JPH1111984A - 撥水性ガラス及びその製造方法 - Google Patents
撥水性ガラス及びその製造方法Info
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- JPH1111984A JPH1111984A JP17251297A JP17251297A JPH1111984A JP H1111984 A JPH1111984 A JP H1111984A JP 17251297 A JP17251297 A JP 17251297A JP 17251297 A JP17251297 A JP 17251297A JP H1111984 A JPH1111984 A JP H1111984A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
- C03C17/30—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with silicon-containing compounds
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Abstract
(57)【要約】
【課題】格段に優れた耐薬品性及び耐光性を有する撥水
性膜であって、高強度かつ高密着性であって耐久性や耐
磨耗性とを併せ持ち、長期的に優れた撥水性能を維持で
きる撥水性ガラスおよびその製造方法を提供する。 【解決手段】ガラス表面に形成した撥水層を、弗素を含
有するシラン化合物を被覆し、該撥水層中の未反応基を
不活性化させた薄膜とする。
性膜であって、高強度かつ高密着性であって耐久性や耐
磨耗性とを併せ持ち、長期的に優れた撥水性能を維持で
きる撥水性ガラスおよびその製造方法を提供する。 【解決手段】ガラス表面に形成した撥水層を、弗素を含
有するシラン化合物を被覆し、該撥水層中の未反応基を
不活性化させた薄膜とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、建築用、自動車用
等の窓材、さらには船舶や航空機の窓材などの種々の分
野の各種ガラス物品において用いられる撥水性ガラス及
びその製造方法を提供するものである。
等の窓材、さらには船舶や航空機の窓材などの種々の分
野の各種ガラス物品において用いられる撥水性ガラス及
びその製造方法を提供するものである。
【0002】
【従来の技術】最近、撥水性能をより長く持続する高耐
久性撥水性ガラスが望まれている。この高耐久性を有す
る撥水ガラス及びその製造方法については、例えば本出
願人が出願している、特開平6ー16455号には、ガ
ラス表面に凸凹形状を有するシリカベース膜を設ける方
法が、また特願平8ー1315951号には、ガラス基
板を90〜200℃の高温に保持した状態で撥水層を形
成する方法が、特願平8ー333329号には、ガラス
表面をセリア研磨及び酸処理し、調温調湿した環境下で
撥水層を形成する方法が有効であること等が提案されて
いる。
久性撥水性ガラスが望まれている。この高耐久性を有す
る撥水ガラス及びその製造方法については、例えば本出
願人が出願している、特開平6ー16455号には、ガ
ラス表面に凸凹形状を有するシリカベース膜を設ける方
法が、また特願平8ー1315951号には、ガラス基
板を90〜200℃の高温に保持した状態で撥水層を形
成する方法が、特願平8ー333329号には、ガラス
表面をセリア研磨及び酸処理し、調温調湿した環境下で
撥水層を形成する方法が有効であること等が提案されて
いる。
【0003】また、ガラス表面を不活性化する方法につ
いては、例えば特開平7ー109131号には、加熱軟
化したガラスをプレス成形してガラス製品を製造する場
合に、ガラス表面に存在する一部又は全部のシラノール
基の水素原子を不活性基で置換したガラスを用いること
により、成形型の寿命を延ばす製造方法が知られてい
る。
いては、例えば特開平7ー109131号には、加熱軟
化したガラスをプレス成形してガラス製品を製造する場
合に、ガラス表面に存在する一部又は全部のシラノール
基の水素原子を不活性基で置換したガラスを用いること
