JPH11162708A - 多層導電性ポリマ正温度係数デバイス - Google Patents
多層導電性ポリマ正温度係数デバイスInfo
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- JPH11162708A JPH11162708A JP10246927A JP24692798A JPH11162708A JP H11162708 A JPH11162708 A JP H11162708A JP 10246927 A JP10246927 A JP 10246927A JP 24692798 A JP24692798 A JP 24692798A JP H11162708 A JPH11162708 A JP H11162708A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 フートプリントが非常に小さくしかも保持電
流が比較的高いSMT(面取付け技術)導電性ポリマP
TCを提供する。 【解決手段】 本発明の導電性ポリマPTCデバイス
は、上部、下部、中心電極を具備し、第1のPTC導電
性ポリマ層が上部および下部電極間に配置され、第2の
PTC導電性ポリマ層が中心電極と下部電極との間に配
置される。上部電極と下部電極は各々隔絶部分と主部分
とに分離される。上部および下部電極の隔絶部分は、入
力端子により相互にかつ中心電極に電気的に接続され
る。上部および下部電極の主部分上には、上部および下
部出力端子がそれぞれ設けられ、電気的に相互に接続さ
れる。得られたデバイスは、実際には並列に接続された
二つのPTCデバイスであり、それにより電流路に対す
る実効断面積は増大され、所与のフートプリントに対し
て大保持電流が得られる。
流が比較的高いSMT(面取付け技術)導電性ポリマP
TCを提供する。 【解決手段】 本発明の導電性ポリマPTCデバイス
は、上部、下部、中心電極を具備し、第1のPTC導電
性ポリマ層が上部および下部電極間に配置され、第2の
PTC導電性ポリマ層が中心電極と下部電極との間に配
置される。上部電極と下部電極は各々隔絶部分と主部分
とに分離される。上部および下部電極の隔絶部分は、入
力端子により相互にかつ中心電極に電気的に接続され
る。上部および下部電極の主部分上には、上部および下
部出力端子がそれぞれ設けられ、電気的に相互に接続さ
れる。得られたデバイスは、実際には並列に接続された
二つのPTCデバイスであり、それにより電流路に対す
る実効断面積は増大され、所与のフートプリントに対し
て大保持電流が得られる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般的に導電性ポ
リマの正温度係数(PTC)デバイスの分野に関する。
特定すると、本発明は単一層以上の導電性ポリマ(重合
体)PTC材料層を有する積層構造より成り、面取り付
け設置のために特に構成された導電性ポリマPTCデバ
イスに関する。
リマの正温度係数(PTC)デバイスの分野に関する。
特定すると、本発明は単一層以上の導電性ポリマ(重合
体)PTC材料層を有する積層構造より成り、面取り付
け設置のために特に構成された導電性ポリマPTCデバ
イスに関する。
【0002】
【従来の技術】導電性ポリマから作られた素子を含む電
子デバイスがますます一般的となり、種々の応用に使用
されている。この種のデバイスは、例えば正温度係数の
抵抗を有するポリマ材料を採用する過電流保護や自己調
整ヒータの応用において広い用途を得ている。 Kampeの米国特許第3,823,217号、 van Konynenburgの米国特許第4,237,441号 Middlemann等の米国特許第4,238,812号 Middlemann等の米国特許第4,317,027号 Middlemann等の米国特許第4,329,726号 Middlemann等の米国特許第4,413,301号 Taylorの米国特許第4,426,633号 Walkerの米国特許第4,445,026号 McTavish等の米国特許第4,481,498号 Fouts,Jr等の米国特許第4,545,926号 Cherianの米国特許第4,639,818号 Ratellの米国特許第4,647,894号 Ratellの米国特許第4,647,896号 Carlomagnoの米国特許第4,685,025号 Deep 等の米国特許第4,774,024号 Klainer等の米国特許第4,689,475号 Nishii等の米国特許第4,732,701号 Nagahoriの米国特許第4,769,901号 Nagahoriの米国特許第4,787,135号 Kleiner等の米国特許第4,800,253号 yoshida等の米国特許第4,849,133号 Nagahoriの米国特許第4,876,439号 Deep等の米国特許第4,884,163号 Fang等の米国特許第4,907,340号 Jacobs等の米国特許第4,951,382号 Jacobs等の米国特許第4,951,384号 Jacobs等の米国特許第4,955,267号 Shafe等の米国特許第4,980,541号 Evnsの米国特許第5,049,850号 Jacobs等の米国特許第5,140,297号 Ueno等の米国特許第5,171,774号 Yamada等の米国特許第5,174,924号 Evansの米国特許第5,178,797号 Shafe等の米国特許第5,181,006号 Ohkita等の米国特許第5,190,697号 Jacobs等の米国特許第5,195,013号 Jacobs等の米国特許第5,227,946号 Sugayaの米国特許第5,241,741号 Baigire等の米国特許第5,250,228号 Sugayaの米国特許第5,280,263号 Hanada等の米国特許第5,398,793号
子デバイスがますます一般的となり、種々の応用に使用
されている。この種のデバイスは、例えば正温度係数の
抵抗を有するポリマ材料を採用する過電流保護や自己調
