JPH11191582A - Cassette conveying system - Google Patents
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- JPH11191582A JPH11191582A JP35939297A JP35939297A JPH11191582A JP H11191582 A JPH11191582 A JP H11191582A JP 35939297 A JP35939297 A JP 35939297A JP 35939297 A JP35939297 A JP 35939297A JP H11191582 A JPH11191582 A JP H11191582A
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Landscapes
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造ライン
において、ウエハを収納するカセットを半導体製造装置
間で移動させるカセット搬送システムに関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cassette transfer system for moving a cassette for storing wafers between semiconductor manufacturing apparatuses in a semiconductor manufacturing line.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体の製造は、ウエハ上にミクロン単
位の微細加工を施すため、ウエハ上への異物、例えば塵
埃粒子、ケミカルヒュームおよびミスト等の付着が直接
に製品の歩留まり低下の要因となる。このため、半導体
製造ラインは、従来より、異物が低レベルに厳しく管理
された、清浄度の高い環境であるクリーンルーム内に設
けられている。図15は、従来の一般的なクリーンルー
ムの空調設備を示す図である。図において、1は外気を
取り入れ温湿度を制御する外調機、2は動力供給設備や
環境保全設備等が配置されたユーティリティゾーン、3
は消音器、4はドライコイル、5は循環ファン、6は天
井フィルター7が設置された天井チャンバー、8は清浄
度レベルの異なるエリアを区分けする仕切り壁、9は半
導体製造装置のローダ/アンローダ部およびカセット搬
送装置等が配置された作業エリア、10は装置メンテナ
ンスを行うメンテナンスエリア、11は作業エリア9の
床一面に設けられ、ユーティリティゾーン2にエアーを
通過させるグレーティング、12は検査装置等を含む半
導体製造装置、13は無塵衣を着用した作業者、18は
ウエハを収納するカセット、19はカセット18搬送用
の台車、35は台車19の走行ルートである軌道を示し
ている。なお図中、矢印はエアーの流れを示している。2. Description of the Related Art In the manufacture of semiconductors, since fine processing in the order of microns is performed on a wafer, foreign matter, for example, dust particles, chemical fumes, mist, etc., on the wafer directly causes a reduction in product yield. . For this reason, the semiconductor manufacturing line has conventionally been provided in a clean room, which is a highly clean environment in which foreign substances are strictly controlled to a low level. FIG. 15 is a diagram illustrating a conventional general clean room air conditioner. In the figure, 1 is an external conditioner that takes in outside air and controls temperature and humidity, 2 is a utility zone in which power supply equipment, environmental protection equipment, and the like are arranged, 3
Is a silencer, 4 is a dry coil, 5 is a circulation fan, 6 is a ceiling chamber in which a ceiling filter 7 is installed, 8 is a partition wall that separates areas having different cleanliness levels, and 9 is a loader / unloader section of a semiconductor manufacturing apparatus. And a work area in which cassette transport devices and the like are arranged, 10 is a maintenance area for performing device maintenance, 11 is provided on the entire floor of the work area 9, and a grating that allows air to pass through the utility zone 2, and 12 includes an inspection device and the like. Reference numeral 13 denotes a semiconductor manufacturing apparatus, 13 denotes an operator wearing a dust-free garment, 18 denotes a cassette for storing wafers, 19 denotes a carriage for transporting the cassette 18, and 35 denotes a track as a traveling route of the carriage 19. Note that, in the drawing, arrows indicate the flow of air.
【0003】従来のクリーンルームは、外調機1により
外気を取り入れ、温湿度を制御すると共に塵埃粒子を所
定の清浄度に管理したエアーを、ユーティリティゾーン
2へ供給する。その後、エアーは消音器3、ドライコイ
ル4、循環ファン5を経由してさらに温湿度を制御さ
れ、天井チャンバー6に導入される。続いて、エアーは
天井チャンバー6内に設置された天井フィルター7、例
えばHEPA、ULPAにて塵埃粒子を除去され、仕切
壁8で区分けされた作業エリア9とメンテナンスエリア
10にそれぞれ規定の清浄度レベルのエアー、例えば、
作業エリア9はクラス1〜10、メンテナンスエリア1
0はクラス1000〜10000程度のエアーが供給さ
れる。作業エリア9およびメンテナンスエリア10に導
入されたエアーは、床面のグレーティング11を通過し
て循環ファン5により再び天井チャンバー6へ循環され
る。また、クリーンルームは、外気からの異物侵入を防
止するために外気よりも陽圧状態としている。In a conventional clean room, outside air is taken in by an external air conditioner 1, temperature and humidity are controlled, and air in which dust particles are controlled to a predetermined cleanliness level is supplied to a utility zone 2. Thereafter, the temperature of the air is further controlled through the silencer 3, the dry coil 4, and the circulation fan 5, and the air is introduced into the ceiling chamber 6. Subsequently, air is filtered by a ceiling filter 7 installed in the ceiling chamber 6, for example, HEPA or ULPA, to remove dust particles, and to a prescribed cleanliness level in the work area 9 and the maintenance area 10 divided by the partition wall 8. Air, for example
Work area 9 is class 1-10, maintenance area 1
For 0, air in the class of about 1,000 to 10,000 is supplied. The air introduced into the work area 9 and the maintenance area 10 passes through the grating 11 on the floor, and is circulated again to the ceiling chamber 6 by the circulation fan 5. Further, the clean room is in a more positive pressure state than the outside air in order to prevent foreign substances from entering from the outside air.
【0004】このクリーンルーム内に設置される検査装
置等を含む半導体製造装置12は、数百台に及ぶ種類が
あり、メンテナンスや薬液交換が頻繁に行われている。
このメンテナンス時に発生するケミカルヒューム/ミス
トおよび異物の拡散を防止するため、従来より作業エリ
ア9とメンテナンスエリア10を仕切壁8または隔離幕
等で隔離し、作業エリア9をメンテナンスエリア10よ
りも高い清浄度レベルにしていた。また、ウエハを収納
したカセット18の搬送は、従来、作業エリア9内に設
けられた軌道35、例えば半導体製造装置12上の空間
に設けられた一本のループ状レールに、リニア誘導モー
タを駆動源とする台車19を走行させ、各製造工程間の
カセット移動を行っていた。その際、台車19の停止位
置からカセットを一時保管するストッカー9aに移載し
て一旦保管し、このストッカー9aに保管されていたカ
セット18を各半導体製造装置12まで、主に作業者1
3によって搬送していた。[0004] There are several hundred types of semiconductor manufacturing apparatuses 12 including an inspection apparatus and the like installed in the clean room, and maintenance and chemical liquid exchange are frequently performed.
In order to prevent the diffusion of the chemical fumes / mist and foreign substances generated during the maintenance, the work area 9 and the maintenance area 10 are conventionally separated by a partition wall 8 or a separating curtain, and the work area 9 is cleaned higher than the maintenance area 10. Was on the level. Conventionally, the cassette 18 containing the wafers is transported by driving a linear induction motor to a track 35 provided in the work area 9, for example, a single loop-shaped rail provided in a space above the semiconductor manufacturing apparatus 12. The trolley 19, which is the source, is run, and the cassette is moved between the respective manufacturing processes. At this time, the cassette 18 is transferred from the stop position of the cart 19 to the stocker 9a for temporarily storing the cassette and temporarily stored, and the cassette 18 stored in the stocker 9a is mainly transferred to each semiconductor manufacturing apparatus 12 by the worker 1
3 had been conveyed.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】このように、従来のク
リーンルームにおいては、直接にウエハを扱う作業エリ
ア9を高い清浄度レベルに保つために、半導体製造装置
12のメンテナンスは作業エリア9よりも清浄度レベル
の低いメンテナンスエリア10で行うようにしていた。
しかしながら、すべての半導体製造装置12に対してメ
ンテナンスエリア10でメンテナンスを行うことは装置
の配置上困難であり、実際には作業エリア9内でメンテ
ナンスを行うことがあった。その場合、メンテナンス時
に発生するケミカルヒューム/ミストおよび異物の拡散
により、作業エリア9の清浄度レベルが低下するという
問題があった。近年、LSIの微細化、高集積化に伴い
歩留まり低下要因は粒子汚染から化学(ケミカル)汚染
が問題となってきている。化学汚染には例えば、酸、ア
ルカリガス、揮発性ボロン、リン、有機ガス等があり、
これらの発生源としては例えば作業者13、部材、内装
材、外部からの侵入とさまざまである。酸性ガス特にH
Fは、フィルタろ材からのボロンの揮発を促進してお
り、アルカリガスはレジストの解像障害になっている。
ボロン、リンはLSI製品の動作不良の原因となってお
り、有機ガスは絶縁膜の耐圧低下やレンズの曇り等の障
害を発生させており、いずれも重要な課題であった。As described above, in the conventional clean room, in order to maintain the work area 9 for directly handling wafers at a high cleanliness level, the maintenance of the semiconductor manufacturing apparatus 12 is performed more cleanly than the work area 9. The maintenance is performed in the maintenance area 10 having a low level.
