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JPH09219302A - Ptc素子 - Google Patents

Ptc素子

Info

Publication number
JPH09219302A
JPH09219302A JP2570296A JP2570296A JPH09219302A JP H09219302 A JPH09219302 A JP H09219302A JP 2570296 A JP2570296 A JP 2570296A JP 2570296 A JP2570296 A JP 2570296A JP H09219302 A JPH09219302 A JP H09219302A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ptc
pair
electrode
insulating
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2570296A
Other languages
English (en)
Inventor
Shoichi Sugaya
昭一 菅谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daito Tsushinki KK
Original Assignee
Daito Tsushinki KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daito Tsushinki KK filed Critical Daito Tsushinki KK
Priority to JP2570296A priority Critical patent/JPH09219302A/ja
Priority to EP97300947A priority patent/EP0790625A3/en
Publication of JPH09219302A publication Critical patent/JPH09219302A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C7/00Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material
    • H01C7/02Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material having positive temperature coefficient
    • H01C7/028Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material having positive temperature coefficient consisting of organic substances
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C1/00Details
    • H01C1/14Terminals or tapping points or electrodes specially adapted for resistors; Arrangements of terminals or tapping points or electrodes on resistors
    • H01C1/1406Terminals or electrodes formed on resistive elements having positive temperature coefficient

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Thermistors And Varistors (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 確実な電極が得られ実装性が良好な小型のP
TC素子を提供する。 【解決手段】 結晶性高分子物質に導電性粒子を分散し
たPTC組成物にて略板状に成形した基板15の表裏面に
それぞれ金属箔3,3を接合形成する。金属箔3,3の
表面にパターンをずらして縞状に複数の絶縁性ペースト
層を形成し、金属箔3,3の一部が露出する短冊片に切
断する。長手方向の両側面に表裏面に設けた一方の絶縁
性ペースト層に亘って絶縁性ペースト層をそれぞれ形成
する。両側面の絶縁性ペースト層の表面に露出する金属
箔3から反対面の絶縁性ペースト層に亘って導電性ペー
スト層を形成する。導電性ペースト層の表面にメッキ膜
層を形成し、チップ状に短冊片を切断してPTC素子1
を形成する。金属箔3,3と、絶縁性ペースト層と、導