整ヒータの応用において広い用途を得ている。 Kampeの米国特許第3,823,217号、 van Konynenburgの米国特許第4,237,441号 Middlemann等の米国特許第4,238,812号 Middlemann等の米国特許第4,317,027号 Middlemann等の米国特許第4,329,726号 Middlemann等の米国特許第4,413,301号 Taylorの米国特許第4,426,633号 Walkerの米国特許第4,445,026号 McTavish等の米国特許第4,481,498号 Fouts,Jr等の米国特許第4,545,926号 Cherianの米国特許第4,639,818号 Ratellの米国特許第4,647,894号 Ratellの米国特許第4,647,896号 Carlomagnoの米国特許第4,685,025号 Deep 等の米国特許第4,774,024号 Klainer等の米国特許第4,689,475号 Nishii等の米国特許第4,732,701号 Nagahoriの米国特許第4,769,901号 Nagahoriの米国特許第4,787,135号 Kleiner等の米国特許第4,800,253号 yoshida等の米国特許第4,849,133号 Nagahoriの米国特許第4,876,439号 Deep等の米国特許第4,884,163号 Fang等の米国特許第4,907,340号 Jacobs等の米国特許第4,951,382号 Jacobs等の米国特許第4,951,384号 Jacobs等の米国特許第4,955,267号 Shafe等の米国特許第4,980,541号 Evnsの米国特許第5,049,850号 Jacobs等の米国特許第5,140,297号 Ueno等の米国特許第5,171,774号 Yamada等の米国特許第5,174,924号 Evansの米国特許第5,178,797号 Shafe等の米国特許第5,181,006号 Ohkita等の米国特許第5,190,697号 Jacobs等の米国特許第5,195,013号 Jacobs等の米国特許第5,227,946号 Sugayaの米国特許第5,241,741号 Baigire等の米国特許第5,250,228号 Sugayaの米国特許第5,280,263号 Hanada等の米国特許第5,398,793号
【0003】導電性ポリマPTCデバイス用の一つの一
般的形式の構造は、積層構造体と記述され得るものであ
る。積層導電性ポリマPTCデバイスは、普通単一層の
導電性ポリマ材料を1対の金属性電極間に挟んで成るも
のである。しかして、電極は、好ましくは高導電性薄金
属箔より成るのがよい。例えば、Taylorの米国特許第4,
426,633号、Chan等の米国特許第5,089,801号、Plaskoの
米国特許第4,937,551号およびNagahoriの米国特許第4,7
87,135号ならびに国際公開No.WO97/06660号参照。
般的形式の構造は、積層構造体と記述され得るものであ
る。積層導電性ポリマPTCデバイスは、普通単一層の
導電性ポリマ材料を1対の金属性電極間に挟んで成るも
のである。しかして、電極は、好ましくは高導電性薄金
属箔より成るのがよい。例えば、Taylorの米国特許第4,
426,633号、Chan等の米国特許第5,089,801号、Plaskoの
米国特許第4,937,551号およびNagahoriの米国特許第4,7
87,135号ならびに国際公開No.WO97/06660号参照。
【0004】この技術における比較的最近の発展は、2
またはそれ以上層の導電性ポリマ材料層が交番する金属
電極層(代表的には金属箔)により分離され、最外層が
同様に金属電極である多層の積層デバイスである。この
結果は、2またはそれ以上の並列接続導電性ポリマPT
Cデバイスを単一パッケージに納めて成るデバイスであ
る。この多層構造の利点は、単一層のデバイスに比し
て、回路板上においてデバイスによって占められる表面
積(フートプリント)が減ぜられ、電流搬送容量が高い
ことである。
またはそれ以上層の導電性ポリマ材料層が交番する金属
電極層(代表的には金属箔)により分離され、最外層が
同様に金属電極である多層の積層デバイスである。この
結果は、2またはそれ以上の並列接続導電性ポリマPT
Cデバイスを単一パッケージに納めて成るデバイスであ
る。この多層構造の利点は、単一層のデバイスに比し
て、回路板上においてデバイスによって占められる表面
積(フートプリント)が減ぜられ、電流搬送容量が高い
ことである。
【0005】回路板上における部品密度をより高くする
という要求に応ずる当たって、産業界の傾向は、スペー
ス節約法として面取り付け部品の使用の増加に向かって
いる。これまで入手し得る面取付けの導電性ポリマPT
Cデバイスは、一般に、約9.5mm×約6.7mmの広いフート
プリントをもつパッケージに対して約2.5amp以下の保持
電流に限定された。最近、約4.7mm×3.4mmのフートプリ
ントをもつデバイスで約1.1ampの保持電流をもつものが
入手可能となった。このフートプリントは、しかしなお
現在の面取付け技術(SMT)基準により比較的大きい
と考えられる。
という要求に応ずる当たって、産業界の傾向は、スペー
ス節約法として面取り付け部品の使用の増加に向かって
いる。これまで入手し得る面取付けの導電性ポリマPT
Cデバイスは、一般に、約9.5mm×約6.7mmの広いフート
プリントをもつパッケージに対して約2.5amp以下の保持
電流に限定された。最近、約4.7mm×3.4mmのフートプリ
ントをもつデバイスで約1.1ampの保持電流をもつものが
入手可能となった。このフートプリントは、しかしなお
現在の面取付け技術(SMT)基準により比較的大きい
と考えられる。
【0006】極小型のSMT導電性ポリマPTCデバイ
スの設計における主たる制限ファクタは、限定された表
面積と抵抗率に関する下限であるが、これはポリマ材料
に導電性フィラー(代表的にはカーボンブラック)を包
含させることによって達成され得る。約0.2ohm-cm以下
の容積抵抗率をもつ有用なデバイスの製造は実際的でな
かった。まず、このような低い容積抵抗率を扱う場合、
製造工程に固有の困難性がある。第2に、このような低
い容積抵抗率を有するデバイスは、大きなPTC効果を
示さず、回路保護装置として非常に有用でない。
スの設計における主たる制限ファクタは、限定された表
面積と抵抗率に関する下限であるが、これはポリマ材料
に導電性フィラー(代表的にはカーボンブラック)を包
含させることによって達成され得る。約0.2ohm-cm以下
の容積抵抗率をもつ有用なデバイスの製造は実際的でな
