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JPH11180774A - 窒化珪素質放熱部材及びその製造方法 - Google Patents

窒化珪素質放熱部材及びその製造方法

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Publication number
JPH11180774A
JPH11180774A JP9352949A JP35294997A JPH11180774A JP H11180774 A JPH11180774 A JP H11180774A JP 9352949 A JP9352949 A JP 9352949A JP 35294997 A JP35294997 A JP 35294997A JP H11180774 A JPH11180774 A JP H11180774A
Authority
JP
Japan
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silicon nitride
mol
oxide
terms
rare earth
Prior art date
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Pending
Application number
JP9352949A
Other languages
English (en)
Inventor
Tomohiro Iwaida
智広 岩井田
Akihisa Makino
晃久 牧野
Masanobu Ishida
政信 石田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
Priority to JP9352949A priority Critical patent/JPH11180774A/ja
Priority to US09/217,087 priority patent/US6294244B1/en
Priority to DE19859119A priority patent/DE19859119B4/de
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01012Magnesium [Mg]
    • HELECTRICITY
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    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
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    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1306Field-effect transistor [FET]
    • H01L2924/13091Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor [MOSFET]

Landscapes

  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Ceramic Products (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】1800℃以下の常圧下で焼成可能であって、
且つ高熱伝導性を有する低コストの窒化珪素質放熱部材
とその製造方法を提供する。 【解決手段】窒化珪素(Si3 4 )を70〜95モル
%と、希土類金属(RE)およびMgを酸化物換算によ
る合量で4〜30モル%と、Alを酸化物換算で0〜
1.0モル%とからなり、前記希土類金属およびMgの
酸化物換算によるモル比(RE2 3 /MgO)が0.
1〜15である成形体を常圧の非酸化性雰囲気中、18
00℃以下の温度で焼成して相対密度90%以上に緻密
化して、熱伝導率30W/m・K以上、強度600MP
a以上の放熱部材を得る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子用パッ
ケージにおける半導体素子から発生する熱、各種発熱体
から発生する熱を放熱するために好適な放熱部材とのそ
の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体素子の高集積化に伴い、半
導体装置から発生する熱も増加しており、該半導体装置
の誤動作をなくす為には、このような熱を装置外に速や
かに放出する基板が必要となっている。
【0003】しかしながら、 従来から用いられてきた各
種絶縁基板や半導体素子収納用パッケージ等のアルミナ
材料は、熱伝導率が約20W/mKと低い事からそれに
代わるものとして高い熱伝導率を有する窒化アルミニウ
ムが注目され始めた。しかし窒化アルミニウムは強度や
破壊靭性値が低く高応力のかかる部品や高信頼性の要求
される分野には適用できない事が分かってきている。そ
こで高熱伝導率と高強度、高信頼性の要求に応える材料
として、最近、窒化珪素質焼結体が注目されてきてい
る。
【0004】従来、窒化珪素材料はガスタービンなどの
高温構造材として盛んに研究され、一部実用化の域に達
してきている。このような窒化珪素質焼結体は、室温か
ら高温までの強度特性を高めるために希土類酸化物を添