However, it is difficult to perform maintenance on all the semiconductor manufacturing apparatuses 12 in the maintenance area 10 due to the arrangement of the apparatuses. In practice, the maintenance may be performed in the work area 9. In this case, there is a problem that the cleanliness level of the work area 9 is reduced due to the diffusion of the chemical fume / mist and foreign matter generated during the maintenance. In recent years, with the miniaturization and high integration of LSIs, the cause of a decrease in yield has been the problem of chemical (chemical) contamination from particle contamination. Chemical pollution includes, for example, acids, alkali gases, volatile boron, phosphorus, organic gases, etc.
These sources include, for example, workers 13, members, interior materials, and intrusions from the outside. Acid gas, especially H
F promotes the volatilization of boron from the filter medium, and the alkali gas is an obstacle to the resolution of the resist.
Boron and phosphorus cause malfunctions of LSI products, and organic gases cause troubles such as a decrease in withstand voltage of insulating films and clouding of lenses, and both are important issues.
【0006】また、従来の作業エリア9はその容積が非
常に大きく、これを高清浄度レベルに保つためには多大
な動力を必要としていた。従来の半導体製造工場で使用
する電気の約40%はクリーンルームの空調稼働に要す
るものであり、空調費の削減が望まれていた。また、従
来のカセット搬送方法では、作業エリア9内に設けられ
た一本のループ状の軌道35を台車19が走行するた
め、走行コースに選択の余地がなく、台車19すなわち
カセット18の流れが停滞することがあった。また、カ
セット18には製品となるウエハが収納されているた
め、発塵源である作業者13が直接カセット18を搬送
することは好ましくなかった。Further, the conventional work area 9 has a very large volume, and requires a large amount of power to keep it at a high cleanliness level. Approximately 40% of the electricity used in conventional semiconductor manufacturing plants is required for air-conditioning operation in a clean room, and reduction in air-conditioning costs has been desired. In addition, in the conventional cassette transport method, since the carriage 19 travels on a single loop-shaped track 35 provided in the work area 9, there is no choice in the traveling course, and the flow of the carriage 19, ie, the flow of the cassette 18, is reduced. There was a stagnation. Further, since wafers to be products are stored in the cassette 18, it is not preferable that the worker 13 serving as a dust source directly transports the cassette 18.
【0007】本発明は、上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、半導体製造ラインにおいて、ケ
ミカルヒューム/ミストおよび異物による歩留まり低下
を防止すると共に、クリーンルームの空調稼働費を削減
し、さらに、ウエハを収納するカセットが、半導体製造
装置間で停滞することなく、速やかに移動することが可
能なカセット搬送システムを提供することを目的とす
る。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problems, and in a semiconductor manufacturing line, it is possible to prevent a decrease in yield due to chemical fumes / mist and foreign matters, and to reduce the operating cost of air conditioning in a clean room. It is still another object of the present invention to provide a cassette transport system in which a cassette for accommodating wafers can be quickly moved without stagnation between semiconductor manufacturing apparatuses.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】この発明に係わるカセッ
ト搬送システムは、複数の半導体製造装置が設置された
作業エリア、作業エリアの床下部に設けられ、半導体製
造装置の設置位置に対応して軌道が設けられると共に、
作業エリアよりも高清浄度に保たれたカセット搬送エリ
ア、ウエハを収納するカセットを載置して上記軌道上を
走行し、カセットを各半導体製造装置間で移動させる台
車およびその駆動手段、カセット搬送エリアと各半導体
製造装置のローダ/アンローダ部を接続し、カセット搬
送エリアと同等の高清浄度に保たれたカセット昇降エリ
ア、半導体製造装置のローダ/アンローダ部にそれぞれ
設けられたカセットハンドリングロボット、カセット昇
降エリアに設けられ、カセットハンドリングロボットと
上記台車との間でカセットの受け渡しを行うカセット昇
降手段を備えたものである。また、カセット搬送エリア
の高さは、カセットを載置した台車の走行が可能な程
度、例えば約1mとするものである。さらに、カセット
搬送エリア、カセット昇降エリアおよび半導体製造装置
のローダ/アンローダ部は、ケミカルフリーエアーまた
は高純度ドライエアーで満たされているものである。A cassette transport system according to the present invention is provided in a work area in which a plurality of semiconductor manufacturing apparatuses are installed, a lower part of the work area, and a track corresponding to an installation position of the semiconductor manufacturing apparatuses. Is provided,
A cassette transport area maintained at a higher degree of cleanliness than the work area, a cart for mounting a cassette for storing wafers, traveling on the above-mentioned track, and moving the cassette between semiconductor manufacturing apparatuses, its driving means, and cassette transport. The area is connected to the loader / unloader section of each semiconductor manufacturing equipment, and the cassette elevating / lowering area maintained at the same high cleanliness level as the cassette transport area, the cassette handling robot and the cassette provided respectively in the loader / unloader section of the semiconductor manufacturing equipment. It is provided with a cassette elevating means provided in the elevating area for transferring cassettes between the cassette handling robot and the carriage. Further, the height of the cassette transfer area is set to such an extent that the carriage on which the cassette is mounted can travel, for example, about 1 m. Further, the cassette transport area, the cassette elevating area, and the loader / unloader section of the semiconductor manufacturing apparatus are filled with chemical free air or high-purity dry air.
【0009】また、規則性を持って複数の半導体製造装
置相互間に配置された複数のループ状レールおよび直線
レールを有する軌道と、ウエハを収納するカセットを載
置して軌道上を走行し、カセットを各半導体製造装置間
で移動させる台車およびその駆動手段と、台車に載置さ
れたカセットの移動先である次工程の半導体製造装置を
選定し、半導体製造装置までの台車の走行ルートを決定
する制御手段を備えたものである。また、ループ状レー
ルは、格子状に配置された直線レールに内接して設けら
れ、ループ状レールと直線レールは、互いに接する部分
を共有しているものである。さらに、ループ状レールお
よび直線レールは、共有部分からそれぞれの単独部分へ
分離する箇所において、左右および直進のいずれか一方
向に走行方向を切り換える仕切り板を有するものであ
る。In addition, a track having a plurality of loop-shaped rails and linear rails arranged between a plurality of semiconductor manufacturing apparatuses with regularity, and a cassette for accommodating wafers are placed and run on the track, A trolley for moving the cassette between the semiconductor manufacturing apparatuses and its driving means, and a semiconductor manufacturing apparatus for the next process to which the cassette mounted on the trolley is to be moved, and a traveling route of the trolley to the semiconductor manufacturing apparatus is determined. Control means. Further, the loop-shaped rail is provided so as to be inscribed in the straight rails arranged in a lattice shape, and the loop-shaped rail and the straight rail share a portion in contact with each other. Furthermore, the loop-shaped rail and the straight rail have a partition plate that switches the running direction in one of left, right, and straight directions at a location where the common rail is separated from the common rail to a single rail.