かった。まず、このような低い容積抵抗率を扱う場合、
製造工程に固有の困難性がある。第2に、このような低
い容積抵抗率を有するデバイスは、大きなPTC効果を
示さず、回路保護装置として非常に有用でない。
【0007】導電性ポリマPTCデバイスに対する定常
状態熱伝達式は、下式により表わすことができる。すな
わち、
状態熱伝達式は、下式により表わすことができる。すな
わち、
【数1】 0=[I2R(f(Td))]−[U(Td−Ta)] ここで、Iはデバイス中を通る定常状態電流であり、R
(f(Td))は温度とその「抵抗/温度」特性関数すな
わち「R/T曲線」の関数であるデバイスの抵抗、Uは
デバイスの実効熱伝達係数、Tdはデバイスの温度、そ
してTaは周囲温度である。
(f(Td))は温度とその「抵抗/温度」特性関数すな
わち「R/T曲線」の関数であるデバイスの抵抗、Uは
デバイスの実効熱伝達係数、Tdはデバイスの温度、そ
してTaは周囲温度である。
【0008】この種のデバイスに対する「保持電流」
は、デバイスを低抵抗状態から高抵抗状態に作動するに
必要なIの値として定義できる。Uが固定である所与の
デバイスに対して保持電流を増加する唯一の方法は、R
の値を減ずることである。
は、デバイスを低抵抗状態から高抵抗状態に作動するに
必要なIの値として定義できる。Uが固定である所与の
デバイスに対して保持電流を増加する唯一の方法は、R
の値を減ずることである。
【0009】任意の抵抗デバイスの抵抗を支配する式
は、下記のように表わせる。すなわち、
は、下記のように表わせる。すなわち、
【数2】R=ρL/A ここでρは抵抗材料の容積抵抗率ohm-cm、Lは装置中の
電流路長cm,Aは電流路の実効断面積cm2である。
電流路長cm,Aは電流路の実効断面積cm2である。
【0010】かくして、Rの値は、容積抵抗率ρを減ず
ることによって、あるいはデバイスの断面積Aを増すこ
とによって減ずることができる。
ることによって、あるいはデバイスの断面積Aを増すこ
とによって減ずることができる。
【0011】容積抵抗率ρの値は、ポリマ中に包含され
る導電性フィラーの値を増すことによって減ずることが
できる。しかしながら、これをなす実際的な制限は上に
記した。
る導電性フィラーの値を増すことによって減ずることが
できる。しかしながら、これをなす実際的な制限は上に
記した。
【0012】抵抗値Rを減ずるためのより実際的な手法
は、デバイスの断面積Aを増すことである。実施が比較
的容易である(工程の観点から、および有用なPTC特
性をもつデバイスを製造する観点から)ことに加えて、
この方法は追加の利点を有する。一般的に、デバイスの
面積が増すと、熱伝達係数の値も増し、それにより保持
電流の値をさらに増大させる。
は、デバイスの断面積Aを増すことである。実施が比較
的容易である(工程の観点から、および有用なPTC特
性をもつデバイスを製造する観点から)ことに加えて、
この方法は追加の利点を有する。一般的に、デバイスの
面積が増すと、熱伝達係数の値も増し、それにより保持
電流の値をさらに増大させる。
【0013】しかしながら、SMTの応用においては、
デバイスの実効表面積またはフートプリントを最小化す
ることが必要である。これは、デバイスにおけるPTC
素子の実効断面積に厳しい制約を課する。かくして、所
与のフートプリントのデバイスに対して、達成され得る
最大保持電流値に固有の制限がある。他の見方をすれ
ば、フートプリントの低減は、実際的には保持電流値を
減ずることによってしか達成できない。
デバイスの実効表面積またはフートプリントを最小化す
ることが必要である。これは、デバイスにおけるPTC
素子の実効断面積に厳しい制約を課する。かくして、所
与のフートプリントのデバイスに対して、達成され得る
最大保持電流値に固有の制限がある。他の見方をすれ
ば、フートプリントの低減は、実際的には保持電流値を
減ずることによってしか達成できない。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】このように、比較的高
い保持電流を達成する極小フートプリントのSMT導電
性ポリマPTCデバイスの必要性が長い間感じられてい
たが、なお満足されていなかった。
い保持電流を達成する極小フートプリントのSMT導電
性ポリマPTCデバイスの必要性が長い間感じられてい
たが、なお満足されていなかった。
【0015】
【課題を解決するための手段】概括的に述べると、本発
明は、極小の回路板フートポイントを維持しながら比較
的高い保持電流を有する導電性ポリマPTCデバイスを
提供する。この結果は、所与の回路板フートプリントに
対して電流路の実効断面積Aが増大された多層構造によ
って達成される。実際には、本発明の多層構造体は、単
一の小フートプリント面取付けパッケージで電気的に並
列に接続された2または複数のPTCデバイスを提供す
る。
明は、極小の回路板フートポイントを維持しながら比較
的高い保持電流を有する導電性ポリマPTCデバイスを
提供する。この結果は、所与の回路板フートプリントに
対して電流路の実効断面積Aが増大された多層構造によ
って達成される。実際には、本発明の多層構造体は、単
一の小フートプリント面取付けパッケージで電気的に並
列に接続された2または複数のPTCデバイスを提供す
る。
【0016】本発明は、その1側面において、1具体例
として、金属箔とPTC導電性ポリマの5層の交番層を
含み、相互に並列に接続された二つの導電性ポリマPT
Cデバイスを形成するように導電性相互接続を具備しか
つ面取付け端末を形成するように構成された端末素子を
具備して成る導電性ポリマPTCデバイスを提供する。
として、金属箔とPTC導電性ポリマの5層の交番層を
含み、相互に並列に接続された二つの導電性ポリマPT
Cデバイスを形成するように導電性相互接続を具備しか
つ面取付け端末を形成するように構成された端末素子を
具備して成る導電性ポリマPTCデバイスを提供する。
【0017】詳述すると、箔層のうちの2枚がそれぞれ
上部および下部電極を形成し、他方第3の箔層が中心電
極を形成する。第1導電性ポリマ層が上部電極と中心電
極との間に位置づけられ、第2の導電性ポリマ層が中心
電極と下部電極との間に位置づけられる。上部電極と下
部電極の各々は、隔絶部分と主部分とに分けられる。上
