JPH11295683A - 電気光学装置およびその製造方法並びに投射型表示装置 - Google Patents
電気光学装置およびその製造方法並びに投射型表示装置Info
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Abstract
着を防止し、かつ、光源からの光の照射に起因する温度
上昇を抑え、表示品位の高い液晶装置、それを用いた投
射型表示装置、および電気光学装置の製造方法を提供す
る。 【解決手段】 液晶装置30では、アクティブマトリク
ス基板300の外面302には接着剤91によって第3
透明基板600が面接着されているので、アクティブマ
トリクス基板300の外面302に傷や塵が付くことが
ない。また、第3透明基板の外面922に傷や塵が付い
ても、このような傷や塵は投射画像に映し出されること
がない。尚、第3透明基板に遮光膜を形成することによ
り、ケース900の設計マージンを拡大できる。
Description
れを用いた投射型表示装置、および電気光学装置の製造
方法に関するものである。さらに詳しくは、2枚の基板
の内側に電気光学物質を配置し、その外面側の構造技
術、および当該構造の形成技術に関するものである。
画素電極および画素スイッチング用素子が形成されたア
クティブマトリクス基板300(第1透明基板)と、対
向電極が形成された対向基板400(第2透明基板)
と、アクティブマトリクス基板300と対向基板400
との間に配置された電気光学物質の一例として液晶LC
とから概ね構成されている。液晶LCは、アクティブマ
トリクス基板300と対向基板400との間のうち、シ
ール層80で区画された領域内に充填され、アクティブ
マトリクス基板300と対向基板400との間で配向状
態が画素毎に制御される。
ライトバルブとして用いた投射型液晶装置では、光源か
ら出射された光を集光光学系によって集光しながら電気
光学装置に導き、この光を電気光学装置で光変調するこ
とにより、所定の画像を拡大投射光学系によってスクリ
ーンなどの投射面に投射する。
置は通常、表示領域に対応する開口部が設けられた遮光
性のケースに実装されるが、表示領域の額縁(輪郭)
は、対向基板400にCr(クロム)等の遮光膜(以
下、周辺見切りと称す。)により規定されるのが一般的
である。即ち、プラスチック等から形成されるケース開
口部の端は、バリ等のために寸法精度を出し難いため
に、周辺見切りの幅によりケース開口部の設計マージン
を確保するようにしている。この技術によれば、表示領
域を正面から見て周辺見切りの幅内にケース開口部の端
が入るだけの精度でケース開口部を形成すれば、表示領
域がケース開口部の端に隠れたり、或いは周辺見切りの
外周側の表示領域を外れたパネル部分が開口部から見え
たりする不都合を回避できるのである。
電気光学装置において、アクティブマトリクス基板30
0の外面302または対向基板400の外面402は、
液晶LCからみてこれらの透明基板の厚さ分、たとえば
1mm程度しか離れていないため、液晶LCにフォーカ
ス状態にある光は、これらの透明基板の外面に付いた傷
や塵に対してもフォーカス状態にある。その結果、10
μm〜20μm程度の小さな傷や塵も投射画像に映し出
され、表示品位を低下させてしまう。
光が電気光学装置に照射されるため、アクティブマトリ
クス基板300や対向基板400ではこれらの基板が薄
い分だけ、局部的な温度上昇が起きやすい。このような
局部的に加熱された部分では、周囲との間で透過率が異
なり、表示品位を低下させてしまう。また、このような
温度上昇は液晶LCを劣化させる原因にもなる。
よび特開平9−113906号公報には、図17に示す
ように、接合材101を用いてアクティブマトリクス基
板300の外面302に空気層airを介して対向する
透明基板102を取付け、この透明基板102から放熱
することにより電気光学装置の温度上昇を抑えるととも
に、この透明基板102によってアクティブマトリクス
基板300の外面302に傷や塵が付くのを防止する構
成が提案されている。しかしながら、図17に示す構成
の電気光学装置では、アクティブマトリクス基板300
の外面302に空気層airを介して対向する透明基板
102を配置した分、アクティブマトリクス基板300
と空気層airとの界面、および空気層airと透明基
板102との界面が新たな反射界面として追加される結
果、界面反射が増えることになる。従って、図17に示
す構成の電気光学装置では、光量損失が増大し、投射画
像が暗くなるという新たな問題点が発生する。そこで、
アクティブマトリクス基板300の外面302、および
透明基板102の内面104に反射防止膜を真空蒸着し
ておけばよいが、かかる反射防止膜の形成は手間をかけ
て真空雰囲気中で行う必要があり、電気光学装置の製造
コストを著しく増大させてしまう。また、図17に示す
ようにアクティブマトリクス基板300の外面302に
透明基板102を配置しただけでは、やはりアクティブ
マトリクス基板300の外面302に塵が付くのを完全
に防止することができず、前記の表示品位の低下を完全
に防止することができない。
ば、防塵機能、デフォーカス機能及び放熱機能を低コス
トでバランス良く高めることができないという第1の問
題点がある。
は、パネルの小型化や微細化の要請、或いは限られたパ
ネル面における大表示領域の確保という要請が強いた
め、前述のように対向基板に設けられる周辺見切りの幅
を狭くする必要性が高まっている。更に、両基板を接着
剤により貼り合わせるためのシール領域が周辺見きりの
付近に存在するため、特に紫外線硬化樹脂からなる接着
剤を用いて両基板を接着する場合には、基板外面からの
紫外線照射を妨げないためにも、周辺見切りの幅を狭く
する必要性がある。これらの結果、前述のように周辺見
切りを用いてケース開口部の設計マージンを確保する技
術によれば、周辺見切りの幅を狭くするにつれて、ケー
ス開口部の設計マージンが減少してしまうという第2の
問題点がある。
電気光学装置をプロジェクタ等の投射型表示装置やバッ
クライト等を用いた透過型表示装置に用いると、特に周
辺見切りの幅を狭くした場合には、入射光や出射光の角
度によっては電気光学装置内に設けられた周辺回路や素
子等の表示影が出射光に混じってしまうという問題も生
じる。
問題点を解消することにあり、電気光学物質を配置する
2枚の透明基板の外面側の構造を改良することにより、
製造コストを著しく増大させることなく、電気光学装置
を挟持する透明基板への傷や塵の付着を防止し、かつ、
光源からの光の照射に起因する温度上昇を抑えることに
よって、表示品位の高い電気光学装置、並びにそれを用
いた投射型表示装置を提供することにある。
気光学装置を高い品質で製造することのできる電気光学
装置の製造方法を提供することにある。
の問題点を解消することにあり、塵等に対する防塵機能
及び塵や傷等に対するデフォーカス機能を高めつつ、ケ
ース開口部の設計マージンを拡大できる電気光学装置及
びそれを備えた投射型液晶装置を提供することにある。
め、本発明では、画素電極が形成された第1透明基板
と、対向電極が形成された第2透明基板と、該第2透明
基板と前記第1透明基板との間に配置された電気光学物
質とを有する電気光学装置において、前記第1透明基板
および前記第2透明基板のうちの少なくとも一方の透明
基板の外面には、該透明基板と略等しい屈折率を有する
接着剤によって当該透明基板と略等しい屈折率を有する
第3透明基板が面接着されていることを特徴とする。
ち、内面とは電気光学物質が位置する側の面を意味し、
外面とは電気光学物質が位置する側とは反対側の面を意
味する。
気光学物質を挟持しているため電気光学物質の近くに位
置することになる2枚の透明基板(第1および第2透明
基板)の外面には第3透明基板が面接着されているの
で、第1または第2透明基板の外面には傷や塵が付くこ
とがない。また、第3透明基板の外面を、この第3透明
基板の厚さに相当する距離だけ電気光学物質から遠ざけ
てあるので、第3透明基板の外面は常にデフォーカス状
態にある。それ故、第3透明基板の外面に傷や塵が付い
ても、このような傷や塵は投射画像に映し出されること
がないので、表示の品位が高い。
も、それが接着される透明基板と略等しい屈折率を有す
るので、この透明基板と接着剤の間、および接着剤と第
3透明基板の間には、反射界面が存在しないものと見做
すことができる。それ故、光源から導かれてきた光は、
効率よく電気光学装置を透過し、光量損失が極めて小さ
い。それ故、各透明基板と接着剤の界面に反射防止膜を
形成する必要がないので、製造コストの増大を抑えるこ
とができる。また、電気光学装置内での光の反射がない
ので、この反射光に起因するスイッチング素子の誤動作
が発生するおそれがないという利点もある。しかも、接
着剤は、それを塗布した第1または第2透明基板と略等
しい屈折率を有するので、電気光学装置の製造工程にお
いて第1または第2透明基板の外面に傷が付いたとして
も、このような傷は接着剤で埋められ、修復されること
になる。
有する分、熱容量が大きい。よって、電気光学装置では
温度上昇が小さく、かつ、局部的な温度上昇も起きない
ので、温度差に起因する透過率のばらつきや電気光学物
質の劣化を防止することができ、表示品位が向上する。
第1透明基板の外面に面接着される場合があり、このよ
うな場合には、当該第3透明基板および前記第2透明基
板のうちの少なくとも一方の透明基板の外面には、偏光
機能または反射防止機能を有する膜が積層されることが
ある。それとは逆に、前記第3透明基板は前記第2透明
基板の外面に面接着される場合があり、このような場合
には、当該第3透明基板および前記第1透明基板のうち
の少なくとも一方の透明基板の外面には、偏光機能また
は反射防止機能を有する膜が積層されることもある。さ
らには、前記第3透明基板は前記第1透明基板の外面お
よび前記第2透明基板の外面の双方に接着される場合が
あり、このような場合には、当該2枚の第3透明基板の
少なくとも一方の透明基板の外面には、偏光機能または
反射防止機能を有する膜が積層されることもある。
も弾性を有していることが好ましい。このように構成す
ると、接着剤を硬化させる際の応力を接着剤自身で吸収
することができ、透明基板に歪みなどが発生しない。具
体的には、硬化後の接着剤の針入度は60よりも大きく
90よりも小さい値であれば、応力を吸収することがで
きるとともに、透明基板の歪みの発生を防ぐことができ
る。また、接着剤の厚みも5〜30μmであるのが好ま
