JPH11189332A

JPH11189332A - ステージ装置およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法

Info

Publication number: JPH11189332A
Application number: JP9359805A
Authority: JP
Inventors: Ryuichi Ebinuma; 隆一海老沼; Makoto Mizuno; 誠水野
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1997-12-26
Filing date: 1997-12-26
Publication date: 1999-07-13
Also published as: US20020003616A1; US6396566B2

Abstract

(57)【要約】【課題】レチクルステージ等の加減速時の反力を本体
に伝えないようにし、さらに振動を露光装置の外部にも
伝えないようにする。【解決手段】レチクルステージと別置きに設けられた
カウンタマスとステージとを連結手段を介して結合し、
カウンタマスを駆動することで、ステージの移動に伴っ
て発生する反力を軽減させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は工作物を搭載して位
置決めを行うためのステージ装置に関する。特に、レチ
クル等を搭載して精密な位置決めを行うためのステージ
装置に関する。また、このようなステージ装置を用いた
露光装置や走査露光装置、およびこのような露光装置を
用いてデバイスを製造するデバイス製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】図２５に従来の露光装置の概略を示す。

【０００３】床面に設けられた基盤６１から除振手段６
２を介して鏡筒定盤７１が支持されている。７０は基盤
上に設けられた定盤である。定盤上には２次元方向（Ｘ
Ｙ方向）に移動可能なウエハステージ６９が支持されて
いる。鏡筒定盤７１には投影光学系、原版であるレチク
ルを移動するためのレチクルステージ６８が設けられ
る。さらにその上には露光光を供給するための照明系が
設けられる。

【０００４】以上の構成においてウエハステージ６９は
不図示のウエハ搬送系で供給されたウエハをアライメン
ト系によりレチクルに対する目標位置を干渉計データに
転写し、この干渉計データを目標にして不図示のＸＹ駆
動機構によりウエハステージ６９を所定位置に移動さ
せ、レチクルの像を焼き付けて、次の位置に移動すると
いうことを繰り返して一枚のウエハ全体にレチクルの像
を焼き付けるようになっている。

【０００５】露光装置の生産性を高めるためにステージ
の移動時間や露光時間を短くする必要がある。ステージ
の移動時間を短くするために移動時の加減速度を増加さ
せなければならない。一方、後処理工程の生産性を高め
るためにウエハの径も大きくする必要があり、これに伴
ってウエハチャック、ウエハステージの質量が増加の一
途をたどっている。

【０００６】ステージの駆動機構にはウエハステージの
質量と加速度の積の推力が要求されるので、駆動機構が
発生する推力はウエハサイズと加速度の相乗効果で極め
て大きいものが要求されるようになっている。そのた
め、ステージを駆動する際に、大きな反力が発生し、露
光装置本体を変形させ、露光転写の位置精度の悪化や転
写パターンの歪みをもたらす。その対策として反力受け
装置（特開平６−１６３３５３、特開平９−４６７７）
が考案されている。

【０００７】図２６は図２５に設けられた反力受け装置
の概略を示す。

【０００８】図中において、６９はレチクルステージ、
７２はレチクルステージを支持するレチクル支持体、７
３は支持体を載置し、床面からの振動を軽減する防振ば
ね、７４は床面に固定された定盤である。７５は反力受
け部材である。支持体７２に固定された固定子７７と反
力受け部材７５に設けられた可動子７８からアクチュエ
ータ７６が構成され、推力を発生することが可能であ
る。

【０００９】図２７は図２６の装置に作用する力を示し
ている。

【００１０】図２７の構成において、アクチュエータ７
６を作動させない場合、質量ｍのステージ６９が加速度
ａで動くと、反力ｍａが支持体７２に作用する。その反
力ｍａにより本体が変形し、また、防振ばね７３が変位
して定盤７４が揺動する。この変形や揺動を防ぐため
に、支持体７２とは独立に配置された反力受け部材７５
からアクチュエータ７６によって力ｆを付与し、反力ｍ
ａを相殺させる。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の反力受
け装置では床面への反力の伝達が避けられない。図２７
に示すように床面には平面内力ｍａとモーメント力Ｍ＝
Ｌｍａが作用する。ここで、Ｌは移動ステージの重心位
置と床面との距離である。

【００１２】一般に、床面は平面内力に対する剛性は大
きいが、モーメント力に対する剛性が小さいため、上述
したモーメント力Ｍ＝Ｌｍａによって床振動が引き起こ
される。この床振動がその装置自体や周りの装置の動作
に悪影響を及ぼすという解決すべき課題があった。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するべ
く、本発明のステージ装置は、移動可能なステージと、
該ステージを載置するステージ支持体とを有するステー
ジ機構と、移動可能なカウンタマスと、該カウンタマス
を載置するカウンタマス支持体とを有するカウンタマス
機構とを有し、該ステージの移動に伴って発生する駆動
反力を該カウンタマス機構に伝達するための連結手段を
有することを特徴とする。

【００１４】この時、連結手段は回転自由な回転継手
や、推力発生手段を有する電磁継手が望ましい。

【００１５】また、本発明の別のステージ装置は、移動
可能なステージと、該ステージを載置するステージ支持
体とを有するステージ機構と、移動可能なカウンタマス
と、該カウンタマスを載置するカウンタマス支持体とを
有し該ステージ機構と実質的に独立に設置したカウンタ
マス機構とを有し、該ステージの移動に伴って発生する
駆動反力を該カウンタマス機構に伝達するための連結手
段を有することを特徴とする。

【００１６】前記ステージの駆動反力により前記カウン
タマスを駆動することが望ましく、この場合はカウンタ
マスの位置ずれを補正するための移動機構を有すること
が好ましい。

【００１７】または、前記ステージを駆動するステージ
駆動手段と、前記カウンタマスを駆動する駆動手段とを
有し、該ステージの移動に伴って発生する反力を軽減す
るように該カウンタマスを駆動するようにしても良い。
この場合は、前記ステージ駆動手段はステージ支持体に
支持された第１固定子とステージに配置された第１可動
子とを備え、前記カウンタマス駆動手段はカウンタマス
支持体に支持された第２固定子とカウンタマスに配置さ
れた第２可動子を備え、定盤または該ステージ支持体ま
たは該第１固定子と、該カウンタマスまたは該カウンタ
マス支持体または該第２固定子とが連結手段を介して連
結され、該ステージの移動に伴って発生する反力を軽減
するように該カウンタマスを駆動することが好ましい。

【００１８】または、該ステージを駆動するステージ駆
動手段と、推力発生手段を有する連結手段を有し、該ス
テージの移動に伴って発生する反力を軽減するように該
カウンタマスを駆動するようにしても良い。この場合
は、前記ステージ駆動手段はステージ支持体に支持され
た第１固定子とステージに配置された第１可動子とを備
え、定盤または該ステージ支持体または該第１固定子
と、該カウンタマスとが連結手段により連結されてお
り、該ステージの移動に伴って発生する反力を軽減する
ように該カウンタマスを駆動することが好ましい。