部電極と下部電極の隔絶部分は、入力端子により相互に
かつ中心電極と電気的に接続される。上部電極および下
部電極の主部分上には、それぞれ上部出力端子および下
部出力端子が設けられる。上部出力端子と下部出力端子
とは、電気的に相互に接続されているが、中心電極から
は電気的に隔絶されている。
上部および下部電極を形成し、他方第3の箔層が中心電
極を形成する。第1導電性ポリマ層が上部電極と中心電
極との間に位置づけられ、第2の導電性ポリマ層が中心
電極と下部電極との間に位置づけられる。上部電極と下
部電極の各々は、隔絶部分と主部分とに分けられる。上
部電極と下部電極の隔絶部分は、入力端子により相互に
かつ中心電極と電気的に接続される。上部電極および下
部電極の主部分上には、それぞれ上部出力端子および下
部出力端子が設けられる。上部出力端子と下部出力端子
とは、電気的に相互に接続されているが、中心電極から
は電気的に隔絶されている。
【0018】このデバイスの電流路は、入力端子から中
心電極に至り、そこから導電性ポリマ層を経て出力端子
に至る。かくして、得られるデバイスは、実際上並列に
接続された二つのPTCデバイスである。この構造は、
単一層のデバイスに比較して、フートプリントを増すこ
となく電流路に対する実効断面積を相当に増大させると
いう利点をもたらす。かくして、大保持電流が達成され
る。
心電極に至り、そこから導電性ポリマ層を経て出力端子
に至る。かくして、得られるデバイスは、実際上並列に
接続された二つのPTCデバイスである。この構造は、
単一層のデバイスに比較して、フートプリントを増すこ
となく電流路に対する実効断面積を相当に増大させると
いう利点をもたらす。かくして、大保持電流が達成され
る。
【0019】本発明は、その他の側面において、上述の
デバイスを製造する方法を提供する。この方法は、
(1)上部、下部および中心金属箔電極層を含み、上部
電極層と中心電極層とを第1のPTC導電性ポリマ層で
分離し、中心電極層と下部電極層とを第2のPTC導電
性ポリマで分離して成る積層体を提供し、(2)上部電
極層と下部電極層の各々の電気的隔絶部分を上部電極層
と下部電極層の主部分から分離し、(3)上部電極層と
下部電極層の隔絶部分を相互にかつ中心電極層に電気的
に接続する入力端子を形成し、(4)上部電極層の主部
分上に上部出力端子を、そして下部電極層の主部分上に
下部出力端子を形成し、そして(5)上部出力端子と下
部出力端子を相互に電気的に接続する諸ステップを含
む。最後に記したステップを遂行するに際し、中心電極
は両出力端子から電気的に隔絶されて維持されるねばな
らない。
デバイスを製造する方法を提供する。この方法は、
(1)上部、下部および中心金属箔電極層を含み、上部
電極層と中心電極層とを第1のPTC導電性ポリマ層で
分離し、中心電極層と下部電極層とを第2のPTC導電
性ポリマで分離して成る積層体を提供し、(2)上部電
極層と下部電極層の各々の電気的隔絶部分を上部電極層
と下部電極層の主部分から分離し、(3)上部電極層と
下部電極層の隔絶部分を相互にかつ中心電極層に電気的
に接続する入力端子を形成し、(4)上部電極層の主部
分上に上部出力端子を、そして下部電極層の主部分上に
下部出力端子を形成し、そして(5)上部出力端子と下
部出力端子を相互に電気的に接続する諸ステップを含
む。最後に記したステップを遂行するに際し、中心電極
は両出力端子から電気的に隔絶されて維持されるねばな
らない。
【0020】本発明の上述の利点ならびにその他の利点
は、以下の詳細な説明の通読により一層容易に理解され
よう。
は、以下の詳細な説明の通読により一層容易に理解され
よう。
【0021】
【発明の実施の形態】図1を参照すると、この図には、
本発明に従い導電性ポリマ(重合体)PTCデバイスを
製造する方法における初ステップとして提供される積層
ウェブ 100が例示されている。積層ウェブ100
は、金属箔と所望のPTC特性を有する導電性ポリマと
の5層の交番層より成る。詳述すると、積層ウェブ10
0は、上部箔層12と、下部箔層14と、中心箔層16
と、上部箔層12と中心箔層16との間に配された第1
の導電性ポリマ層18と、中心箔層16と下部箔層14
との間に配された第2の導電性ポリマ層20とを含む。
本発明に従い導電性ポリマ(重合体)PTCデバイスを
製造する方法における初ステップとして提供される積層
ウェブ 100が例示されている。積層ウェブ100
は、金属箔と所望のPTC特性を有する導電性ポリマと
の5層の交番層より成る。詳述すると、積層ウェブ10
0は、上部箔層12と、下部箔層14と、中心箔層16
と、上部箔層12と中心箔層16との間に配された第1
の導電性ポリマ層18と、中心箔層16と下部箔層14
との間に配された第2の導電性ポリマ層20とを含む。
【0022】導電性ポリマ層18,20は、例えば、所
望の電気的動作特性をもたらすある量のカーボンブラッ
クが混入された高密度ポリエチレン(HDPE)のよう
な任意の適当な導電性ポリマ組成物とし得る。例えば、
本発明の譲受人に譲渡された国際公開No.WO97/06660参
照。この特許も参照されたい。
望の電気的動作特性をもたらすある量のカーボンブラッ
クが混入された高密度ポリエチレン(HDPE)のよう
な任意の適当な導電性ポリマ組成物とし得る。例えば、
本発明の譲受人に譲渡された国際公開No.WO97/06660参
照。この特許も参照されたい。
【0023】箔層12,14および16は任意の適当な
金属箔より作ることができる。箔は銅が好ましいが、ニ
ッケルのような他の金属も容認し得る。箔層12,14
および16が金属箔より成る場合、導電性ポリマ層と接
触する箔表面は、ポリマと銅間の望ましくない化学的反
応を防ぐために、ニッケルフラッシュ被覆(図示せず)
で被覆される。これらのポリマ接触面はまた、箔とポリ
マ間に良好な接着を提供する素面を形成するように、周
知の技術で「瘤状化」するのが好ましい。
金属箔より作ることができる。箔は銅が好ましいが、ニ
ッケルのような他の金属も容認し得る。箔層12,14
および16が金属箔より成る場合、導電性ポリマ層と接
触する箔表面は、ポリマと銅間の望ましくない化学的反
応を防ぐために、ニッケルフラッシュ被覆(図示せず)
で被覆される。これらのポリマ接触面はまた、箔とポリ
マ間に良好な接着を提供する素面を形成するように、周