しい。即ち、接着剤の厚みは少なくとも5μm以上の厚
さがあれば基板に付着した傷を接着剤により隠すことが
できるとともに基板の歪みを吸収できる。
以下の紫外線を吸収または反射することが好ましい。ま
た、本発明は、前記反射防止膜が400nm以下の紫外
線を吸収または反射することが好ましい。
板が400nm以下の紫外線を吸収まはた反射する材質
であれば、電気光学装置に紫外線を取り込むことによる
電気光学物質あるいは配向膜へのダメージを防ぐことが
できる。また、反射防止膜も同様に、例えば紫外線を吸
収または反射する材質で構成すれば、電気光学装置に紫
外線を取り込むことによる電気光学物質あるいは配向膜
へのダメージを防ぐことができる。
いた傷や塵が表示品位を低下させることがないことか
ら、光源と、該光源から出射された光を集光しながら前
記電気光学装置に導く集光光学系と、当該電気光学装置
で光変調した光を投射面に拡大投射する拡大投射光学系
とを有する投射型表示装置に用いるのに適している。す
なわち、このタイプの電気光学装置は、画像が投射され
るので、透明基板に付いた傷や塵の影響で表示品位が低
下しやすいが、本発明を適用した電気光学装置を用いれ
ば、このような問題点を解消できる。また、投射型表示
装置では、光源からの光が強力であるが、本発明を適用
した電気光学装置を用いれば、このような強い光が照射
されても、温度上昇に起因する不具合が発生しない。
いて、前記第3透明基板を面接着する工程では、当該第
3透明基板の内面、および当該第3透明基板が面接着さ
れる透明基板の外面の双方に硬化前の前記接着剤を塗布
した後、これらの接着剤同士を最初の接触点として当該
2枚の透明基板を重ね合わせて当該接着剤を押し拡げ、
しかる後に当該接着剤を硬化させることが好ましい。
法において、前記第3透明基板を面接着する工程では、
当該第3透明基板と該第3透明基板が外面に面接着され
た透明基板との間隙のうち、前記接着剤が塗布される領
域の周囲を、部分的な途切れ部分を備えるシール材で囲
んだ後、該シール材で区画された領域内を減圧状態にし
て当該領域内に対して前記途切れ部分から硬化前の前記
接着剤を減圧注入し、しかる後に当該接着剤を硬化させ
ることが好ましい。
以上100℃以下の温度で2時間から5時間熱処理する
ことにより接着剤を確実に硬化させることができる。
気泡を残すことなく、第3透明基板を面接着することが
できる。
厚さを一定にするための固形ギャップ材が添加されてい
ることが好ましい。
成された第1透明基板と、該第1透明基板に対向配置さ
れた第2透明基板と、該第2透明基板と前記第1透明基
板との間に配置された電気光学物質と、前記第1及び第
2透明基板の少なくとも一方の透明基板の外面側に設け
られた第3透明基板と、該第3透明基板上の前記表示領
域の周辺部には第1遮光膜を備えることを特徴とする。
板が、第1及び第2透明基板の一方或いは両方の外面側
(即ち、電気光学物質に面する側と反対の側)に設けら
れているため、塵等に対する防塵機能が高められる。同
時に、第3透明基板の厚みに応じて、第3透明基板の表
面に付着した塵や傷等に対するデフォーカス機能が高め
られる。例えば、第3透明基板を厚くする程、デフォー
カス機能は高くなる。そして、第3透明基板上の表示領
域の周辺には第1遮光膜が設けられている。ここで、前
述した従来の電気光学装置に内蔵される周辺見切りの場
合とは異なり、第3透明基板には、当該第1遮光膜によ
る額縁を表示領域の周辺から当該第3透明基板の縁に至
るまで設けることができる。即ち、このように設けて
も、前述のように、シール領域において紫外線硬化樹脂
を硬化させるための紫外線照射の妨げにはならない。こ
のように第1遮光膜の幅を広く取ることができるため、
例えば第1遮光膜の幅の拡大に対応して、ケース開口部
の設計マージンを拡大できる。これらに加えて、第3透
明基板により電気光学装置全体としても熱容量を増加で
き、更に第2遮光膜の存在により、入射光による電気光
学装置内における温度上昇を抑制することもできる。更
にまた、このように第1遮光膜を備えているので、当該
電気光学装置を液晶プロジェクタ等の投射型表示装置や
バックライト等を用いた透過型表示装置に適用すれば、
電気光学装置の縁付近における遮光性能が高められてい
る結果、前述した電気光学装置内の周辺回路や素子の表
示影を防止することも繋がる。
前記表示領域の周辺から前記第3透明基板の縁に至る前
記表示領域を囲む領域に設けられていることが好まし
い。
は、表示領域の周辺から第3透明基板の縁に至る表示領
域を囲む領域に設けられているので、表示領域を狭める
ことなく、第3透明基板の面を最大限に利用して第1遮
光膜の幅を広げることができる。従って、電気光学装置
の縁付近における遮光性能が特に高められている結果、
前述した電気光学装置内の周辺回路や素子の表示影を防
止する効果も高まる。
板の一方に設けられており前記表示領域の周辺に第2遮
光膜を更に備えており、該第2遮光膜は、前記1及び第
2透明基間の設けられたシール材の形成領域に重ならな
いように、且つ前記シール材の形成領域よりも内側に設
けられていることを特徴とする。
2透明基板の一方に備えられた第2遮光膜は、前記1及
び第2透明基間の設けられたシール材の形成領域に重な
らないように、且つ前記シール材の形成領域よりも内側
に設けられている。従って、シール材と第2遮光膜との
間を介して、紫外線照射が可能となるので、紫外線硬化
樹脂を用いて両基板の縁付近を良好に接着することがで
きる。そして、このように第2遮光膜をこの透明基板の
縁に至るまで形成しなくても、第1遮光膜をこの透明基
板の縁に至るまで形成できるので、遮光性を高めること
ができる。
とも外面側は、OD(Optical Densit
y)値2以上の光反射膜から構成されていることが好ま
しい。
の少なくとも外面側(即ち、液晶に面する側と反対の
側)は、例えば、Al等の金属反射膜などのOD値2以
上の光反射膜から構成されている。このため、第1遮光
膜は遮光膜として機能すると共に、第3透明基板の外側
からの当該電気光学装置の周辺領域への入射光を反射す
る。従って、第3透明基板に第1遮光膜が設けられてい
ない場合と比較して、入射光による電気光学装置の温度
上昇を効果的に防ぐことができる。
とも内面側は、OD値2以上の光吸収膜から構成されて
いることが好ましい。
の内面側(即ち、液晶に面する側)は、例えば、レジス
ト膜や樹脂膜などのOD値2以上の光吸収膜から構成さ
れている。ここでの光吸収膜とは、反射率20%以下の
膜のことを示す。このため、第3透明基板の外側からの
電気光学装置の表示領域への入射光が、第1及び第2透
明基板、第3透明基板、第2遮光膜等により反射され
て、第1遮光膜がこれらの反射光や多重反射光を吸収す
る。従って、透明基板や周辺見切りを構成する膜による
多重反射光が当該電気光学装置から出射される事態を未
然に防ぐことが出来る。
とも外面側は、OD値2以上の光吸収膜から構成されて
いることが好ましい。
の外面側は、例えば、レジスト膜や樹脂膜などのOD値
2以上の光吸収膜から構成されている。このため、第2
遮光膜は、遮光膜として機能すると共に、第3透明基板
の外側からの電気光学装置の表示領域への入射光を吸収
することにより、電気光学装置内で反射光や多重反射光
が発生するのを防ぐ。従って、透明基板や周辺見切りを
構成する膜による多重反射光が当該電気光学装置から出
射される事態を未然に防ぐことが出来る。
る開口部を持ち前記第1及び第2透明基板並びに前記第
3透明基板を収容する遮光性のケースを更に備えること
が好ましい。
2透明基板並びに第3透明基板は遮光性のケースに収容
(実装)されており、ケースの開口部は第1遮光膜に対
応して設けられる。従って、開口部の設計マージンを、
第1遮光膜の幅に応じて拡大できる。
1.0mm以上の厚みを有することが好ましい。
板は、1.0mm以上の厚みを有するので、当該第3透
明基板のデフォーカス機能が十分に高められる。しか
も、第3透明基板には、第1遮光膜が設けられているた
め、温度上昇を抑制できる。
第3透明基板と対向配置する前記第1及び第2透明基板
の一方とは、屈折率が略等しい材料から構成されている
ことがが好ましい。
板と第3透明基板に対向配置する前記第1及び第2透明
基板の一方との間における界面反射を、両者を構成する
材料の屈折率の等しさに応じて低減できる。
第3透明基板に対向配置された前記第1及び第2透明基
板の一方とは、略等しい屈折率を持つ接着剤で接着され
ていることが好ましい。
板とこれに対向配置された第1又は第2透明基板との間
における界面反射を、両者を構成する材料の屈折率及び
接着剤の屈折率の等しさに応じて低減できる。特に、両
者を接着剤により面接着すると、このような界面反射を
顕著に低減できる。
第3透明基板に対向配置された前記第1及び第2透明基
板の一方との間には、空隙が設けられていることが好ま
しい。
板に対向配置された第1又は第2透明基板は、空隙を介
して第3透明基板等に対して放熱可能であるので、特に
液晶付近における温度上昇を抑制できる。
には、反射防止膜が形成されていることが好ましい。
板の外面に入射する入射光は、反射防止膜により、殆ど
反射されずに当該第3透明基板を介して電気光学物質に
入射される。従って、表示領域における光量損失を低減
することが出来、表示画像を明るくすることが出来る。
特に、当該電気光学装置を実装する際に、反射防止板等
を第3透明基板の外面側に配置する必要も無くなる。
を変調する前記電気光学装置と、当該電気光学装置で光
変調した光を投射する投射光学系とを有する投射型表示
装置に用いることが可能である。
に防塵機能、デフォーカス機能、放熱機能及び表示影防
止機能のうち少なくとも一つに優れ、ケース開口部のマ
ージンを広くとることも可能な本発明の電気光学装置を
備えているので、高画質の画像表示が可能な投射型液晶
装置を比較的低コストで実現できる。
電極が形成された第1透明基板と、該第1透明基板に対
向配置された第2透明基板と、該第2透明基板と前記第
1透明基板との間に配置された電気光学物質と、前記第
1及び第2透明基板の少なくとも一方の透明基板の外面
側に設けられた第3透明基板とを具備し、前記第2透明
基板上には前記画素電極の個々に対応してマトリクス状
に配置された複数のマイクロレンズを有することを特徴
とする。
ンズにより光の利用効率を向上させることができ、また
各画素毎に実効的な開口率を向上させることが可能であ
る。さらに、マイクロレンズにより電気光学装置の熱の
吸収を防ぐことが可能となるため、たとえ第3の基板を