電性ペースト層およびメッキ膜層の電極9,9とを膜状
に形成するため、一括に複数のPTC素子1を容易に形
成できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、結晶性高分子物質
に導電性粒子が分散されたPTC(Positive Temperatu
re Coefficient)組成物にて形成したPTC基板に電極
を設けたPTC素子に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、特定の温度領域において電気抵抗
が急激に増大する正の温度特性を示すPTC素子は、自
己制御形ヒータや自己復帰形の過電流保護素子などとし
て広く利用されている。そして、このPTC素子は、キ
ュリー点での急激な抵抗値上昇を利用するチタン酸バリ
ウムなどのセラミックス素材や、カーボンブラックなど
の導電性粒子を結晶性高分子物質に分散させたPTC組
成物の成形体の表面に、金属や有機導電性高分子物質な
どからなる電極を取り付け、この結晶性高分子物質の結
晶融点での急激な熱膨張に伴う抵抗値上昇を利用する構
成が採られている。
【0003】ところで、PTC素子を過電流保護素子と
して利用する場合には、例えば特開平1−110702
号公報、特開平2−145659号公報、特開平3−2
09702号公報、特開平3−200301号公報、特
開平3−233902号公報、特開平4−7802号公
報、特開平4−7801号公報、特開平4−48701
号公報、特開平4−167501号公報、特開平5−2
1207号公報、特開平5−90009号公報、特開平
5−21208号公報、特開平5−109502号公報
および特開平6−318504号公報などに記載されて
いるように、一般に、体積抵抗率が低く、また狭い温度
範囲で急激に抵抗値が上昇する特性をもつ結晶性高分子
物質を用いることが好ましい。
【0004】そして、今日ポリマー系PTC組成物を用
いたPTC素子を過電流保護素子として利用するものと
して、例えば図5および図6に示す構造が知られてい
る。
【0005】この図5および図6に示す過電流保護素子
21は、導電性粒子を結晶性高分子物質に分散させたPT
C組成物の成形体22の表裏面に、金属箔を接合して一対
の電極23,23を形成し、これら一対の電極23,23の表面
に金属板を略L字状に折曲形成した端子24,24を半田な
どにてそれぞれ取り付け形成されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、近年の高密
度実装の要求により、小型の表面実装型の電子部品が望
まれている。
【0007】しかしながら、上記図5および図6に示す
従来の過電流保護素子21は、金属板を略L字状に折曲形
成した形状の異なる一対の端子24,24にてPTC組成物
の成形体22を挟持する構造であるため、結晶性高分子物
質の結晶融点での急激な熱膨張に伴う抵抗値上昇を利用
するPTC素子21では、十分な強度を有する厚さ寸法の
厚い端子を用いる必要があり、小型化が図れない。さら
に、一対の端子24,24間および端子24と電極23との短絡
を防止するために、これらの距離を大きく設定しなけれ
ばならず、PTC組成物の成形体22の寸法に比して過電
流保護素子21の寸法が極端に大きくなり、小型化が図れ
ない。また、PTC素子21に対して端子24のサイズが大
きいので、全体の熱容量が大きくなり、限流動作が緩慢
になる。
【0008】また、端子24,24を半田にて取り付けてい
るため、この過電流保護素子21を実装する際のリフロー
半田付け工程で、端子24と電極23との接合部分の半田が
溶融し、端子24,24の接合が不十分となるおそれがあ
る。
【0009】さらに、PTC組成物にて所定の形状の成
形体22に形成した後、形状の異なる端子24,24を接続す
るため、生産効率の向上が図れない問題がある。
【0010】本発明は、上記問題点に鑑みなされたもの
で、電極が確実に設けられ実装性が良好な小型のPTC
素子を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】請求項1記載のPTC素
子は、結晶性高分子中に導電性粒子を分散してなるPT
C組成物にて略板状に成形されたPTC基板と、このP
TC基板の表裏面にそれぞれ設けられた一対の金属膜状
の電極膜と、前記PTC基板の対向する端面から連続し
て前記一対の電極膜のそれぞれ相異なるいずれか一方の
一部を覆ってそれぞれ設けられた一対の絶縁層と、これ
ら絶縁層の表面にこれら絶縁層に覆われていない前記一
対の電極膜に電気的に接触してそれぞれ膜状に設けられ
た一対の電極とを具備したもので、PTC組成物にて略
板状に成形されたPTC基板の表裏面にそれぞれ一対の
金属膜状の電極膜を設け、これら一対の電極膜の一部を
露出して、PTC基板の対向する端面に連続してそれぞ