知の技術で「瘤状化」するのが好ましい。
【0024】積層ウェブ100それ自体は、Taylorの米
国特許第4,426,633号、Chan等の米国特許第5,089,801号
およびPlaskoの米国特許第4,937,551号およびNagahori
の米国特許第4,787,135号に例示されるように、技術上
周知の数種の適当なプロセスの任意のものにより形成し
得る。これらのプロセスについては、通常の3層でなく
5層の構造体を形成するように若干の変更が必要とされ
よう。例えば、国際公開No.WO97/06660に記載されるプ
ロセスは、その公開に記載されるプロセスに従って3層
(箔−ポリマ−箔)積層ウェブをまず形成し、ついでそ
の3層ウェブを利用し、そのプロセスに従って、それを
第2の押出し成形導電性ポリマウェブの一側に積層し、
そして第3の箔ウェブを他側に積層する。代わりに、同
時押出し法を採用し得るが、このプロセスにあっては多
層のPTC導電性ポリマ材料および金属箔が同時に形成
され、積層される。
国特許第4,426,633号、Chan等の米国特許第5,089,801号
およびPlaskoの米国特許第4,937,551号およびNagahori
の米国特許第4,787,135号に例示されるように、技術上
周知の数種の適当なプロセスの任意のものにより形成し
得る。これらのプロセスについては、通常の3層でなく
5層の構造体を形成するように若干の変更が必要とされ
よう。例えば、国際公開No.WO97/06660に記載されるプ
ロセスは、その公開に記載されるプロセスに従って3層
(箔−ポリマ−箔)積層ウェブをまず形成し、ついでそ
の3層ウェブを利用し、そのプロセスに従って、それを
第2の押出し成形導電性ポリマウェブの一側に積層し、
そして第3の箔ウェブを他側に積層する。代わりに、同
時押出し法を採用し得るが、このプロセスにあっては多
層のPTC導電性ポリマ材料および金属箔が同時に形成
され、積層される。
【0025】積層プロセスの結果、図1の5層積層ウェ
ブ100が得られる。端子リードを取り付けるステップ
に先立ち、下記のプロセスステップが遂行されるのはこ
のウェブ100の上においてである。かくして、図2な
いし図11は明解にするため個々の積層ユニットのみを
示しているが、積層ユニットは、図2ないし図11に例
示されるステップを通じて図1のウェブ100の一部で
あることが理解されよう。したがって、図に示される個
々の積層ユニット10は、端子リードの取付け前のすべ
てのプロセスステップが完了してしまうまでウェブ10
0から分離(単一化)されない。5層積層ウェブ100
が任意の適当なプロセスで形成された後、孔21アレイ
がその中に形成される。これらの孔21は、穿孔または
パンチングのような適当な方法で形成できる。図1に示
されるように、孔21は交互の横断方向刻み線23によ
り離間されていて、各孔21が各隣接する1対の積層ユ
ニット10対において1対の相補性半円筒形の溝22を
形成するようになされている。かくして、単一化の後、
各積層ユニット10は、図2,4および6に最もよく示
されるように一端部に半円筒形の溝22を有している。
ブ100が得られる。端子リードを取り付けるステップ
に先立ち、下記のプロセスステップが遂行されるのはこ
のウェブ100の上においてである。かくして、図2な
いし図11は明解にするため個々の積層ユニットのみを
示しているが、積層ユニットは、図2ないし図11に例
示されるステップを通じて図1のウェブ100の一部で
あることが理解されよう。したがって、図に示される個
々の積層ユニット10は、端子リードの取付け前のすべ
てのプロセスステップが完了してしまうまでウェブ10
0から分離(単一化)されない。5層積層ウェブ100
が任意の適当なプロセスで形成された後、孔21アレイ
がその中に形成される。これらの孔21は、穿孔または
パンチングのような適当な方法で形成できる。図1に示
されるように、孔21は交互の横断方向刻み線23によ
り離間されていて、各孔21が各隣接する1対の積層ユ
ニット10対において1対の相補性半円筒形の溝22を
形成するようになされている。かくして、単一化の後、
各積層ユニット10は、図2,4および6に最もよく示
されるように一端部に半円筒形の溝22を有している。
【0026】図2および3は、個々の積層ユニット10
が図1に例示されるプロセスにおける段階でどのように
見えるかを示している。図4および5を参照すると、こ
の図には次のプロセスステップが示されているが、この
次のプロセスステップは、上部箔層と下部箔層の主部か
ら、上部箔層および下部箔層の各々の電気的に隔絶され
る部分を分離することである。これは、技術上周知のホ
トレジストおよびエッチング法を採用する標準的プリン
ト回路板組立技術を使用することによって遂行される。
この結果、上部箔層12は上部隔絶電極部分12Aと上
部主電極部分12Bに分離され、下部箔層14は下部隔
絶電極部分14Aと下部主電極部分14Bに分離され
る。隔絶電極部分12A,14Aは、上部および下部隔
絶ギャップ24,26によりそれらの対応する主電極部
分12B,14Bから分離され、そしてこれらギャップ
の幅と形態は完成されたデバイスの所望の電気的特性に
依存し得る。
が図1に例示されるプロセスにおける段階でどのように
見えるかを示している。図4および5を参照すると、こ
の図には次のプロセスステップが示されているが、この
次のプロセスステップは、上部箔層と下部箔層の主部か
ら、上部箔層および下部箔層の各々の電気的に隔絶され
る部分を分離することである。これは、技術上周知のホ
トレジストおよびエッチング法を採用する標準的プリン
ト回路板組立技術を使用することによって遂行される。
この結果、上部箔層12は上部隔絶電極部分12Aと上
部主電極部分12Bに分離され、下部箔層14は下部隔
絶電極部分14Aと下部主電極部分14Bに分離され
る。隔絶電極部分12A,14Aは、上部および下部隔
絶ギャップ24,26によりそれらの対応する主電極部
分12B,14Bから分離され、そしてこれらギャップ
の幅と形態は完成されたデバイスの所望の電気的特性に
依存し得る。
【0027】図6および7は上部および下部の電気的隔
絶障壁28,30を上部および下部主電極部分12B,
14Bにそれぞれ適用するステップを例示している。障
壁28,30は、例えばガラス充填エポキシ樹脂のよう
