JPH11223706A - 反射防止フィルム - Google Patents
反射防止フィルムInfo
- Publication number
- JPH11223706A JPH11223706A JP10025854A JP2585498A JPH11223706A JP H11223706 A JPH11223706 A JP H11223706A JP 10025854 A JP10025854 A JP 10025854A JP 2585498 A JP2585498 A JP 2585498A JP H11223706 A JPH11223706 A JP H11223706A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- thin film
- transparent inorganic
- index transparent
- fluorine
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 85
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 83
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 28
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 28
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 27
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 8
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 5
- 235000019646 color tone Nutrition 0.000 abstract 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 13
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 11
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- -1 ITO Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 3
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 2
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N ZrO Inorganic materials [Zr]=O GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 150000002221 fluorine Chemical class 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N indium;tin;hydrate Chemical compound O.[In].[Sn] MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 1
- ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N triacetic acid Chemical compound CC(=O)CC(=O)CC(O)=O ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 光透過性に優れ、高透明性で色調が良く、防
汚性にも優れた反射防止フィルムを提供する。 【解決手段】 有機フィルム2の表面に、高屈折率透明
無機薄膜4と低屈折率透明無機薄膜3との積層膜であっ
て、高屈折率透明無機薄膜4が最表面となる無機積層膜
と、この無機積層膜上のフッ素系有機薄膜6の低屈折率
薄膜とからなる反射防止膜5が形成されてなる反射防止
フィルム1。
汚性にも優れた反射防止フィルムを提供する。 【解決手段】 有機フィルム2の表面に、高屈折率透明
無機薄膜4と低屈折率透明無機薄膜3との積層膜であっ
て、高屈折率透明無機薄膜4が最表面となる無機積層膜
と、この無機積層膜上のフッ素系有機薄膜6の低屈折率
薄膜とからなる反射防止膜5が形成されてなる反射防止
フィルム1。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は反射防止フィルムに
係り、特に、光透過性に優れ、高透明性で色調が良く、
防汚性にも優れた反射防止フィルムに関する。
係り、特に、光透過性に優れ、高透明性で色調が良く、
防汚性にも優れた反射防止フィルムに関する。
【0002】
【従来の技術】OA機器のPDP(プラズマディスプレ
イパネル)や液晶板、車輛ないし特殊建築物の窓枠には
光の反射を防止して高い光透過性を確保するために反射
防止フィルムが適用されている。
イパネル)や液晶板、車輛ないし特殊建築物の窓枠には
光の反射を防止して高い光透過性を確保するために反射
防止フィルムが適用されている。