れ一対の絶縁層を設け、これら絶縁層の表面に一対の電
極膜の露出する部分に亘って電気的に接触してそれぞれ
一対の電極を膜状に設けるため、膜状に形成した電極
膜、絶縁層および電極により一対の電極間に十分な絶縁
距離を有して小型に形成され、端面に位置する膜状の電
極により小型で表面実装可能に形成されるとともに、電
極がPTC基板の表裏面に亘るため、実装の際に電極の
基板に対向する部分と基板に対して垂直方向に位置する
部分とにて確実な実装が容易に得られる。また、上下ど
ちらの方向でも実装が可能になる。
【0012】請求項2記載のPTC素子は、請求項1記
載のPTC素子において、一対の絶縁層は、PTC基板
の対向する端面に設けられた一対の端面絶縁層と、これ
ら一対の端面絶縁層にそれぞれ連続し前記PTC基板の
表裏面に前記一対の電極膜の一部を覆ってそれぞれ設け
られた一対の表面絶縁層とを設けたもので、PTC基板
の対向する端面に一対の端面絶縁層を設けるとともに、
PTC基板の表裏面に一対の電極膜の一部を覆ってそれ
ぞれ一対の表面絶縁層とを設けて、端面絶縁層と表面絶
縁層とをそれぞれ連続されて一対の絶縁層を形成するた
め、容易に絶縁層が形成される。
【0013】請求項3記載のPTC素子は、請求項1ま
たは2記載のPTC素子において、絶縁層は、絶縁性ペ
ーストが塗布されて形成されたもので、PTC基板の対
向する端面から一対の電極膜のいずれか一方の一部を覆
ってそれぞれ絶縁性ペーストを塗布して一対の絶縁層を
形成するため、容易に膜状の絶縁層が形成される。
【0014】請求項4記載のPTC素子は、請求項1な
いし3いずれか記載のPTC素子において、電極膜およ
び電極の少なくともいずれか一方は、導電ペーストが塗
布され焼結されて形成されたもので、電極膜および電極
の少なくともいずれか一方を導電ペーストを塗布して焼
結することにより形成するため、膜状の電極膜あるいは
電極が容易に形成される。
【0015】請求項5記載のPTC素子は、請求項1な
いし4いずれか記載のPTC素子において、電極は、導
電ペーストにて形成された導電ペースト層と、この導電
ペースト層の表面にメッキにて形成されたメッキ層とを
備えたもので、導電ペーストにて絶縁層の表面に一対の
電極膜の露出部分に亘ってそれぞれ膜状に導電ペースト
層を形成し、これら導電ペーストの表面にメッキにてメ
ッキ層を形成して一対の電極を形成するため、実装の際
の半田接続が容易な膜状の電極が容易に形成され、実装
性が良好で小型に形成される。
【0016】請求項6記載のPTC素子は、請求項1な
いし5いずれか記載のPTC素子において、電極は、表
面に半田にて形成された半田層とを備えたもので、表面
に半田にて半田層を設けて電極を形成するため、実装の
際の半田接続が容易に行える。
【0017】請求項7記載のPTC素子は、請求項1な
いし6いずれか記載のPTC素子において、電極および
絶縁層の少なくともいずれか一方は、転写によりパター
ン形成されたもので、電極および絶縁層の少なくともい
ずれか一方を転写によりパターン形成するため、連続的
に容易に電極あるいは絶縁層が形成され、製造性が向上
する。
【0018】請求項8記載のPTC素子は、請求項1な
いし7いずれか記載のPTC素子において、電極および
絶縁層の少なくともいずれか一方は、パターンが形成さ
れた曲面原盤にて印刷形成されたもので、電極および絶
縁層の少なくともいずれか一方をパターンが形成された
曲面原盤にて印刷形成するため、電極あるいは絶縁層の
確実な形成が連続的に容易に行える。
【0019】請求項9記載のPTC素子は、請求項1な
いし8いずれか記載のPTC素子において、過電流素子
として使用されるもので、請求項1ないし8いずれか記
載のPTC素子を過電流素子として用いるため、表面実
装性に優れた小型の過電流素子が容易に提供される。
【0020】
【発明の実施の形態】以下、本発明のPTC素子の実施
の一形態を図面を参照して説明する。
【0021】図1において、1はPTC素子で、このP
TC素子1は、結晶性高分子物質に導電性粒子を分散さ
せたPTC組成物を、例えば縦寸法が10mm、横寸法が
10mm、厚さ寸法が3mmに成形されたPTC基板である
成形体2を有している。なお、この成形体2は、例えば
一般的な表面実装型の部品の形状である縦寸法が5mmで
横寸法が2.5mmのもの、縦寸法が3.2mmで横寸法が
1.6mmのもの、縦寸法が2mmで横寸法が1.25mmの
ものなど、完成品の寸法に対応してそれぞれ設計、すな
わち例えば厚さ寸法を1mmや0.5mmに設定したり、縦
横寸法を5mm以下に設定するなど完成品の寸法より幾分
小さく設計する。
【0022】そして、PTC組成物に用いる結晶性高分
子物質としては、一般に結晶性ポリマとして知られてい
る結晶化度が10%以上のもの、例えば、高密度ポリエ
チレン、中密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、ポ