【００１９】また、前記ステージの重心の移動方向のほ
ぼ延長線上にカウンタマスの重心があることが望まし
い。

【００２０】また、これらのステージは位置決めすべき
物体を搭載することが好ましく、レチクルならばなお良
い。

【００２１】

【発明の実施の形態】＜実施形態１＞図１は本発明の第
１実施形態に関する露光装置の概略図である。

【００２２】レチクルステージ８に搭載されたレチクル
の一部に照明光学系４から露光用の照明光が照射され
る。この照射領域はスリット状であり、レチクルのパタ
ーン領域の一部をカバーする。このスリット部分に相当
するパターンは投影光学系５によって１／４に縮小され
てウエハステージ９に搭載されたウエハ上に投影され
る。

【００２３】３は露光装置を設置する床あるいはベース
部材を示す。床３には露光装置の光学系、ステージ系を
支持するベースフレーム７と、露光装置の環境を所定の
温度、所定の清浄度に維持するための機械室チャンバが
それぞれ床３に対して別置きに、つまり独立に設置され
る。

【００２４】４６はウエハを露光装置に設置するための
ウエハ搬送系であり、４７はレチクルを露光装置に設置
するためのレチクル搬送系である。

【００２５】ベースフレーム７には、投影光学系５、レ
チクルステージ系、ステージ位置計測系等を支持する鏡
筒定盤１１と、ウエハステージとがそれぞれ別のマウン
ト手段を介して搭載される。

【００２６】１０はウエハステージ定盤でありマウント
手段２ａを介してベースフレーム上に搭載される。マウ
ント手段２ａは床３からの振動を遮断すると共に、ウエ
ハステージ９の姿勢が所定の範囲を逸脱しないように制
振するために空気バネおよび電磁アクチュエータによっ
て構成される。ウエハステージ９はウエハステージ定盤
に搭載される。ウエハを搭載するウエハステージ９はウ
エハステージ定盤上をＸＹ方向に移動することができ
る。さらにウエハステージ９はＺ方向およびＸＹＺそれ
ぞれの軸回りに微小量移動することができる。これらの
移動に際してステージ位置の計測が行われるが、すべて
の方向について位置の計測基準は鏡筒定盤１１に設置さ
れている。１２はウエハステージの位置を計測する干渉
計である。

【００２７】ウエハステージ９をＸＹ方向に駆動するの
は公知の非接触タイプの電磁リニアモータ（不図示）で
ある。

【００２８】レチクルステージ８は鏡筒定盤マウント２
ｂ上に搭載された鏡筒定盤１１上のレチクルステージ支
持体４０に載置される。１３はアライメント計測系であ
る。マウントは鏡筒定盤に床等から振動が伝達しないた
めの除振性能と、鏡筒定盤を所定の姿勢精度に維持する
ための制振性能を有している。

【００２９】レチクルステージ上には転写すべきパター
ンを有するレチクルが搭載される。

【００３０】図２にステージ機構を構成するレチクルス
テージの概略を示す。

【００３１】図２において、不図示のレチクルは、レチ
クルステージ上に搭載される。レチクルステージ８の下
部には不図示のエアベアリングのパッドが設けられてお
り、レチクルステージはガイド２３によってＹ方向に移
動可能に案内される。１５はレチクルステージの位置を
計測するための測長器の反射部材となるコーナチューブ
である。１６は干渉計である。これら２つの測長器によ
ってレチクルステージの走査方向位置および露光光軸ま
わり回転方向（θ）の姿勢、いわゆるヨーイング計測を
行う。１７はレチクルステージの走査方向に対してレチ
クルパターン面内で直角方向を計測するための反射部材
となるミラーであり、１８はこれに対応する干渉計であ
る。２１はレチクルステージ８に固定された駆動装置の
可動子（第１可動子）であり、レチクルステージの両側
に２個所に設けられている。２２は駆動装置の固定子
（第１固定子）であり、可動子ユニット２１に対応して
配置されている。固定子２２はそれぞれ両端部で鏡筒定
盤上に設けられたステージ支持体４０に板ばね１９を介
して支持されている。この板ばね１９は、レチクルステ
ージ８に推力を与える際に固定子ユニット２２にかかる
反力が鏡筒定盤１１に伝わるのを軽減するものである。
この板ばね１９の代わりとなるものとして、直動の転が
り軸受や、エアベアリング軸受等でも良い。２０は非接
触タイプの測距センサである。このセンサーはそれぞれ
固定子２２と鏡筒定盤１１またはステージ支持体４０と
の距離を検出する。検出する方向はリニアモータの推力
発生方向であり、この図においてはＹ方向である。

【００３２】レチクルステージ８の駆動装置の概略を図
３に示す。図中の駆動装置は非接触タイプの電磁リニア
モータである。レチクル等の工作物２５を搭載したステ
ージ可動部の両側に可動子２１が配置されており、ステ
ージ８はガイド２３に搭載されている。可動子２１は複
数個の磁石２６とヨーク２７から構成され、リニアモー
タ固定子２２と非接触で対面している。固定子２２は移
動方向に配列された複数のコイル２８およびコイルを支
持する固定子枠２９から構成される。コイル２８に電流
を流すことによって可動子２１に推力を作用させる。可
動子２１の移動に伴って順次電流を流すコイル２８を切
替えることによって必要な移動ストロークを確保してい
る。図に示されたリニアモータの固定子は、コイル列を
液冷ジャケットで覆われている。

【００３３】図４を用いて本発明の主眼を詳述する。図
４は本発明のステージ装置のモデル図である。

【００３４】２２は複数のコイル２８およびコイルを支
持する固定子枠２９から構成されるリニアモータ固定子
である。２１は固定子のコイル２８に対面している磁石
２６を有するリニアモータ可動子である。リニアモータ
可動子２１はレチクルステージに配置されており、レチ
クルステージはレチクルを搭載する。

【００３５】４０はリニアモータ固定子２２を支持する
ためのステージ支持体であり、リニアモータ固定子２２
はステージの移動方向に関して支持体４０に自由支持さ
れている。ステージ支持体４０は鏡筒定盤１１に固定さ
れている。

【００３６】３１はカウンタマスで、レチクルステージ
とは別置きの独立した装置、たとえば、機械室フレーム
に配置されている。

【００３７】カウンタマス３１はアクチュエータの可動
子（第２可動子）として磁石３４および鉄心を有してい
る。別置きの装置上に支持されたカウンタマス駆動用の
リニアモータ固定子３３（第２固定子）によって、カウ
ンタマスは駆動される。４１はカウンタマスを駆動する
リニアモータ固定子を支持するカウンタマス支持体であ
る。このカウンタマス支持体は、後述する連結手段を考
慮しない場合、レチクルステージおよび鏡筒定盤等から
振動的に独立している。カウンタマス側（カウンタマス
機構）のリニアモータ固定子３３はレチクルステージ側
の固定子２２と同様に移動方向に関して自由支持されて
いる。しかし、固定子３３とカウンタマス支持体４１と
を固定支持しても良い。また、図示しないが、カウンタ
マスには位置を計測する手段である測長器としての光学
式のリニアエンコーダが備えられている。これらにより
カウンタマス機構が構成されている。