設けることによって電気光学装置の総厚が厚くなっても
電気光学装置での熱の吸収を抑えることが可能である。
型表示装置であって、光源と、該光源から出射された光
を集光しながら前記電気光学装置に導く集光光学系と、
当該電気光学装置で光変調した光を投射面に拡大投射す
る拡大投射光学系とを有することが好ましい。
デフォーカス機能、放熱機能に優れ、高画質の画像表示
が可能な投射型液晶装置を比較的低コストで実現でき
る。
た第1基板と、前記第1基板に対向配置された第2基板
と、前記第1及び第2基板間に配置された電気光学物質
と、前記第1及び第2基板の少なくとも一方の基板の外
面側に配置された第3基板と、該第3基板上の前記表示
領域の周辺領域に配置された第1遮光膜と、前記第1及
び第2基板の内面側の表示領域の周辺領域に配置された
第2遮光膜とを具備する電気光学装置であって、前記第
1遮光膜の前記表示領域側の端部は、前記第2遮光膜の
前記表示領域側の端部よりも周辺側であって前記第1遮
光膜と前記第2遮光膜とは平面的にみて少なくとも一部
で重なるように配置されてなることを特徴とする。
光膜の前記表示領域側の端部は、前記第2遮光膜の前記
表示領域側の端部よりも周辺側であって前記第1遮光膜
と前記第2遮光膜とは平面的にみて少なくとも一部で重
なるため、表示領域周辺への光の入射を確実に抑えるこ
とができる。
成された第1基板と、前記第1基板に対向配置された第
2基板と、前記第1及び第2基板間に配置された電気光
学物質と、前記第1及び第2基板の少なくとも一方の基
板の外面側に配置された第3基板と、該第3基板上の前
記表示領域の周辺領域に配置された第1遮光膜と、前記
第1及び第2基板の内面側の表示領域の周辺領域に配置
された第2遮光膜と、前記表示領域に対応した開口部を
持ち前記第1及び第2基板並びに前記第3基板を収容す
る遮光性のケースを具備する電気光学装置であって、前
記第1遮光膜の前記表示領域側の端部は、前記第2遮光
膜の前記表示領域側の端部よりも周辺側であって前記第
1遮光膜と前記第2遮光膜とは平面的にみて少なくとも
一部で重なるように配置されてなり、前記遮光性のケー
スの前記表示領域側の端部は、前記第1遮光膜の前記表
示領域側の端部よりも周辺側であって前記遮光性のケー
スと前記第1遮光膜とは平面的にみて少なくとも一部で
重なるように配置されてなることを特徴とする。本発明
のかかる構成によれば、前記第1遮光膜の前記表示領域
側の端部は、前記第2遮光膜の前記有効表示領域側の端
部よりも周辺側であって前記第1遮光膜と前記第2遮光
膜とは平面的にみて少なくとも一部で重なるため、表示
領域周辺への光の入射を確実に抑えることができる。ま
た、第1遮光膜の幅を表示領域の端部周辺まで形成され
るため、ケース開口部の設計マージンを拡大することが
できる。
板が配置されてなり、前記第1基板はシリコン基板から
なり、前記第2基板及び第3基板は透明ガラス基板から
なり、前記シリコン基板の内面側には反射電極が配置さ
れていることを特徴とする。
れた光を第2及び第3基板で透過させる、いわゆる反射
型表示装置に関するものであり、第3基板を設けること
により第2基板上に塵がつくのを防ぐことができる。さ
らに、第3基板の外面に傷や塵が付いても、このような
傷や塵は液晶面から離れるためデフォーカスされて、投
射画像に映し出されることがなく、表示品位を高めるこ
とができる。また、第3基板と第2基板とを接着剤で接
着するような構成とすれば、第2基板の外面に傷がつい
たとしても、この傷は接着剤で埋められて修復された状
態となり、傷による表示品位の低下を防ぐことができ
る。
基板の外面側に配置された前記第3基板とが接着剤によ
り面接触されてなり、前記第3基板の前記第1基板に対
向する面に第1遮光膜が配置され、前記第1遮光膜によ
り区画された領域の内側に前記接着剤が配置されてなる
ことを特徴とする。また、第1遮光膜は5〜30μmの
厚さであることが好ましい。
により、表示領域周辺への光の入射を防ぐとともに、第
1遮光膜が接着剤のストッパーとして接着剤が基板外へ
流出するのを防ぐことができる。また、接着剤の厚さを
第1遮光膜の厚さ、例えば5〜30μmの厚さに応じて
均一にすることが可能となるため、表示のムラを防止で
き、表示品位が向上する。
造方法であって、前記第3基板に部分的な途切れ部分を
備える第1遮光膜を形成した後、前記第2基板と第3基
板を対向配置し、前記部分的な途切れ部分から前記接着
剤を注入し、しかる後に当該接着剤を硬化させることを
特徴とする。
により、接着剤の基板外への流出を防ぐことができ、第
2基板と第3基板とを確実に接着させることができる。
また、第1遮光膜の厚さに応じて第2基板と第3基板と
を接着させるため、これらの基板間の厚さを均一にする
ことが可能となり、表示のムラを防止でき、表示品位が
向上する。
する上記の電気光学装置と、該電気光学装置により変調
された光を投射する投射光学手段とを備えることを特徴
とする。
る色分離手段と、該色分離手段により分離された各色を
変調する上記の電気光学装置と、該複数の電気光学装置
により変調された光を合成する合成手段と、該合成手段
で合成された光を投射する投射光学手段とを備え、各電
気光学装置に対応する偏光板は前記合成手段に貼り付け
られていることを特徴とする。
気光学装置に貼り付けた場合に比較して、偏光板と電気
光学装置との距離が長くなる。つまり、電気光学装置の
電気光学物質面と偏光板までの距離が長くなる為、偏光
板を貼り付ける時に巻き込む塵、傷等をデフォーカスし
やすくなる。また、偏光板を合成手段に貼り付けること
により、偏光板の熱は、合成手段で吸収されるため、電
気光学装置の温度上昇を防ぐことができる。従って、第
3基板を設けることにより、第1及び第2基板に塵の付
着を防止するとともに、偏光板が液晶面から離されるた
め、塵をデフォーカスするために更に効果的となり、表
示品位を高めることが可能となる。
に説明する実施の形態から明らかにする。
形態を説明する。尚、本発明の実施の形態では、電気光
学装置として液晶装置を例として説明する。
照して、投射型液晶装置の光学ユニットに組み込まれて
いる光学系について説明する。投射型液晶装置1のハウ
ジング内には光学ユニット10が搭載され、この光学ユ
ニット10内には、光源ランプ11(光源)と、微小レ
ンズの集合体からなるインテグレータレンズ12、1
4、および偏光分離膜とλ/4波長板との集合体からな
る偏光変換素子16を備える照明用光学系15と、この
照明用光学系15から出射される白色光束を、赤、緑、
青の各色光束R、G、Bに分離する色分離光学系20
と、各色光束を変調するライトバルブとしての3枚の液
晶ライトバルブ30R、30G、30Bと、変調された
色光束を再合成する色合成光学系としてのダイクロイッ
クプリズムからなるプリズムユニット42と、合成され
た光束をスクリーン上に拡大投射する投射レンズユニッ
ト50(投射光学系)とが構成されている。光源ランプ
11としては、ハロゲンランプ、メタルハライドラン
プ、キセノンランプ等を用いることができる。この光学
ユニット10では、偏光変換素子16において各プリズ
ム体で分離されたP偏光およびS偏光のうち、P偏光の
出射位置にλ/2板を配置した構成に相当するため、光
束をS偏光に揃えることができる。
ており、照明用光学系15の中心光軸を装置前方向に向
けて直角に折り曲げるようにしている。色分離光学系2
0には、赤緑反射ダイクロックミラー22と、緑反射ダ
イクロイックミラー24と、反射ミラー29とが配置さ
れている。光源ランプ11から出射された白色光束は、
照明用光学系15を経て、まず、赤緑反射ダイクロイッ
クミラー22において、そこに含まれている赤色光束R
および緑色光束Gが直角に反射されて、緑反射ダイクロ
イックミラー24の側に向かう。青色光束Bはこの赤緑
反射ダイクロイックミラー22を通過して、後方の反射
ミラー29で直角に反射されて、青色光束の出射部から
プリズムユニット42の側に出射される。赤緑反射ダイ
クロックミラー22において反射された赤および緑の光
束R、Gは、緑反射ダイクロイックミラー24におい
て、緑色光束Gのみが直角に反射されて、緑色光束の出
射部からプリズムユニット42の側に出射される。これ
に対して、緑反射ダイクロイックミラー24を通過した
赤色光束Rは、赤色光束の出射部から導光系44の側に
出射される。色分離光学系20における各色光束の出射
側には、それぞれ集光レンズ26、27、28が配置さ
れている。したがって、各出射部から出射した各色光束
は、これらの集光レンズ26、27、28に入射して各
液晶ライトバルブ30R、30G、30Bに集光され
る。このようにして、本形態では、照明用光学系15、
色分離光学系20、集光レンズ26、27、28、およ
び導光系44によって、光源ランプ11から出射された
光を集光しながら各液晶ライトバルブ30R、30G、
30Bに導く集光光学系が構成されている。
のうち、青色および緑色の光束B、Gは液晶ライトバル
ブ30B、30Gに入射して変調され、各色光に対応し
た画像情報(映像情報)が付加される。すなわち、これ
らのライトバルブは、不図示の駆動手段によって画像情
報に応じてスイッチング制御されて、これにより、ここ
を通過する各色光の変調が行われる。このような駆動手
段は公知の手段をそのまま使用することができる。
液晶ライトバルブ30Rに導かれて、ここにおいて、同
様に画像情報に応じて変調が施される。本例のライトバ
ルブは、例えば、ポリシリコンTFTをスイッチング素
子として用いたものを使用できる。なお、導光系44と
しては、入射側レンズ45と、入射側反射ミラー46
と、出射側反射ミラー47と、これらの間に配置した中
間レンズ48とが配置されている。
G、30Bを通って変調された各色光束は、プリズムユ
ニット42に入射され、ここで再合成される。ここで再
合成されたカラー画像は、投射レンズユニット50を介
して、所定の位置にあるスクリーン上に拡大投射され
る。
のように構成した液晶ライトパネル30R、30G、3
0Bは、いずれも、図2および図3に液晶装置30とし
て示す構成を有しており、アクティブマトリクス基板3
00(第1透明基板)と、対向電極401および遮光膜
(ブラックマスク)BM1を備える透明な対向基板40
0(第2透明基板)とを有している。アクティブマトリ
クス基板300と対向基板400とはギャップ材含有の
シール材を用いたシール層80によって所定の間隙(セ
ルギャップ)を介して貼り合わされ、これらの基板間に