リプロピレン、エチレン/プロピレンコポリマ、トラン
スポリブタジエンなどのポリオレフィン、ポリテトラフ
ルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライドなどの含
フッ素ポリマ、エチレン−アクリル酸コポリマ、各種ポ
リエステル、各種ポリアミド、各種ポリエチレングリコ
ールなどが用いられる。また、これらの結晶性高分子物
質は単一または混合して用いる。
【0023】また、これらの結晶性高分子物質は、過電
流保護素子などの大きなPTC特性を要する場合には、
例えばポリエチレン類、特に高密度ポリエチレンを主体
にした結晶化度の高い高分子物質を用いることが好まし
い。一方、それほど大きなPTC特性を必要としない場
合は、結晶化度のより低い高分子物質を選択してもよ
い。
【0024】一方、導電性粒子としては、炭素質粒子や
各種の金属粒子、例えばファーネスブラック、サーマル
ブラック、アセチレンブラックなどのカーボンブラック
類やグラファイト、カーボンファイバ、カーボンビーズ
などの炭素質粒子、純金属、合金、または金属粒子に異
種金属をコーティングした各種金属粒子や炭素質粒子に
金属をコーティングしたものなどが用いられる。そし
て、これらの導電性粒子は単一でまたは混合して用い
る。なお、優れたPTC特性を得るためには、導電性粒
子としてカーボンブラックを選択することが好ましく、
低抵抗のサーマルブラックを用いた場合は特に優れたP
TC特性が得られる。
【0025】そして、結晶性高分子物質に導電性粒子を
分散させる際には、例えばロールミル上で両者を加熱混
練したり、バンバリーミキサ中で混合して分散する。
【0026】また、成形体2の成形は、射出成形、押出
し成形、コンプレッション成形、カレンダ成形などの方
法により成形する。
【0027】そして、この成形された成形体2の表裏面
に、銅やニッケル、これらの合金などの電極膜である厚
さ寸法が例えば60μmの金属箔3が熱圧着やコンプレ
ッション成形などによりそれぞれ一対接合形成されてい
る。
【0028】なお、成形体2または金属箔3,3を設け
た成形体2にγ線、電子線などの放射線を照射して結晶
性高分子物質を架橋し、熱エージングして、PTC特性
の発現後の抵抗値を安定させることが好ましい。また、
放射線を用いず、化学架橋を行なうこともできる。そし
て、PTC素子1の信頼性を高めるために、熱エージン
グ温度を結晶性高分子物質の融点以上でかつ分解温度以
下に設定することが好ましい。
【0029】さらに、これら金属箔3,3の表面には、
第1表面絶縁層5aおよび第2表面絶縁層5bが、金属箔
3,3の成形体2の中心で対象となる位置で金属箔3,
3の端部の一部を露出させて膜状に被覆形成されてい
る。
【0030】また、成形体2の対向する端面には、第1
表面絶縁層5aに連続する第1端面絶縁層6aと、第2表面
絶縁層5bに連続する第2端面絶縁層6bがそれぞれ膜状に
被覆形成されている。そして、これら連続する第1表面
絶縁層5aおよび第1端面絶縁層6aにて第1絶縁層7aが形
成され、連続する第2表面絶縁層5bおよび第2端面絶縁
層6bにて第2絶縁層7bが形成されて、成形体2に一対の
金属箔3,3の一部を露出させてそれぞれ一対の第1絶
縁層7aおよび第2絶縁層7bが形成されている。これら第
1絶縁層7aおよび第2絶縁層7bは、例えば厚さ寸法が2
00μm、好ましくは100μm、さらに好ましくは5
0μmに形成されている。なお、高電圧回路で使用され
る場合には、これら第1絶縁層7aおよび第2絶縁層7bの
厚さ寸法が薄くなるに従って絶縁耐圧性が低下するた
め、厚く設計する。
【0031】そして、これら第1絶縁層7aおよび第2絶
縁層7bは、例えば絶縁性ペーストがスクリーン印刷、ド
クターブレード法、ロールやシリコーンゴムなどの柔軟
部材からなる曲面原盤などにて転写するなどの方法によ
り塗布されて形成されている。なお、絶縁性塗料のスプ
レによる吹き付けや絶縁性フィルムの貼り付けなど、い
ずれの形成方法でもできる。
【0032】また、絶縁性ペーストとしては、エポキシ
樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル、ポリイミ
ドなどの熱硬化性樹脂が用いられる。熱硬化性樹脂は、
耐熱性が大きく、かつ、硬化前の常温で流動状態である
ため金属箔3上への塗布操作が容易にできるためであ
る。なお、熱硬化時の温度や硬化後の耐熱性からエポキ
シ樹脂系のものが好ましい。
【0033】そして、熱硬化性樹脂を用いた場合には、
適宜な条件下での熱硬化を行って第1絶縁層7aおよび第
2絶縁層7bを形成する。なお、この熱硬化は、PTC素
子が熱劣化しない温度、例えば250℃以下、好ましく
は150℃以下、さらに好ましくは120℃以下で行
う。また、硬化は、第1絶縁層7aおよび第2絶縁層7bに