【0003】従来、この種の用途に用いられる反射防止
フィルムは、TiO2,SiO2,ITO,SnO2,M
gF2等の透明膜を有機フィルム上に積層した構成とさ
れている。
フィルムは、TiO2,SiO2,ITO,SnO2,M
gF2等の透明膜を有機フィルム上に積層した構成とさ
れている。
【0004】また、フッ素系の有機薄膜を有機フィルム
上に形成したものもある。
上に形成したものもある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】フッ素系の有機薄膜は
多層化が困難であるため、従来においては、単層で反射
防止膜とされているが、単層では十分な反射防止性能を
得ることができず、実用性に劣る。
多層化が困難であるため、従来においては、単層で反射
防止膜とされているが、単層では十分な反射防止性能を
得ることができず、実用性に劣る。
【0006】一方、TiO2等の無機薄膜であれば、多
層に積層した反射防止膜とすることができるが、このよ
うな無機系の反射防止膜は、その最表面も無機物質で構
成されるため、反射防止性能には優れるものの、防汚性
が劣るため、更に、別途、特別な防汚処理が必要となる
という欠点がある。
層に積層した反射防止膜とすることができるが、このよ
うな無機系の反射防止膜は、その最表面も無機物質で構
成されるため、反射防止性能には優れるものの、防汚性
が劣るため、更に、別途、特別な防汚処理が必要となる
という欠点がある。
【0007】本発明は上記従来の問題点を解決し、光透
過性に優れ、高透明性で色調が良く、防汚性にも優れた
反射防止フィルムを提供することを目的とする。
過性に優れ、高透明性で色調が良く、防汚性にも優れた
反射防止フィルムを提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の反射防止フィル
ムは、有機フィルムの表面に、少なくとも最上層が高屈
折率透明無機薄膜とされた透明無機膜と該透明無機膜上
に形成されたフッ素系有機薄膜とで構成される反射防止
膜が形成されていることを特徴とする。
ムは、有機フィルムの表面に、少なくとも最上層が高屈
折率透明無機薄膜とされた透明無機膜と該透明無機膜上
に形成されたフッ素系有機薄膜とで構成される反射防止
膜が形成されていることを特徴とする。
【0009】本発明では、反射防止膜の最表面層として
フッ素系有機薄膜を形成することで反射防止機能に加え
て防汚機能を付与することができる。即ち、フッ素系有
機薄膜は防汚性に優れるため、フッ素系有機薄膜を最表
面に形成することで、防汚機能を付与することができ
る。また、このフッ素系有機薄膜の直下の透明無機膜は
高屈折率透明無機薄膜であるので、この高屈折率透明無
機薄膜上に低屈折率のフッ素系有機薄膜を形成すること
で高屈折率膜と低屈折率膜の多層化による高性能な反射
防止機能を得ることができる。
フッ素系有機薄膜を形成することで反射防止機能に加え
て防汚機能を付与することができる。即ち、フッ素系有
機薄膜は防汚性に優れるため、フッ素系有機薄膜を最表
面に形成することで、防汚機能を付与することができ
る。また、このフッ素系有機薄膜の直下の透明無機膜は
高屈折率透明無機薄膜であるので、この高屈折率透明無
機薄膜上に低屈折率のフッ素系有機薄膜を形成すること
で高屈折率膜と低屈折率膜の多層化による高性能な反射
防止機能を得ることができる。
【0010】本発明において、前記透明無機膜は、低屈
折率透明無機薄膜と高屈折率透明無機薄膜とを交互に積
層した無機積層膜であり、前記フッ素系有機薄膜は該無
機積層膜の最上層の高屈折率透明無機薄膜上に形成され
ていることが好ましく、このように構成することで、高
屈折率透明無機薄膜と低屈折率透明無機膜との積層構造
による光の干渉作用で光の反射を効果的に防止し、光透
過性に優れ、高透明性で色調の良い反射防止フィルムを
実現できる。
折率透明無機薄膜と高屈折率透明無機薄膜とを交互に積
層した無機積層膜であり、前記フッ素系有機薄膜は該無
機積層膜の最上層の高屈折率透明無機薄膜上に形成され
ていることが好ましく、このように構成することで、高
屈折率透明無機薄膜と低屈折率透明無機膜との積層構造
による光の干渉作用で光の反射を効果的に防止し、光透
過性に優れ、高透明性で色調の良い反射防止フィルムを
実現できる。
【0011】このフッ素系有機薄膜は、50〜500n
mの光学的な膜厚の低屈折率薄膜であることが、光の干
渉による反射防止機能とフッ素による防汚機能の両立の
上で好適である。
mの光学的な膜厚の低屈折率薄膜であることが、光の干
渉による反射防止機能とフッ素による防汚機能の両立の
上で好適である。
【0012】このフッ素系有機薄膜は、プラズマ重合法
や、ウェットコーティング、或いはウェットコーティン
グした後キュアする方法により成膜することができる。
や、ウェットコーティング、或いはウェットコーティン
グした後キュアする方法により成膜することができる。
【0013】
【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の反
射防止フィルムの実施の形態を詳細に説明する。
射防止フィルムの実施の形態を詳細に説明する。
【0014】図1は本発明の反射防止フィルムの実施の
形態を示す模式的な断面図である。