【００３８】図４において、に本実施形態に使用される
連結手段である電磁継手の概略が示されている。コイル
５３と磁石５４から推力を発生するアクチュエータ（推
力発生手段）を構成し、非接触の電磁継手としている。
この電磁継手５２が力を伝達するためには、伝達すべき
力と同等の推力を発生させるようにして伝達させる。こ
の電磁継手５２は図中では横方向に推力を発生すること
ができる。

【００３９】レチクルステージ８は露光を行う際に移動
するため、加速または減速時にレチクルステージ８の駆
動手段であるリニアモータ固定子２２に反力が生じる。
本実施形態では固定子２２がレチクルステージの移動方
向に関して自由支持されているため、発生した反力は電
磁継手５２を介してカウンタマス駆動用のリニアモータ
固定子３３に伝達される。

【００４０】一方、カウンタマス３１を駆動した場合、
同様に固定子３３からも反力が発生する。この反力によ
って、前述したレチクルステージからの反力を軽減させ
る。レチクルステージ８の質量をＭ、加速度Ａとし、カ
ウンタマス３１の質量をｍとすると、反力を軽減させる
ためにはカウンタマス３１の加速度ａを、ａ＝Ａ×Ｍ／ｍとすれば良い。

【００４１】レチクルステージ８の質量Ｍや加速度Ａが
既定値である場合は、カウンタマス３１の質量ｍが大き
いほどａを小さくすることができ、カウンタマス３１の
可動範囲（ストローク）を小さくすることができる。ま
た、ストロークを短くすることにより、カウンタマス３
１を支持する台の移動荷重による影響を軽減することも
可能である。

【００４２】図５はレチクルステージ８、電磁継手５
２、およびカウンタマス３１の移動方向および重心位置
などの関係を示した図である。

【００４３】図中において、矢印は重心の移動方向であ
り、露光装置の走査方向であり、また、作用する推力の
軸を示している。レチクルステージ８およびカウンタマ
ス３１とも、推力が作用する駆動軸が重心を通るように
配置されている。また、電磁継手５２の推力はレチクル
ステージ８およびカウンターマス３１の重心近傍を通る
ように配置されている。つまり、本実施例ではレチクル
ステージ８の重心近傍と、カウンタマス３１の重心を結
ぶ力線方向と、各移動方向とはほぼ一致するように配置
されている。ただし、ここで言う推力とは、レチクルス
テージの両側に２つは位置されているリニアモータの推
力ベクトルの合力であり、電磁継手５２およびカウンタ
マス３１の推力についても同様である。

【００４４】図６はレチクルステージ、電磁継手、カウ
ンタマスの動作を制御するための制御系の概略である。

【００４５】レチクルステージ８、ウエハステージ９
は、走査露光など露光装置の動作に必要な動作を協調し
て行う。カウンタマス３１の移動に関する制御は、レチ
クルステージ８の移動に用いる信号を利用して行う。レ
チクルステージ８の移動に用いる信号を利用する方法
は、レチクルステージとカウンタマス３１との運動量の
和が常にほぼ零になるように行われる。すなわち、ある
時刻ｔでのレチクルステージへの位置指令値をＹ（ｔ）
とするとき、カウンタマスの位置指令値Ｃ（ｔ）をＣ
（ｔ）＝−Ｙ（ｔ）・Ｍ／ｍ＋Ｌとする。負の符号は逆
向きであることを表わす。各々の原点をゼロとして、同
じ方向に向きを設定した座標上に定義される位置であ
る。Ｌはオフセット量を表わす。電磁継手には、レチク
ルステージのリニアモータの駆動力と同等の推力を発生
させるようにして、レチクルステージの駆動反力をカウ
ンタマスに伝達させる。

【００４６】また、カウンタマス３１の制御としては、
次のように行っても良い。すなわちカウンタマスに発生
させる推力をレチクルステージ８に発生させる推力と逆
向きで同じ大きさになるようにカウンタマスに推力を与
えるようにする。この制御方法も原理的には前述の制御
方法と同じ結果を与えるものである。

【００４７】また、カウンタマス３１の制御する別の方
法として、図２に示されるレチクルステージ８のリニア
モータ固定子２２と鏡筒定盤１１またはステージ支持体
４０との間の移動距離を測る測距センサ２０を用いる方
法がある。図７はこの制御方法に対応した制御系の概略
である。

【００４８】この制御方法は、レチクルステージの固定
子２２と鏡筒定盤１１またはステージ支持体４０との相
対位置を検出し、それぞれの相対位置がずれないように
制御を行う。結果的に、レチクルステージ８の反力をカ
ウンタマス側に伝えることができる。

【００４９】この方法におけるカウンタマス３１の制御
方法は前述した制御方法と同様である。この方法によれ
ば、レチクルステージの固定子の振動を直接抑制する動
作を行うので、結果的にレチクルステージの加減速時の
反力をカウンタマス側に伝達すると共に、レチクルステ
ージの固定子の振動を小さくすることができるので、レ
チクルステージの可動子との相対振動に起因する速度起
電力も小さくなり、電気的な外乱成分が小さくなるの
で、レチクルステージの制御精度が向上する。

【００５０】カウンタマス３１の移動に関する位置制御
精度は、レチクルステージ８の移動に関する位置制御精
度に比べて緩くても良い。カウンタマスの移動を行う目
的の一つは、レチクルステージ８の移動に伴う反力が床
等に伝達するのを軽減することであるから、カウンタマ
ス３１はレチクルステージ８の加減速時にこれと概ね一
致した反力を発生させればよく、精密な位置制御を要求
されるものではない。したがって、カウンタマス３１の
位置制御をするための測長手段としては、レチクルステ
ージの位置の測長器であるレーザ干渉計のような精度の
高いものは必要なく、レーザ干渉計の分解能よりも粗い
分解能を有する光学スケールを用いたエンコーダ等を利
用すると、コスト的なメリットを得ることができる。

【００５１】前述までの説明はレチクルステージの反力
を受ける構成を述べているが、同様の構成をウエハステ
ージ９に適用しても良い。

【００５２】レチクルステージ８の駆動用固定子２２の
移動方向に関する自由支持には板ばね１９の他にも、例
えば静圧軸受としてのエアベアリングや転がり軸受とし
てのクロスローラベアリングのような直線上を滑らかに
案内する直線運動案内によるものが望ましい。なお、案
内による摩擦は大きいほどステージの移動による反力を
床に伝えるため、小さい方が良い。