液晶LCが封入される。シール層80には、エポキシ樹
脂や各種の紫外線硬化樹脂などを用いることができる。
また、ギャップ材としては、約2μm〜約10μmの無
機あるいは有機質のファイバ若しくは球を用いることが
できる。対向基板400はアクティブマトリクス基板3
00よりも小さく、アクティブマトリクス基板300の
周辺部分は、対向基板400の外周縁よりはみ出た状態
に貼り合わされる。従って、アクティブマトリクス基板
300の入出力端子81、走査線駆動回路60およびデ
ータ線駆動回路70は、対向基板400の外側に位置し
ているので、入出力端子81にはフレキシブルプリント
配線基板FPCを配線接続することができる。ここで、
シール層80は部分的に途切れているので、この途切れ
部分によって、液晶注入口83が構成されている。この
ため、対向基板400とアクティブマトリクス基板30
0とを貼り合わせた後、シール層80の内側領域を減圧
状態にすれば、液晶注入口83から液晶LCを減圧注入
でき、液晶LCを封入した後、液晶注入口83を封止剤
82で塞げばよい。なお、アクティブマトリクス基板3
00にも、シール層80の内側に遮光膜(第2遮光膜)
410が形成されている。このように構成された液晶装
置は、図18の液晶装置とケースの分解斜視図に示され
るように、ケースの一部であるパネル取付枠902にフ
レキシブル配線基板903を有する一対の液晶装置を収
容し、保持板901により液晶装置の上から保持するよ
うに構成されている。
の構成)このような液晶装置30に用いられる駆動回路
内蔵型のアクティブマトリクス基板300の構成を、図
4(A)にブロック図で示してある。
マトリクス基板300では、透明基板300の上に走査
線gateと複数のデータ線sigとによって複数の画
素pxがマトリクス状に構成されている。いずれの画素
領域pxにも、その1つを図4(B)に拡大して示すよ
うに、走査線gateおよびデータ線sigに接続する
画素スイッチング用の薄膜トランジスタTFTが形成さ
れ、この薄膜トランジスタTFTのドレイン電極は、前
記の対向基板400の対向電極401との間に液晶LC
を挟んで液晶セルを構成する画素電極である。なお、液
晶セルに対しては、前段のゲート線gateや容量線
(図示せず。)を利用して保持容量capが構成されて
いる。
て、透明基板300の周辺部分には、複数のデータ線s
igのそれぞれに画像信号を供給するデータ線駆動回路
部60と、複数の走査線gateのそれぞれに画素選択
用の走査信号を供給するシフトレジスタ700やバッフ
ァを備える走査線駆動回路部70とが構成されている。
データ線駆動回路部60は、クロック信号が供給される
X側シフトレジスタ回路61、X側シフトレジスタ回路
61から出力された信号に基づいて動作するサンプルホ
ールド回路62、および6相に展開された各画像信号に
対応する6本の画像信号線63が構成されている。この
ため、サンプルホールド回路62は、X側シフトレジス
タ回路61から出力された信号に基づいて動作し、画像
信号線63を介して供給される画像信号を所定のタイミ
ングでデータ線sigに取り込み、各画素pxに供給す
ることが可能である。
成した液晶装置30は、アクティブマトリクス基板30
0および対向基板400のうちの一方が、図1における
光源ランプ11の側(光源側)に向けられ、他方が図1
における投射レンズユニット50の側(出射側)に向け
られるが、以下の説明では、対向基板400の方が、図
1における光源ランプ11の側(光源側)に向けられ、
アクティブマトリクス基板300の方が図1における投
射レンズユニット50の側(出射側)に向けられるもの
として説明する。
て、各実施の形態について図を用いて説明する。
面側の構成に係る第1の実施の形態について、図3及び
図4を参照して説明する。
Cでフォーカス状態になるように光源ランプ11からの
光が集光される。従って、液晶LCの近くに位置するア
クティブマトリクス基板300の外面302に傷や塵が
付くと、これらの傷や塵も投射像に映し出される。そこ
で、本形態では、アクティブマトリクス基板300の外
面302には、その基体たる透明基板300と略等しい
屈折率を有する透明な接着剤91によって、透明基板3
00と略等しい屈折率を有する第3透明基板600が面
接着されている。また、ここに示す液晶装置30では、
第3透明基板の外面922には、透明な接着剤93によ
って有機膜からなる偏光シート94(偏光板)が面接着
され、対向基板400の外面402には、シリコン酸化
膜とチタン酸化膜との多層膜からなる反射防止膜96が
積層されている。なお、第3透明基板600の外面92
2にも反射防止膜を形成してもよいことは勿論である。
る透明基板300が石英基板であれば、屈折率が1.4
6なので、第3透明基板600についても石英基板を用
いれば、屈折率を一致させることができる。また、接着
剤91については、屈折率が1.46となるように調製
したシリコン系接着剤やアクリル系接着剤などを用い
る。
構成する透明基板300が、ネオセラムなどの屈折率が
1.54の高耐熱ガラス板であれば、第3透明基板60
0についても、同じ材質の高耐熱ガラス板を用いて、屈
折率を一致させればよい。また、接着剤91、93につ
いては、屈折率が1.54となるように調製したシリコ
ン系接着剤やアクリル系接着剤などを用いればよい。
アクティブマトリクス基板300の透明基板300とし
て、それぞれ1.1mm厚の石英基板、および1.2m
m厚の石英基板を用い、第3透明基板600としては
1.2mm厚の石英基板を用いてある。また、接着剤9
1、93の厚さは、5〜30μmの範囲、好ましくは1
0μm以下にして、接着強度を十分高いものとしてあ
る。
の紫外線を反射または吸収する材質であれば液晶装置に
紫外線を取り込むことによる液晶層あるいは配向膜(図
示せず)へのダメージを防ぐことができる。また、反射
防止膜も同様に、例えば400nm以下の紫外線を吸収
まはた反射する材質で構成すれば、液晶装置に紫外線を
取り込むことによる液晶層あるいは配向膜へのダメージ
を防ぐことができる。
晶LCの近くに位置するアクティブマトリクス基板30
0の外面302には第3透明基板600が面接着されて
いるので、アクティブマトリクス基板300の外面30
2に傷や塵が付くことがない。また、第3透明基板の外
面6002および偏光シート94の表面942は、第3
透明基板600の厚さに相当する距離だけ液晶LCから
遠ざけられている。このため、第3透明基板の外面92
2および偏光シート94の表面942は、常にデフォー
カス状態にある。それ故、偏光シート94を貼る前に第
3透明基板の外面922に傷や塵が付いても、このよう
な傷や塵は投射画像に映し出されることがない。また、
偏光シート94を貼った後に偏光シート94の表面に塵
が付いても、このような傷や塵は投射画像に映し出され
ることがない。
0は、いずれも、アクティブマトリクス基板300の基
体たる透明基板300と略等しい屈折率を有するので、
透明基板300と接着剤91との間、および接着剤91
と第3透明基板600との間には、反射界面が存在しな
いものと見做すことができる。それ故、光源11から導
かれてきた光は、効率よく液晶装置30を透過し、光量
損失が極めて小さい。従って、透明基板300の外面3
02、および接着剤91と第3透明基板600の内面に
反射防止膜を形成する必要がないので、製造コストの増
大を抑えることができる。また、液晶装置30内での光
の反射がないので、アクティブマトリクス基板300に
おいて、反射光に起因する薄膜トランジスタTFTの誤
動作が発生するおそれもない。しかも、接着剤91は、
アクティブマトリクス基板300の基体たる透明基板3
00と略等しい屈折率を有するので、液晶装置30の製
造工程においてたとえ透明基板300の外面302に傷
が付いたとしても、このような傷は接着剤91で埋めら
れ、修復されることになる。
00を有する分、図16に示した従来の液晶装置と比較
して熱容量が大きい。よって、液晶装置30では温度上
昇が小さく、かつ、局部的な温度上昇も起きないので、
温度差に起因する透過率のばらつきや液晶LCの劣化を
防止することができる。
を呈するシリコン系接着剤(弾性を有する接着剤)を用
いれば、接着剤91を硬化させる際の応力を接着剤91
自身の弾性で吸収することができる。それ故、液晶装置
30において透明基板に歪みが発生することを防止する
ことができる。
た液晶装置の第1の実施の形態の製造方法について図5
を参照して説明する。
において、アクティブマトリクス基板300の外面30
2に第3透明基板600を接着する工程では、図5に示
すように、第3透明基板600の内面923、およびこ
の透明基板600が面接着されるアクティブマトリクス
基板300の外面302(透明基板300の外面)の双
方に接着剤91を滴下、塗布した後、接着剤91同士を
最初の接触点としてこれら2枚の透明基板600、30
0を重ね合わせ、かつ、双方を押し付けることにより、
2枚の透明基板600、300の間で接着剤91を押し
拡げ、しかる後に接着剤91を硬化させる。尚、硬化さ
せる工程では、60℃以上100℃以下の温度で2時間
から5時間熱処理すれば、より確実に接着剤を硬化させ
ることが可能となる。
1で第3透明基板600を接着したとしても、接着剤9
1の内部に気泡が残ることがないので、気泡に起因する
表示品位の低下がない。
を行うタイミングは、液晶装置30を組み立てた以降、
あるいは液晶装置30を組み立る以前のいずれであって
もよい。
度が90以上であれば、接着剤の硬化時に透明基板から
接着剤が流れてしまい、適量の接着剤を透明基板上に保
持することができない。また、針入度が60未満であれ
ば基板間に歪みが発生してしまうという問題が発生して
しまう。従って接着剤は、硬化後の針入度が、60より
大きく90よりも小さいものを用いることが好ましい。
構成に係る第1の実施の形態の第1変形例について、図
6を参照して説明する。第1の実施の形態とほぼ同じ構
成であり、異なる点のみ説明する。
基板300の外面302に代えて対向基板400の外面
402に対して、対向基板400と略等しい屈折率を有
するシリコン系やアクリル系の透明な接着剤91によっ
て、透明基板300と略等しい屈折率を有する第3透明
基板600を接着してもよい。このように構成した場合
にも、アクティブマトリクス基板300の外面302に
は、接着剤93によって偏光シート94を接着する一
方、第3透明基板600の外面402に多層膜からなる
反射防止膜96が積層してもよい。