形態を示す模式的な断面図である。
【0015】図示の如く、本発明の反射防止フィルム1
は、有機フィルム2上に、高屈折率透明無機薄膜4と低
屈折率透明無機薄膜3とを、表面層が高屈折率透明無機
薄膜4となるように交互に積層した無機積層膜と、この
無機積層膜上に形成されたフッ素系有機薄膜6とからな
る反射防止膜5を形成したものである。
は、有機フィルム2上に、高屈折率透明無機薄膜4と低
屈折率透明無機薄膜3とを、表面層が高屈折率透明無機
薄膜4となるように交互に積層した無機積層膜と、この
無機積層膜上に形成されたフッ素系有機薄膜6とからな
る反射防止膜5を形成したものである。
【0016】本発明において、有機フィルム2として
は、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート(PE
T)、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチルメタア
クリレート(PMMA)、アクリル、ポリカーボネート
(PC)、ポリスチレン、トリアセテート、ポリビニル
アルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリウレ
タン、セロファン等、好ましくはPET、PC、PMM
Aの透明フィルムが挙げられる。
は、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート(PE
T)、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチルメタア
クリレート(PMMA)、アクリル、ポリカーボネート
(PC)、ポリスチレン、トリアセテート、ポリビニル
アルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリウレ
タン、セロファン等、好ましくはPET、PC、PMM
Aの透明フィルムが挙げられる。
【0017】有機フィルム2の厚さは得られる反射防止
フィルムの用途による要求特性(例えば、強度、薄膜
性)等によって適宜決定されるが、通常の場合、1μm
〜10mmの範囲とされる。
フィルムの用途による要求特性(例えば、強度、薄膜
性)等によって適宜決定されるが、通常の場合、1μm
〜10mmの範囲とされる。
【0018】高屈折率透明無機薄膜4としては、ITO
(スズインジウム酸化物)又はZnO、Alをドープし
たZnO、TiO2、SnO2、ZrO等の屈折率1.8
以上の薄膜を採用することができる。
(スズインジウム酸化物)又はZnO、Alをドープし
たZnO、TiO2、SnO2、ZrO等の屈折率1.8
以上の薄膜を採用することができる。
【0019】ところで、有機フィルム上に透明無機薄膜
を積層する方式の従来の反射防止フィルムでは、材料に
十分な透明性がなく、特に400nm付近から短い波長
での光の透過率が急激に下がってしまう。そのため、反
射防止フィルムが黄色味がかって見えるという欠点があ
る。透明性の高い材料も提案されてはいるが、成膜速度
が著しく遅い、或いは、350nm付近よりも波長の短
い紫外線に対してかなりの光透過があるため、紫外線カ
ット性が得られないという欠点があった。
を積層する方式の従来の反射防止フィルムでは、材料に
十分な透明性がなく、特に400nm付近から短い波長
での光の透過率が急激に下がってしまう。そのため、反
射防止フィルムが黄色味がかって見えるという欠点があ
る。透明性の高い材料も提案されてはいるが、成膜速度
が著しく遅い、或いは、350nm付近よりも波長の短
い紫外線に対してかなりの光透過があるため、紫外線カ
ット性が得られないという欠点があった。
【0020】これに対して、高屈折率透明無機薄膜の材
料として400nm付近の光の透過性が高く、350n
m付近及びそれ以下の光の吸収が多い材料を用いること
により、より一層優れた可視光透過性と紫外線カット性
とを兼備する反射防止フィルムを実現できる。また、成
膜速度の速い材料を用いることで、生産性を高めること
ができる。
料として400nm付近の光の透過性が高く、350n
m付近及びそれ以下の光の吸収が多い材料を用いること
により、より一層優れた可視光透過性と紫外線カット性
とを兼備する反射防止フィルムを実現できる。また、成
膜速度の速い材料を用いることで、生産性を高めること
ができる。
【0021】特に、酸化亜鉛(ZnO)は、400nm
付近の光の透過性が高く、350nm付近及びそれ以下
の光の吸収が多い材料であり、かつ、成膜速度の速い材
料であるため、高屈折率透明無機薄膜4の材料として酸
化亜鉛を用いることにより、優れた可視光透過性と紫外
線カット性とを兼備し、しかも生産性も良好な反射防止
フィルムを提供することができる。
付近の光の透過性が高く、350nm付近及びそれ以下
の光の吸収が多い材料であり、かつ、成膜速度の速い材
料であるため、高屈折率透明無機薄膜4の材料として酸
化亜鉛を用いることにより、優れた可視光透過性と紫外
線カット性とを兼備し、しかも生産性も良好な反射防止
フィルムを提供することができる。
【0022】一方、低屈折率透明無機薄膜3としてはS
iO2、MgF2、Al2O3等の屈折率が1.6以下の低
屈折率材料よりなる薄膜を採用することができる。これ