【００５３】また、駆動手段として用いたリニアモータ
は可動磁石型リニアモータであるが、これに限るもので
はなく、固定磁石型リニアモータまたはボイスコイル型
リニアモータとしても良い。固定磁石形リニアモータの
場合、マグネット部が連結機構に接続されることにな
る。さらに、駆動手段はリニアモータに限るものではな
く、例えば、ボールネジや回転モータ等を用いても良
い。

【００５４】本実施形態では、ステージを駆動する固定
子と独立設置したカウンタマスとを連結し、ステージの
駆動に伴って発生する反力をカウンタマスの駆動によっ
て軽減させた。これにより、反力によって発生する露光
装置や床等での振動を軽減させることができる。

【００５５】また、ステージの固定子を移動方向に関し
て自由支持としたので、反力がステージを支持する定盤
に伝達されず、露光装置に発生する振動を軽減させるこ
とができる。

【００５６】また、非接触の電磁継手を採用したこと
で、カウンタマスが設置された機械室チャンバの不要な
振動を鏡筒定盤や露光装置本体に伝達しにくくさせると
共に、鏡筒定盤と機械室フレームとの相対的な変形を抑
えることができる。また、装置を組みたてる上での調整
が容易になる。しかしこれに限るものではなく、電磁継
手を介在させず、ステージの固定子とカウンタマスの固
定子とを直結しても良い。

【００５７】＜第２実施形態＞本発明の第２実施形態に
関する露光装置の概略図を図８に示す。

【００５８】前述の実施形態ではレチクルステージを駆
動するリニアモータの固定子を支持体に自由支持してい
たが、本実施形態ではリニアモータ固定子を支持体に固
定している。

【００５９】図中において、前述の実施形態と同様の部
材については同一の番号をつけており、同一の部材につ
いては説明を省略する。

【００６０】本実施形態の連結機構としての電磁継手５
２は、ステージ機構の構成要素であるレチクルステージ
支持体４０と、ステージ機構と実質的に独立して設置さ
れたカウンタマス機構の構成要素であるカウンタマス支
持体４１とを連結している。しかし、支持体（４０また
は４１）とリニアモータ固定子（２２または３３）が固
定されているため、連結機構であるところの電磁継手５
２を固定子（２２または３３）に接続しても良い。

【００６１】レチクルステージ８、電磁継手５２、カウ
ンタマス３１の重心や駆動軸との関係は前述の実施形態
と同様である。

【００６２】図９に本実施形態のステージ装置のモデル
図を示す。

【００６３】レチクルステージ８を駆動すると、ステー
ジの加減速時に反力が生じる。本実施形態ではリニアモ
ータ固定子２２とステージ支持体４０とを固定している
ため、反力はステージ支持体４０を通じて電磁継手５２
を介してカウンタマス３１に伝達される。

【００６４】カウンタマス３１においても、カウンタマ
ス３１の移動時に反力が発生するが、レチクルステージ
８の場合と同様に、反力が固定子３３から支持体に伝達
され、電磁継手５２に反力が伝わる。

【００６５】この反力を軽減させるために必要なカウン
タマス３１の移動量は前述の実施形態とほぼ同様であ
る。

【００６６】本実施形態ではレチクルステージ側のリニ
アモータ固定子がステージ支持体に固定された位置関係
になるため、前述のリニアモータ固定子と鏡筒定盤の相
対移動を測るための測距センサは必要ない。また、この
タイプではレチクルステージの駆動手段としては必ずし
もリニアモータである必要はなく、例えばボールネジを
用いても良い。このため、レチクルステージの構成の自
由度が高くなるのが、このタイプの特徴である。

【００６７】本実施形態の構成によっても前述の実施形
態と同様の効果が得られ、カウンタマス３１を用いて反
力を軽減することができる。これにより、反力により発
生する振動を軽減させ、高速、高精度な位置決めを行う
ことができる。また、ステージ８の駆動を行う固定子２
２を支持体４０に固定させたことで、ステージ装置の構
成を簡略化でき、軽量化、コストダウンを図ることがで
きる。

【００６８】また、レチクルステージとカウンタマスの
固定子２２，３３に関して、どちらか一方を前述の実施
形態のように支持体と固定子を移動方向に関して自由支
持しても、本実施形態と同様の効果が得られる。

【００６９】＜実施形態３＞図１０に本発明の第３の実
施形態に関する露光装置の概略図を示す。

【００７０】本実施形態のステージ装置において、レチ
クルステージ側（ステージ機構）の構成は前述の実施形
態と同様であるので、説明を省略する。

【００７１】前述の実施形態ではリニアモータ固定子ま
たはステージ支持体と、カウンタマス固定子または支持
体とを連結機構を介して連結していたが、本実施形態で
はレチクルステージの固定子または支持体と、カウンタ
マスとを連結している。また、連結部において、カウン
タマスの駆動を行うことが前述の実施形態と異なる。

【００７２】レチクルステージ８は前述の実施形態と同
様の非接触のリニアモータで構成される。３１はカウン
タマスであり、４１はカウンタマス支持体である。カウ
ンタマスの質量はレチクルステージの質量の１０倍であ
るので、カウンタマスのストロークは概ね１／１０とな
っている。５２は連結手段であるところの電磁継手であ
る。電磁継手５２はカウンタステージを駆動するリニア
モータ（推力発生手段）を構成し、お互いに非接触なボ
イスコイルタイプのモータである。このモータはカウン
タステージのストロークに対して十分なストロークにわ
たって推力を発生する。

【００７３】電磁継手の一端はレチクルステージ８のリ
ニアモータ固定子２２と接続されており、電磁継手５２
の他の一端はカウンタマス３１に接続されている。つま
り、リニアモータ固定子２２と、カウンタマス３１が連
結手段５２を介して連結されている。

【００７４】電磁継手５２は鏡筒定盤上に支持されてお
り、鏡筒定盤に対して磁力を発生する方向に可動なよう
に構成されている。したがって、固定子の推力発生方向
の動きは鏡筒定盤には伝わらない。

【００７５】図１１に本実施形態のステージ装置のモデ
ル図を示す。

【００７６】レチクルステージ８が露光のため加速また
は減速を行うと、レチクルステージの駆動手段であるリ
ニアモータ固定子２２に反力が生じる。発生した反力は
連結手段５２に伝達される。一方、カウンタマス３１は
カウンタマスの駆動を行うリニアモータにより、推力が
与えられる。カウンタマス３１の駆動は、前述の反力を
軽減するように推力を与えればよい。この時の推力は、
前述の実施形態においてカウンタマスの移動に用いた推
力とほぼ同量である。

【００７７】本実施例でもレチクルステージ、電磁継
手、カウンタマスの重心と駆動軸との関係は前述の実施
例と同様である。

【００７８】この実施例ではレチクルステージの固定子
２２はステージ支持体４０に対して推力を発生する方向
に可動なように支持されている。したがって、固定子の
推力方向の動きは鏡筒定盤には伝達されない。２０は測
距センサであり、鏡筒定盤１１またはステージ支持体４
０と、固定子２２との相対位置を検出する。