晶LCの近くに位置する対向基板400の外面402に
は第3透明基板600が面接着されているので、対向基
板400の外面402に傷や塵が付くことがない。ま
た、第3透明基板の外面922は、第3透明基板600
の厚さに相当する距離だけ液晶LCから遠ざけられてい
る。このため、第3透明基板の外面922は、常にデフ
ォーカス状態にある。それ故、第3透明基板の外面92
2に傷や塵が付いても、このような傷や塵は投射画像に
映し出されることがない。また、液晶装置30は、第3
透明基板600を有する分、図16に示した従来の液晶
装置と比較して熱容量が大きい。よって、液晶装置30
では温度上昇が小さく、かつ、局部的な温度上昇も起き
ないので、温度差に起因する透過率のばらつきや液晶L
Cの劣化を防止することができるなど、前述した第1の
実施の形態と同様な効果を奏する。
3透明基板600を接着する側を上下反対にする以外は
第1の実施の形態の製造方法と同様である。
構成に係る第1の実施の形態の第2変形例について、図
7を参照して説明する。第2変形例は、第1の実施の形
態と同様な構成であり、異なる点についてのみ説明す
る。
402、およびアクティブマトリクス基板300の外面
302の双方に対して、対向基板400やアクティブマ
トリクス基板300と略等しい屈折率を有する接着剤9
1を用いて、対向基板400やアクティブマトリクス基
板300と略等しい屈折率を有する第3透明基板500
及び600をそれぞれ面接着してもよい。このように構
成した場合にも、液晶LCの近くに位置する対向基板4
00の外面402、およびアクティブマトリクス基板3
00の外面302を液晶LCから遠ざけることができ
る。それ故、いずれの第3透明基板の外面922も、常
にデフォーカス状態にあるため、それらの外面922に
傷や塵が付いても、表示性能が低下することがないな
ど、前述の第1の実施の形態と同様な効果を奏する。
500及び600を2枚追加した分、熱容量がより大き
いので、よって、液晶装置30では温度上昇が小さく、
かつ、局部的な温度上昇も起きない。それ故、温度差に
起因する透過率のばらつきや液晶LCの劣化をより確実
に防止することができる。
3透明基板600を上下両方に接着する以外は前述した
第1の実施の形態の製造方法と同様である。
構成に係る第1の実施の形態の第3変形例について、図
8及び図9(A)及び(B)を参照して説明する。本変
形例は、第1の実施の形態と同様な構成を有するもので
あって、異なる点についてのみ記載する。上記のいずれ
の形態においても、面接着すべき基板間に形成したシー
ル材を利用して、基板の間に接着剤を減圧注入してもよ
い。
(A)及び(B)に示すように、まず、第3透明基板6
00の内面923、またはこの第3透明基板600が面
接着されるアクティブマトリクス基板300の外面30
2に対して、前記の接着剤91が塗布される領域の周囲
を囲むように紫外線硬化樹脂(アクリル樹脂など)など
からなるシール材97を塗布する。ここで、シール材9
7には、無機あるいは有機質のファイバ若しくは球から
なる固形ギャップ材を添加しておき、塗布される接着剤
91の厚さを一定にする。そして、このシール材97に
よって第3透明基板600とアクティブマトリクス基盤
300とを貼り合わせ、第3透明基板600とアクティ
ブマトリクス基板300との間のうち、前記の接着剤9
1が塗布される領域の周囲をシール材97で囲んだ状態
でシール材97を硬化させる。この際には、シール材9
7を部分的に途切れさせておき、この途切れ部分を接着
剤注入口98とする。
減圧状態にして当該領域内に対して接着剤注入口98か
ら、硬化前の前記の接着剤91を注入し、しかる後に、
当該接着剤91を硬化する。なお、前記の接着剤91を
注入した以降であれば、接着剤91を硬化させる前また
は後に、前記の接着剤注入口98を封止材で塞いでおい
てもよい。
第3透明基板600を接着したとしても、接着剤91の
内部に気泡が残ることがないので、気泡に起因する表示
品位の低下がない。
面側の構成に係る第2の実施の形態について、図10か
ら図12及び図18を参照して説明する。ここに、図1
0(a)〜(e)は夫々、第2の実施の形態において採
用可能な構成の具体例を示しており、図11(a)〜
(e)は夫々、それらの変形例を示している。また、図
12は、第1の実施の形態におけるケースへの実装の様
子を説明するための液晶装置とケースとが接触する部分
の拡大断面図である。液晶装置30とケースの構成は、
図18と同様であり、図12においては説明上取付枠9
02と保持板901を総称してケース900として記載
する。
の実施の形態に係る液晶装置は、表示領域に画素電極、
画素スイッチング用素子等が形成された第1透明基板
(アクティブマトリクス基板)300と、第1透明基板
300に対向配置された第2透明基板(対向基板)40
0とがシール材80により接着され、第1透明基板30
0及び第2透明基板400の間に液晶が配置されて構成
されている。第2透明基板400には、表示領域周辺に
は表示領域を規定する遮光性の第2の周辺見切り410
が設けられている。特に、第2の周辺見切り410は、
図12に拡大して示すように、表示領域の周辺に第2透
明基板400のシール材形成領域に重なることなく、シ
ール材形成領域よりも内側の表示領域を囲む領域に設け
られている。従って、第1透明基板300と第2透明基
板400とを紫外線硬化樹脂剤からなるシール材を用い
て接着させる場合に、シール材形成領域とシール材とは
重なることなく所定距離離れているため、シール材に十
分紫外線を入射させることができる。従って、紫外線硬
化樹脂を用いても第1透明基板300と第2透明基板4
00とを確実に硬化させることができる。尚、第1の周
辺見切りの5つの具体例について図10(a)から10
(e)を用いて説明する。その他の構成については上述
の実施の形態と同じであるのでその説明は省略する。
2透明基板400の外面側に、第3透明基板500が設
けられており、第3透明基板500には、表示領域周辺
に遮光性の第1の周辺見切り510が形成されている。
300の外面側に、第3透明基板600が設けられてお
り、第3透明基板600には、表示領域を規定する遮光
性の第1の周辺見切り610が形成されている。
300の外面側に、第3透明基板600が設けられてお
り、第2透明基板400の外面側に、第3透明基板50
0が設けられており、第3透明基板500には、表示領
域を規定する遮光性の第1の周辺見切り510’が形成
されている。
300の外面側に、第3透明基板600が設けられてお
り、第3透明基板600には、表示領域を規定する遮光
性の第1の周辺見切り610’が形成されており、第2
透明基板400の外面側に、第3透明基板500が設け
られている。
300の外面側に、第3透明基板600が設けられてお
り、第3透明基板600には、表示領域を規定する遮光
性の第1の周辺見切り610が形成されており、第2透
明基板400の外面側に、第3透明基板500が設けら
れており、第3透明基板500には、表示領域を規定す
る遮光性の第1の周辺見切り510が形成されている。
実施の形態によれば、第3透明基板500又は600
が、第2透明基板400又は1の透明基板300の外面
側に設けられているため、塵等に対する防塵機能が高め
られる。同時に、第3透明基板500又は600の厚み
に応じて、第3透明基板500又は600の表面に付着
した塵や傷等に対するデフォーカス機能が高められる。
第3透明基板500又は600を厚くする程、デフォー
カス機能は高くなり、例えば、第3透明基板500又は
600を、1.0mm以上の厚みを有する石英基板、ガ
ラス板、プラスチック板等から構成すれば、第3透明基
板500又は600におけるデフォーカス機能は十分に
高められる。この結果、第3透明基板の500又は60
0の外面に塵、傷等が付いても表示画面では、視覚上問
題無い程度にぼかすことが出来る。
の周辺見切り510又は610が、第3透明基板500
又は600に設けられている。第1の周辺見切り510
又は610は第2の周辺見切り410と平面的に重なる
ように設けられている。即ち、第1の周辺見切り510
又は610の表示領域側の端部は、第2の周辺見切り4
10の有効表示領域側の端部よりも周辺側であって第1
の周辺見切り510又は610と第2の周辺見切り41
0とは平面的にみて少なくとも一部で重なるように配置
されている。このように第1の周辺見切りと第2の周辺
見切りとの重なりにより、表示領域周辺の遮光を確実に
行うことができる。
な工程により形成される。
の一方に第2の周辺見切りを形成する。その後、第1透
明基板300と第2透明基板400の少なくとも一方に
第2の周辺見切りに重ならないように且つ表示領域に対
して第2の周辺見切りよりも外側になるように紫外線硬
化樹脂からなるシール材を形成する。次に、第1透明基
板300と第2透明基板400とを貼り合わせて紫外線
を照射してシール材を硬化させる。一方、第3透明基板
には第2遮光膜に重なるように且つ第2遮光膜に対して
表示領域の外側に位置するように第1の周辺見切りを形
成する。次に第1の周辺見切りが形成された第3透明基
板を第1透明基板300と第2透明基板400の少なく
とも一方の外側面に重ねて配置する。この場合、第1の
実施の形態の製造方法のように、第3透明基板と、第1
透明基板と第2透明基板400の少なくとも一方とを接
着剤により面接触させても良い。
晶装置に内蔵される周辺見切りの場合とは異なり、第3
透明基板500又は600には、第1の周辺見切り51
0又は610を表示領域の周辺から当該第3透明基板5
00又は600の縁に至るまで設けることができる。即
ち、第1の透明基板300と第2の透明基板400とが
シール材80により接着された後に第3透明基板を形成
するので、第3透明基板に形成された第1の周辺見切り
は紫外線硬化樹脂を硬化させるための紫外線照射の妨げ
にはならない。従って、上記の製造方法によれば、第2
の周辺見切りをシール材を十分硬化させるためにできる
だけ細く形成することが可能となる。さらに、第1の周
辺見切りを第2の周辺見切りに平面的に重なるように、
且つ表示領域周辺のできるだけ広い範囲に渡って形成す
れば、表示領域周辺の遮光を十分行うことができる。
300と第2の透明基板400とをシール材により接着
させた後、第3の透明基板に第1の周辺見切りを接着剤
に相当する厚さ、5〜30μmで部分的に途切れ部分を
備えて形成する。次に、第1の透明基板と第2の透明基
