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JPH11210451A - 内燃機関における排気浄化用触媒装置 - Google Patents

内燃機関における排気浄化用触媒装置

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JPH11210451A
JPH11210451A JP10296880A JP29688098A JPH11210451A JP H11210451 A JPH11210451 A JP H11210451A JP 10296880 A JP10296880 A JP 10296880A JP 29688098 A JP29688098 A JP 29688098A JP H11210451 A JPH11210451 A JP H11210451A
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way catalyst
adsorbent
downstream
honeycomb carrier
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仁 石井
Masayoshi Nishizawa
公良 西沢
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Nissan Motor Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 三元触媒層をHC吸着材の上層にコーティン
グ等したHC吸着触媒の構成の改良により、冷間時のH
Cの転化性能を高めて、HCの排出の抑制を効果的に図
ること。 【解決手段】 ハニカム担体11のセル12内面に、そ
の排気流れ方向の下流端を残してHC吸着材13をコー
ティングし、HC吸着材13がコーティングされたセル
12内面の全体に三元触媒層14をコーティングし、ハ
ニカム担体11のセル12内面に、排気流れの上流側に
位置する、HC吸着材13の上層に三元触媒層14を備
えた部分Xと、排気流れの下流側に位置する三元触媒層
部分Yと、を形成する。これにより、HCはHC吸着触
媒10の排気流れの上流側に位置する部分から脱離・再
吸着、脱離・再吸着・・・を繰り返し、最終的にHC吸
着材13の上層に三元触媒層14を備えた部分Xの下流
端に達するが、この部分Xの下流端には、三元触媒層部
分Yが設けられているため、この部分Yの三元触媒層1
4でHCが転化される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、内燃機関における
排気浄化用触媒装置に関し、特に、HC吸着触媒による
冷間時のHCの転化性能を高める技術に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、内燃機関の排気通路にHC吸着材
を介装し、冷間時に排気中のHCをHC吸着材に吸着さ
せ、暖機完了後にHC吸着材からHCを脱離させ、この
脱離されたHCを、HC吸着材の排気下流部に配設され
た三元触媒或いは酸化触媒により浄化するようにした排
気浄化装置が知られている(特開平5−59942号公
報等参照)。
【0003】即ち、この排気浄化装置では、HC吸着材
が有する、低温時にHCを吸着し、一定温度以上でHC
を脱離するという性質を利用して、コールドHCをHC
吸着材に吸着させ、排気温度が一定値以上になって活性
化した三元触媒によって、HC吸着材から脱離したHC
を浄化する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ような従来のHC吸着材を有する排気浄化装置にあって
は、次のような問題点がある。
【0005】即ち、排気通路の上流側に位置するHC吸
着材は、下流側に位置する三元触媒よりも温度上昇が早
い。
【0006】このため、HC吸着材からHCの脱離が始
まったときに、後部の三元触媒或いは酸化触媒が活性温
度に達していない場合には、脱離したHCが転化されず
に放出されてしまう虞があり、冷間時のHCの排出を抑
制できない。
【0007】ところで、図7に示すように、HC吸着材
1の上層に三元触媒層2を備えて構成されるHC吸着触