【0010】また、軌道は、レール上の台車の有無を検
出するセンサを備えているものである。また、制御手段
は、台車に載置されたカセットの移動先である次工程の
半導体製造装置までの最短走行ルートを検索すると共
に、最短走行ルート上の他の台車の有無をセンサにより
検出し、最短走行ルート上に他の台車が検出された場合
には、他の走行ルートを検索すると共に他の走行ルート
上の他の台車の有無を検出し、他の台車が検出されなか
ったとき、他の走行ルートを台車の走行ルートとするも
のである。さらに、制御手段は、台車に載置されたカセ
ットの移動先である次工程の半導体製造装置までの最短
走行ルートまたは他の走行ルートについて、走行時の他
の台車との干渉の有無を予測し、他の台車が検出され
ず、且つ走行時に他の台車との干渉が無いと判断したル
ートを台車の走行ルートとするものである。また、軌道
は、半導体製造装置が設置された作業エリアの床下部の
ほぼ全面に設けられたカセット搬送エリアに敷設されて
おり、カセット搬送エリアは作業エリアよりも高清浄度
に保たれているものである。The track is provided with a sensor for detecting the presence or absence of a bogie on the rail. Further, the control means, while searching for the shortest running route to the semiconductor manufacturing apparatus of the next process, which is the destination of the cassette mounted on the truck, detects the presence or absence of another bogie on the shortest running route by a sensor, When another bogie is detected on the shortest running route, the other bogies are searched and the presence or absence of other bogies on other running routes is detected.If no other bogie is detected, another bogie is detected. Is set as the traveling route of the bogie. Further, the control means predicts, for the shortest traveling route or another traveling route to the semiconductor manufacturing apparatus in the next process, which is the destination of the cassette mounted on the truck, whether or not there is interference with another truck during traveling. The route in which no other bogie is detected and there is no interference with other bogies during traveling is defined as the bogie traveling route. In addition, the track is laid in a cassette transfer area provided almost all over the lower floor of the work area where the semiconductor manufacturing equipment is installed, and the cassette transfer area is maintained at a higher degree of cleanliness than the work area. It is.
【0011】[0011]
【発明の実施の形態】実施の形態1.以下に、本発明の
実施の形態を図について説明する。図1は、本発明の実
施の形態1であるカセット搬送システムを採用したクリ
ーンルームの空調設備を示す図である。図において、1
は外気を取り入れ温湿度を制御する外調機、2a、2b
は動力供給設備や環境保全設備等が配置されたユーティ
リティゾーン、3は消音器、4はドライコイル、5は循
環ファン、6は天井フィルター7が設置された天井チャ
ンバー、12は検査装置等を含む半導体製造装置、13
は無塵衣を着用した作業者、14は外調機1からエアー
を供給され、ケミカルフリーエアーをユーティリティゾ
ーン2bに供給するケミカルフリーエアー生成装置、9
9は半導体製造装置12が配置され、作業およびメンテ
ナンスが行われる作業エリア、16は、作業エリア99
の床15下部のほぼ全面に設けられた高清浄度のカセッ
ト搬送エリア、17は塵埃粒子を除去するフィルタ、1
8はウエハを収納するカセット、19はカセット18搬
送用の台車、20はカセット搬送エリア16と同レベル
の高清浄度に保たれた半導体製造装置12のローダ/ア
ンローダ部である。このローダ/アンローダ部20とカ
セット搬送エリア16は、カセット昇降エリア(図示せ
ず)によって接続されており、このカセット昇降エリア
には、半導体製造装置12のローダ/アンローダ部20
に設けられたカセットハンドリングロボットと台車19
の間でカセット18の受け渡しを行うカセット昇降手段
が備えられている。なお、図中、矢印はエアーの流れを
示している。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiment 1 An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing an air conditioner of a clean room employing the cassette transport system according to the first embodiment of the present invention. In the figure, 1
Is an air conditioner that takes in outside air and controls temperature and humidity, 2a, 2b
Is a utility zone in which power supply facilities and environmental protection facilities are arranged, 3 is a silencer, 4 is a dry coil, 5 is a circulation fan, 6 is a ceiling chamber in which a ceiling filter 7 is installed, and 12 includes an inspection device and the like. Semiconductor manufacturing equipment, 13
Is a worker wearing a dust-free garment, 14 is a chemical-free air generator that is supplied with air from the external conditioning machine 1 and supplies chemical-free air to the utility zone 2b, 9
Reference numeral 9 denotes a work area in which the semiconductor manufacturing apparatus 12 is arranged and work and maintenance are performed, and 16 denotes a work area 99.
A high-cleanness cassette transfer area provided on almost the entire lower surface of the floor 15, a filter 17 for removing dust particles,
Reference numeral 8 denotes a cassette for accommodating wafers, reference numeral 19 denotes a carriage for transporting the cassette 18, and reference numeral 20 denotes a loader / unloader section of the semiconductor manufacturing apparatus 12 maintained at the same high level of cleanliness as the cassette transport area 16. The loader / unloader unit 20 and the cassette transport area 16 are connected by a cassette elevating area (not shown). The cassette elevating area includes the loader / unloader unit 20 of the semiconductor manufacturing apparatus 12.
Cassette handling robot and trolley 19 provided in
Cassette elevating means for transferring the cassette 18 between the cassettes. In the drawings, arrows indicate the flow of air.
【0012】本実施の形態におけるクリーンルームは、
外調機1により外気を取り入れ、温湿度を制御すると共
に塵埃粒子を第一の清浄度に管理したエアーを、ユーテ
ィリティゾーン2aへ供給する。その後、エアーは消音
器3、ドライコイル4、循環ファン5を経由してさらに
温湿度を制御され、天井チャンバー6に導入される。続
いて、エアーは天井チャンバー6内に設置された天井フ
ィルター7、例えばHEPA、ULPAにて塵埃粒子を
除去され、第2の清浄度、例えばクラス1000〜10
000のエアーが作業エリア99に供給される。この
時、作業エリア99は、クリーンルーム外部に対して陽
圧状態とする。一方、外調機1からケミカルフリーエア
ー生成装置14を経由してユーティリティゾーン2bに
供給された第三の清浄度のケミカルフリーエアーは、消
音器3、ドライコイル4、循環ファン5を経由してさら
に温湿度を制御され、フィルター17、例えばHEP
A、ULPAにて塵埃粒子を除去され、第4の清浄度、
例えばクラス1〜10の高清浄度に管理され、カセット
搬送エリア16に供給される。この時、第4の清浄度の
エアーは、カセット搬送エリア16がクリーンルーム外
部に対して陽圧状態になるように供給される。半導体製
造装置12のローダ/アンローダ部20とカセット搬送
エリア16は、カセット昇降手段が設けられたカセット
昇降エリアによって接続されており、ローダ/アンロー
ダ部20とカセット昇降エリアも、カセット搬送エリア
16と同様にケミカルフリーエアーである第4の清浄度
のエアーで満たされている。The clean room according to the present embodiment comprises:
The outside air is taken in by the outside conditioner 1, the temperature and humidity are controlled, and the air in which the dust particles are controlled to the first cleanliness level is supplied to the utility zone 2a. Thereafter, the temperature of the air is further controlled through the silencer 3, the dry coil 4, and the circulation fan 5, and the air is introduced into the ceiling chamber 6. Subsequently, the dust is removed from the air by a ceiling filter 7 installed in the ceiling chamber 6, for example, HEPA or ULPA, and a second cleanliness, for example, class 1000 to 10
000 air is supplied to the work area 99. At this time, the work area 99 is in a positive pressure state with respect to the outside of the clean room. On the other hand, the chemical-free air of the third cleanliness supplied to the utility zone 2 b from the external controller 1 via the chemical-free air generating device 14 passes through the silencer 3, the dry coil 4, and the circulation fan 5. Further, the temperature and the humidity are controlled, and the filter 17, for example, HEP
A, dust particles are removed by ULPA, the fourth cleanliness,
For example, it is controlled to a high degree of cleanliness of classes 1 to 10 and supplied to the cassette transport area 16. At this time, the air having the fourth cleanliness is supplied so that the cassette transfer area 16 is in a positive pressure state outside the clean room. The loader / unloader unit 20 of the semiconductor manufacturing apparatus 12 and the cassette transport area 16 are connected by a cassette lift area provided with a cassette lifting unit, and the loader / unloader unit 20 and the cassette lift area are the same as the cassette transport area 16. Is filled with air of a fourth cleanliness, which is chemical free air.