対応して絶縁ペーストを塗布した後でも、一方ずつ塗布
硬化してもできる。
【0034】さらに、成形体2の端面には、例えば厚さ
寸法が400μm、好ましくは200μm、さらに好ま
しくは100μmの一対の電極9,9が形成されてい
る。これら電極9,9は、第1端面絶縁層6aおよび第2
端面絶縁層6bの表面に成形体2の表裏面に亘ってそれぞ
れ被覆形成された導電ペースト層である導電膜層10,10
と、これら導電膜層10,10の表面に被覆形成されたニッ
ケルメッキなどのメッキ層11,11にて構成されている。
そして、第1端面絶縁層6aの表面に被覆された一方の導
電膜層10は、第1表面絶縁層5aの端部表面と第2表面絶
縁層5bにて被覆されていない金属箔3の端部表面との表
裏面に跨がって形成されている。また、第2端面絶縁層
6bの表面に被覆された他方の導電膜層10も同様に、第2
表面絶縁層5bの端部表面と第1表面絶縁層5aにて被覆さ
れていない金属箔3の端部表面との表裏面に跨がって形
成されている。
【0035】なお、この導電膜層10,10は導電性粒子と
バインダとの混合物である導電ペーストにて形成されて
いる。そして、導電性粒子としては、PTC組成物の導
電性粒子と同様のものが用いられるが、銀、パラジウ
ム、金、銅、アルミニウム、ニッケルなどの金属粒子や
カーボンブラックやグラファイトなどの導電性粒子、特
に銀が好ましい。一方、バインダとしては、絶縁性ペー
ストと同様の熱硬化性樹脂、耐熱性を有する熱可塑性樹
脂などが用いられるが、熱硬化性樹脂が好ましい。な
お、この導電ペーストは、必要に応じて導電性粒子およ
びバインダ以外の他の物質を添加したものを用いてもよ
いが、導電性、耐熱性、信頼性、硬化時の温度、価格な
どの面から、銀とエポキシ樹脂との組み合わせが好まし
い。そして、絶縁性ペーストと同様に塗布形成した後、
焼結して導電膜層10,10を形成する。
【0036】また、電極9,9は、導電膜層10,10の
み、導電膜層10,10の表面に半田にて半田層を形成した
2層構造、あるいは、導電膜層10,10を被覆するメッキ
層11,11の表面にさらに半田層を形成した3層構造など
でもできる。この半田層を電極9,9の表面に形成させ
ることにより、プリント基板への実装の際の半田付けが
容易にできる。
【0037】なお、金属箔3,3の表面や第1絶縁層7a
の表面および第2絶縁層7bの表面は、平滑であっても粗
面化されていてもよいが、第1絶縁層7aや第2絶縁層7
b、電極9,9を設ける金属泊3,3の表面や第1絶縁
層7aの表面および第2絶縁層7bの表面が粗面化されてい
る方が接合強度が向上して剥離しにくくなるため好まし
い。
【0038】次に、上記実施の一形態の製造動作を図面
を参照して説明する。
【0039】まず、例えばロールミル上で加熱混練した
り、バンバリーミキサ中で混合するなどして、結晶性高
分子物質に導電性粒子を分散させてPTC組成物を調製
する。そして、この得られたPTC組成物を、図2およ
び図3に示すように、射出成形、押出し成形、コンプレ
ッション成形、カレンダ成形などの方法により、例えば
縦寸法が100mmで横寸法が100mmの薄板状の基板15
に成形する。
【0040】この後、基板15の両面に金属箔3,3を熱
圧着やコンプレッション成形にて接合形成する。なお、
このコンプレッション成形の際の温度はPTC組成物中
の結晶性高分子物質の融点以上に設定する。なお、金属
箔3,3は成形と同時に接合することもできる。
【0041】そして、金属箔を設けた基板15の表面に、
図2および図3に示すように、縞状に絶縁性ペーストを
例えばスクリーン印刷やドクターブレード法などにて塗
布形成して乾燥した後、裏面にも同様に絶縁性ペースト
を塗布形成して乾燥させて帯状の絶縁性ペースト層16a
,16b をそれぞれ複数形成する。なお、絶縁性ペース
ト層16a ,16b は、図3に示すように、表面および裏面
の縞パターンをずらして同方向に帯状に形成する。
【0042】次に、絶縁性ペースト層16a ,16b を形成
した基板を、図2および図3中点線で示す位置である絶
縁性ペースト層16a ,16b のそれぞれ長手方向の一縁の
位置で切断して短冊片17を形成する。この切断は、例え
ばダイシングソーおよびシャーリングなどの各種カッタ
やレーザなどにより行う。
【0043】そして、得られた短冊片17の切断面である
長手方向の両側面に、図4に示すように、絶縁性ペース
トを塗布して乾燥させて絶縁性ペースト層16c ,16c を
それぞれ形成する。これら絶縁性ペースト層16c ,16c
は、短冊片の長手方向の側面に位置する金属箔3および
あらかじめ形成した一方の絶縁性ペースト層16a ,16b
の端面を覆うように短冊片17の長手方向の両側面の全面
に形成する。
【0044】さらに、絶縁性ペースト層16c ,16c の表
面に、図4に示すように、導電ペーストを、例えばスク