な絶縁材料の薄層より形成され、そしてこの薄層は技術
上周知の従来技術により対応する上部および下部主電極
部分12B,14B上に適用または形成できる。上部お
よび下部隔絶障壁28,30は、上部および下部主電極
部分12B,14Bの縁部にそれぞれ隣接する上部およ
び下部の未被覆部分32,34を除き、ほぼ全上部およ
び下部主電極部分12B,14Bをそれぞれ覆う。隔絶
障壁28,30は、それぞれ上部および下部隔絶ギャッ
プ24,26中に延び出てもよい。
絶障壁28,30を上部および下部主電極部分12B,
14Bにそれぞれ適用するステップを例示している。障
壁28,30は、例えばガラス充填エポキシ樹脂のよう
な絶縁材料の薄層より形成され、そしてこの薄層は技術
上周知の従来技術により対応する上部および下部主電極
部分12B,14B上に適用または形成できる。上部お
よび下部隔絶障壁28,30は、上部および下部主電極
部分12B,14Bの縁部にそれぞれ隣接する上部およ
び下部の未被覆部分32,34を除き、ほぼ全上部およ
び下部主電極部分12B,14Bをそれぞれ覆う。隔絶
障壁28,30は、それぞれ上部および下部隔絶ギャッ
プ24,26中に延び出てもよい。
【0028】図8および9は二つの金属メッキステップ
の第1のステップを例示している。第1メッキステップ
における金属メッキは好ましくは銅であるが錫またはニ
ッケルも使用できる。このステップにおいて、第1のメ
ッキ層36が、上部および下部箔層12,14の隔絶障
壁28,30により被覆されない部分、すなわち上部お
よび下部隔絶電極部分12A,14Aと、上部および下
部主電極部分の未被覆部分32,34とに適用される。
この第1メッキ層36はまた、孔22の周囲面を被覆
し、それにより上部および下部隔絶電極部分12A,1
4Aを相互にかつ中心箔層16に電気的に接続する。第
1メッキ層36の適用は、この適用に適当と認められる
任意の周知のメッキ技術により行える。
の第1のステップを例示している。第1メッキステップ
における金属メッキは好ましくは銅であるが錫またはニ
ッケルも使用できる。このステップにおいて、第1のメ
ッキ層36が、上部および下部箔層12,14の隔絶障
壁28,30により被覆されない部分、すなわち上部お
よび下部隔絶電極部分12A,14Aと、上部および下
部主電極部分の未被覆部分32,34とに適用される。
この第1メッキ層36はまた、孔22の周囲面を被覆
し、それにより上部および下部隔絶電極部分12A,1
4Aを相互にかつ中心箔層16に電気的に接続する。第
1メッキ層36の適用は、この適用に適当と認められる
任意の周知のメッキ技術により行える。
【0029】図10および11は、二つの金属メッキス
テップの第2ステップを例示しており、そしてこのステ
ップにあっては、はんだ層が第1メッキ層36の孔22
内に配置される部分を含め第1メッキ層の頂部に適用さ
れる。このステップは、上部および下部隔絶電極部分1
2A,14Aを相互にかつ中央電極となる中央箔層16
に電気的に接続する入力端子38の形成をもたらす。こ
の第2メッキステップはまた、それぞれ上部および下部
主電極部分12B,14B上に上部および下部出力端子
40,42の形成をもたらす。上部および下部出力端子
40,42は、相互にかつ中心電極16から電気的に隔
絶されている。第1メッキステップと同様に、第2メッ
キステップはこの目的に適当であることが分かる任意の
周知の技術により遂行できる。
テップの第2ステップを例示しており、そしてこのステ
ップにあっては、はんだ層が第1メッキ層36の孔22
内に配置される部分を含め第1メッキ層の頂部に適用さ
れる。このステップは、上部および下部隔絶電極部分1
2A,14Aを相互にかつ中央電極となる中央箔層16
に電気的に接続する入力端子38の形成をもたらす。こ
の第2メッキステップはまた、それぞれ上部および下部
主電極部分12B,14B上に上部および下部出力端子
40,42の形成をもたらす。上部および下部出力端子
40,42は、相互にかつ中心電極16から電気的に隔
絶されている。第1メッキステップと同様に、第2メッ
キステップはこの目的に適当であることが分かる任意の
周知の技術により遂行できる。
【0030】この点にて、上述の単一化の段階が遂行さ
れるが、ここでは図10および11に示される製造段階
で、個々の積層ユニットが、上述のすべてのプロセスス
テップが遂行されてしまった積層ウェブ100から分離
される。代わりに、積層ユニット10は、単一のデバイ
スの幅でストリップに残してよい。
れるが、ここでは図10および11に示される製造段階
で、個々の積層ユニットが、上述のすべてのプロセスス
テップが遂行されてしまった積層ウェブ100から分離
される。代わりに、積層ユニット10は、単一のデバイ
スの幅でストリップに残してよい。
【0031】最後に、図12に示されるように、入力リ
ード44を入力端子38に取り付け、出力リード46を
上部および下部出力端子40,42に取り付ける。出力
リード46の中心電極16からの電気的隔絶は、出力リ
ード46の幾何形態により、あるいは絶縁層48の出力
端子46への適用によるかのいずれかにより達成し得
る。図11に示されるように、両隔絶技術を使用しても
よい。リード44,46は、スルーホール板取付け用に
構成してもよいし、好ましくは図11に示されるように
面取付け板への取付け用に構成してもよい。リード4
4,46は、そのそれぞれの端子に取付け前または取付
け後に特定の取付けに向くように賦型してよい。リード
44,46の取付けで、導電性ポリマPTCの製造は完
了する。
ード44を入力端子38に取り付け、出力リード46を
上部および下部出力端子40,42に取り付ける。出力
リード46の中心電極16からの電気的隔絶は、出力リ
ード46の幾何形態により、あるいは絶縁層48の出力
端子46への適用によるかのいずれかにより達成し得
る。図11に示されるように、両隔絶技術を使用しても
よい。リード44,46は、スルーホール板取付け用に
構成してもよいし、好ましくは図11に示されるように
面取付け板への取付け用に構成してもよい。リード4
4,46は、そのそれぞれの端子に取付け前または取付
け後に特定の取付けに向くように賦型してよい。リード
44,46の取付けで、導電性ポリマPTCの製造は完
了する。