【0013】次に、カセット搬送エリア16と半導体製
造装置12のローダ/アンローダ部20を接続している
カセット昇降エリアについて説明する。図2(a)、
(b)は、半導体製造装置12のローダ/アンローダ部
20へのカセット18の取り込み方法を説明する側面図
および上面図である。図において、21はカセット搬送
用の台車19が走行する軌道、22は台車の駆動を行う
リニア誘導モータ駆動源、23はカセット昇降エリア、
24は台車19と一時待機用カセット台25の間でカセ
ット18の受け渡しを行うカセットハンドリング部、2
6はカセットハンドリング部24の昇降を行う送りネ
ジ、27は半導体製造装置のローダ/アンローダ部20
に設けられたカセットハンドリングロボットを示してい
る。なお、図中、同一、相当部分には同一符号を付し、
説明を省略する。Next, a description will be given of a cassette elevating area connecting the cassette transport area 16 and the loader / unloader section 20 of the semiconductor manufacturing apparatus 12. FIG. 2 (a),
3B is a side view and a top view for explaining a method of taking the cassette 18 into the loader / unloader unit 20 of the semiconductor manufacturing apparatus 12. FIG. In the drawing, reference numeral 21 denotes a track on which a carriage 19 for carrying a cassette travels; 22, a drive source for a linear induction motor for driving the carriage; 23, a cassette elevating area;
Reference numeral 24 denotes a cassette handling unit for transferring the cassette 18 between the cart 19 and the cassette cassette 25 for temporary standby.
6 is a feed screw for raising and lowering the cassette handling unit 24, and 27 is a loader / unloader unit 20 of the semiconductor manufacturing apparatus.
2 shows a cassette handling robot provided in the cassette. In the drawings, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals,
Description is omitted.
【0014】以下に、台車19により搬送されたカセッ
ト18をローダ/アンローダ部20へ取り込む動作につ
いて説明する。カセット18を載置した台車19は、リ
ニア誘導モータ駆動源22によりカセット搬送エリア1
6に敷設された軌道21上を走行し、カセット18の移
動先である次工程の半導体製造装置の移載ポイントAに
停止する。次に、Y、Z軸およびシータ軸駆動が可能な
カセットハンドリング部24により台車19に載置され
たカセット18を取り上げ、カセット18の姿勢を90
度回転させながら、一時待機用カセット台25(移載ポ
イントB)に移載する。次に、半導体製造装置のローダ
/アンローダ部20に設けられたX、Z軸およびシータ
軸駆動が可能なカセットハンドリングロボット27によ
り、一時待機用カセット台25に載置されたカセット1
8を、ローダ/アンローダ部20の規定の位置、例えば
移載ポイントCにセットする。The operation of loading the cassette 18 conveyed by the cart 19 into the loader / unloader section 20 will be described below. The carriage 19 on which the cassette 18 is mounted is moved by the linear induction motor driving source 22 into the cassette transport area 1.
6 and stops at the transfer point A of the semiconductor manufacturing apparatus in the next process where the cassette 18 is moved. Next, the cassette 18 placed on the carriage 19 is picked up by the cassette handling unit 24 capable of driving the Y, Z axes and theta axes, and the posture of the cassette 18 is set to 90 degrees.
It is transferred to the temporary standby cassette table 25 (transfer point B) while being rotated by an angle. Next, the cassette 1 placed on the temporary standby cassette table 25 by the cassette handling robot 27 capable of driving the X, Z axes and theta axes provided in the loader / unloader section 20 of the semiconductor manufacturing apparatus.
8 is set at a prescribed position of the loader / unloader unit 20, for example, a transfer point C.
【0015】次に、カセット18の払い出し動作につい
て説明する。処理終了後、カセットハンドリングロボッ
ト27により、ローダ/アンローダ部20の移載ポイン
トCまたはDにセットされたカセット18を、一時待機
用カセット台25(移載ポイントB)に移載する。その
後、カセットハンドリング部24によりカセット18を
取り上げ、カセット姿勢を90度回転させながら台車1
9の移載ポイントAにセットする。以上のようなカセッ
ト昇降手段を備えることによって、カセット搬送エリア
16内の台車19と半導体製造装置のローダ/アンロー
ダ部20の間でカセット18の受け渡しが行われる。Next, the dispensing operation of the cassette 18 will be described. After the processing is completed, the cassette 18 set at the transfer point C or D of the loader / unloader section 20 is transferred to the temporary standby cassette table 25 (transfer point B) by the cassette handling robot 27. Thereafter, the cassette 18 is picked up by the cassette handling unit 24, and the bogie 1 is rotated while rotating the cassette posture by 90 degrees.
9 is set at transfer point A. By providing the above-described cassette elevating means, the cassette 18 is transferred between the cart 19 in the cassette transport area 16 and the loader / unloader unit 20 of the semiconductor manufacturing apparatus.
【0016】図3(a)、(b)は、本実施の形態にお
けるカセット保管方法を示す側面図および上面図であ
る。図において、28はカセットを一時保管するための
カセット保管庫、29はカセット保管庫28内に設けら
れたカセットハンドリングロボット、30はカセット保
管棚である。なお、図中、同一、相当部分には同一符号
を付し、説明を省略する。カセット保管庫28とカセッ
ト搬送エリア16は、カセット昇降エリア23によって
接続されており、このカセット昇降エリア23には、カ
セット保管庫28内に設けられたカセットハンドリング
ロボット29と台車19の間でカセット18の受け渡し
を行うカセット昇降手段が備えられている。また、カセ
ット保管庫28およびカセット昇降エリア23は、カセ
ット搬送エリア16と同様に高清浄度のケミカルフリー
エアーで満たされている。FIGS. 3A and 3B are a side view and a top view showing a cassette storage method according to the present embodiment. In the drawing, 28 is a cassette storage for temporarily storing cassettes, 29 is a cassette handling robot provided in the cassette storage 28, and 30 is a cassette storage shelf. In the drawings, the same or corresponding parts have the same reference characters allotted, and description thereof will not be repeated. The cassette storage 28 and the cassette transport area 16 are connected by a cassette elevating area 23, and the cassette elevating area 23 has a cassette 18 between a cassette handling robot 29 provided in the cassette storage 28 and a cart 19. Cassette raising / lowering means for transferring the cassette. The cassette storage 28 and the cassette elevating area 23 are filled with high-purity, chemical-free air, similarly to the cassette transport area 16.
【0017】以下に、本実施の形態におけるカセット搬
送エリア16内の台車19とカセット保管庫28の間の
カセット18の受け渡し方法を説明する。まず、台車1
9により搬送されたカセット18をカセット保管庫28
へ取り込む動作について説明する。カセット18を載置
した台車19は、リニア誘導モータ駆動源22によりカ
セット搬送エリア16に敷設された軌道21上を走行
し、カセット18の一時保管場所であるカセット保管庫
28の移載ポイントAに停止する。次に、Y、Z軸駆動
が可能なカセットハンドリング部24により台車19に
載置されたカセット18を取り上げ、一時待機用カセッ
ト台25(移載ポイントB)に移載する。次に、カセッ
ト保管庫28内に設けられた、X、Z軸およびシータ軸
駆動が可能なカセットハンドリングロボット29によ
り、一時待機用カセット台25に載置されたカセット1
8を、カセット保管棚30の指定された位置に載置す
る。次に、カセット18の払い出し動作について説明す
る。カセット保管棚30上の指定されたカセット18
を、カセットハンドリングロボット29により、一時待
機用カセット台25(移載ポイントB)に移載する。そ
の後、カセットハンドリング部24によりカセット18
を取り上げ、台車19の移載ポイントAにセットする。Hereinafter, a method of transferring the cassette 18 between the carriage 19 and the cassette storage 28 in the cassette transfer area 16 according to the present embodiment will be described. First, trolley 1
The cassette 18 transported by the cassette 9 is stored in the cassette storage 28.
The operation of importing data to the storage device will be described. The carriage 19 on which the cassette 18 is mounted travels on a track 21 laid in the cassette transfer area 16 by a linear induction motor driving source 22 and moves to a transfer point A of a cassette storage 28 which is a temporary storage place of the cassette 18. Stop. Next, the cassette 18 placed on the carriage 19 is picked up by the cassette handling unit 24 capable of driving in the Y and Z axes, and is transferred to the cassette stand 25 (transfer point B) for temporary standby. Next, the cassette 1 placed on the cassette stand 25 for temporary standby is moved by the cassette handling robot 29 provided in the cassette storage 28 and capable of driving the X, Z and theta axes.
8 is placed at a designated position on the cassette storage shelf 30. Next, the payout operation of the cassette 18 will be described. Designated cassette 18 on cassette storage shelf 30
Is transferred to the cassette stand 25 for temporary standby (transfer point B) by the cassette handling robot 29. After that, the cassette 18 is
And set it at the transfer point A of the cart 19.