リーン印刷やドクターブレード法などにて塗布して焼結
して導電性ペースト層18,18を形成する。なお、一方の
導電性ペースト層18は、表面の絶縁性ペースト層16a の
端部と裏面の絶縁性ペースト層16b にて被覆されていな
い露出する金属箔3の端部とに跨がって略コ字状に形成
されている。また、他方の導電性ペースト層18も同様
に、裏面の絶縁性ペースト層16b の端部と表面の絶縁性
ペースト層16a にて被覆されていない露出する金属箔3
の端部とに跨がって略コ字状に形成されている。
【0045】そして、導電性ペースト層18,18の表面に
は、ニッケルメッキなどのメッキ膜層19,19がそれぞれ
メッキ形成されている。
【0046】次に、メッキ膜層19,19を形成した短冊片
17を、図4中点線で示す位置、すなわち製品の寸法とな
る製品単位毎の位置で、例えばダイシングソーおよびシ
ャーリングなどの各種カッタやレーザなどにより切断し
て、チップ状のPTC素子が得られる。
【0047】上記実施の一形態によれば、結晶性高分子
物質に導電性粒子を分散したPTC組成物にて略板状に
成形された基板15の表裏面にそれぞれ金属箔3,3を接
合し、これら金属箔3,3の表面にパターンをずらして
縞状に複数の絶縁性ペースト層16a ,16b を形成し、金
属箔3,3の一部が露出する短冊片17に切断後、両側面
に絶縁性ペースト層16c ,16c をそれぞれ形成し、さら
に導電性ペースト層18,18を露出する金属箔3に亘って
絶縁性ペースト層16c ,16c の表面に形成した後、メッ
キ膜層19,19を形成し、チップ状に切断してPTC素子
1を形成するため、金属箔3,3と、絶縁性ペースト層
16a ,16b ,16c と、導電性ペースト層18,18およびメ
ッキ膜層19,19の2層構造の電極9,9とを膜状に塗布
形成するので、基板15に一括で形成してのちに切断する
のみで容易に複数のチップ状のPTC素子1を形成でき
るとともに、端面に位置する膜状の一対の電極9,9に
より電極9,9間に十分な絶縁距離を有して表面実装で
きるチップ状のPTC素子1を容易に形成でき、生産性
を向上できる。
【0048】また、電極9,9が成形体2の表裏面に亘
るため、プリント基板への実装の際に、電極9,9のプ
リント基板に対向する部分とプリント基板に対して垂直
方向に位置する端面の部分とにて半田付けされるので確
実な実装が容易にできる。また上下どちらの方向でも実
装が可能になる。
【0049】さらに、表面実装可能な小型のPTC素子
1が得られるため、プリント基板に実装できる小型の過
電流保護素子が得られる。
【0050】なお、上記実施の形態において、基板15を
切断してチップ状に形成して説明したが、あらかじめチ
ップ状の成形体2を形成し、この成形体2に金属箔3,
3、第1絶縁層7a、第2絶縁層7b、電極9,9を形成し
たり、金属箔3,3および絶縁性ペースト層16a ,16b
を形成した基板15を所望のサイズに打ち抜き形成するな
どしてもよい。
【0051】また、電極膜として金属箔3,3を用いて
説明したが、導電ペーストを塗布して焼結させて形成し
てもできる。
【0052】さらに、1つのPTC素子1に一対の電極
9,9を設けて説明したが、複数対の電極9,9を形成
するなどしてもよい。
【0053】
【実施例】次に、PTC素子の一実施例の製造動作を説
明する。
【0054】まず、カーボンブラックを高密度ポリエチ
レンに分散させたPTC組成物を直径2mm以下のペレッ
トに形成し、このぺレットの軸方向の両端部に厚さ25
μmのニッケル金属箔3,3を位置させて金型中に配置
し、この状態でコンプレッション成形して、幅寸法60
mm、長さ寸法60mm、厚さ寸法0.5mmの基板15を形成
した。
【0055】次に、この基板15にγ線を10Mradで照射
することで、架橋を行った後、基板15の片面の金属箔3
にエポキシ樹脂からなる絶縁性ペーストを縞状に165
メッシュのスクリーンメッシュを用いてスクリーン印刷
した。なお、印刷パターンは、幅寸法3.8mm、長さ寸
法55mmの縞状のパターンが1mmの間隔をあけて10本
並んだものである。
【0056】さらに、基板15を120℃に保った恒温槽
に入れて、絶縁性ペーストを乾燥して硬化した。さら
に、同様に基板15の反対面の金属箔3にも絶縁性エポキ
シ樹脂の絶縁性ペーストを、同様のパターンで横方向に
1mmずらして、印刷し乾燥して硬化した。
【0057】この後、始めに印刷形成した表面側の絶縁
性ペースト層16a の長さ方向の一縁に沿い、かつ、後に
印刷形成した裏面側の絶縁性ペースト層16b の一縁に沿
ってシャーリングで切断し、長さ寸法が6mm、幅寸法が
4.8mm、厚さ寸法が1mmの短冊片17を10本製作し
た。
【0058】次に、ガラス板の平面上に165メッシュ
のスクリーンメッシュを用いて絶縁性ペースト層16a ,
16b と同種類の絶縁性エポキシ樹脂の絶縁性ペーストを