板の一方の外側面と第3の透明基板とを第1の周辺見切
りが対向するように配置した後、第1遮光膜の途切れ部
分から接着剤を注入し、しかる後に当該接着剤を硬化さ
せる。かかる構成によれば、第1の周辺見切りは遮光性
の機能とともに、接着剤の基板外への流出を防止するス
トッパーとして機能させることができる。
510又は610は、その幅を広く取ることができるた
め、第1の周辺見切り510又は610の幅の拡大に対
応して、図12に示したケース900の開口部の設計マ
ージンを拡大できる。例えば、前述した従来例のように
第1の周辺見切り510又は610を設けない場合に
は、開口部の設計マージンは、図12中にW0で示した
第2透明基板400に設けられた周辺見切り410の幅
に等しくなり、この幅内に開口部の端を入れるようにケ
ース900を作成せねばならない。ケース900は、通
常プラスチック等からなり、バリ等が発生し易いため、
このように幅の狭い内蔵周辺見切り410に開口部の端
を合わせるのは製造上極めて困難であり、製造コストの
上昇を招く。しかるに本実施の形態によれば、図12に
おいて、第1の周辺見切り510又は610の幅W2又
はW1が、そのままケース900の開口部の設計マージ
ンとなるため、バリ等が発生し易いプラスチック等の材
料からケース900を作成しても、周辺見切り510又
は610に開口部の端を合わせることは製造上遥かに容
易となり、低コスト化が図られる。
透明基板400の縁に至るまで形成しなくても、第1の
周辺見切り510又は610を縁に至るまで形成できる
ので、ケース900の開口部の設計マージンは、第2の
周辺見切り410の位置や幅によらずに、第1の周辺見
切り510又は610により拡大される。
10を備えているので、液晶装置を図1を参照して説明
したような液晶プロジェクタ等の投射型表示装置やバッ
クライト等を用いた透過型表示装置に適用すれば、液晶
装置の縁付近における遮光性能が高められている結果、
前述したパネル内の周辺回路や素子の表示影を防止する
こともできる。このため、高画質の画像表示が可能とな
る。
に、第1の周辺見切り510又は610は、表示領域の
周辺から第3透明基板500又は600の縁に至る表示
領域を囲む全領域に設けられている。従って、第3透明
基板500又は600の面を最大限に利用して第1の周
辺見切り510又は610の幅W2又はW1をとること
ができる。従って、この幅W2又はW1の拡大に応じ
て、ケース開口部の設計マージンを最大限に拡大するこ
とができる。更にまた、液晶装置の縁付近における遮光
性能が特に高められている結果、パネル内の周辺回路や
素子の表示影を防止する効果も非常に高まる。
第3透明基板500又は600により液晶装置全体とし
ても熱容量を増加できる。前述のように第3透明基板5
00又は600を1.0mm以上の厚みにすれば、熱容
量を実用上十分に上げることもできる。これに加えて、
遮光性の周辺見切り510又は610の存在により、入
射光による液晶装置内における温度上昇を抑制すること
もできる。
10は、Al(アルミニウム)、Cr(クロム)等の光
反射膜から構成してもよいし、レジストや樹脂等の反射
率20%以下の光吸収膜から構成してもよい。光吸収膜
から構成すると、余分な反射光の発生を防げる。
見切り510又は610の少なくとも外面側を、例えば
OD値2以上の光反射膜から構成してもよい。このよう
に構成すれば、第1の周辺見切り510又は610は遮
光膜として機能すると共に、第3透明基板500又は6
00の外側からの当該液晶装置の周辺領域への入射光を
反射するので、第3透明基板500又は600に第1の
周辺見切りが設けられていない場合と比較して、入射光
による液晶装置の温度上昇を効果的に防ぐことができ
る。また、反射光を光源側で再反射することにより再利
用することも可能となる。
〜(e)に対応し、それぞれ第2の周辺見切り10が省
略された構成である。その他の点は上述の実施の形態と
同様である。もよい。このように構成しても、第1の周
辺見切り510又は610により、表示領域は規定され
る。従って、これらの変形例によれば、第2の周辺見切
り410を形成しない分だけ、製造工程を減らすと共に
製造コストを低減できる。
うに、第1透明基板300又は第2透明基板400に面
する側に第1の周辺見切り510又は610を設けれ
ば、周辺見切りは、殆ど露出しないので、周辺見切りを
Cr等の金属遮光膜から構成しても、その腐食や劣化の
等の問題が生じない利点が得られる。
して夫々示すように、第1の周辺見切り510’又は6
10’を、第3透明基板500又は600の外面の側に
設ければ、表示領域を規定するという周辺見切り本来の
機能を高めることが出来る。
ように、第1の周辺見切り510又は610に対応する
開口部を持つ遮光性のケース900に実装される。本実
施の形態では、ケース900の開口部の設計マージンは
前述のように従来と比べて拡大されているため、即ち、
図18に示すパネル取付枠902と保持板901の開口
部の設計マージンを拡大できるため、プラスチック等の
安価な材料から寸法精度を比較的低くして作成したケー
ス900を用いても、表示領域がケース900の開口部
の端に隠れたり、或いは第2の周辺見切り410の外周
側の表示領域を外れたパネル部分が開口部から見えたり
する不都合を回避できる。
の形態の場合と同様に、第3透明基板500又は600
と、これに隣接する第1透明基板300又は第2透明基
板400とを、屈折率が略等しい材料から構成すること
が界面反射を低減させる観点等から好ましい。更に、こ
れらの屈折率に略等しい屈折率を持つ接着剤で、第3透
明基板を接着することが、やはり界面反射を低減させる
観点等から好ましい。
透明基板500又は600と、これに隣接する第1透明
基板300又は第2透明基板400との間に、空隙を設
けるようにしてもよい。このように構成すれば、液晶L
Cや第1透明基板300又は第2透明基板400から
は、空隙を介して第3透明基板500又は600等に対
して放熱可能であるので、特に液晶LC付近における温
度上昇を抑制できる。或いは、第3透明基板500又は
600と、第1透明基板300及び第2透明基板400
等とを接着することなく、同一のケースに収容すること
で一体化してもよい。
晶装置は、防塵機能、デフォーカス機能、放熱機能、表
示影防止機能に優れ、しかもケース開口部のマージンを
広くとることで低コスト化を図ることが可能となる。従
って、第2の実施の形態の液晶装置を前述の液晶プロジ
ェクタ(図1参照)に適用すれば、高画質の画像表示が
可能な液晶プロジェクタを比較的低コストで実現でき
る。
面側の構成に係る第3の実施の形態について、図13及
び図14を参照して説明する。ここに、図13は、図1
0〜図12に示した第2の実施の形態の構成において、
入射光の入射角度や強度により起こり得る問題点を説明
するための液晶装置の端部の拡大断面図であり、図14
は、第3の実施の形態における液晶装置の端部の拡大断
面図である。
の形態の構成では、入射光の入射角度や光強度によって
は、ケース900の開口部を介して表示領域に入射した
入射光が第2の周辺見切り410により反射された後、
更に第1の周辺見切り510により再反射されて液晶L
Cに多重反射光Lとして入射する可能性がある。この多
重反射光Lは、最終的に出射光に混じって画像劣化を引
き起こす原因となる。
に周辺見切りにより多重反射光を発生させないように以
下の如くに構成されている。上述の実施の形態と同様な
構成についてはその説明を省略し、異なる点のみ説明す
る。
切り510を二層構造とし、少なくとも内面側の膜51
0bを、OD値2以上の光吸収膜から構成する。他方、
外面側の膜510aについては、同様に光吸収膜から構
成してもよいし、温度上昇を抑制する観点から光反射膜
から構成してもよい。このように構成すれば、第1の周
辺見切り510(510a、510b)は、遮光膜とし
て機能すると共に、入射光が、第2透明基板400や第
2の周辺見切り410等により反射されてなるパネル内
の反射光や多重反射光L’を吸収する。従って、このよ
うな反射光や多重反射光L’が当該液晶装置から出射さ
れて表示画像に悪影響を及ぼす事態を未然に防げる。
光吸収膜から構成しても、このような多重反射光を吸収
することは可能である。他方、第1の周辺見切り610
についても同様に、内面側を光吸収膜とする二層構造か
ら構成したり、全体を光吸収膜から構成してもよい。
切り410を二層構造とし、少なくとも外面側の膜41
0bを、OD値2以上の光吸収膜から構成してもよい。
他方、内面側の膜410aについては、同様に光吸収膜
から構成してもよい。このように構成すれば、第2の周
辺見切り410(410a、410b)は、遮光膜とし
て機能すると共に、入射光を吸収することにより、パネ
ル内で反射光や多重反射光L’が発生するのを防ぐ。従
って、特に第1の周辺見切り510(510b)と第2
の周辺見切り410(410b)との間で、多重反射光
L’が発生して、当該液晶装置から出射されて表示画像
に悪影響を及ぼす事態を未然に防げる。
光吸収膜から構成しても、このような多重反射光を吸収
することは可能である。他方、第1透明基板300から
の入射光に起因した多重反射光の発生を防ぐ場合には、
同様に第2の周辺見切り410の内面側を光吸収膜とす
る二層構造から構成したり、全体を光吸収膜から構成し
てもよい。
れば、本発明に独自の第1の周辺見切り510又は61
0を設けることに付随して起こる可能性がある液晶装置
の周辺部から多重反射光が洩れる不都合を比較的簡単な
構成を用いて未然に防ぐことが出来、高画質の画像表示
が可能であり信頼性の高い液晶装置を実現できる。
面側の構成に係る第4の実施の形態について、図15を
参照して説明する。ここに、図15(a)〜(c)は夫
々、第4の実施の形態において採用可能な構成の具体例
を示している。尚、図15において、図10及び図11
と同じ構成要素には同じ参照符号を付し、その説明は省
略する。
の実施の形態に係る液晶装置は、第1透明基板300、
第2透明基板400及び第2の周辺見切り410を備え
て構成されている。
透明基板500の外面に、反射防止膜520が形成され
ている。
600の外面に、反射防止膜620が形成されている。
500及び600の外面に、反射防止膜520及び62
0が夫々形成されている。
の実施の形態の場合と同様に、例えば、シリコン酸化膜
とチタン酸化膜との多層膜を真空蒸着等により形成され
る。
明基板500又は600の外面に入射する入射光は、反
射防止膜520又は620により、殆ど反射されずに第