【0018】本実施の形態によれば、カセット搬送エリ
ア16の高さは、カセット18を載置した台車19の走
行が可能な程度、例えば約1mで十分であるため、クラ
ス1〜10程度の高清浄度空間を従来のクリーンルーム
に比べて大幅に縮小することができ、さらにカセット搬
送エリア16を作業エリア99と分離することにより、
作業エリア99の清浄度をクラス1000〜10000
程度に低く抑えることができるため、クリーンルーム空
調稼働費の大幅な削減が可能となる。さらに、カセット
搬送エリア16は、半導体製造装置12および作業者1
3等と完全に分離されているため、カセット搬送中のウ
エハはケミカルヒューム/ミストおよび異物による影響
を受けることがなく、製造歩留まりが向上する。According to the present embodiment, the height of the cassette transport area 16 is sufficient to allow the carriage 19 on which the cassette 18 is mounted to travel, for example, about 1 m. The space with high cleanliness can be greatly reduced as compared with the conventional clean room, and furthermore, by separating the cassette transfer area 16 from the work area 99,
Work area 99 cleanliness class 1000-10000
Since it can be kept to a low level, it is possible to greatly reduce the operating cost of air conditioning for a clean room. Further, the cassette transport area 16 is provided with the semiconductor manufacturing apparatus 12 and the worker 1.
Since the wafer is completely separated from the third and the like, the wafer being transported in the cassette is not affected by the chemical fume / mist and foreign matter, and the production yield is improved.
【0019】実施の形態2.図4は、本発明の実施の形
態2であるカセット搬送システムを採用したクリーンル
ームの空調設備を示す図である。図において、11はカ
セット搬送エリア16の床一面に設けられ、ユーティリ
ティゾーン2bにエアーを通過させるグレーティングで
ある。なお、図中、同一、相当部分には同一符号を付
し、説明を省略する。本実施の形態では、カセット搬送
エリア16の床部をグレーティング11とし、このグレ
ーティング11上にカセット18搬送用の台車19の軌
道を設けた。従来より、一般にクラス1〜10程度の高
清浄度レベルのクリーンルームでは、天井一面に天井フ
ィルター7を設けると共に床一面にグレーティング11
を設け、天井フィルター7から供給される高清浄なエア
ーがほぼ垂直にグレーティング11を通過する全面ダウ
ンフロー方式が採用されている。本実施の形態では、こ
の全面ダウンフロー方式を採用することにより、カセッ
ト搬送エリア16で何らかのトラブルにより塵埃が発生
した場合でも、非常に効率よく短時間に清浄度を回復す
ることが可能である。Embodiment 2 FIG. 4 is a diagram showing an air conditioner of a clean room employing the cassette transport system according to the second embodiment of the present invention. In the figure, reference numeral 11 denotes a grating that is provided on the entire surface of the cassette transfer area 16 and allows air to pass through the utility zone 2b. In the drawings, the same or corresponding parts have the same reference characters allotted, and description thereof will not be repeated. In the present embodiment, the floor of the cassette transfer area 16 is the grating 11, and the track of the carriage 19 for transferring the cassette 18 is provided on the grating 11. Conventionally, in a clean room generally having a high cleanliness level of about class 1 to 10, a ceiling filter 7 is provided on the entire ceiling and a grating 11 is provided on the entire floor.
And a down flow method in which high-purity air supplied from the ceiling filter 7 passes through the grating 11 almost vertically is adopted. In the present embodiment, by adopting the entire downflow method, even if dust occurs due to some trouble in the cassette transfer area 16, it is possible to recover the cleanliness very efficiently and in a short time.
【0020】本実施の形態におけるクリーンルームは、
外調機1からケミカルフリーエアー生成装置14を経由
してユーティリティゾーン2bに供給された前述の第三
の清浄度のケミカルフリーエアーは、消音器3、ドライ
コイル4、循環ファン5を経由してさらに温湿度を制御
され、カセット搬送エリア16の天井部に設けられた天
井フィルター17、例えばHEPA、ULPAにて塵埃
粒子を除去され、第4の清浄度、例えばクラス1〜10
の高清浄度に管理され、カセット搬送エリア16に供給
される。そして、この第4の清浄度のエアーは、カセッ
ト搬送エリア16の床に設けられたグレーティング11
を通過してユーティリティゾーン2bへ戻り、循環ファ
ン5により再びカセット搬送エリア16へ循環される。
なお、本実施の形態においても、半導体製造装置12の
ローダ/アンローダ部20とカセット搬送エリア16
は、カセット昇降手段が設けられたカセット昇降エリア
によって接続されている。半導体製造装置12のローダ
/アンローダ部20へのカセット18の取り込み方法
は、上記実施の形態1と同様であるので説明を省略す
る。The clean room in the present embodiment is
The chemical-free air of the above-mentioned third cleanliness supplied from the external controller 1 to the utility zone 2 b via the chemical-free air generating device 14 passes through the silencer 3, the dry coil 4, and the circulation fan 5. Further, the temperature and humidity are controlled, and dust particles are removed by a ceiling filter 17 provided at the ceiling of the cassette transfer area 16, for example, HEPA or ULPA.
And is supplied to the cassette transport area 16. The air having the fourth cleanliness is supplied to the grating 11 provided on the floor of the cassette transfer area 16.
And returns to the utility zone 2b, and is circulated again to the cassette transport area 16 by the circulation fan 5.
In this embodiment, the loader / unloader unit 20 of the semiconductor manufacturing apparatus 12 and the cassette transfer area 16
Are connected by a cassette elevating area provided with a cassette elevating means. The method of loading the cassette 18 into the loader / unloader unit 20 of the semiconductor manufacturing apparatus 12 is the same as in the first embodiment, and a description thereof will be omitted.
【0021】上記実施の形態1および2では、第4の清
浄度のエアーを生成するためにケミカルフリーエアー生
成装置14を用いたが、高純度ドライエアー生成装置を
用いてもよい。その場合、カセット搬送エリア16、カ
セット昇降エリア23および半導体製造装置12のロー
ダ/アンローダ部20は、高純度ドライエアーで満たさ
れる。さらに、上記実施の形態1および2では、カセッ
ト搬送エリア16を作業エリア99の床15下部のほぼ
全面に設けたが、作業エリア99の天井部のほぼ全面に
設けてもよく、同様の効果が得られる。In the first and second embodiments, the chemical-free air generator 14 is used to generate air having the fourth cleanliness. However, a high-purity dry air generator may be used. In this case, the cassette transport area 16, the cassette elevating area 23, and the loader / unloader unit 20 of the semiconductor manufacturing apparatus 12 are filled with high-purity dry air. Furthermore, in the first and second embodiments, the cassette transport area 16 is provided almost entirely under the floor 15 of the work area 99, but may be provided almost entirely over the ceiling of the work area 99, and the same effect is obtained. can get.
【0022】実施の形態3.上記実施の形態1および2
では、作業エリア99の床15下部のほぼ全面に設けら
れた高清浄度のカセット搬送エリア16について説明し
た。本実施の形態では、このカセット搬送エリア16に
おいて、ウエハを収納するカセット18を検査装置を含
む半導体製造装置12間で移動させる台車19が走行す
る軌道21について詳細に説明する。図5は、本実施の
形態におけるカセット搬送システムの概要を示す斜視
図、図6は、本実施の形態におけるカセット搬送システ
ムの軌道を示す平面図である。図において、21は複数
のループ状レールおよび直線レールを組み合わせてなる
軌道、31は半導体製造装置12の設置ポイントであ
り、上記実施の形態1で述べたカセット昇降エリア23
が設けられ、台車19が停止する位置である。なお、図
中、同一、相当部分には同一符号を付し説明を省略す
る。本実施の形態による軌道21は、規則性を持って配
置された複数のループ状レールおよび直線レールを組み
合わせてなるものであり、ループ状レールは、格子状に
配置された直線レールに内接して設けられ、ループ状レ
ールと直線レールは、互いに接する部分を共有している
(図6)。Embodiment 3 FIG. Embodiments 1 and 2 above
In the above, the high-cleanness cassette transfer area 16 provided on almost the entire lower surface of the floor 15 of the work area 99 has been described. In the present embodiment, a track 21 on which a carriage 19 that moves a cassette 18 for storing wafers between semiconductor manufacturing apparatuses 12 including an inspection apparatus travels in the cassette transfer area 16 will be described in detail. FIG. 5 is a perspective view illustrating an outline of the cassette transport system according to the present embodiment, and FIG. 6 is a plan view illustrating a track of the cassette transport system according to the present embodiment. In the figure, reference numeral 21 denotes a track formed by combining a plurality of loop-shaped rails and straight rails, and reference numeral 31 denotes an installation point of the semiconductor manufacturing apparatus 12, and the cassette elevating area 23 described in the first embodiment.