印刷し、このパターン上に短冊片17の片方の切断面を接
触させ、切断面に絶縁性ペーストを転写する。そして、
120℃に保った恒温槽中で乾燥して絶縁性ペーストを
硬化し、短冊片17の一側面に絶縁性ペースト層16c を形
成した。同様に短冊片17の他側面にも絶縁性ペースト層
16c を形成した。
【0059】さらに、ガラス板の平面上に銀粒子とエポ
キシ樹脂からなる半田付け可能な導電性ペーストを60
メッシュのスクリーンメッシュを用いて印刷し、この導
電性ペーストに絶縁性ペースト層16c ,16c を形成した
基板15の側面を漬けるように接触させ、この状態で約2
0秒保持することにより、絶縁性ペーストにて被覆され
ていない一部露出する金属箔3から反対面の絶縁性ペー
スト層に亘る略コ字状の導電性ペースト層18を形成し
た。なお、基板15の逆の側面についても同様に略コ字状
の導電性ペースト層18を形成した。そして、これら導電
性ペースト層18,18は150℃に保った恒温槽にて乾燥
させて硬化した。
【0060】そして、これら導電性ペースト層18,18お
よび露出する金属箔3の部分に水溶性のフラックスを塗
布した後、260℃に保った64ハンダからなるハンダ
パス中に短冊片17をディップして、導電性ペースト層1
8,18および露出する金属箔3の部分を覆う連続した半
田層を形成する。
【0061】次に、短冊片17の電極上に形成した絶縁性
ペースト層の長さ方向の両端から1.25mmの部分を切
断し、廃棄した。これは、基板15が露出する不要部分で
ある。さらに、この短冊片17を長さ方向に2.5mmの間
隔で切断し、各短冊片17から20個のチップ状のPTC
素子1を得た。すなわち、1つの基板15から200個の
PTC素子1を得た。このΡTC素子1は、長さ寸法が
約5mm、幅寸法が約2.5mm、厚さ寸法が約0.7mmで
あった。
【0062】次に、他の実施例のPTC素子を製造する
動作を説明する。
【0063】導電性ペーストとして、メッキ可能なグレ
ードを用い、その表面にニッケルメッキを施してメッキ
層を形成し、さらに半田メッキを施して半田層を形成し
て3層構造の電極を形成した以外は、上記一実施例と同
様にしてΡTC素子1を製作した。
【0064】次に、さらに他の実施例のPTC素子を製
造する動作を説明する。
【0065】上記一実施例と同様に、両側面に絶縁性ペ
ースト層16c を形成した短冊片17を形成した。その後、
シリコーンラバの上に、一実施例で用いた半田付け可能
な導電性ペーストを幅寸法が7mm、長さ寸法が5.5cm
でパターン形成し、このパターン上に短冊片17の両側面
を圧力を加えて押し付けることにより、絶縁性ペースト
層16c ,16c の表面に、絶縁性ペースト層16a ,16b の
端部および露出する一部の金属箔3,3に連続した略コ
字状の導電性ペースト層18,18を形成し、一実施例と同
様に硬化した。この短冊片17を一実施例と同様に切断
し、ΡΤC素子1を得た。
【0066】
【発明の効果】請求項1記載のPTC素子によれば、P
TC組成物にて略板状に成形したPTC基板の表裏面に
それぞれ一対の金属膜状の電極膜を設け、これら一対の
電極膜の一部を露出してPTC基板の対向する端面に連
続してそれぞれ一対の絶縁層を設け、これら絶縁層の表
面に一対の電極膜の露出する部分に亘って電気的に接触
してそれぞれ一対の電極を膜状に設けるため、膜状に形
成した電極膜、絶縁層および電極により一対の電極間に
十分な絶縁距離を有して小型に形成でき、端面に位置す
る膜状の電極により表面実装できる小型の素子が得ら
れ、製造が容易で生産性を向上できるとともに、電極が
PTC基板の表裏面に亘るため、実装の際に電極の基板
に対向する部分と基板に対して垂直方向に位置する部分
とにて確実な実装が容易にできる。また、上下どちらの
方向でも実装が可能になる。
【0067】請求項2記載のPTC素子によれば、請求
項1記載のPTC素子に加え、PTC基板の対向する端
面に一対の端面絶縁層を設けるとともに、PTC基板の
表裏面に一対の電極膜の一部を覆ってそれぞれ一対の表
面絶縁層とを設けて、端面絶縁層と表面絶縁層とをそれ
ぞれ連続されて一対の絶縁層を形成するため、容易に絶
縁層を形成でき、製造が容易で生産性を向上できる。
【0068】請求項3記載のPTC素子によれば、請求
項1または2記載のPTC素子に加え、PTC基板の対
向する端面から一対の電極膜のいずれか一方の一部を覆
ってそれぞれ絶縁性ペーストを塗布して一対の絶縁層を
形成するため、容易に膜状の絶縁層を形成でき、製造が
容易で生産性を向上できる。
【0069】請求項4記載のPTC素子によれば、請求
項1ないし3いずれか記載のPTC素子に加え、電極膜
および電極の少なくともいずれか一方を導電ペーストを
塗布して焼結することにより形成するため、膜状の電極
膜あるいは電極を容易に形成でき、製造が容易で生産性
を向上できる。