【００７９】図１２は本実施形態の構成のレチクルステ
ージ８、カウンタマス３１の動作を制御するための制御
系の例の概略図である。

【００８０】前述の実施形態と同様に、レチクルステー
ジ８とウエハステージ９は走査露光など、露光装置の動
作に必要な動作を協調して行う。レチクルステージ８の
固定子２２と、鏡筒定盤１１またはステージ支持体との
相対位置を検出し、それぞれの相対位置がずれないよう
に制御を行う。結果的に、電磁手段はレチクルステージ
のリニアモータの駆動力とほぼ同等の推力を発生するこ
とになり、レチクルステージの反力を機械室チャンバ４
４のフレーム４５に伝えることができる。カウンタマス
３１のリニアモータは位置センサ信号を用いて制御す
る。すなわちレチクルステージ側の固定子が鏡筒定盤に
対して所定の位置になるように、位置センサ信号を用い
てカウンタマスを駆動するためのリニアモータの固定子
に流れる電流を制御する。

【００８１】このように制御することによって、結果的
にカウンタマスのリニアモータはレチクルステージのリ
ニアモータとほぼ同等の推力を発生することになり、カ
ウンタマスの運動量はレチクルステージの運動量と合わ
せてほぼゼロになるように駆動される。したがって、こ
の例でもレチクルステージの反力が露光装置本体の鏡筒
定盤１１に伝達されるのを軽減することができ、さらに
運動量が全体でキャンセルされているので、露光装置の
外に放出される振動もほぼなくなる。また、機械室チャ
ンバ４４の機械的な振動は、カウンタマスの非接触のリ
ニアモータ部で遮断され、レチクルステージ側には伝達
されない。カウンタマスの駆動に用いられる電磁継手の
リニアモータの磁石とヨークをカウンタマスの質量とし
て活用できるので、長いストロークのボイスコイルモー
タとして設計するのに有利である。

【００８２】さらに、本実施形態では、レチクルステー
ジ側の固定子２２または支持体４１と、別置きに設置し
たカウンタマス３１とを電磁継手による連結手段を介し
て連結し、ステージ８の駆動に伴って発生する反力をカ
ウンタマス３１に推力を与えることで軽減させた。これ
により、反力によって発生する露光装置や床等での振動
を軽減させることができる。

【００８３】また、本実施形態ではカウンタマスに電磁
継手を連結している。この形態で、カウンタマスの駆動
を第１実施形態や第２実施形態のようにカウンタマス側
に駆動手段を備えても良い。

【００８４】また、本実施形態では、レチクルステージ
の固定子は、支持体により第１実施形態と同様にステー
ジの移動方向に関して自由に支持されているが、第２実
施形態のようにレチクルステージの固定子を支持体に固
定しても、本実施形態の基本的な考え方が変わるもので
はない。この場合、連結手段５２のレチクルステージ側
の一端は、レチクルステージのリニアモータ固定子に接
続してもステージ支持体に固定しても良く、固定子と鏡
筒定盤との相対移動を測定する測距センサも必要なくな
る。

【００８５】＜実施形態４＞図１３は本発明のステージ
装置に関して、レチクルステージ側（ステージ機構）の
固定子２２またはステージ支持体４１と、カウンタマス
側（カウンタマス機構）の支持体４１等とを連結する連
結機構の概略図である。

【００８６】前述の実施形態の連結機構は非接触の電磁
継手を用いていたが、本実施形態では連結機構として回
転自由な回転継手５１を用いている。

【００８７】図のように回転可能な回転継手がレチクル
ステージ８とカウンタマス３１の間に介在されている。
レチクルステージやカウンタマス等の構成は前述の実施
形態と同様である。この回転自由な回転継手５１は、レ
チクルステージ８の駆動軸と、カウンタマス３１の駆動
軸のずれによる影響を軽減するのに有効である。しか
し、望ましくは前述の実施形態と同様に、レチクルステ
ージの駆動軸がレチクルステージの重心近傍を通り、カ
ウンタマスの駆動軸がカウンタマスの重心近傍を通り、
２つの駆動軸がほぼ一致するようにそれぞれを配置した
上で、回転継手を介在する方が良い。

【００８８】また、図１４に示すように、回転自由な回
転継手５１と電磁継手５２を直列に接続して連結機構を
構成しても同様の効果が得られるほか、回転継手を介在
させたことで、レチクルステージの駆動軸と電磁継手の
駆動軸とカウンタマスの駆動軸がずれていても影響を軽
減させることができる。しかしこの場合も、望ましくは
これらの駆動軸がほぼ一致していることが望ましい。

【００８９】＜実施形態５＞図１５および図１６にカウ
ンタマスの別の形態を示す。図１５は平面図を示したも
のであり、図１６は断面図を示したものである。

【００９０】本実施形態は、カウンタマス機構の構成要
素としての駆動用モータ全体がカウンタマスの一部とし
て構成されるものである。

【００９１】図中のカウンタマスは駆動用モータ８１を
搭載している。駆動用モータ８１にはキャプスタンロー
ラが設けられている。８２はモータによって駆動される
キャプスタンローラである。８３はカウンタマスを案内
するガイドで、固定子に固定されている。８４はキャプ
スタンローラの摩擦面であり、それぞれのキャプスタン
ローラに対応して２面設けられている。

【００９２】カウンタマス側の構成および制御方法は前
述の実施形態と同様のものである。

【００９３】また、駆動用モータを図のように２つ配置
し、逆方向に回転させることで、カウンタマスに発生す
るモーメント反力を抑える。このような、駆動源を搭載
したカウンタマスは、効率よくカウンタマスの重量を大
きくすることができるので、カウンタマスの移動量を小
さくすることができ、コンパクトでコスト的に有利な構
成とすることができる。

【００９４】また、図１７および図１８のようにカウン
タマスを構成しても良い。図１７は平面図であり、図１
８は断面図を示したものである。

【００９５】この形態は、前述の様にカウンタマスに駆
動用モータを搭載する考え方と同様であり、駆動機構と
してはネジとボールナットを用いたものである。

【００９６】図中において、カウンタマス３１に２つの
モータ８５が搭載されている。モータには不図示のモー
タギヤが内蔵されており、所望の回転速度になるように
設計される。８６はネジであり、それぞれ逆方向のネジ
が構成されている。すなわち、一方が右ネジであれば、
他方は左ネジである。ネジに対応したボールナット８７
が固定子に固定配置される。このとき固定子は、機械室
チャンバ４４に固定されている。８８は駆動用モータ８
５を含むカウンタマス３１を案内するガイドである。駆
動するためのネジは逆方向で同一回転量になるように制
御される。