【0032】過電流または類似の状況から保護されるべ
き部品を含む回路で採用されるとき、デバイス50中の
電流路は、入力端子38から中心電極16を経、ついで
導電性ポリマ層18,20の各々を経てそれぞれ上部お
よび下部出力端子40,42に至る。かくして、デバイ
ス50は、実際上並列に接続された二つのPTCデバイ
スである。この構造は、単一層のデバイスと比較して、
フートプリントを増すことなく電流路に対して実効断面
積を相当に増すという利点をもたらす。かくして、所与
のフートプリントに対して、従来よりも大きな保持電流
を達成し得る。
き部品を含む回路で採用されるとき、デバイス50中の
電流路は、入力端子38から中心電極16を経、ついで
導電性ポリマ層18,20の各々を経てそれぞれ上部お
よび下部出力端子40,42に至る。かくして、デバイ
ス50は、実際上並列に接続された二つのPTCデバイ
スである。この構造は、単一層のデバイスと比較して、
フートプリントを増すことなく電流路に対して実効断面
積を相当に増すという利点をもたらす。かくして、所与
のフートプリントに対して、従来よりも大きな保持電流
を達成し得る。
【0033】本発明は、非常に小さなフートプリントを
もち、割合に高い保持電流を達成するSMTデバイスと
して実施できる。
もち、割合に高い保持電流を達成するSMTデバイスと
して実施できる。
【0034】以上本発明の好ましい具体例を説明した
が、本具体例ならびにその製造方法は単に例示であるこ
とが理解されよう。関連する技術に精通したものであれ
ばデバイスおよびその製造方法の変更および変形を思い
付くことができよう。この種の変更は、特許請求の範囲
に記述される本発明の技術思想内にあるものである。
が、本具体例ならびにその製造方法は単に例示であるこ
とが理解されよう。関連する技術に精通したものであれ
ばデバイスおよびその製造方法の変更および変形を思い
付くことができよう。この種の変更は、特許請求の範囲
に記述される本発明の技術思想内にあるものである。
【0035】
【発明の効果】上述の構造は、単一層のデバイスと比較
して、フートプリントを増すことなく電流路に対して実
効断面積を相当に増すという利点をもたらす。所与のフ
ートプリントに対して、従来よりも大きな保持電流を達
成し得る。本発明は、非常に小さなフートプリントをも
ち、比較的高い保持電流を達成するSMTデバイスとし
て実施できる。本発明は、非常に小さなフートプリント
をもち、割合に高い保持電流を達成するSMTデバイス
として実施できる。
して、フートプリントを増すことなく電流路に対して実
効断面積を相当に増すという利点をもたらす。所与のフ
ートプリントに対して、従来よりも大きな保持電流を達
成し得る。本発明は、非常に小さなフートプリントをも
ち、比較的高い保持電流を達成するSMTデバイスとし
て実施できる。本発明は、非常に小さなフートプリント
をもち、割合に高い保持電流を達成するSMTデバイス
として実施できる。
【図1】本発明の交番金属箔および導電性層の積層ウェ
ブの斜視図で、本発明の製造方法のステップが個々の積
層ユニットへの個別化の前に遂行されることを示す図で
ある。
ブの斜視図で、本発明の製造方法のステップが個々の積
層ユニットへの個別化の前に遂行されることを示す図で
ある。
【図2】図1に示されるウェブに形成される個々の積層
ユニットの一つの斜視図で、図1に例示されるプロセス
における一段階にあるユニットを示す図である。個々の
ユニットは、本発明に従う導電性ポリマPTCデバイス
を製造する方法における諸段階を例示する目的で図示さ
れている。
ユニットの一つの斜視図で、図1に例示されるプロセス
における一段階にあるユニットを示す図である。個々の
ユニットは、本発明に従う導電性ポリマPTCデバイス
を製造する方法における諸段階を例示する目的で図示さ
れている。
【図3】図2デバイスの3−3線による断面図である。
【図4】本発明のプロセスにおける次のステップを示す
図2の斜視図に類似の斜視図である。
図2の斜視図に類似の斜視図である。
【図5】図4のデバイスの5−5線による断面図であ
る。
る。
【図6】本発明のプロセスにおける次のステップを示す
図4の斜視図に類似の斜視図である。
図4の斜視図に類似の斜視図である。
【図7】図6のデバイスの7−7線による断面図であ
る。
る。
【図8】本発明のプロセスにおける次のステップを示す
図6の斜視図に類似の斜視図である。
図6の斜視図に類似の斜視図である。
【図9】図8のデバイスの9−9線による断面図であ
る。
る。
【図10】本発明のプロセスにおける次のステップを示
す図8の斜視図に類似の斜視図である。
す図8の斜視図に類似の斜視図である。
【図11】図10のデバイスの11−11線による断面
図である。
図である。
【図12】本発明の好ましい具体例に従う完成された導
電性ポリマPTCデバイスの断面図である。
電性ポリマPTCデバイスの断面図である。
12 上部箔層 12A 上部隔絶電極部分 12B 上部主電極部分 14 下部箔層 14A 下部隔絶電極部分 14B 下部主電極部分 16 中心箔層又は中心電極 18 第1導電性ポリマ層 20 第2導電性ポリマ層 21 孔 22 半円筒状溝 23 交番の横断方向刻み線23 24 上部隔絶ギャップ 26 下部隔絶ギャップ 28 上部隔絶障壁 30 下部隔絶障壁 32 上部未被覆領域 34 下部未被覆領域 36 第1メッキ層 38 入力端子 40 上部出力端子 42 下部出力端子 100 積層ウェブ
Claims (20)
- 【請求項1】 相互に電気的に隔絶された第1および第
2の上部電極部分と、 相互に電気的に隔絶された第1および第2の下部電極部
分と、 中心電極と、 上部電極部分と中心電極との間に配された導電性ポリマ
材料の第1のPTC層と、 下部電極部分と中心電極との間に配された導電性ポリマ
材料の第2のPTC層とを具備する導電性ポリマPTC
デバイス。 - 【請求項2】 前記第1上部電極部分と、前記第1下部
電極部分と、前記中心電極を相互に電気的に接続する入
力端子と、 前記第2上部電極部分上の第1の出力端子と、 前記第2下部電極部分上の第2の出力端子を具備する請
求項1記載の導電性ポリマPTCデバイス。 - 【請求項3】 前記入力端子に接続される第1の導電性
リードと、 前記第1および前記第2出力端子に接続され、前記中心