【0070】請求項5記載のPTC素子によれば、請求
項1ないし4いずれか記載のPTC素子に加え、導電ペ
ーストにて絶縁層の表面に一対の電極膜の露出部分に亘
ってそれぞれ膜状に導電ペースト層を形成し、これら導
電ペーストの表面にメッキにてメッキ層を形成して一対
の電極を形成するため、実装の際の半田接続が容易な膜
状の電極を容易に形成でき、製造が容易で生産性を向上
できるとともに、実装性が良好で小型に形成できる。
【0071】請求項6記載のPTC素子によれば、請求
項1ないし5いずれか記載のPTC素子に加え、表面に
半田にて半田層を設けて電極を形成するため、実装の際
に容易に確実な半田接続ができる。
【0072】請求項7記載のPTC素子によれば、請求
項1ないし6いずれか記載のPTC素子に加え、電極お
よび絶縁層の少なくともいずれか一方を転写によりパタ
ーン形成するため、連続的に容易に電極あるいは絶縁層
を形成でき、製造が容易で生産性を向上できる。
【0073】請求項8記載のPTC素子によれば、請求
項1ないし7いずれか記載のPTC素子に加え、電極お
よび絶縁層の少なくともいずれか一方をパターンが形成
された曲面原盤にて印刷形成するため、電極あるいは絶
縁層の確実な形成を連続的に容易にできる。
【0074】請求項9記載のPTC素子によれば、請求
項1ないし8いずれか記載のPTC素子を過電流素子と
して用いるため、表面実装性に優れた小型の過電流素子
を容易に提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の一形態のPTC素子を示す断面
図である。
【図2】同上PTC素子を製造する状況を説明する基板
を示す一部を切り欠いた平面図である。
【図3】同上断面図である。
【図4】同上PTC素子を製造する状況を説明する短冊
片を示す斜視図である。
【図5】従来例のPTC素子を示す側面図である。
【図6】同上正面図である。
【符号の説明】
1 PTC素子 2 PTC基板である成形体 3 電極膜である金属箔 5a 絶縁層である第1表面絶縁層 5b 絶縁層である第2表面絶縁層 6a 絶縁層である第1端面絶縁層 6b 絶縁層である第2端面絶縁層 7a 第1絶縁層 7b 第2絶縁層 9 電極 10 導電ペースト層である導電膜層 11 メッキ層

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 結晶性高分子中に導電性粒子を分散して
    なるPTC組成物にて略板状に成形されたPTC基板
    と、 このPTC基板の表裏面にそれぞれ設けられた一対の金
    属膜状の電極膜と、 前記PTC基板の対向する端面から連続して前記一対の
    電極膜のそれぞれ相異なるいずれか一方の一部を覆って
    それぞれ設けられた一対の絶縁層と、 これら絶縁層の表面にこれら絶縁層に覆われていない前
    記一対の電極膜に電気的に接触してそれぞれ膜状に設け
    られた一対の電極とを具備したことを特徴とするPTC
    素子。
  2. 【請求項2】 一対の絶縁層は、PTC基板の対向する
    端面に設けられた一対の端面絶縁層と、これら一対の端
    面絶縁層にそれぞれ連続し前記PTC基板の表裏面に前
    記一対の電極膜の一部を覆ってそれぞれ設けられた一対
    の表面絶縁層とを設けたことを特徴とする請求項1記載
    のPTC素子。
  3. 【請求項3】 絶縁層は、絶縁性ペーストが塗布されて
    形成されたことを特徴とする請求項1または2記載のP
    TC素子。
  4. 【請求項4】 電極膜および電極の少なくともいずれか
    一方は、導電ペーストが塗布され焼結されて形成された
    ことを特徴とする請求項1ないし3いずれか記載のPT
    C素子。
  5. 【請求項5】 電極は、導電ペーストにて形成された導
    電ペースト層と、この導電ペースト層の表面にメッキに
    て形成されたメッキ層とを備えたことを特徴とする請求
    項1ないし4いずれか記載のPTC素子。
  6. 【請求項6】 電極は、表面に半田にて形成された半田
    層とを備えたことを特徴とする請求項1ないし5いずれ
    か記載のPTC素子。
  7. 【請求項7】 電極および絶縁層の少なくともいずれか
    一方は、転写によりパターン形成されたことを特徴とす
    る請求項1ないし6いずれか記載のPTC素子。
  8. 【請求項8】 電極および絶縁層の少なくともいずれか
    一方は、パターンが形成された曲面原盤にて印刷形成さ
    れたことを特徴とする請求項1ないし7いずれか記載の
    PTC素子。
  9. 【請求項9】 過電流素子として使用されることを特徴
    とする請求項1ないし8いずれか記載のPTC素子。
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