Is provided at the position where the carriage 19 stops. In the drawings, the same or corresponding parts have the same reference characters allotted, and description thereof will not be repeated. The track 21 according to the present embodiment is formed by combining a plurality of loop-shaped rails and linear rails arranged with regularity, and the loop-shaped rail is inscribed in the linear rails arranged in a grid. The loop-shaped rail and the straight rail are provided so as to share a portion in contact with each other (FIG. 6).
【0023】図7は、本実施の形態における軌道の切換
ポイントの構造を示す平面図、図8は軌道の切換ポイン
トの切換方法を示す側面図である。図において、32、
32a〜32eは、台車19の走行方向を切り換える仕
切り板、33は空圧により仕切り板32a〜32eの上
げ下げを行うシリンダー、34はローラを示している。
本実施の形態における軌道21は、その切換ポイント、
すなわちループ状レールと直線レールの共有部分からそ
れぞれの単独部分へ分離する箇所において、左右および
直進のいずれか一方向に走行方向を切り換える5つの仕
切り板32a〜32eを有する。これらの仕切り板32
a〜32eは個々に分離されており、シリンダー33に
より上下方向に移動可能である。なお、図8(a)は仕
切り板32が上げられた状態、図8(b)は仕切り板3
2が下げられた状態を示している。台車19の走行を切
り換える際には、仕切り板32a〜32eの組み合わせ
と、軌道21上に配置された台車19の駆動源であるリ
ニア誘導モータの切り換えを行う。FIG. 7 is a plan view showing a structure of a track switching point in the present embodiment, and FIG. 8 is a side view showing a method of switching a track switching point. In the figure, 32,
Reference numerals 32a to 32e denote partition plates for switching the traveling direction of the cart 19, 33 denotes a cylinder for raising and lowering the partition plates 32a to 32e by pneumatic pressure, and 34 denotes a roller.
The track 21 in the present embodiment has a switching point
That is, at a portion where the common portion of the loop-shaped rail and the straight rail is separated into individual portions, there are five partition plates 32a to 32e that switch the running direction to one of left, right, and straight. These partition plates 32
a to 32e are individually separated and can be moved up and down by a cylinder 33. 8A shows a state in which the partition plate 32 is raised, and FIG.
2 indicates a lowered state. When switching the traveling of the carriage 19, the combination of the partition plates 32a to 32e and the switching of the linear induction motor which is the driving source of the carriage 19 arranged on the track 21 are performed.
【0024】以下に、仕切り板32a〜32eの組み合
わせと台車19の走行方向を図について説明する。図9
〜図11は、それぞれ直進、右および左方向を選択した
場合の仕切り板32a〜32eの構成を示す平面図であ
る。直進選択の場合、図9に示すように、仕切り板32
a、32bおよび32e を軌道21下部に下げ、仕切り
板32c、32dにより直進の軌道21を構成する。ま
た、右方向選択の場合には、図10に示すように、仕切
り板32b、32dを軌道21下部に下げ、仕切り板3
2a、32eにより右ターンの軌道21を構成する。さ
らに、左方向選択の場合には、図11に示すように、仕
切り板32a、32cを軌道21下部に下げ、仕切り板
32b、32eにより左ターンの軌道21を構成する。
以上のような仕切り板32a〜32eを用いた切換ポイ
ントにより、台車19の走行ルートが決定される。The combination of the partition plates 32a to 32e and the traveling direction of the carriage 19 will be described below with reference to the drawings. FIG.
FIG. 11 to FIG. 11 are plan views showing the configurations of the partition plates 32a to 32e in the case of selecting the straight traveling, right and left directions, respectively. In the case of straight-ahead selection, as shown in FIG.
a, 32b and 32e are lowered to the lower part of the track 21, and the straight track 21 is constituted by the partition plates 32c and 32d. In the case of rightward selection, as shown in FIG. 10, the partition plates 32b and 32d are lowered to the lower part of the track 21, and the partition plate 3
The right turn trajectory 21 is constituted by 2a and 32e. Further, in the case of the leftward selection, as shown in FIG. 11, the partition plates 32a, 32c are lowered to the lower part of the track 21, and the partition plate 32b, 32e forms the left-turn track 21.
The traveling route of the bogie 19 is determined by the switching points using the partition plates 32a to 32e as described above.
【0025】図12は、本実施の形態におけるカセット
搬送システムによる台車19の走行ルート例を示す図で
あり、図において、a、b、cは軌道21の切換ポイン
ト、31a、31b、31cはそれぞれ半導体製造装置
A、B、Cの設置ポイントである。図12において、台
車19が装置設置ポイント31aに移動する場合、ルー
トA、すなわち切換ポイントa、cをそれぞれ左ター
ン、左ターンで通過して目的地へ到達する。同様に、台
車19が装置設置ポイント31bに移動する場合、ルー
トB、すなわち切換ポイントa、cをそれぞれ左ター
ン、右ターンで通過して目的地へ到達する。また、台車
19が装置設置ポイント31cに移動する場合、ルート
C、すなわち切換ポイントaを直進で通過して目的地へ
到達する。FIG. 12 is a diagram showing an example of a traveling route of the carriage 19 by the cassette transport system according to the present embodiment, in which a, b, and c are switching points of the track 21, and 31a, 31b, and 31c are respectively. This is an installation point of the semiconductor manufacturing apparatuses A, B, and C. In FIG. 12, when the cart 19 moves to the device installation point 31a, the truck 19 passes the route A, that is, the switching points a and c, with a left turn and a left turn, respectively, to reach the destination. Similarly, when the trolley 19 moves to the device installation point 31b, the trolley 19 passes the route B, that is, the switching points a and c, with left and right turns, respectively, to reach the destination. When the cart 19 moves to the device installation point 31c, it passes straight through the route C, that is, the switching point a, and reaches the destination.
【0026】次に、台車19の走行を制御する制御手段
について説明する。図13は、本実施の形態におけるカ
セット搬送システムの台車走行制御ブロック概略図であ
る。軌道21は、レール上の台車19の有無を検出する
センサ(図示せず)を備えており、制御手段は、台車1
9に載置されたカセット18の移動先である次工程の半
導体製造装置12を選定し、その半導体製造装置12ま
での台車19の最適走行ルートを決定する。その際、前
条件として、処理完了後のカセット18を台車19にセ
ット完了していること、次工程の半導体製造装置12の
選定が完了していることを確認する。その後、台車19
に載置されたカセット18の移動先である次工程の半導
体製造装置12までの最短走行ルート(第1候補)を検
索すると共に、最短走行ルート上の他の台車19の有無
をセンサにより検出し、最短走行ルート上に他の台車1
9が検出された場合には、第2、第3、第n候補・・・ の
走行ルートを漸次検索すると共にそれらのルート上の他
の台車19の有無を検出し、他の台車19が検出されな
かったルートを台車19の走行ルート候補とする。さら
に、制御手段は、最短走行ルートまたは第2、第3、第
n候補・・・ の走行ルートについて、走行時における他の
台車19との干渉の有無を予測し、他の台車19が検出
されず、且つ走行時の他の台車19との干渉が無いと判
断したルートを走行ルートとして決定する。図14は、
ループ状レール上の台車19の有無を検出する区間割の
例を示す図である。本例では、ループ状レールをイ、
ロ、ハ、ニの4区間に分割し、それぞれの区間内の台車
19の有無および位置をセンサにより検出する。Next, control means for controlling the traveling of the carriage 19 will be described. FIG. 13 is a schematic diagram of a carriage traveling control block of the cassette transport system according to the present embodiment. The track 21 includes a sensor (not shown) for detecting the presence or absence of the cart 19 on the rail.