電極から電気的に隔絶される第2の導電性リードを具備
する請求項2記載の導電性ポリマPTCデバイス。 - 【請求項4】 前記第1および第2上部電極部分が第1
のギャップにより相互に隔絶され、前記第1および第2
下部電極部分が第2のギャップにより相互に隔絶される
請求項1記載の導電性ポリマPTCデバイス。 - 【請求項5】 前記第1および第2上部電極部分が第1
のギャップにより相互に隔絶され、前記第1および第2
下部電極部分が第2のギャップにより相互に隔絶される
請求項2記載の導電性ポリマPTCデバイス。 - 【請求項6】 前記出力端子と前記第1上部電極部分と
の間において前記第2上部電極部分上に配された上部絶
縁層と、 前記第2出力端子と前記第1下部電極部分との間におい
て前記第2下部電極部分上に配された上部絶縁層を具備
する請求項5記載の導電性ポリマPTCデバイス。 - 【請求項7】 (a)上部、下部および中心金属箔電極
層を含み、前記上部および中心電極層が導電性ポリマの
第1PTC層により分離され、前記中心および下部電極
層が導電性ポリマの第2のPTC層により分離された積
層体を提供し、(b)前記各上部および下部電極層の電
気的隔絶部分を前記上部および下部電極層の主部分から
分離し、(c)前記上部および下部電極層の隔絶部分を
相互にかつ前記中心電極層に電気的に接続する入力端子
を形成し、(d)前記上部電極層の主部分上に上部出力
端子を、前記下部電極層の主部分上に下部出力端子を形
成し、(e)前記上部および下部出力端子を電気的に接
続する諸段階を含む多層導電性ポリマPTCデバイスの
製造方法。 - 【請求項8】 前記の上部および下部出力端子を相互に
電気的に接続するステップが、前記中心電極層と前記上
部および下部出力端子間の電気的隔絶を維持する請求項
7記載の多層導電性ポリマPTCデバイスの製造方法。 - 【請求項9】 前記積層体が、前記上部および下部電極
層の隔絶部分、中心電極層および前記第1および第2P
TC層中を延びる溝を有する端部表面を具備し、前記の
入力端子を形成するステップがチャンネル内に入力端子
を形成するステップを含む請求項7記載の多層導電性ポ
リマPTCデバイスの製造方法。 - 【請求項10】 前記の各上部および下部電極層の電気
的隔絶部分を前記上部および下部電極層の主部分から分
離するステップが、前記上部電極層に第1のギャップを
形成し、前記下部電極層に第2のギャップを形成するこ
とによって遂行される請求項7記載の多層導電性ポリマ
PTCデバイスの製造方法。 - 【請求項11】 前記方法が、前記の上部および下部出
力端子を形成するステップの前に、前記上部電極層の主
部上に上部隔絶障壁層を、前記下部電極の主部上に下部
隔絶障壁層を形成する段階を含み、前記上部出力端子が
前記上部隔絶障壁が形成されない上部電極層の一部上に
形成され、かつ前記出力端子が前記下部隔絶障壁が形成
されない前記下部電極層の一部上に形成されるように、
前記上部および下部隔絶障壁層が寸法設定される請求項
10記載の多層導電性ポリマPTCデバイスの製造方
法。 - 【請求項12】中心電極により分離される上部および下
部導電性ポリマPTC層と、 前記上部および下部導電性ポリマPTC層と中心電極と
に電気的接触下にある入力端子と、 前記上部導電性ポリマPTC層と電気的接触下にある上
部出力端子と、 前記下部導電性ポリマPTC層と電気的接触下にある下
部出力端子とを具備し、電流路が、デバイス中を、入力
端子から中心電極を経、そして前記各上部および下部導
電性ポリマPTC層を経て前記上部および下部出力端子
にまでそれぞれ設定される多層導電性ポリマPTCデバ
イス。 - 【請求項13】 前記入力端子が第1の上部電極部分を
介して前記上部導電性ポリマPTC層と電気的に接触下
にあり、第1の下部電極部分を介して前記下部導電性ポ
リマPTC層と電気的接触下にあり、前記上部出力端子
が、前記第1上部電極部分から電気的に隔絶された第2
の上部電極部分を介して前記上部導電性ポリマPTC層
と電気的接触下にあり、前記下部出力端子が、前記第1
上部電極部分から電気的に隔絶された第2の下部電極部
分を介して下部導電性ポリマPTC層と電気的接触下に
ある請求項12記載の多層導電性ポリマPTCデバイ
ス。 - 【請求項14】 前記入力端子に接続される第1の導電
性リードと、前記上部および下部出力端子に接続され前
記中心電極から電気的に隔絶されている第2の導電性リ
ードを含む請求項12記載の多層導電性ポリマPTCデ
バイス。 - 【請求項15】 前記入力端子に接続される第1の導電
性リードと、前記上部および下部出力端子に接続され前
記中心電極から電気的に隔絶されている第2の導電性リ
ードを具備する請求項13記載の多層導電性ポリマPT
Cデバイス。 - 【請求項16】 前記第1および第2上部電極部分が第
1のギャップにより相互に離間され、前記第1および第
2下部電極部分が第2のギャップにより相互に隔絶され
ている請求項13記載の多層導電性ポリマPTCデバイ
ス。 - 【請求項17】 前記第1および第2上部電極部分が第
1のギャップにより相互に離間され、前記第1および第
2下部電極部分が第2のギャップにより相互に隔絶され
ている請求項15記載の多層導電性ポリマPTCデバイ
ス。 - 【請求項18】 前記上部出力端子と前記第1上部電極
部分との間において前記第2上部電極部分上に配された
上部絶縁層と、前記下部出力端子と前記第1下部電極部
分との間において前記第2下部電極部分上に配された下
部絶縁層を具備する請求項13記載の多層導電性ポリマ
PTCデバイス。 - 【請求項19】 前記上部出力端子と前記第1上部電極
部分との間において前記第2上部電極部分上に配された
上部絶縁層と、 前記下部出力端子と前記第1下部電極部分との間におい
て前記第2下部電極部分上に配された下部絶縁層を具備
する請求項15記載の多層導電性ポリマPTCデバイ
ス。 - 【請求項20】 前記上部出力端子と前記第1上部電極
部分との間において前記第2上部電極部分上に配された
上部絶縁層と、 前記下部出力端子と前記第1下部電極部分との間におい
て前記第2下部電極部分上に配された下部絶縁層を具備
する請求項16記載の多層導電性ポリマPTCデバイ
ス。
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