加し1800〜2000℃という非常に高い温度で焼成
する必要があり、またその場合、窒化珪素の高温での分
解反応を抑えるため数十〜100気圧の窒素雰囲気中で
焼成することが必要となる。
【0005】一方、高温での特性を必要としない場合
は、焼結助剤としてアルミナやマグネシアを添加するこ
とにより1700〜1800℃の比較的低温で焼成する
ことにより作製されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、窒化珪素はそ
の構成元素や結晶構造から高熱伝導性を有すると予測さ
れながら、構造用材料としての研究に比べ放熱用部材と
しての研究はあまりなされていなかった。最近になっ
て、高温構造材料としての窒化珪素質焼結体の熱伝導率
がかなり高いことが見出され、この焼結体の放熱部材へ
の検討が始まってきている。
【0007】このような経緯から放熱部材としての研究
も高温での焼結を前提としたものがほとんどであって、
低温低圧下での放熱部材の製造技術に対する研究はあま
りおこなわれていない。例えば、特開平6−13577
1号、特開平7−149588号では、助剤として主に
希土類元素酸化物を含み1800〜2000℃にて窒素
加圧焼成することにより60W/m・K以上の熱伝導率
を有する窒化珪素焼結体が得られるとしている。また、
特開平4−219731号には90重量%以上の窒化珪
素を含み、Al,Oをともに3.5重量%以下とし、密
度3.15g/cm3 とする事により、熱伝導率40W
/mK以上の窒化珪素焼結体を得ることが記載されてい
る。
【0008】先ほども述べたが、高温での焼成は窒素加
圧焼成という特殊な焼成方法をとる必要があり焼成コス
トの増加を招く。また、窒化珪素自身の分解を完全に抑
制することは難しく、製品の焼き肌面は非常に荒れる事
になりこのような材料を実際に使うには表面研磨などの
加工処理が必要となってくるため、手間がかかり、コス
ト上昇の一因となる。
【0009】これに対して、窒化珪素の焼成を1800
℃以下の比較的低温にて行う場合には、常圧(大気圧)
の非酸化性雰囲気中にて焼成できるために、焼き肌面の
荒れの少ない製品を得る事が出来る。しかしながら、こ
れまでの1800℃以下の低温焼成によって作製された
窒化珪素質焼結体は、熱伝導率が20〜30W/m・K
と極端に低下するという問題があった。これは主に希土
類酸化物(RE2 3)−Al2 3 系の複合助剤を用
いて行われているため、窒化珪素結晶粒子中へのAl原
子の固溶およびサイアロンの形成によって窒化珪素結晶
自体の熱伝導率が低下するためであると考えられる。
【0010】従って、本発明は、前記課題を解消する為
になされたもので、その目的は1800℃以下の常圧下
で焼成可能であって、且つ高熱伝導性を有する窒化珪素
質放熱部材と、その製造方法を提供するにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
に対して鋭意検討を重ねた結果、焼結助剤として希土類
元素化合物とマグネシウム化合物とを共に添加するとと
もに、焼結体中のAl量を制御する事により常圧焼成可
能な窒化珪素質放熱部材を得られることを見出した。
【0012】即ち、本発明の窒化珪素質放熱部材は、窒
化珪素を70〜95モル%と、希土類金属(RE)およ
びMgを酸化物換算による合量で4〜30モル%と、前
記希土類金属およびMgの酸化物換算によるモル比(R
2 3 /MgO)が0.1〜15であり、且つAlを
酸化物換算で1.0モル%以下とからなり、相対密度9
0%以上、熱伝導率30W/m・K以上であることを特
徴とするものである。
【0013】また、その製造方法として、窒化珪素(S
3 4 )を70〜95モル%と、希土類金属(RE)
およびMgを酸化物換算による合量で4〜30モル%
と、Alを酸化物換算で0〜1.0モル%とからなり、
前記希土類金属およびMgの酸化物換算によるモル比
(RE2 3 /MgO)が0.1〜15である成形体を
常圧の非酸化性雰囲気中、1800℃以下の温度で焼成
して相対密度90%以上に緻密化することを特徴とする
ものである。
【0014】
【作用】本発明の窒化珪素質放熱部材及びその製造方法
によれば、焼結助剤として添加する希土類元素化合物お
よびMg化合物を上記特定組成範囲で配合することによ
り、窒化珪素原料中の不純物酸素と反応し液相を生成す
ることにより焼結を促進する。また液相中に希土類元素
(RE)が存在することにより、粒界相の結晶化を促進
し粒界に残留する低熱伝導性のガラス相を減少させるこ
とにより焼結体の熱伝導率を向上させる。また希土類元
素(RE)は窒化珪素のα−β転移に伴う柱状晶のアス
ペクト比を増加させ、得られる焼結体の破壊靭性を向上
する作用を有する。
【0015】また、Alも同様に他の助剤と反応して低
温での液相生成に役立つが、多量に存在すると窒化珪素
粒内に固溶したり、サイアロンを形成するなどして熱伝
導率を低下させる原因となるために、Al量を1.0モ
ル%以下とすることによって、低温焼結性と高熱伝導性
を同時に付与することができる。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、本発明の窒化珪素質放熱部
材およびその製造方法について詳細に述べる。まず、本
発明の窒化珪素質放熱部材を製造する為の窒化珪素原料
としては不純物酸素量が0.5〜3.0重量%のものが
好ましい。これは不純物酸素量が3.0重量%よりも多
いと、焼結体表面が荒れ強度劣化を招く虞があり、0.