【００９７】この形態のカウンタマスにおいても移動の
際には２つのモータをそれぞれ逆回転することによって
カウンタマスにモータの回転による駆動モーメントの反
力を相殺することができる。このため、外部にモータ回
転によるモーメント反力を放出しないようにすることが
できる。また、駆動源となるモータ、ネジをカウンタマ
スに搭載することで効率よくカウンタマスの重量を大き
くすることができる。

【００９８】さらに、カウンタマス３１はステージ装置
本体（ステージ機構）とは別置きの機械フレーム中に構
成されるため、露光装置のチャンバ内、機械室等の動か
しても影響の小さいもの（例えばドライバ、トランス、
ランプの点灯装置、制御盤等）で構成しても良い。これ
によっても効率よくカウンタマスの重量を大きくするこ
とができる。

【００９９】＜実施形態６＞図１９は本発明の第６実施
形態に関するステージ装置の概略図である。

【０１００】基本的な構成は前述の実施形態に関するス
テージ装置の構成と同様である。

【０１０１】本実施形態のステージ８は、可動子２１、
コイル２８および案内から構成された電磁アクチュエー
タ（リニアモータ）であり、可動子２１はヨーク２７お
よびマグネット２６から構成されている。さらにステー
ジ側のコイルは回転自由な連結機構である回転継手５１
を通じて案内を備えたカウンタマス３１に接続されてい
る。

【０１０２】なお、この回転自由な連結機構である回転
継手５１は、カウンタマス３１とコイル２８の駆動軸ず
れを軽減するのに有効である。

【０１０３】カウンタマス３１は前述の実施形態と同様
にステージとは別置きの独立した装置、例えば機械室フ
レームに配置されている。また、本実施形態では、カウ
ンタマス側はステージと別個な駆動手段は持っていな
い。

【０１０４】本実施形態の構成では、コイル２８と案内
の間に、かつ可動子２１とコイル２８の間に摩擦が働か
ないと仮定すると、可動子が矢印の方向へ駆動された場
合は、コイル２８はその逆の方向に、ステージ８と可動
子２１の質量の合計（Ｍ）に駆動に要した加速度（Ａ）
を乗じただけ反力を受けることになる。カウンタマス３
１、連結機構５１およびコイル２８の質量の合計をｍと
すると、カウンタマス３１、連結機構５１およびコイル
２８が受ける加速度ａは、ａ＝Ａ×Ｍ／ｍで表わされる。すなわち、ＡおよびＭが既定値である場
合は、ｍが大きいほど小さくすることができ、カウンタ
マス３１の可動範囲（ストローク）を軽減することがで
きる。また、ストロークを短くすることにより、カウン
タマスを支持するカウンタマス支持体の移動荷重による
影響を軽減することが可能となる。

【０１０５】このカウンタマスは、露光装置本体と別置
きで構成されるため、露光装置のチャンバ内、機械室の
動かしても差し支えないものが良く、例えば電源ドライ
バ、トランス、ランプ等の点灯装置、制御盤で構成する
のが望ましい。

【０１０６】案内はエアベアリングやクロスローラベア
リングのような、直線上を滑らかに案内するものが望ま
しい。なお、案内による摩擦は大きくなるほどステージ
の移動による反力を床に伝えるため、摩擦は小さい方が
良くなる。

【０１０７】摩擦の影響等のため、カウンタマスがカウ
ンタマス支持体に対して位置ずれを起こす可能性が考え
られる。そこで、カウンタマス側にカウンタマスを移動
するための移動機構を設け、カウンタマスの位置ずれを
補正する。移動機構はカウンタマスがストロークの端点
まで移動した際に、中立位置まで戻すことができるよう
に備えられており、通常、露光装置の生産性を劣化させ
ないために、ウエハの交換時等に移動機構を作動させ
る。

【０１０８】本実施形態のステージ装置により、前述の
ステージ装置の効果のほかに、カウンタマスに別個の駆
動手段を設ける必要がないため、装置の簡略化、小型
化、コストダウンを図ることができる。

【０１０９】また、移動機構を設けることで、カウンタ
マスの位置ずれを補正することができるので、露光装置
の生産性の劣化を防ぐことができる。

【０１１０】本実施形態では、ステージは可動磁石型リ
ニアモータを採用しているが、図２０に示すように、固
定磁石型リニアモータとしても良い。この場合、コイル
と磁石の配置は図１９のステージ装置と逆の構成にな
り、磁石部が連結機構に接続される。

【０１１１】また、図２１に示す通り、ステージの構成
に転がり軸受や静圧軸受のような直線運動案内と回転モ
ータを用いても良い。図中ではステージ側にボールナッ
トを備え、連結機構と接続する側（間接的にカウンタマ
スに接続する側）にはボールネジを備えても、前述の本
実施形態と同様な効果を得られる。

【０１１２】また、図２２に示す通り、連結機構に前述
の電磁継手を用いても良い。電磁継手を用いることによ
り、カウンタマス側の露光装置に不利な振動を電磁継手
において、軽減させることができる。

【０１１３】本実施形態でも、ステージの重心の移動方
向のほぼ延長線上にカウンタマスの重心があることが望
ましい。

【０１１４】＜実施形態７＞次に上述した露光装置を利
用した半導体デバイスの製造方法の実施形態を説明す
る。図２３は半導体デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体
チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイク
ロマシン等）の製造のフローを示す。ステップＳ１１
（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行なう。
ステップＳ１２（マスク製作）では設計した回路パター
ンを形成したマスクを製作する。一方、ステップＳ１３
（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いて基板であ
るウエハを製造する。ステップＳ１４（ウエハプロセ
ス）は前工程と呼ばれ、上記用意したマスクとウエハを
用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回
路を形成する。次のステップＳ１５（組立）は後工程と
呼ばれ、ステップＳ１４によって作製されたウエハを用
いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程
（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程
（チップ封入）等の工程を含む。ステップＳ１６（検
査）ではステップＳ１５で作製された半導体デバイスの
動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。こう
した工程を経て半導体デバイスが完成し、これが出荷
（ステップＳ１７）される。

【０１１５】図２４は上記ウエハプロセスの詳細なフロ
ーを示す。ステップＳ２１（酸化）ではウエハの表面を
酸化させる。ステップＳ２２（ＣＶＤ）ではウエハ表面
に絶縁膜を形成する。ステップＳ２３（電極形成）では
ウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップＳ２
４（イオン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ス
テップＳ２５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗
布する。ステップＳ２６（露光）では上記説明した露光
装置によってマスクの回路パターンをウエハに焼付露光
する。ステップＳ２７（現像）では露光したウエハを現
像する。ステップＳ２８（エッチング）では現像したレ
ジスト像以外の部分を削り取る。ステップＳ２９（レジ
スト剥離）ではエッチングが済んで不要となったレジス
トを取り除く。これらのステップを繰り返し行なうこと
によって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成され
る。本実施形態の製造方法を用いれば、高集積度の半導
体デバイスを製造することができる。

