DE DE19823247538 patent/DE3247538A1/de active Granted
- 1982-12-23 US US06/452,446 patent/US4551820A/en not_active Expired - Lifetime
- 1982-12-24 IT IT24991/82A patent/IT1153915B/it active
-
1985
- 1985-03-06 GB GB08505714A patent/GB2155239B/en not_active Expired
-
1987
- 1987-10-12 SG SG881/87A patent/SG88187G/en unknown
- 1987-12-30 MY MY799/87A patent/MY8700799A/xx unknown
-
1988
- 1988-01-07 HK HK17/88A patent/HK1788A/xx not_active IP Right Cessation
- 1988-01-07 HK HK18/88A patent/HK1888A/xx not_active IP Right Cessation
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DE3247538A1 (de) | 1983-08-04 |
IT1153915B (it) | 1987-01-21 |
MY8700799A (en) | 1987-12-31 |
US4551820A (en) | 1985-11-05 |
KR840003146A (ko) | 1984-08-13 |
GB2155239B (en) | 1986-02-26 |
GB2112568A (en) | 1983-07-20 |
HK1888A (en) | 1988-01-15 |
GB2155239A (en) | 1985-09-18 |
IT8224991A1 (it) | 1984-06-24 |
FR2519177A1 (fr) | 1983-07-01 |
SG88187G (en) | 1988-06-03 |
KR900007275B1 (ko) | 1990-10-06 |
IT8224991A0 (it) | 1982-12-24 |
JPH0381233B2 (ja) | 1991-12-27 |
GB2112568B (en) | 1986-02-26 |
FR2519177B1 (fr) | 1987-12-18 |
GB8505714D0 (en) | 1985-04-11 |
HK1788A (en) | 1988-01-15 |
DE3247538C2 (ja) | 1991-12-05 |
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