The semiconductor manufacturing apparatus 12 of the next process, which is the destination of the cassette 18 placed on the semiconductor manufacturing apparatus 9, is selected, and the optimum traveling route of the carriage 19 to the semiconductor manufacturing apparatus 12 is determined. At this time, it is confirmed that, as preconditions, the cassette 18 after the processing is completely set on the carriage 19 and that the selection of the semiconductor manufacturing apparatus 12 in the next process is completed. Then, dolly 19
In addition to searching for the shortest traveling route (first candidate) to the semiconductor manufacturing apparatus 12 in the next process, which is the destination of the cassette 18 placed in the shortest traveling route, the presence or absence of another carriage 19 on the shortest traveling route is detected by a sensor. , Another truck 1 on the shortest running route
9 is detected, the traveling routes of the second, third, and n-th candidates are gradually searched, and the presence or absence of another bogie 19 on those routes is detected. The route not performed is set as a traveling route candidate of the bogie 19. Further, the control means predicts the presence or absence of interference with the other bogies 19 during traveling on the shortest running route or the second, third, n-th candidate, etc., and other bogies 19 are detected. And a route determined to have no interference with other bogies 19 during running is determined as a running route. FIG.
It is a figure which shows the example of the section division which detects the presence or absence of the cart 19 on a loop-shaped rail. In this example, the loop rail
The vehicle is divided into four sections (b), (c), and (d), and the presence or absence and position of the cart 19 in each section are detected by sensors.
【0027】なお、本実施の形態では、複数のループ状
レールを全て同じ大きさとしたが、大小様々なループ状
レールを組み合わせてもよい。また、カセット搬送エリ
ア16は高清浄度であるため、ループ状レールのループ
内をカセット18の一時保管場所として有効に利用して
もよい。その際には、ループ状レール内に例えば数本の
直線レールを設け、カセット18は台車19に載置した
状態で待機させておくことができる。In this embodiment, the plurality of loop-shaped rails are all the same size, but various sizes of loop-shaped rails may be combined. Further, since the cassette transport area 16 has a high degree of cleanliness, the inside of the loop of the loop-shaped rail may be effectively used as a temporary storage place for the cassette 18. In this case, for example, several linear rails are provided in the loop-shaped rail, and the cassette 18 can be kept on standby while being mounted on the carriage 19.
【0028】[0028]
【発明の効果】以上のように、本発明におけるカセット
搬送システムによれば、検査装置等を含む半導体製造装
置が設置された作業エリアの床下部のほぼ全面に、この
作業エリアよりも高清浄度に保たれたカセット搬送エリ
アを設け、作業エリアとカセット搬送エリアを分離した
ので、カセット搬送中のウエハへのケミカルヒューム/
ミストおよび異物による汚染が防止でき、製造歩留まり
が向上する効果がある。As described above, according to the cassette transport system of the present invention, almost all of the lower part of the work area where the semiconductor manufacturing apparatus including the inspection apparatus is installed has a higher cleanness than the work area. The cassette transfer area is kept at a fixed height, and the work area and the cassette transfer area are separated.
There is an effect that contamination by mist and foreign matter can be prevented, and the production yield is improved.
【0029】また、カセット搬送エリアの高さは、カセ
ットを載置した台車の走行が可能な程度、例えば約1m
で良いため、高清浄度空間を従来に比べて大幅に縮小す
ることができ、さらに作業エリアの清浄度レベルを低く
抑えることができるため、クリーンルームの空調稼働費
を削減することが可能となる。The height of the cassette transport area is such that a carriage on which the cassette is mounted can travel, for example, about 1 m.
Therefore, the high cleanliness space can be significantly reduced as compared with the related art, and the cleanliness level of the work area can be suppressed low, so that the air conditioning operation cost of the clean room can be reduced.
【0030】また、本発明におけるカセット搬送システ
ムによれば、規則性を持って配置された複数のループ状
レールおよび直線レールを組み合わせてなる軌道におい
て、ループ状レールおよび直線レールは、共有部分から
それぞれの単独部分へ分離する箇所において、左右また
は直進方向へ走行方向を自在に切り換えることができる
ので、次工程の半導体製造装置への走行ルートを複数選
択することが可能であり、カセットが停滞することな
く、速やかに移動することが可能である。Further, according to the cassette transport system of the present invention, in a track formed by combining a plurality of loop-shaped rails and linear rails arranged with regularity, the loop-shaped rail and the linear rail are respectively separated from the common portion. Can be freely switched between left and right or in the straight traveling direction at the point where the cassette is separated into a single part, so that a plurality of traveling routes to the semiconductor manufacturing apparatus in the next process can be selected, and the cassette is stagnated. It is possible to move quickly.
【図1】 本発明の実施の形態1であるカセット搬送シ
ステムを採用したクリーンルームの空調設備を示す図で
ある。FIG. 1 is a diagram showing an air conditioner of a clean room employing a cassette transport system according to a first embodiment of the present invention.
【図2】 本発明の実施の形態1における半導体製造装
置のローダ/アンローダ部へのカセットの取り込み方法
を説明する側面図および上面図である。FIGS. 2A and 2B are a side view and a top view illustrating a method of loading a cassette into a loader / unloader unit of the semiconductor manufacturing apparatus according to the first embodiment of the present invention.
【図3】 本発明の実施の形態1におけるカセット保管
方法を示す側面図および上面図である。FIG. 3 is a side view and a top view illustrating a cassette storage method according to the first embodiment of the present invention.
【図4】 本発明の実施の形態2であるカセット搬送シ
ステムを採用したクリーンルームの空調設備を示す図で
ある。FIG. 4 is a diagram illustrating an air conditioner of a clean room employing the cassette transport system according to the second embodiment of the present invention.
【図5】 本発明の実施の形態3におけるカセット搬送
システムの概要を示す斜視図である。FIG. 5 is a perspective view illustrating an outline of a cassette transport system according to a third embodiment of the present invention.
【図6】 本発明の実施の形態3におけるカセット搬送
システムの軌道を示す平面図である。FIG. 6 is a plan view showing a trajectory of a cassette transport system according to a third embodiment of the present invention.
【図7】 本発明の実施の形態3における軌道の切換ポ
イントの構造を示す平面図である。FIG. 7 is a plan view showing a structure of a track switching point according to Embodiment 3 of the present invention.
【図8】 本発明の実施の形態3における軌道の切換ポ
イントの切換方法を示す側面図である。FIG. 8 is a side view showing a method of switching a track switching point in Embodiment 3 of the present invention.
【図9】 本発明の実施の形態3による軌道において直
進方向を選択した場合の仕切り板の構成を示す平面図で
ある。FIG. 9 is a plan view showing a configuration of a partition plate when a straight traveling direction is selected on a track according to Embodiment 3 of the present invention.
【図10】 本発明の実施の形態3による軌道において
右方向を選択した場合の仕切り板の構成を示す平面図で
ある。FIG. 10 is a plan view showing a configuration of a partition plate when a rightward direction is selected in the track according to the third embodiment of the present invention.
【図11】 本発明の実施の形態3による軌道において
左方向を選択した場合の仕切り板の構成を示す平面図で
ある。FIG. 11 is a plan view showing a configuration of a partition plate when a leftward direction is selected on the track according to the third embodiment of the present invention.
【図12】 本発明の実施の形態3におけるカセット搬
送システムの台車走行ルート例を示す図である。FIG. 12 is a diagram illustrating an example of a truck traveling route of the cassette transport system according to the third embodiment of the present invention.
【図13】 本発明の実施の形態3におけるカセット搬
送システムの台車走行制御ブロック概略図である。FIG. 13 is a schematic diagram of a trolley traveling control block of the cassette transport system according to the third embodiment of the present invention.
【図14】 本発明の実施の形態3におけるループ状レ
ール上の台車の有無を検出する区間割の例を示す図であ
る。FIG. 14 is a diagram showing an example of section division for detecting the presence or absence of a bogie on a loop-shaped rail according to Embodiment 3 of the present invention.
【図15】 従来の一般的なクリーンルームの空調設備
を示す図である。FIG. 15 is a diagram showing a conventional general clean room air conditioner.