【０１１６】

【発明の効果】本発明の請求項１記載のステージ装置に
より、ステージの移動に伴って発生する駆動反力をカウ
ンタマス側に連結手段を介して伝達することができる。
これにより、ステージに発生する振動を抑えることがで
きる。

【０１１７】また、請求項２記載のステージ装置によ
り、カウンタマスとステージの駆動軸のずれの影響を軽
減することができ、請求項３記載のステージ装置は非接
触の継手を採用しているため、カウンタマス側の不要な
振動をステージ側に伝達させにくくさせると共に、ステ
ージ側とカウンタマス側の相対的な変形を抑えることが
できる。また、装置を組みたてる上での調整が容易にな
る。

【０１１８】本発明の請求項４記載のステージ装置によ
り、ステージの移動に伴って発生する駆動反力をカウン
タマス側に連結手段を介して伝達することができる。ス
テージ機構とカウンタマス機構が独立して設置している
ため、ステージに発生する振動をカウンタマス側へ伝達
させることでステージの振動を抑えることができ、ま
た、装置全体および装置を設置した床や装置周辺への振
動の励起を軽減することができる。

【０１１９】また、請求項５記載のステージ装置によ
り、ステージの移動に伴って発生する反力がカウンタマ
スの移動により軽減されるため、ステージに発生する振
動を抑えることができる。

【０１２０】また、請求項６記載のステージ装置によ
り、簡単なステージの構成で、ステージの駆動や発生す
る反力をカウンタマス側に伝達することができる。

【０１２１】また、請求項９記載のステージ装置によ
り、カウンタマスの位置ずれを補正することができ、ス
テージの位置決め精度や露光装置の生産性の劣化を防ぐ
ことができる。

【０１２２】本発明の請求項１０または１１記載のステ
ージ装置により、ステージとカウンタマスを別個に駆動
することができ、ステージの移動に伴って発生する反力
をカウンタの駆動による反力によって軽減させることが
できる。

【０１２３】また、請求項１２記載のステージ装置は装
置の構造の簡略化を図ることができ、また、請求項１３
記載のステージ装置はステージの駆動反力をステージ機
構や露光装置に伝達させないようにすることができる。

【０１２４】また、請求項１４記載のステージ装置によ
り、カウンタマスとステージの駆動軸のずれの影響を軽
減することができ、請求項１５記載のステージ装置は非
接触の継手を採用しているため、カウンタマス側の不要
な振動をステージ側に伝達させにくくさせると共に、ス
テージ側とカウンタマス側の相対的な変形を抑えること
ができる。また、装置を組みたてる上での調整が容易に
なる。

【０１２５】本発明の請求項１６または１７記載のステ
ージ装置により、ステージの駆動反力をカウンタマス側
に伝達し、ステージに発生する振動を軽減させ、高速高
精度な位置決めを行うことができる。また、カウンタマ
スの駆動を連結手段の推力発生手段で行っても良い。

【０１２６】また、請求項１８記載のステージ装置は装
置の構造の簡略化を図ることができ、また、請求項１９
記載のステージ装置はステージの駆動反力をステージ機
構や露光装置に伝達させないようにすることができる。

【０１２７】請求項２０または２１記載のステージ装置
により、ステージ機構の振動がステージの位置決めや駆
動に与える影響を抑えることができる。

【０１２８】また、請求項２３記載のステージ装置によ
り、不要なモーメントを発生させることなく、高効率な
ステージの駆動を行うことができる。

【０１２９】また、請求項２６〜２９記載のステージ装
置により、ステージの移動に伴って発生する振動をカウ
ンタマスの移動によって効率よく軽減させることができ
る。

【０１３０】発明の請求項３０記載のステージ装置によ
り、位置決めすべき物体を高速高精度に位置決めするこ
とができ、かつ、周辺の装置や床に発生する反力による
振動を軽減することができる。

【０１３１】特に、請求項３１記載のステージ装置によ
り、レチクルステージとして露光装置に搭載する場合、
比較的高い場所で位置決めを行っているため、反力を軽
減させることは、装置の振動を抑える上で有利である。

【０１３２】本発明の請求項３２および３３記載の露光
装置により、低振動による高速高精度な露光装置が実現
でき、高スループット化を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１実施形態の露光装置の概略図

【図２】第１実施形態のレチクルステージの詳細図

【図３】第１実施形態のレチクルステージに用いられる
リニアモータの説明図

【図４】第１実施形態のステージ装置のモデル図

【図５】移動方向および重心位置の関係を示した図

【図６】第１実施形態の制御系概略図

【図７】第１実施形態の測距センサを用いた制御系概略
図

【図８】第２実施形態の露光装置の概略図

【図９】第２実施形態のステージ装置のモデル図

【図１０】第３実施形態の露光装置の概略図

【図１１】第３実施形態のステージ装置のモデル図

【図１２】第３実施形態の制御系概略図

【図１３】第４実施形態の回転継手の概略図

【図１４】第４実施形態の連結手段の概略図

【図１５】第５実施形態のキャプスタンローラを搭載し
たカウンタマスの平面図

【図１６】第５実施形態のキャプスタンローラを搭載し
たカウンタマスの断面図

【図１７】第５実施形態のボールネジを搭載したカウン
タマスの平面図

【図１８】第５実施形態のボールネジを搭載したカウン
タマスの断面図

【図１９】第6実施形態のステージ装置のモデル図

【図２０】第6実施形態の可動コイル型リニアモータを
利用したステージ装置のモデル図

【図２１】第6実施形態のボールネジを利用したステー
ジ装置のモデル図

【図２２】第6実施形態の電磁継手を利用したステージ
装置のモデル図

【図２３】半導体デバイスの製造フロー図

【図２４】ウエハプロセスのフロー図

【図２５】従来の露光装置の概略図

【図２６】従来のステージ装置のモデル図

【図２７】従来のステージ装置の説明図

【符号の説明】

１ベース部材２マウント手段３床４照明光学系５投影光学系６鏡筒支持体７ステージベースフレーム８レチクルステージ９ウエハステージ１０ウエハステージ定盤１１鏡筒定盤１２干渉計１３アライメント系１５コーナキューブ１６干渉計１７ミラー１８干渉計１９板ばね２０測距センサ２１可動子２２固定子２３ガイド２５レチクル２６磁石２７ヨーク２８コイル２９固定子枠３１カウンタマス３２可動子３３固定子３４磁石３５固定子３６コイル４０ステージ支持体４１カウンタマス支持体４４機械室チャンバ４５フレーム４６ウエハ搬送系４７レチクル搬送系４９移動機構５１回転継手５２電磁継手５３コイル５４磁石５５保持部材５７モータ５８ボールネジ５９ボールナット８１モータ８２ローラ８３ガイド８４摩擦面８５モータ８６ネジ８７ボールナット８８ガイド６１基盤６２除振手段６４照明系６８レチクルステージ６９ウエハステージ７０定盤７１鏡筒定盤７２支持体７３ばね７４定盤７５反力受け７６アクチュエータ７７固定子７８可動子