3透明基板500又は600を介して液晶LCに入射さ
れる。従って、表示領域における光量損失を低減するこ
とが出来、表示画像を明るくすることが出来る。
実装する際に、反射防止板等を第3透明基板500又は
600の外面側に配置する必要も無くなる。
れば、本発明に独自の第3透明基板500又は600の
外面における反射を比較的簡単な構成を用いて未然に防
ぐことが出来、高画質の画像表示が可能で信頼性の高い
液晶装置を実現できる。
ついて図19を用いて説明する。図19は、第5の実施
の形態の液晶装置の端部の拡大断面図である。本実施の
形態は、基本的な構成は上述の実施の形態と同様であ
り、その説明は省略し、本実施の異なる点についてのみ
記載する。本実施の形態では、透明基板400の内側に
画素電極(図示せず)に対応してマイクロレンズ800
を形成し、マイクロレンズ上にマイクロレンズの接着剤
801によりカバーガラス802が形成されている。さ
らに上述に実施例と同様に第3の透明基板500又は6
00あるいはその両方が透明基板300と400の外側
面に形成されている。このようにマイクロレンズ800
を形成することにより、光源(図示せず)から照射され
る光を各マイクロレンズ800で画素領域に各々集光
し、それによって各画素の実効的な開口率を向上させ、
表示画面を明るくすることができる。さらに本実施の形
態では、第3透明基板500または600を設けること
により、液晶装置付着した塵、傷等をデフォーカスする
ことができる。このように、第1及び第2基板に第3基
板を付加することにより、液晶装置の総厚は厚くなり、
上述のように熱容量が大きくなるが、マイクロレンズに
より光の利用効率が高いために、第1基板と第2基板と
第3基板への熱の吸収を抑えることができる。従って、
たとえ第3基板を設けることにより液晶装置の総厚が厚
くなったとしてもマイクロレンズにより液晶装置の温度
上昇を防ぐことができ、液晶装置の誤動作を防ぐことが
できる。
0は、第2基板400と同様な大きさとなるように、ま
た第3基板600は第1基板300と同様な大きさとな
るように図示してあるが、第3基板500及び600の
形状は、第1基板あるいは第2基板と同様な形状である
必要はない。第3基板500及び600は、第1基板及
び第2基板よりも大きくても小さくても差し支えなく、
少なくとも表示領域をカバーするように形成されていれ
ば問題ない。
板、第1透明基板、第2透明基板、第3透明基板を用い
た透過型の液晶装置について説明したが、これに限るも
のではない。即ち、第1透明基板をシリコン基板とし、
マトリクス状に形成される画素電極をアルミニウム等の
反射電極により構成した反射型の液晶装置に用いてもよ
い。かかる構成を図20の断面図を用いて説明する。
尚、本実施の形態1乃至5と同様な構成を有するため、
その説明は省略し、異なる点のみ説明する。図20に示
されるように、シリコン基板300’上に反射電極P
X’が配置され、第2透明基板400を透明基板とし、
第2透明基板400上に第3透明基板500が形成され
ている。第3透明基板500を設けることにより第2透
明基板400上に塵がつくのを防ぐことができ、また第
3透明基板の外面に傷や塵が付いても、傷や塵はデフォ
ーカスされるので投射画像に映し出されることがなく、
表示品位を高めることができる。また、第2透明基板4
00と第3透明基板500とを接着剤で接着するように
すれば、第2透明基板の外面に傷がついたとしても、こ
のような傷は接着剤で埋められ、修復された状態とな
る。
用いた場合、従来は偏光板を液晶装置に貼り付けていた
が、一方の偏光板(図示せず)を合成手段であるプリズ
ムユニット42に貼り付けることが可能である。このよ
うに、偏光板をプリズムユニット42に貼り付けること
により、偏光板の熱は、プリズムユニット42で吸収さ
れるため、液晶装置の温度上昇を防ぐことができる。ま
た、液晶面と偏光板までの距離が長くなるので、偏光板
を貼り付ける時に巻き込む塵、傷等をデフォーカスしや
すくなる。さらに、偏光板の熱は、プリズムユニットで
吸収されるため、液晶装置の温度上昇を防ぐことができ
る。このように、第3透明基板を設けて、さらに偏光板
をプリズムユニット42に貼り付けることにより、第1
及び第2基板の少なくとも一方への塵の付着を防止する
とともに、偏光板が液晶面から離されるため、塵をデフ
ォーカスするために更に効果的となり、表示品位を高め
ることが可能となる。
層ができるので、プリズムユニット42の上側あるいは
下側の一方に冷却手段(図示せず)を設け、冷却手段か
ら液晶装置と偏光手段との間に冷風等の送風を送り込む
ことにより、液晶装置の温度上昇を防ぐことができ、液
晶装置の温度上昇による誤動作を防ぐことができる。
説明したが、これに限るものではない。例えば、本発明
の実施の形態はエレクトロルミネッセンス、あるいはプ
ラズマディスプレイ等の電気光学装置にも適用可能であ
る。
光学装置では、2枚の基板(第1および第2基板)の内
側に電気光学物質を配置し、その2枚の基板の外面には
第3基板が面接着されていることに特徴を有する。従っ
て、本発明によれば、第1または第2基板の外面には傷
や塵が付くことがない。また、第3基板の外面は、この
第3基板の厚さに相当する距離だけ電気光学装置から離
れているので、第3基板の外面は、常にデフォーカス状
態にある。それ故、第3基板の外面に傷や塵が付いて
も、このような傷や塵は投射画像に映し出されることが
ないので、表示の品位が高い。また、接着剤および第3
基板はいずれも、それが接着される透明基板と略等しい
屈折率を有するので、基板と接着剤の間には反射界面が
存在せず、光量損失が極めて小さい。それ故、各基板と
接着剤の界面に反射防止膜を形成する必要がないので、
製造コストの増大を抑えることができる。また、電気光
学装置内で光の反射がないので、この反射光に起因する
誤動作が発生するおそれがないという利点もある。しか
も、接着剤は、それを塗布した第1または第2基板と略
等しい屈折率を有するので、電気光学装置の製造工程に
おいて第1または第2基板の外面に傷が付いたとして
も、このような傷は接着剤で埋められ、修復された状態
になる。さらに、電気光学装置は、第3基板を有する
分、熱容量が大きい。よって、電気光学装置では温度上
昇が小さく、かつ、局部的な温度上昇も起きないので、
温度差に起因する透過率のばらつきや液晶LC等の電気
光学物質の劣化を防止することができる。
た電気光学装置では、以上の効果に加えてケースの開口
部の設計マージンを比較的容易に拡大でき、電気光学装
置における高画質化と低コスト化とを図れる。
て用いた投射型液晶装置の光学系を示す平面図である。
態を示す図2のH−H′線における断面図である。
アクティブマトリクス基板のブロック図、(B)はそれ
にマトリクス状に構成された画素群のうちの1つを拡大
して示すブロック図である。
明基板を面接着する際の様子を示す断面図である。
液晶装置の断面図である。
液晶装置の断面図である。
液晶装置の断面図である。
板の間に接着剤を注入するための工程の説明図である。
の実施の形態において採用可能な各種具体例を示す液晶
装置の断面図である。
置の断面図である。
とが接触する部分の拡大断面図である。
入射角度等により起こり得る問題点を説明するための液
晶装置の端部の拡大断面図である。
の実施の形態における液晶装置の端部の拡大断面図であ
る。
の実施の形態において採用可能な各種具体例を示す液晶
装置の断面図である。
図である。
晶装置の端部の拡大断面図である。
明基板) 302 アクティブマトリクス基板の外面 400 対向基板(第2透明基板) 401 対向電極 402 対向基板400の外面 410 第2の周辺見切り 500 第3透明基板 510 第1の周辺見切り 520 反射防止膜 600 第3透明基板 610 第1の周辺見切り 620 反射防止膜 800 マイクロレンズ 801 マイクロレンズの接着剤 802 カバーガラス 900 ケース 901 ケース900の保持板 902 ケース900のパネル取付枠 903 フレキシブル配線基盤 922 第3透明基板の外面 923 第3透明基板の内面 BM1 遮光膜(ブラックマスク) cap 保持容量 gate 走査線 LC 液晶 sig データ線 px 画素 TFT 画素スイッチング用の薄膜トランジスタ R 赤色光束 G 緑色光束 B 青色光束
Claims (39)
- 【請求項1】 画素電極が形成された第1透明基板と、
該第1透明基板に対向配置された第2透明基板と、該第
2透明基板と前記第1透明基板との間に配置された電気
光学物質とを有する電気光学装置において、 前記第1透明基板および前記第2透明基板のうちの少な
くとも一方の透明基板の外面には、該少なくとも一方の
透明基板と略等しい屈折率を有する接着剤によって該少
なくとも一方の透明基板と略等しい屈折率を有する第3
透明基板が面接着されていることを特徴とする電気光学
装置。 - 【請求項2】 請求項1に記載の電気光学装置におい
て、前記第3透明基板は前記第1透明基板の外面に面接
着され、当該第3透明基板および前記第2透明基板のう
ちの少なくとも一方の透明基板の外面には、偏光機能ま
たは反射防止機能を有する膜が積層されていることを特
徴とする電気光学装置。 - 【請求項3】 請求項1に記載の電気光学装置におい
て、前記第3透明基板は前記第2透明基板の外面に面接
着され、当該第3透明基板および前記第1透明基板のう
ちの少なくとも一方の透明基板の外面には、偏光機能ま
たは反射防止機能を有する膜が積層されていることを特
徴とする電気光学装置。 - 【請求項4】 請求項1に記載の電気光学装置におい
て、前記第3透明基板は前記第1透明基板の外面および
前記第2透明基板の外面の双方に接着され、当該2枚の
第3透明基板の少なくとも一方の透明基板の外面には、
偏光機能または反射防止機能を有する膜が積層されてい
ることを特徴とする電気光学装置。 - 【請求項5】 請求項1から請求項4のいずれか一項に
記載の電気光学装置において、前記接着剤は、硬化後に
も弾性を有していることを特徴とする電気光学装置。 - 【請求項6】 請求項5に記載の電気光学装置におい
て、硬化後の接着剤の針入度は60より大きく、90よ
り小さいことを特徴とする電気光学装置。 - 【請求項7】 請求項5または6記載の電気光学装置に
おいて、接着剤の厚みは、5μmよりも厚く30μmよ
りも薄いことを特徴とする電気光学装置。 - 【請求項8】 請求項1から7のいずれか一項に記載の