ら高屈折率透明無機薄膜3及び低屈折率透明無機薄膜4
の膜厚は光の干渉で可視光領域での反射率を下げるた
め、膜構成、膜種、中心波長により異なってくるが、図
1に示すような3層構造の場合、有機フィルム2側の第
1層(高屈折率透明無機薄膜4)が5〜50nm、第2
層(低屈折率透明無機薄膜3)が5〜50nm、第3層
(高屈折率透明無機薄膜4)が50〜150nm程度の
膜厚で形成するのが好ましい。
iO2、MgF2、Al2O3等の屈折率が1.6以下の低
屈折率材料よりなる薄膜を採用することができる。これ
ら高屈折率透明無機薄膜3及び低屈折率透明無機薄膜4
の膜厚は光の干渉で可視光領域での反射率を下げるた
め、膜構成、膜種、中心波長により異なってくるが、図
1に示すような3層構造の場合、有機フィルム2側の第
1層(高屈折率透明無機薄膜4)が5〜50nm、第2
層(低屈折率透明無機薄膜3)が5〜50nm、第3層
(高屈折率透明無機薄膜4)が50〜150nm程度の
膜厚で形成するのが好ましい。
【0023】このような高屈折率透明無機薄膜4及び低
屈折率透明無機薄膜3は、蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティング、CVD法等により形成することがで
きるが、特に、高屈折率透明無機薄膜としての酸化亜鉛
膜は、金属亜鉛をターゲットとする反応性スパッタ法で
形成するのが好ましい。この場合、スパッタ条件は、O
2100%又はO2−ArでO240%以上の雰囲気条件
とするのが好ましい。
屈折率透明無機薄膜3は、蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティング、CVD法等により形成することがで
きるが、特に、高屈折率透明無機薄膜としての酸化亜鉛
膜は、金属亜鉛をターゲットとする反応性スパッタ法で
形成するのが好ましい。この場合、スパッタ条件は、O
2100%又はO2−ArでO240%以上の雰囲気条件
とするのが好ましい。
【0024】なお、図1に示す反射防止フィルム1の反
射防止膜5は、有機フィルム2上に高屈折率透明無機薄
膜4、低屈折率透明無機薄膜3、高屈折率透明無機薄膜
4、フッ素系有機薄膜6の順で合計4層積層された多層
膜とされたものであるが、この反射防止膜5の無機積層
膜の部分の積層構造は、最上層が高屈折率透明無機薄膜
であれば良く、図示のものの他、次のようなものであっ
ても良い。
射防止膜5は、有機フィルム2上に高屈折率透明無機薄
膜4、低屈折率透明無機薄膜3、高屈折率透明無機薄膜
4、フッ素系有機薄膜6の順で合計4層積層された多層
膜とされたものであるが、この反射防止膜5の無機積層
膜の部分の積層構造は、最上層が高屈折率透明無機薄膜
であれば良く、図示のものの他、次のようなものであっ
ても良い。
【0025】(a) 高屈折率透明無機薄膜を1層のみ
設けたもの (b) 中屈折率透明無機薄膜/高屈折率透明無機薄膜
の順で1層ずつ、合計2層に積層したもの (c) 中屈折率透明無機薄膜/低屈折率透明無機薄膜
/高屈折率透明無機薄膜の順で1層ずつ、合計3層に積
層したもの (d) 高屈折率透明無機薄膜/低屈折率透明無機薄膜
/高屈折率透明無機薄膜/低屈折率透明無機薄膜/高屈
折率透明無機薄膜の順で1層ずつ、合計5層に積層した
もの このような反射防止膜5の最上層として形成されるフッ
素系有機薄膜6としては、FEP(フルオロエチレン−
プロピレン共重合体)、PTFE(ポリテトラフルオロ
エチレン)、ETFE(エチレン−テトラフルオロエチ
レン共重合体)、PVF(ポリフッ化ビニル)、PVD
F(ポリフッ化ビニリデン)等が挙げられる。このよう
なフッ素系有機薄膜6は、一般に屈折率1.3〜1.5
の低屈折率薄膜であったため、このフッ素系有機薄膜6
を反射防止膜5の最表面層として高屈折率透明無機薄膜
4上に形成することで、防汚機能と共に反射防止機能を
得ることができる。
設けたもの (b) 中屈折率透明無機薄膜/高屈折率透明無機薄膜
の順で1層ずつ、合計2層に積層したもの (c) 中屈折率透明無機薄膜/低屈折率透明無機薄膜
/高屈折率透明無機薄膜の順で1層ずつ、合計3層に積
層したもの (d) 高屈折率透明無機薄膜/低屈折率透明無機薄膜
/高屈折率透明無機薄膜/低屈折率透明無機薄膜/高屈
折率透明無機薄膜の順で1層ずつ、合計5層に積層した
もの このような反射防止膜5の最上層として形成されるフッ
素系有機薄膜6としては、FEP(フルオロエチレン−
プロピレン共重合体)、PTFE(ポリテトラフルオロ
エチレン)、ETFE(エチレン−テトラフルオロエチ
レン共重合体)、PVF(ポリフッ化ビニル)、PVD
F(ポリフッ化ビニリデン)等が挙げられる。このよう
なフッ素系有機薄膜6は、一般に屈折率1.3〜1.5
の低屈折率薄膜であったため、このフッ素系有機薄膜6
を反射防止膜5の最表面層として高屈折率透明無機薄膜
4上に形成することで、防汚機能と共に反射防止機能を
得ることができる。
【0026】このフッ素系有機薄膜5は、光の干渉によ
る反射防止機能とフッ素による防汚機能を両立させるた
めには、防汚機能を得ることができる範囲で光学的な膜
厚であることが好ましく、50〜500nmの範囲、例
えば500nmの波長の光の1/4λ(=125nm)
程度とするのが好ましい。
る反射防止機能とフッ素による防汚機能を両立させるた