媒が考えられているが、こうしたHC吸着触媒にあって
は、次のような問題点がある。
【0008】即ち、機関の冷間始動後、HC吸着触媒の
温度が低いときには、HC吸着材1全体にHCが吸着さ
れ、暖機が進んで、排気温度が高くなると、三元触媒層
2は活性を開始する。三元触媒層2の温度は排気流れの
上流側に位置する部分から高くなり、HC吸着材1に吸
着されていたHCは脱離を始め、一旦脱離したHCのう
ち三元触媒層で転化されなかったHCは、三元触媒層2
の温度が低温である後流部分のHC吸着材1に再吸着さ
れる。この後流部分の三元触媒層2の温度が高くなる
と、このHC吸着材1に再吸着されたHCは脱離を始
め、一部は三元触媒層で転化され、残りの脱離したHC
は、同様に三元触媒層2の温度が低温である更に後流部
分のHC吸着材1に再吸着される。
【0009】このように、HCはHC吸着触媒の排気流
れの下流側に位置する部分にかけて、脱離・再吸着、脱
離・再吸着・・・を繰り返し、最終的にHC吸着触媒の
下流端に達して放出されてしまい、冷間時のHCの排出
を抑制することができない。
【0010】そこで、本発明は以上のような従来の問題
点に鑑み、三元触媒層をHC吸着材の上層にコーティン
グ等したHC吸着触媒を用いると共に、このHC吸着触
媒の構成の改良により、冷間時のHCの転化性能を高め
て、HCの排出の抑制を効果的に図ることができる内燃
機関における排気浄化用触媒装置を提供することを目的
とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】このため、請求項1に係
る発明の内燃機関における排気浄化用触媒装置は、HC
吸着材の上層に三元触媒層を備えた部分と、該部分の直
下流の三元触媒層部分と、を含んで構成されるHC吸着
触媒を、排気通路に介装したことを特徴とする。
【0012】請求項2に係る発明は、前記三元触媒層部
分は、HC吸着材上層の三元触媒層を、HC吸着材の下
流端部から更に下流方向に伸びた位置まで延設すること
により形成されることを特徴とする。
【0013】請求項3に係る発明は、前記三元触媒層部
分は、HC吸着材の上層に三元触媒層を備えた部分の下
流端部に近接する位置に、独立した三元触媒層を設ける
ことにより形成されることを特徴とする。
【0014】請求項4に係る発明は、前記HC吸着材の
上層に三元触媒層を備えた部分は、上流側のハニカム担
体のセル内面に形成され、前記三元触媒層部分は、前記
上流側のハニカム担体の下流側に配置される下流側のハ
ニカム担体のセル内面に形成されることを特徴とする。
【0015】請求項5に係る発明は、前記下流側のハニ
カム担体のセル密度を、上流側のハニカム担体のセル密
度よりも高密度に形成したことを特徴とする。
【0016】請求項6に係る発明は、前記下流側のハニ
カム担体のセルの壁の厚さを、上流側のハニカム担体の
セルの壁の厚さよりも薄く形成したことを特徴とする。
【0017】請求項7に係る発明は、前記三元触媒層部
分は、HC吸着材の上層の三元触媒層と比較して触媒が
高密度で担持された高担持三元触媒層から構成したこと
を特徴とする。
【0018】請求項8に係る発明は、前記三元触媒層部
分の上層に該三元触媒層と比較して触媒が高密度で担持
された高担持三元触媒層をコーティングしたことを特徴
とする。
【0019】かかる本発明の作用について説明する。
【0020】請求項1に係る発明の内燃機関における排
気浄化用触媒装置において、機関の冷間始動後、HC吸
着触媒の温度が低いときには、HC吸着材全体にHCが
吸着され、暖機が進んで、排気温度が高くなると、三元
触媒層は活性を開始する。三元触媒層の温度は、排気流
れの上流側に位置する部分から高くなり、HC吸着材に
吸着されていたHCは脱離を始め、一旦脱離したHC
は、三元触媒層の温度が低温である後流部分のHC吸着
材に再吸着される。この後流部分の三元触媒層の温度が
高くなると、このHC吸着材に吸着されたHCは脱離を
始め、同様に、脱離したHCは、三元触媒層の温度が低
温である更に後流部分のHC吸着材に再吸着される。
【0021】このように、HCはHC吸着触媒の排気流
れの上流側に位置する部分から脱離・再吸着、脱離・再
吸着・・・を繰り返し、最終的にHC吸着材の上層に三
元触媒層を備えた部分の下流端に達するが、この部分の