5重量%よりも少ないと焼結性が悪くなるためである。
また、平均粒径は、0.1〜1.5μmであり、α率が
90%以上であることが望ましい。
【0017】前記窒化珪素原料に添加する希土類元素
(RE)としては、Y,La,Ce,Pr,Nd,P
m,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,T
m,Yb,Luの何れの元素でも好適に用いる事ができ
るが、これらの中でもY、Ce、Sm、Dy、Er、Y
b、Lu、とりわけ、Y、Erが特性、コストの点で望
ましい。
【0018】また、前記希土類元素(RE)は、Mgと
合わせて配合する。希土類元素(RE)およびMgは酸
化物換算による合量で4〜30モル%、特に5〜25モ
ル%の範囲で配合される。但し、前記希土類元素(R
E)とMgとの酸化物換算によるモル比(RE2 3
MgO)が0.1〜15、特に0.5〜13の範囲とな
るようにすることが必要がある。
【0019】これは、上記合量が4モル%より少ない
と、1800℃以下の温度で焼結を十分に緻密化させる
ことが難しく、30モル%を越えると焼結体中での粒界
相の絶対量が増加するために熱伝導率が低下するためで
ある。またRE2 3 /MgOの比率が15を越えた
り、0.1より小さくなっても、1800℃以下の温度
での緻密化は不十分となり、熱伝導率は低下する。
【0020】また、Al2 3 等のAl化合物の配合
は、焼結性の向上に大きく寄与するが、Si3 4 結晶
中に固溶してフォノンの拡散を阻害する結果、焼結体の
熱伝導率を著しく低下するため、高熱伝導化のためには
存在しないことが最も望ましく、具体的には、Alは酸
化物換算で1.0モル%以下、望ましくは0.5モル%
以下、より望ましくは0.1モル%以下、更には0.0
1モル%以下にするのがよい。
【0021】なお、この焼結体中には着色成分としてT
i,V,Nb,W,Moなど周期律表第4a,5a、6
a族金属のうち少なくとも1種を酸化物換算で0.05
〜1重量%の割合で含んでいてもよい。
【0022】また、本発明の窒化珪素質放熱部材は、上
記の各成分組成からなるものであるが、その相対密度が
90%以上、特に95%以上であることが高熱伝導化を
図る上で重要であり、相対密度が90%よりも低いと熱
伝導率30W/m・K以上の達成は困難である。
【0023】本発明の窒化珪素質放熱部材は、窒化珪素
粉末、希土類元素化合物、Mg化合物、場合によっては
Al化合物を上記の比率に配合し、該混合粉末に有機バ
インダーと溶媒とを添加して調製した成形用原料を用い
て、例えばプレス成形法や、CIP成形法、テープ成形
法、押し出し成形法、射出成形法等の何れかの成形方法
で成形体を作製する。その後、該成形体を弱酸化性雰囲
気中、所定温度で脱バインダー処理してから、窒素など
の非酸化性雰囲気中で、1800℃以下、特に1750
℃以下の温度で焼成して相対密度90%以上に緻密化す
ることにより作製される。
【0024】なお、原料において焼結助剤としての化合
物は、酸化物、炭酸塩、酢酸塩など焼成によって酸化物
を形成し得る化合物であることが望ましい。
【0025】なお、本発明の窒化珪素質放熱部材は、例
えば、半導体素子を搭載したパッケージにおけるヒート
シンク部材に用いることができる他、半導体素子を搭載
する配線基板の絶縁基板としても用いることができる。
その場合、絶縁基板の表面あるいは内部に配線層を形成
する場合がある。そのような場合には、焼結後の放熱部
材の表面に、Cu、W、Mo−Mn、Mo、Pd−Ag
などを焼き付け処理するか、あるいは放熱部材との焼成
前に、成形体表面にW、Moなどの高融点金属からなる
導電性ペーストを印刷塗布した後、非酸化性雰囲気中で
同時焼成することにより作製することができる。
【0026】
【実施例】平均粒径が1.2μm、酸素量が1.0重量
%、 α率93%の直接窒化法により製造された窒化珪素
原料粉末に、希土類酸化物、MgCO3 、Al2 3
表1、表2に示すような組成で各焼結助剤を添加混合
し、その混合粉末に対して成形用バインダーとしてパラ
フィンワックスをイソプロピルアルコールを溶媒として
添加し、混練乾燥後、篩を通して成形用顆粒を得、該顆
粒を成形圧1ton/cm2 で金型プレスにより、直径
12mm、厚さ5mmの円板状に成形した。
【0027】かくして得られた成形体を所定温度で脱バ
インダーした後、常圧(大気圧)、窒素雰囲気中で17
00〜1800℃の温度で3時間焼成して窒化珪素質焼
結体を作製し、評価用の試料とした。
【0028】前記評価試料を用いて、まずアルキメデス
法により窒化珪素質焼結体の密度を測定し、理論密度に
対する比率(%)を算出した。ついでレーザーフラッシ
ュ法により熱伝導率を測定した。さらに、JISR16
01に従い、焼肌面の室温における3点曲げ強度を測定
した。結果は表1、表2に示した。
【0029】
【表1】
【0030】
【表2】
【0031】表1、表2の結果によれば、試料No.1〜
9から、Si3 4 量およびRE23 +MgO量が本
発明の範囲を逸脱すると、いずれも相対密度が低下する
か、熱伝導率が低下し、目的の特性は得られなかった。
また、試料No.10〜20から、RE2 3 /MgOモ
ル比が0.1〜15を逸脱する試料No.10、19で
は、緻密化するのが困難であり、これにAl2 3 を配
合した試料No.11、20では焼結性が向上したが、熱
伝導率の向上効果は得られなかった。試料No.21〜2
5において、Alの含有量が1モル%を越える試料No.