めには、防汚機能を得ることができる範囲で光学的な膜
厚であることが好ましく、50〜500nmの範囲、例
えば500nmの波長の光の1/4λ(=125nm)
程度とするのが好ましい。
【0027】このようなフッ素系有機薄膜5は、プラズ
マ重合法又はウェットコーティングにより成膜すること
ができ、具体的には、次のような方法で形成される。
マ重合法又はウェットコーティングにより成膜すること
ができ、具体的には、次のような方法で形成される。
【0028】即ち、プラズマ重合法の場合には、C4F8
を原料として、高周波プラズマ電力100Wで5分間と
いう条件で成膜する。プラズマ重合法であれば、非重合
性のガスでも均一に成膜できるという利点がある。
を原料として、高周波プラズマ電力100Wで5分間と
いう条件で成膜する。プラズマ重合法であれば、非重合
性のガスでも均一に成膜できるという利点がある。
【0029】また、ウェットコーティング法の場合に
は、フッ素の置換基を有するアクリルモノマーをトルエ
ンで溶液化した塗布液をグラビアコータによりコーティ
ングし、その後乾燥する。ウェットコーティング法であ
れば、高速で均一に成膜できるという利点がある。特
に、このコーティング後に150℃でキュアするのが好
ましく、これにより密着性の向上、膜の硬度の上昇とい
う効果が奏される。
は、フッ素の置換基を有するアクリルモノマーをトルエ
ンで溶液化した塗布液をグラビアコータによりコーティ
ングし、その後乾燥する。ウェットコーティング法であ
れば、高速で均一に成膜できるという利点がある。特
に、このコーティング後に150℃でキュアするのが好
ましく、これにより密着性の向上、膜の硬度の上昇とい
う効果が奏される。
【0030】このような本発明の反射防止フィルムは、
OA機器のPDPや液晶板の前面フィルタ、或いは、車
輛や特殊建築物の窓材に適用することで、良好な光透過
性と防汚性を確保することができる。
OA機器のPDPや液晶板の前面フィルタ、或いは、車
輛や特殊建築物の窓材に適用することで、良好な光透過
性と防汚性を確保することができる。
【0031】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の反射防止フ
ィルムによれば、光透過性に優れ、高透明性で色調が良
く、防汚性にも優れた反射防止フィルムが提供される。
ィルムによれば、光透過性に優れ、高透明性で色調が良
く、防汚性にも優れた反射防止フィルムが提供される。
【図1】図1は本発明の反射防止フィルムの実施の形態
を示す模式的な断面図である。
を示す模式的な断面図である。
1 反射防止フィルム 2 有機フィルム 3 低屈折率透明無機薄膜 4 高屈折率透明無機薄膜 5 反射防止膜 6 フッ素系有機薄膜
Claims (6)
- 【請求項1】 有機フィルムの表面に、少なくとも最上
層が高屈折率透明無機薄膜とされた透明無機膜と該透明
無機膜上に形成されたフッ素系有機薄膜とで構成される
反射防止膜が形成されていることを特徴とする反射防止
フィルム。 - 【請求項2】 請求項1において、前記透明無機膜は、
低屈折率透明無機薄膜と高屈折率透明無機薄膜とを交互
に積層した無機積層膜であり、前記フッ素系有機薄膜は
該無機積層膜の最上層の高屈折率透明無機薄膜上に形成
されていることを特徴とする反射防止フィルム。 - 【請求項3】 請求項1又は2において、該フッ素系有
機薄膜は膜厚50〜500nmの低屈折率薄膜であるこ
とを特徴とする反射防止フィルム。 - 【請求項4】 請求項1ないし3のいずれか1項におい
て、該フッ素系有機薄膜はプラズマ重合法で成膜された
薄膜であることを特徴とする反射防止フィルム。 - 【請求項5】 請求項1ないし3のいずれか1項におい
て、該フッ素系有機薄膜はウェットコーティングにより
成膜された薄膜であることを特徴とする反射防止フィル
ム。 - 【請求項6】 請求項5において、該フッ素系有機薄膜
はウェットコーティングした後キュアすることにより成
膜された薄膜であることを特徴とする反射防止フィル
ム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10025854A JPH11223706A (ja) | 1998-02-06 | 1998-02-06 | 反射防止フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10025854A JPH11223706A (ja) | 1998-02-06 | 1998-02-06 | 反射防止フィルム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11223706A true JPH11223706A (ja) | 1999-08-17 |
Family
ID=12177425
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10025854A Pending JPH11223706A (ja) | 1998-02-06 | 1998-02-06 | 反射防止フィルム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11223706A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007536137A (ja) * | 2004-05-10 | 2007-12-13 | サン−ゴバン グラス フランス | 光触媒被覆物を有する基板 |