下流端には、三元触媒層部分が設けられているため、こ
の部分の三元触媒層でHCが転化される。
【0022】請求項2に係る発明において、三元触媒層
部分は、HC吸着材上層の三元触媒層の延設部分によっ
て容易に形成される。
【0023】請求項3に係る発明において、三元触媒層
部分は、HC吸着材の上層の三元触媒層とは、独立した
三元触媒層によって容易に形成される。
【0024】請求項4においては、上流側と下流側とに
分割して設けられた2つのハニカム担体のセル内面に、
それぞれHC吸着材の上層に三元触媒層を備えた部分と
三元触媒層部分とが別々に形成される。
【0025】従って、例えば、請求項5に係る発明にお
いて、下流側のハニカム担体のセル密度を、上流側のハ
ニカム担体のセル密度よりも高密度に形成することによ
って、三元触媒層部分の表面積、即ち、排気ガスと接触
する面積を、HC吸着材の上層に三元触媒層を備えた部
分の表面積、即ち、排気ガスと接触する面積よりも増大
することができ、或いは、請求項6に係る発明におい
て、下流側のハニカム担体のセルの壁の厚さを、上流側
のハニカム担体のセルの壁の厚さよりも薄く形成するこ
とによって、三元触媒層部分の熱容量を、HC吸着材の
上層に三元触媒層を備えた部分の熱容量よりも小さくす
ることができ、これらにより、上流側のハニカム担体に
おけるHC吸着材の下流端付近がHCの脱離温度に達し
た時点における下流側のハニカム担体における三元触媒
層の活性がより良好となる。
【0026】請求項7及び8に係る発明において、三元
触媒層部分のHC転化性能が向上する。
【0027】
【発明の効果】請求項1に係る発明によれば、HC吸着
材の上層に三元触媒層を備えた部分にて転化しきれない
HCを、前記部分の直下流の三元触媒層部分にて効果的
に転化することができ、冷間時のHCの排出を抑制する
ことができる。
【0028】請求項2に係る発明によれば、HC吸着材
上層の三元触媒層を単に延設することにより、三元触媒
層部分を容易に形成することができる。
【0029】請求項3に係る発明によれば、HC吸着材
の上層に三元触媒層を備えた部分の下流端部に近接する
位置に、独立した三元触媒層を付加することにより、三
元触媒層部分を容易に形成することができる。
【0030】請求項4〜6に係る発明によれば、上流側
のハニカム担体におけるHC吸着材の下流端付近がHC
の脱離温度に達した時点における下流側のハニカム担体
における三元触媒層の活性がより良好となり、三元触媒
層においてHCをより効果的に転化することができ、冷
間時のHCの排出をより抑制することができる。
【0031】請求項7に係る発明によれば、コストアッ
プを抑えつつ、高いHC転化性能を得ることができる。
【0032】請求項8に係る発明によれば、三元触媒層
部分を容易に高担持三元触媒層から構成できる。
【0033】
【発明の実施の形態】以下、添付された図面を参照して
本発明を詳述する。
【0034】図3は、本発明に係る排気浄化用触媒装置
の一実施形態におけるHC吸着触媒10の全体構造を示
す斜視図であり、ハニカム担体11における各セル12
には触媒層がコーティングされている。
【0035】図1及び図2は、夫々ハニカム担体11の
セル12における触媒層の構造を示す図で、図1は、セ
ル12の排気流れ方向に沿った断面図、図2は、セル1
2の排気流れ方向と直交する方向に沿った断面図で、図
1中I−I矢視断面図である。
【0036】これらの図において、ハニカム担体11の
セル12内面には、その排気流れ方向の下流端を残して
ゼオライト等のHC吸着材13がコーティングされ、H
C吸着材13がコーティングされたセル12内面の全体
に貴金属触媒であるパラジウム、ロジウム等の三元触媒
層14がコーティングされる。
【0037】このようなHC吸着材13と三元触媒層1
4のコーティング方法によって、三元触媒層14は、H
C吸着材13の下流端部から更に下流に伸びた位置まで
延設され、ハニカム担体11のセル12内面には、排気
流れの上流側に位置する、HC吸着材13の上層に三元
触媒層14を備えた部分Xと、排気流れの下流側に位置
する三元触媒層部分Yと、が形成される。
【0038】次に、かかる構成のHC吸着触媒10の作
用について説明する。
【0039】機関の冷間始動後、HC吸着触媒10の温
度が低いときには、HC吸着材全体にHCが吸着され、