1 外調機、2、2a、2b ユーティリティゾーン、
3 消音器、4 ドライコイル、5 循環ファン、6
天井チャンバー、7 天井フィルター、8 仕切り壁、
9、99 作業エリア、10 メンテナンスエリア、1
1グレーティング、12 半導体製造装置、13 作業
者、14 ケミカルフリーエアー生成装置、15 床、
16 カセット搬送エリア、17 フィルタ、18 カ
セット、19 台車、20 ローダ/アンローダ部、2
1、35 軌道、22 リニア誘導モータ駆動源、23
カセット昇降エリア、24 カセットハンドリング
部、25 一時待機用カセット台、26 送りネジ、2
7、29 カセットハンドリングロボット、28 カセ
ット保管庫、30 カセット保管棚、31、31a、3
1b、31c 装置設置ポイント、32、32a、32
b、32c、32d、32e 仕切り板、33 シリン
ダー、34 ローラ。1 external controller, 2, 2a, 2b utility zone,
3 silencer, 4 dry coil, 5 circulation fan, 6
Ceiling chamber, 7 ceiling filter, 8 partition wall,
9,99 Work area, 10 Maintenance area, 1
1 grating, 12 semiconductor manufacturing equipment, 13 workers, 14 chemical-free air generator, 15 floors,
16 cassette transport area, 17 filters, 18 cassettes, 19 carts, 20 loader / unloader section, 2
1, 35 tracks, 22 linear induction motor drive source, 23
Cassette elevating area, 24 cassette handling section, 25 cassette stand for temporary standby, 26 feed screw, 2
7, 29 cassette handling robot, 28 cassette storage, 30 cassette storage shelf, 31, 31a, 3,
1b, 31c Device installation point, 32, 32a, 32
b, 32c, 32d, 32e Partition plate, 33 cylinder, 34 rollers.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 坂本 哲也 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 石橋 誠治 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Tetsuya Sakamoto 2-3-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Mitsui Electric Co., Ltd. (72) Inventor Seiji Ishibashi 2-3-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 3 Rishi Electric Co., Ltd.
Claims (10)
エリア、 上記作業エリアの床下部に設けられ、上記半導体製造装
置の設置位置に対応して軌道が設けられると共に、上記
作業エリアよりも高清浄度に保たれたカセット搬送エリ
ア、 ウエハを収納するカセットを載置して上記軌道上を走行
し、上記カセットを上記各半導体製造装置間で移動させ
る台車およびその駆動手段、 上記カセット搬送エリアと上記各半導体製造装置のロー
ダ/アンローダ部を接続し、上記カセット搬送エリアと
同等の高清浄度に保たれたカセット昇降エリア、 上記半導体製造装置のローダ/アンローダ部にそれぞれ
設けられたカセットハンドリングロボット、 上記カセット昇降エリアに設けられ、上記カセットハン
ドリングロボットと上記台車との間で上記カセットの受
け渡しを行うカセット昇降手段を備えたことを特徴とす
るカセット搬送システム。1. A work area in which a plurality of semiconductor manufacturing apparatuses are installed. The work area is provided below a floor of the work area, a track is provided corresponding to an installation position of the semiconductor manufacturing apparatus, and a height higher than the work area is provided. A cassette transport area maintained at a clean level, a cart for placing a cassette for storing wafers, traveling on the track, and moving the cassette between the semiconductor manufacturing apparatuses, and a driving means therefor; A cassette lifting / lowering area connected to the loader / unloader section of each of the semiconductor manufacturing apparatuses, which is maintained at the same high cleanliness as the cassette transport area; a cassette handling robot provided at each of the loader / unloader sections of the semiconductor manufacturing apparatus; The cassette handling robot is provided in the cassette elevating area, and is provided between the cassette handling robot and the carriage. Cassette transport system comprising the cassette lifting means for performing bets delivery.
を載置した台車の走行が可能な程度、例えば約1mであ
ることを特徴とする請求項1記載のカセット搬送システ
ム。2. The cassette transport system according to claim 1, wherein the height of the cassette transport area is such that the carriage on which the cassette is mounted can travel, for example, about 1 m.
アおよび半導体製造装置のローダ/アンローダ部は、ケ
ミカルフリーエアーまたは高純度ドライエアーで満たさ
れていることを特徴とする請求項1または請求項2に記
載のカセット搬送システム。3. The cassette transport area, the cassette elevating area and the loader / unloader section of the semiconductor manufacturing apparatus are filled with chemical free air or high-purity dry air. Cassette transport system.
互間に配置された複数のループ状レールおよび直線レー
ルを有する軌道、 ウエハを収納するカセットを載置して上記軌道上を走行
し、上記カセットを上記各半導体製造装置間で移動させ
る台車およびその駆動手段、 上記台車に載置された上記カセットの移動先である次工
程の上記半導体製造装置を選定し、上記半導体製造装置
までの上記台車の走行ルートを決定する制御手段を備え
たことを特徴とするカセット搬送システム。4. A track having a plurality of loop-shaped rails and linear rails arranged between a plurality of semiconductor manufacturing apparatuses with regularity, and a cassette for accommodating a wafer is placed on the track and travels on the track. A trolley for moving the cassette between the respective semiconductor manufacturing apparatuses and its driving means, selecting the semiconductor manufacturing apparatus in the next step which is a destination of the cassette mounted on the trolley, and A cassette transport system comprising control means for determining a traveling route of a cart.
直線レールに内接して設けられ、上記ループ状レールと
上記直線レールは、互いに接する部分を共有しているこ
とを特徴とする請求項4記載のカセット搬送システム。5. The loop-shaped rail is provided so as to be inscribed in a linear rail arranged in a lattice pattern, and the loop-shaped rail and the linear rail share a portion in contact with each other. 5. The cassette transport system according to 4.
有部分からそれぞれの単独部分へ分離する箇所におい
て、左右および直進のいずれか一方向に走行方向を切り
換える仕切り板を有することを特徴とする請求項5記載
のカセット搬送システム。6. The loop rail and the straight rail each have a partition plate that switches a running direction to one of left, right, and straight ahead at a position where the common rail separates from the common rail. 5. The cassette transport system according to 5.
るセンサを備えていることを特徴とする請求項4〜請求
項6のいずれか一項に記載のカセット搬送システム。7. The cassette transport system according to claim 4, wherein the track is provided with a sensor for detecting the presence or absence of a bogie on a rail.
の移動先である次工程の半導体製造装置までの最短走行
ルートを検索すると共に、上記最短走行ルート上の他の
台車の有無をセンサにより検出し、上記最短走行ルート
上に他の台車が検出された場合には、他の走行ルートを
検索すると共に上記他の走行ルート上の他の台車の有無
を検出し、他の台車が検出されなかったとき、上記他の
走行ルートを台車の走行ルートとすることを特徴とする
請求項7記載のカセット搬送システム。8. A control means for retrieving a shortest traveling route to a semiconductor manufacturing apparatus in a next process, which is a destination of a cassette mounted on a truck, and for detecting presence or absence of another truck on the shortest traveling route. If another bogie is detected on the shortest traveling route, another bogie is searched for, and the presence or absence of another bogie on the other traveling route is detected. 8. The cassette transport system according to claim 7, wherein when not performed, the other traveling route is set as a traveling route of the truck.
の移動先である次工程の半導体製造装置までの最短走行
ルートまたは他の走行ルートについて、走行時の他の台
車との干渉の有無を予測し、他の台車が検出されず、且
つ走行時に他の台車との干渉が無いと判断したルートを
上記台車の走行ルートとすることを特徴とする請求項8
記載のカセット搬送システム。9. The control means determines whether or not there is interference with another bogie during running on a shortest running route or another running route to a semiconductor manufacturing apparatus in a next process, which is a destination of a cassette mounted on the bogie. And a route determined that no other bogie is detected and that there is no interference with other bogies during traveling is set as the traveling route of the bogie.
The cassette transport system described in the above.
作業エリアの床下部のほぼ全面に設けられたカセット搬
送エリアに敷設されており、上記カセット搬送エリアは
上記作業エリアよりも高清浄度に保たれていることを特
徴とする請求項4〜請求項9のいずれか一項に記載のカ
セット搬送システム。10. The track is laid in a cassette transfer area provided substantially all over a lower floor of a work area in which a semiconductor manufacturing apparatus is installed, and the cassette transfer area has a higher degree of cleanliness than the work area. The cassette transport system according to claim 4, wherein the cassette transport system is maintained.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP35939297A JPH11191582A (en) | 1997-12-26 | 1997-12-26 | Cassette conveying system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP35939297A JPH11191582A (en) | 1997-12-26 | 1997-12-26 | Cassette conveying system |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11191582A true JPH11191582A (en) | 1999-07-13 |
Family
ID=18464279
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP35939297A Pending JPH11191582A (en) | 1997-12-26 | 1997-12-26 | Cassette conveying system |
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Country | Link |
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JP (1) | JPH11191582A (en) |
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1997
- 1997-12-26 JP JP35939297A patent/JPH11191582A/en active Pending
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