電気光学装置において、前記第3透明基板は400nm
以下の紫外線を吸収あるいは反射することを特徴とする
電気光学装置。 - 【請求項9】 請求項2から8のいずれか一項に記載の
電気光学装置において、前記反射防止機能を有する膜は
400nm以下の紫外線を吸収あるいは反射することを
特徴とする電気光学装置。 - 【請求項10】 光源と、該光源からの光を変調する請
求項1から9のいずれか一項に記載の電気光学装置と、
前記電気光学装置により変調された光を投射する投射光
学系とを有することを特徴とする投射型表示装置。 - 【請求項11】 請求項1から請求項9のいずれか一項
に記載の電気光学装置の製造方法であって、前記第3透
明基板を面接着する工程では、当該第3透明基板の内
面、および当該第3透明基板が面接着される透明基板の
外面の双方に前記接着剤を塗布した後、これらの接着剤
同士を最初の接触点として当該2枚の透明基板を重ね合
わせて当該接着剤を押し拡げ、しかる後に当該接着剤を
硬化させることを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 【請求項12】 請求項1から請求項9のいずれか一項
に記載の電気光学装置の製造方法であって、前記第3透
明基板を面接着する工程では、当該第3透明基板と該第
3透明基板が外面に面接着される透明基板との間のう
ち、前記接着剤が塗布される領域の周囲を、部分的な途
切れ部分を備えるシール材で囲んだ後、該シール材で区
画された領域内を減圧状態にして当該領域内に対して前
記部分的な途切れ部分から前記接着剤を減圧注入し、し
かる後に当該接着剤を硬化させることを特徴とする電気
光学装置の製造方法。 - 【請求項13】 請求項11または12に記載の電気光
学装置の製造方法において、当該接着剤を硬化させる工
程では、60℃以上100℃以下の温度で2時間から5
時間熱処理することにより前記接着剤を硬化させること
を特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 【請求項14】 請求項13に記載の電気光学装置の製
造方法において、前記シール材中には、接着剤層の厚さ
を一定にするための固形ギャップ材が添加されているこ
とを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 【請求項15】 表示領域に画素電極が形成された第1
透明基板と、 該第1透明基板に対向配置された第2透明基板と、 該第2透明基板と前記第1透明基板との間に配置された
電気光学物質と、 前記第1及び第2透明基板の少なくとも一方の透明基板
の外面側に設けられた第3透明基板とを具備し、 該第3透明基板の前記表示領域の周辺には第1遮光膜が
備えられていることを特徴とする電気光学装置。 - 【請求項16】 前記第1遮光膜は、前記表示領域の周
辺から前記第3透明基板の縁に至る前記表示領域を囲む
領域に設けられていることを特徴とする請求項15に記
載の電気光学装置。 - 【請求項17】 前記第1及び第2透明基板の一方の前
記表示領域の周辺には第2遮光膜を更に備えており、 該第2遮光膜は、前記1及び第2透明基板間に設けられ
たシール材の形成領域に重ならないように、且つ前記シ
ール材の形成領域よりも内側に設けられていることを特
徴とする請求項15又は請求項16に記載の電気光学装
置。 - 【請求項18】 前記第1遮光膜の少なくとも外面側
は、OD(Optical Density)値2以上
の光反射膜から構成されていることを特徴とする請求項
15から請求項17のいずれか一項に記載の電気光学装
置。 - 【請求項19】 前記第1遮光膜の少なくとも内面側
は、OD値2以上の光吸収膜から構成されていることを
特徴とする請求項15から請求項18のいずれか一項に
記載の電気光学装置。 - 【請求項20】 前記第2遮光膜の少なくとも外面側
は、OD値2以上の光吸収膜から構成されていることを
特徴とする請求項17に記載の電気光学装置。 - 【請求項21】 前記第1遮光膜に対応する開口部を持
ち、且つ前記第1及び第2透明基板並びに前記第3透明
基板を収容する遮光性のケースを更に備えたことを特徴
とする請求項15から請求項20のいずれか一項に記載
の電気光学装置。 - 【請求項22】 前記第3透明基板は、1.0mm以上
の厚みを有することを特徴とする請求項15から請求項
21のいずれか一項に記載の電気光学装置。 - 【請求項23】 前記第3透明基板と前記第1及び第2
透明基板の一方とは、屈折率が略等しい材料から構成さ
れていることを特徴とする請求項15から請求項22の
いずれか一項に記載の電気光学装置。 - 【請求項24】 前記第3透明基板と前記第3透明基板
に対向配置された前記第1及び第2透明基板の一方と
は、前記屈折率に略等しい屈折率を持つ接着剤で接着さ
れていることを特徴とする請求項23に記載の電気光学
装置。 - 【請求項25】 前記第3透明基板と前記第3透明基板
に対向配置された前記第1及び第2透明基板の一方との
間には、空隙が設けられていることを特徴とする請求項
15から請求項23のいずれか一項に記載の電気光学装
置。 - 【請求項26】 前記第3透明基板の外面には、偏光機
能または反射防止膜が形成されていることを特徴とする
請求項15から請求項25のいずれか一項に記載の電気
光学装置。 - 【請求項27】 前記反射防止膜は400nm以下の紫
外線を反射または吸収する機能を有することを特徴とす
る請求項26に記載の電気光学装置。 - 【請求項28】 前記第3基板は400nm以下の紫外
線を反射または吸収することを特徴とする請求項15か
ら27のいずれか一項に記載の電気光学装置。 - 【請求項29】 光源と、該光源から出射された光を集
光する請求項15から28のいずれか一項に記載の電気
光学装置と、当該電気光学装置で光変調した光を投射す
る拡大投射光学系とを有することを特徴とする投射型表
示装置。 - 【請求項30】 表示領域に画素電極が形成された第1
透明基板と、 該第1透明基板に対向配置された第2透明基板と、 該第2透明基板と前記第1透明基板との間に配置された
電気光学物質と、 前記第1及び第2透明基板の少なくとも一方の透明基板
の外面側に設けられた第3透明基板とを具備し、 前記第2透明基板上には前記画素電極の個々に対応して
マトリクス状に配置された複数のマイクロレンズを有す
ることを特徴とする電気光学装置。 - 【請求項31】 光源と、該光源からの光を変調する請
求項30に記載の前記電気光学装置と、当該電気光学装
置で光変調した光を投射する投射光学系とを有すること
を特徴とする投射型表示装置。 - 【請求項32】 表示領域に画素電極が形成された第1
基板と、 前記第1基板に対向配置された第2基板と、 前記第1及び第2基板間に配置された電気光学物質と、 前記第1及び第2基板の少なくとも一方の基板の外面側
に配置された第3基板と、該第3基板上の前記表示領域
の周辺領域に配置された第1遮光膜と、前記第1及び第
2基板の内面側の表示領域の周辺領域に配置された第2
遮光膜とを具備する電気光学装置であって、 前記第1遮光膜の前記有効表示領域側の端部は、前記第
2遮光膜の前記表示領域側の端部よりも周辺側であって
前記第1遮光膜と前記第2遮光膜とは平面的にみて少な
くとも一部で重なるように配置されてなることを特徴と
する電気光学装置。 - 【請求項33】 表示領域に画素電極が形成された第
1基板と、 前記第1基板に対向配置された第2基板と、 前記第1及び第2基板間に配置された電気光学物質と、 前記第1及び第2基板の少なくとも一方の基板の外面側
に配置された第3基板と、該第3基板上の前記表示領域
の周辺領域に配置された第1遮光膜と、前記第1及び第
2基板の内面側の表示領域の周辺領域に配置された第2
遮光膜と、前記表示領域に対応した開口部を持ち前記第
1及び第2基板並びに前記第3基板を収容する遮光性の
ケースを具備する電気光学装置であって、 前記第1遮光膜の前記表示領域側の端部は、前記第2遮
光膜の前記表示領域側の端部よりも周辺側であって前記
第1遮光膜と前記第2遮光膜とは平面的にみて少なくと
も一部で重なるように配置されてなり、 前記遮光性のケースの前記表示領域側の端部は、前記第
1遮光膜の前記表示領域側の端部よりも周辺側であって
前記遮光性のケースと前記第1遮光膜とは平面的にみて
少なくとも一部で重なるように配置されてなることを特
徴とする電気光学装置。 - 【請求項34】 請求項32又は請求項33に記載の電
気光学装置において、前記第2基板上に第3基板が配置
されてなり、前記第1基板はシリコン基板からなり、前
記第2基板及び第3基板は透明ガラス基板からなり、前
記第1基板上の内面側には反射電極が配置されてなるこ
とを特徴とする電気光学装置。 - 【請求項35】 請求項32から34のいずれか一項の
電気光学装置において、前記第2基板と前記第2基板の
外面側に配置された前記第3基板とが接着剤により面接
触されてなり、前記第3基板上の前記第2基板に対向す
る面には前記第1遮光膜が配置され、前記第1遮光膜に
より区画された領域の内側に前記接着剤が配置されてな
ることを特徴とする電気光学装置。 - 【請求項36】 請求項35に記載の電気光学装置であ
って、前記第1遮光膜は5〜30μmの厚さを有するこ
とを特徴とする電気光学装置。 - 【請求項37】 請求項35または請求項36に記載の
電気光学装置の製造方法であって、前記第3基板に部分
的な途切れ部分を備える第1遮光膜を形成した後、前記
第2基板と第3基板とを対向配置し、前記途切れ部分か
ら前記接着剤を注入し、しかる後に当該接着剤を硬化さ
せることを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 【請求項38】 光源と、該光源からの光を変調する請
求項32から37のいずれか一項に記載の電気光学装置
と、該電気光学装置により変調された光を投射する投射
光学手段とを備えることを特徴とする投射型表示装置。 - 【請求項39】 光源の光を複数の色光に分光する色分
離手段と、該色分離手段により分離された各色を変調す
る請求項32から37のいずれか一項に記載の電気光学
装置と、該複数の電気光学装置により変調された光を合
成する合成手段と、該合成手段で合成された光を投射す
る投射光学手段とを備え、各電気光学装置に対応する偏
光板は前記合成手段に貼り付けられていることを特徴と
する投射型表示装置。
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