暖機が進んで、排気温度が高くなると、三元触媒層14
は活性を開始する。三元触媒層14の温度は、排気流れ
の上流側に位置する部分から高くなり、HC吸着材13
に吸着されていたHCは脱離を始め、一旦脱離したHC
のうち一部は三元触媒層14で転化され、残りのHC
は、三元触媒層14の温度が低温である後流部分のHC
吸着材13に再吸着される。この後流部分の三元触媒層
14の温度が高くなると、このHC吸着材13に吸着さ
れたHCは脱離を始め、同様に、三元触媒層14で転化
されずに脱離したHCは、三元触媒層14の温度が低温
である更に後流部分のHC吸着材13に再吸着される。
【0040】このように、HCはHC吸着触媒10の排
気流れの上流側に位置する部分から脱離・再吸着、脱離
・再吸着・・・を繰り返し、最終的にHC吸着材13の
上層に三元触媒層14を備えた部分Xの下流端に達する
が、この部分Xの下流端には、三元触媒層部分Yが設け
られているため、この部分Yの三元触媒層14でHCが
転化される。
【0041】従って、HC吸着触媒10の下流端からの
HCの放出が抑制され、冷間時のHCの排出を抑制する
ことができる。
【0042】尚、三元触媒層部分Yは、三元触媒層14
にて転化しきれなかった分のHCを転化できれば良いた
め、小容量で良い。
【0043】又、三元触媒層部分Yを、HC吸着材13
の上層の三元触媒層14と比較して触媒が高密度で担持
された高担持三元触媒層から構成するのが好ましく、こ
の場合、図4に示すように、三元触媒層部分Yの上層に
三元触媒層14と比較して触媒が高密度で担持された高
担持三元触媒層15をコーティングすれば良い。
【0044】これにより、コストアップを抑えつつ、高
いHC転化性能を得ることができる。
【0045】更に、上記の実施形態においては、HC吸
着材13上層の三元触媒層14を、HC吸着材13の下
流端部から更に下流に伸びた位置まで延設することによ
り三元触媒層部分Yを形成するようにしたが、図5に示
すように、HC吸着材13の上層に三元触媒層14を備
えた部分Xの下流端部に近接する位置に、独立した三元
触媒層16を三元触媒層部分Yとして設けることにより
HC吸着触媒10を構成しても良い。
【0046】この場合、セル12内面にその下流端を残
してHC吸着材13をコーティングし、このHC吸着材
13の上層に三元触媒層14をコーティングすると共
に、セル12内面の下流端に三元触媒層16をコーティ
ングする。
【0047】又、図6は、HC吸着材13の上層に三元
触媒層14を備えた部分Xの下流端部に近接する位置
に、独立した三元触媒層16を三元触媒層部分Yとして
設ける場合の他の実施形態を示している。
【0048】この実施形態においては、ハニカム担体1
1が上流側と下流側とに分割され、上流側のハニカム担
体11Aと、この上流側のハニカム担体11Aの下流側
に配置される下流側のハニカム担体11Bと、が設けら
れる。
【0049】そして、HC吸着材13の上層に三元触媒
層14を備えた部分Xは、上流側のハニカム担体11A
のセル12a内面に形成され、三元触媒層部分Yは、下
流側のハニカム担体11Bのセル12b内面に形成され
る。
【0050】かかる実施形態においては、上流側と下流
側とに分割して設けられた2つのハニカム担体11A,
11Bの各セル12a,12b内面に、それぞれHC吸
着材13の上層に三元触媒層14を備えた部分Xと、三
元触媒層部分Yとを別々に形成することにより、単一の
ハニカム担体にHC吸着材13の上層に三元触媒層14
を備えた部分Xと三元触媒層部分Yとを並べて設けた場
合と比較して、次の利点がある。
【0051】即ち、下流側のハニカム担体11Bのセル
12bの密度を、上流側のハニカム担体11Aのセル1
2aの密度よりも高密度に形成することによって、三元
触媒層部分Yの表面積、即ち、排気ガスと接触する面積
を、HC吸着材13の上層に三元触媒層14を備えた部
分Xの表面積、即ち、排気ガスと接触する面積よりも増
大することができる。
【0052】或いは、下流側のハニカム担体11Bのセ
ル12bの壁の厚さを、上流側のハニカム担体11Aの
セル12aの壁の厚さよりも薄く形成することによっ
て、三元触媒層部分Yの熱容量を、HC吸着材13の上
層に三元触媒層14を備えた部分の熱容量よりも小さく
することができる。