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＨ０１Ｌ 21/30 ５１５Ｇ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】移動可能なステージと、該ステージを載
置するステージ支持体とを有するステージ機構と、移動
可能なカウンタマスと、該カウンタマスを載置するカウ
ンタマス支持体とを有するカウンタマス機構とを有し、該ステージの移動に伴って発生する駆動反力を該カウン
タマス機構に伝達するための連結手段を有することを特
徴とするステージ装置。
【請求項２】前記連結手段は回転自由な回転継手を有
することを特徴とする請求項１記載のステージ装置。
【請求項３】前記連結手段は推力発生手段を有するこ
とを特徴とする請求項１または２記載のステージ装置。
【請求項４】移動可能なステージと、該ステージを載
置するステージ支持体とを有するステージ機構と、移動
可能なカウンタマスと、該カウンタマスを載置するカウ
ンタマス支持体とを有し該ステージ機構と実質的に独立
に設置したカウンタマス機構とを有し、該ステージの移動に伴って発生する駆動反力を該カウン
タマス機構に伝達するための連結手段を有することを特
徴とするステージ装置。
【請求項５】前記ステージの駆動反力により前記カウ
ンタマスを駆動することを特徴とする請求項１〜４いず
れか記載のステージ装置。
【請求項６】ステージの駆動手段を構成する部材の一
方を前記ステージに備え、他方を前記カウンタマスまた
は前記連結手段を介して前記カウンタマスに備え、前記
ステージの駆動反力によりカウンタマスを駆動すること
を特徴とする請求項１〜５いずれか記載のステージ装
置。
【請求項７】コイルまたは磁石の一方を前記ステージ
に備え、他方を前記カウンタマスまたは前記連結手段を
介して前記カウンタマスに備え、前記ステージの駆動反
力によりカウンタマスを駆動することを特徴とする請求
項１〜６いずれか記載のステージ装置。
【請求項８】ボールナットを前記ステージに備え、ボ
ールネジを前記カウンタマスまたは前記連結手段を介し
て前記カウンタマスに備え、前記ステージの駆動反力に
よりカウンタマスを駆動することを特徴とする請求項１
〜６いずれか記載のステージ装置。
【請求項９】カウンタマスの位置ずれを補正するため
の移動機構を有することを特徴とする請求項１〜８いず
れか記載のステージ装置。
【請求項１０】前記ステージを駆動するステージ駆動
手段と、前記カウンタマスを駆動する駆動手段とを有
し、該ステージの移動に伴って発生する反力を軽減するよう
に該カウンタマスを駆動することを特徴とする請求項１
〜４いずれか記載のステージ装置。
【請求項１１】前記ステージ駆動手段はステージ支持
体に支持された第１固定子とステージに配置された第１
可動子とを備え、前記カウンタマス駆動手段はカウンタマス支持体に支持
された第２固定子とカウンタマスに配置された第２可動
子を備え、定盤または該ステージ支持体または該第１固定子と、該
カウンタマスまたは該カウンタマス支持体または該第２
固定子とが連結手段を介して連結され、該ステージの移動に伴って発生する反力を軽減するよう
に該カウンタマスを駆動することを特徴とする請求項１
０記載のステージ装置。
【請求項１２】前記第１固定子は前記ステージ支持体
に固定されていることを特徴とする請求項１１記載のス
テージ装置。
【請求項１３】前記第１固定子は前記支持体に前記ス
テージの移動方向に関して自由支持されていることを特
徴とする請求項１１記載のステージ装置。
【請求項１４】前記連結手段は回転自由な回転継手を
有することを特徴とする請求項４〜１３記載のステージ
装置。
【請求項１５】前記連結手段は推力発生手段を有する
ことを特徴とする請求項４〜１４記載のステージ装置。
【請求項１６】該ステージを駆動するステージ駆動手
段と、推力発生手段を有する連結手段を有し、該ステージの移動に伴って発生する反力を軽減するよう
に該カウンタマスを駆動することを特徴とする請求項４
記載のステージ装置。
【請求項１７】前記ステージ駆動手段はステージ支持
体に支持された第１固定子とステージに配置された第１
可動子とを備え、定盤または該ステージ支持体または該第１固定子と、該
カウンタマスとが連結手段により連結されており、該ステージの移動に伴って発生する反力を軽減するよう
に該カウンタマスを駆動することを特徴とする請求項１
６記載のステージ装置。
【請求項１８】前記第１固定子は前記ステージ支持体
に固定されていることを特徴とする請求項１７記載のス
テージ装置。
【請求項１９】前記第１固定子は前記支持体に前記ス
テージの移動方向に関して自由支持されていることを特
徴とする請求項１７記載のステージ装置。
【請求項２０】前記自由支持に板ばねを用いることを
特徴とする請求項１３〜１９いずれか記載のステージ装
置。
【請求項２１】前記自由支持に静圧軸受または転がり
軸受を用いることを特徴とする請求項１３〜１９いずれ
か記載のステージ装置。
【請求項２２】前記推力発生手段はリニアモータであ
ることを特徴とする請求項３、５〜２１いずれか記載の
ステージ装置。
【請求項２３】前記ステージの重心の移動方向のほぼ
延長線上にカウンタマスの重心があることを特徴とする
請求項１〜２２いずれか記載のステージ装置。
【請求項２４】前記駆動手段はリニアモータであるこ
とを特徴とする請求項１０〜２３いずれか記載のステー
ジ装置。
【請求項２５】前記駆動手段に用いられるモータがカ
ウンタステージに搭載されていることを特徴とする請求
項１０〜２４いずれか記載のステージ装置。
【請求項２６】前記ステージの移動に用いる信号を利
用して前記カウンタマスの制御を行うことを特徴とする
請求項１０〜２５いずれか記載のステージ装置。
【請求項２７】前記ステージに発生させる推力に対応
して前記カウンタマスの制御を行うことを特徴とする請
求項１０〜２６いずれか記載のステージ装置。
【請求項２８】前記ステージと前記定盤との距離を測
定する測距センサを備えていることを特徴とする請求項
１〜２７いずれか記載のステージ装置。
【請求項２９】前記測距センサの出力に応じて前記カ
ウンタマスの制御を行うことを特徴とする請求項２８記
載のステージ装置。
【請求項３０】前記ステージは位置決めすべき物体を
搭載することを特徴とする請求項１〜２９いずれか記載
のステージ装置。
【請求項３１】前記ステージはレチクルを搭載するこ
とを特徴とする請求項３０記載のステージ装置。
【請求項３２】請求項１〜３１いずれか記載のステー
ジ装置を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項３３】請求項１〜３１いずれか記載のステー
ジ装置をレチクルステージとして備えたことを特徴とす
る走査露光装置。
【請求項３４】請求項３２または３３記載の露光装置
を用いてデバイスを製造するデバイス製造方法。