JP2017526972A (ja) * | 2014-08-27 | 2017-09-14 | コーニング精密素材株式会社Corning Precision Materials Co., Ltd. | ディスプレイ装置用基板 |
DE102022121364A1 (de) * | 2022-08-24 | 2024-02-29 | HELLA GmbH & Co. KGaA | Linse für den Einsatz in einem Mehrlinsensystem eines Scheinwerfers eines Kraftfahrzeugs |
-
1998
- 1998-02-06 JP JP10025854A patent/JPH11223706A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007536137A (ja) * | 2004-05-10 | 2007-12-13 | サン−ゴバン グラス フランス | 光触媒被覆物を有する基板 |
JP2017526972A (ja) * | 2014-08-27 | 2017-09-14 | コーニング精密素材株式会社Corning Precision Materials Co., Ltd. | ディスプレイ装置用基板 |
DE102022121364A1 (de) * | 2022-08-24 | 2024-02-29 | HELLA GmbH & Co. KGaA | Linse für den Einsatz in einem Mehrlinsensystem eines Scheinwerfers eines Kraftfahrzeugs |
US12203621B2 (en) | 2022-08-24 | 2025-01-21 | HELLA GmbH & Co. KGaA | Vehicle headlight lens with perfluorocarbon anti-reflective coating |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2019197877A (ja) | コーティングパネル及びその製造方法、ソーラーモジュール | |
JP5549216B2 (ja) | 透明導電性積層体およびその製造方法ならびにタッチパネル | |
JPH0370202B2 (ja) | ||
EP3063002A1 (fr) | Element en couches transparent | |
JPH05502311A (ja) | 導電性、光減衰反射防止被覆 | |
JP5617276B2 (ja) | 透明導電性積層体及びその製造方法 | |
JP4349794B2 (ja) | 導電性を有する多層反射防止膜付透明基板の製造方法 | |
JP2001209038A (ja) | 液晶表示素子用基板 | |
JP2004341541A (ja) | 光学機能性膜、光学機能性フィルム、防眩性反射防止フィルム、その製造方法、偏光板および液晶表示装置 | |
JP2001350002A (ja) | 反射防止フィルム | |
JPH11142603A (ja) | 反射防止フィルム | |
WO2014171149A1 (ja) | 透明導電体及びその製造方法 | |
JP2002122703A (ja) | 反射防止積層体および光学機能性積層体およびそれを用いた表示装置 | |
JPH11223706A (ja) | 反射防止フィルム | |
JP2000241612A (ja) | 反射鏡 | |
JP2013182091A (ja) | 反射防止膜及びその形成方法 | |
JP5098137B2 (ja) | 反射防止フィルム | |
JP4253862B2 (ja) | 反射防止フィルム | |
JP2023126251A (ja) | 自発光型表示装置 | |
CN215375990U (zh) | 一种凹凸状低uv反射膜层设计的镜片 | |
CN119013586A (zh) | 带防反射膜的透明基体和图像显示装置 | |
JP2001318205A (ja) | 反射防止フィルム | |
JPS62143846A (ja) | 透明基板の反射防止処理方法 | |
JP2001096669A (ja) | 反射防止積層体、光学機能性積層体、および表示装置 | |
JP2005062584A (ja) | 光吸収性反射防止フィルム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041027 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050621 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050801 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050830 |