【0053】このように、ハニカム担体11を上流側と
下流側とに2つに分割して、上流側のハニカム担体11
Aと下流側のハニカム担体11Bの各セルの密度や各セ
ルの壁の厚さを上述したように異ならせることにより、
上流側のハニカム担体11AにおけるHC吸着材13の
下流端付近がHCの脱離温度に達した時点における下流
側のハニカム担体11Bにおける三元触媒層16の活性
がより良好となり、三元触媒層16においてHCをより
効果的に転化することができ、冷間時のHCの排出をよ
り抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係る排気浄化用触媒装置の一実施形
態におけるHC吸着触媒の構造を示す図で、HC吸着触
媒の1セルの排気流れ方向に沿った断面図
【図2】 1セルの排気流れ方向と直交する方向に沿っ
た断面図で、図1中I−I矢視断面図
【図3】 同上のHC吸着触媒の全体構造を示す斜視図
【図4】 他の実施形態を示すHC吸着触媒の1セルの
排気流れ方向に沿った断面図
【図5】 更に他の実施形態を示すHC吸着触媒の1セ
ルの排気流れ方向に沿った断面図
【図6】 更に他の実施形態を示すHC吸着触媒の1セ
ルの排気流れ方向に沿った断面図
【図7】 HC吸着触媒の1セルの排気流れ方向に沿っ
た断面図
【符号の説明】
10 HC吸着触媒 11A 上流側ハニカム担体 11B 下流側ハニカム担体 12a,12b セル 13 HC吸着材 14 三元触媒層 15 高担持三元触媒層 16 三元触媒層 X HC吸着材の上層に三元触媒層を備えた部分 Y 三元触媒層部分
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI F01N 3/28 301 B01D 53/36 ZABC 103B

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】HC吸着材の上層に三元触媒層を備えた部
    分と、該部分の直下流の三元触媒層部分と、を含んで構
    成されるHC吸着触媒を、排気通路に介装したことを特
    徴とする内燃機関における排気浄化用触媒装置。
  2. 【請求項2】前記三元触媒層部分は、HC吸着材上層の
    三元触媒層を、HC吸着材の下流端部から更に下流方向
    に伸びた位置まで延設することにより形成されることを
    特徴とする請求項1記載の内燃機関における排気浄化用
    触媒装置。
  3. 【請求項3】前記三元触媒層部分は、HC吸着材の上層
    に三元触媒層を備えた部分の下流端部に近接する位置
    に、独立した三元触媒層を設けることにより形成される
    ことを特徴とする請求項1記載の内燃機関における排気
    浄化用触媒装置。
  4. 【請求項4】前記HC吸着材の上層に三元触媒層を備え
    た部分は、上流側のハニカム担体のセル内面に形成さ
    れ、前記三元触媒層部分は、前記上流側のハニカム担体
    の下流側に配置される下流側のハニカム担体のセル内面
    に形成されることを特徴とする請求項3記載の内燃機関
    における排気浄化用触媒装置。
  5. 【請求項5】前記下流側のハニカム担体のセル密度を、
    上流側のハニカム担体のセル密度よりも高密度に形成し
    たことを特徴とする請求項4記載の内燃機関における排
    気浄化用触媒装置。
  6. 【請求項6】前記下流側のハニカム担体のセルの壁の厚
    さを、上流側のハニカム担体のセルの壁の厚さよりも薄
    く形成したことを特徴とする請求項4又は5記載の内燃
    機関における排気浄化用触媒装置。
  7. 【請求項7】前記三元触媒層部分は、HC吸着材の上層
    の三元触媒層と比較して触媒が高密度で担持された高担
    持三元触媒層から構成したことを特徴とする請求項1〜
    6のうちいずれか1つに記載の内燃機関における排気浄
    化用触媒装置。
  8. 【請求項8】前記三元触媒層部分の上層に該三元触媒層
    と比較して触媒が高密度で担持された高担持三元触媒層
    をコーティングしたことを特徴とする請求項7記載の内
    燃機関における排気浄化用触媒装置。
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