25では、緻密質であったが、熱伝導率が低下した。試
料No.26〜33から、希土類元素としてYに代えて種
々の他の希土類元素においても同様な焼結挙動と高熱伝
導性を示した。
【0032】
【発明の効果】以上、詳述したとおり、本発明の窒化珪
素質放熱部材及びその製造方法によれば、1800℃以
下の温度で焼成可能であり、且つ熱伝導率30W/m・
K以上、強度600MPa以上の高強度を達成できるこ
とから、低コストとともに、各種放熱部材として幅広い
分野に応用することができる。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】窒化珪素を70〜95モル%と、希土類金
    属(RE)およびMgを酸化物換算による合量で4〜3
    0モル%と、前記希土類金属およびMgの酸化物換算に
    よるモル比(RE2 3 /MgO)が0.1〜15であ
    り、且つAlを酸化物換算で1.0モル%以下とからな
    り、相対密度90%以上、熱伝導率30W/m・K以上
    であることを特徴とする窒化珪素質放熱部材。
  2. 【請求項2】窒化珪素(Si3 4 )を70〜95モル
    %と、希土類金属(RE)およびMgを酸化物換算によ
    る合量で4〜30モル%と、Alを酸化物換算で0〜
    1.0モル%とからなり、前記希土類金属およびMgの
    酸化物換算によるモル比(RE2 3 /MgO)が0.
    1〜15である成形体を常圧の非酸化性雰囲気中、18
    00℃以下の温度で焼成して相対密度90%以上に緻密
    化することを特徴とする窒化珪素質放熱部材の製造方
    法。
JP9352949A 1997-12-22 1997-12-22 窒化珪素質放熱部材及びその製造方法 Pending JPH11180774A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11310464A (ja) * 1998-04-27 1999-11-09 Kyocera Corp 窒化珪素質放熱部材及びその製造方法
JP2010150123A (ja) * 2008-11-21 2010-07-08 Ngk Spark Plug Co Ltd 窒化珪素・メリライト複合焼結体及びそれを用いた装置

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03218975A (ja) * 1990-01-23 1991-09-26 Ngk Insulators Ltd 窒化珪素体
JPH04175268A (ja) * 1990-11-07 1992-06-23 Sumitomo Electric Ind Ltd 窒化ケイ素焼結体
JPH04212441A (ja) * 1990-09-18 1992-08-04 Ngk Insulators Ltd セラミック配線基板
JPH0930866A (ja) * 1995-07-21 1997-02-04 Nissan Motor Co Ltd 高熱伝導率窒化ケイ素質焼結体およびその製造方法ならびに窒化ケイ素質焼結体製絶縁基板
JPH09157054A (ja) * 1995-12-07 1997-06-17 Denki Kagaku Kogyo Kk 回路基板
JPH09328365A (ja) * 1996-05-31 1997-12-22 Denki Kagaku Kogyo Kk 窒化珪素粉末、窒化珪素焼結体及びそれを用いた回路基板
JPH11310464A (ja) * 1998-04-27 1999-11-09 Kyocera Corp 窒化珪素質放熱部材及びその製造方法
JP2000044351A (ja) * 1998-07-30 2000-02-15 Kyocera Corp 窒化珪素質放熱部材及びその製造方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03218975A (ja) * 1990-01-23 1991-09-26 Ngk Insulators Ltd 窒化珪素体
JPH04212441A (ja) * 1990-09-18 1992-08-04 Ngk Insulators Ltd セラミック配線基板
JPH04175268A (ja) * 1990-11-07 1992-06-23 Sumitomo Electric Ind Ltd 窒化ケイ素焼結体
JPH0930866A (ja) * 1995-07-21 1997-02-04 Nissan Motor Co Ltd 高熱伝導率窒化ケイ素質焼結体およびその製造方法ならびに窒化ケイ素質焼結体製絶縁基板
JPH09157054A (ja) * 1995-12-07 1997-06-17 Denki Kagaku Kogyo Kk 回路基板
JPH09328365A (ja) * 1996-05-31 1997-12-22 Denki Kagaku Kogyo Kk 窒化珪素粉末、窒化珪素焼結体及びそれを用いた回路基板
JPH11310464A (ja) * 1998-04-27 1999-11-09 Kyocera Corp 窒化珪素質放熱部材及びその製造方法
JP2000044351A (ja) * 1998-07-30 2000-02-15 Kyocera Corp 窒化珪素質放熱部材及びその製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11310464A (ja) * 1998-04-27 1999-11-09 Kyocera Corp 窒化珪素質放熱部材及びその製造方法
JP2010150123A (ja) * 2008-11-21 2010-07-08 Ngk Spark Plug Co Ltd 窒化珪素・メリライト複合焼結体及びそれを用いた装置

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