により、成形型の寿命を延ばす製造方法が知られてい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の撥水性ガラ
スに関しては、その仕上げ工程において、撥水層が形成
されたガラス表面をアルコール性溶媒(例えば、イソプ
ロピルアルコール等)で仕上げ拭きを行う方法が一般に
採用されているが、その仕上げ拭き後の得られたガラス
は、耐光性及び耐磨耗性等の品質にバラツキが生じ問題
になっている。
スに関しては、その仕上げ工程において、撥水層が形成
されたガラス表面をアルコール性溶媒(例えば、イソプ
ロピルアルコール等)で仕上げ拭きを行う方法が一般に
採用されているが、その仕上げ拭き後の得られたガラス
は、耐光性及び耐磨耗性等の品質にバラツキが生じ問題
になっている。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、従来のかかる
課題に鑑みてなしたものであって、上記従来の仕上げ工
程における仕上げ拭き後の品質のバラツキの原因を種々
追求した結果、仕上げ工程前の撥水層は、室温〜約35
0℃のキュアリング処理を施すものの、該撥水層中には
ガラス表面や撥水剤成分との反応等に与からなかった未
反応基であるシラノール基(Si-OH)が多く残存して
おり、この未反応基が仕上げ工程の仕上げ拭きで用いる
アルコール性溶媒(例えば、イソプロピルアルコール
等)と反応し、該残存未反応基の存在の程度により、仕
上げ工程後の撥水性ガラスの品質がばらつくことが判明
した。
課題に鑑みてなしたものであって、上記従来の仕上げ工
程における仕上げ拭き後の品質のバラツキの原因を種々
追求した結果、仕上げ工程前の撥水層は、室温〜約35
0℃のキュアリング処理を施すものの、該撥水層中には
ガラス表面や撥水剤成分との反応等に与からなかった未
反応基であるシラノール基(Si-OH)が多く残存して
おり、この未反応基が仕上げ工程の仕上げ拭きで用いる
アルコール性溶媒(例えば、イソプロピルアルコール
等)と反応し、該残存未反応基の存在の程度により、仕
上げ工程後の撥水性ガラスの品質がばらつくことが判明
した。
【0006】本発明は、ガラス表面に形成した撥水層に
おいて、弗素を含有するシラン化合物を被覆し未反応基
を不活性化させた薄膜よりなる撥水性ガラス及びその製
造方法であって、この不活性化により、仕上げ工程でア
ルコール拭きを行っても、撥水性ガラスの品質がばらつ
くことはなく、安定した優れた品質の撥水性ガラスを容
易に得ることが出来るものである。
おいて、弗素を含有するシラン化合物を被覆し未反応基
を不活性化させた薄膜よりなる撥水性ガラス及びその製
造方法であって、この不活性化により、仕上げ工程でア
ルコール拭きを行っても、撥水性ガラスの品質がばらつ
くことはなく、安定した優れた品質の撥水性ガラスを容
易に得ることが出来るものである。
【0007】すなわち、本発明は、ガラス表面に形成し
た撥水層が、弗素を含有するシラン化合物を被覆し未反
応基を不活性化させた薄膜である撥水性ガラスである。
撥水層は、ガラス表面にシロキサン結合によりフルオロ
アルキル基が固定化されてなるものが最適である。
た撥水層が、弗素を含有するシラン化合物を被覆し未反
応基を不活性化させた薄膜である撥水性ガラスである。
撥水層は、ガラス表面にシロキサン結合によりフルオロ
アルキル基が固定化されてなるものが最適である。
【0008】撥水膜は、金属酸化物膜よりなる下地層の
上部に形成されたものが好ましい。金属酸化物よりなる
下地層は、SiO2あるいはTiO2で形成されてなるも
のが好ましい。
上部に形成されたものが好ましい。金属酸化物よりなる
下地層は、SiO2あるいはTiO2で形成されてなるも
のが好ましい。
【0009】また本発明は、フルオロアルキル基を含有
するシラン化合物を加水分解ならびに脱水縮重合させ成
分をガラス表面に塗布して形成した撥水層において、該
撥水層をシリル化剤を溶媒中に含有する処理液にて処理
することにより、撥水層中の未反応基を不活性化させる
ことを特徴とする撥水性ガラスの製造方法に関する。
するシラン化合物を加水分解ならびに脱水縮重合させ成
分をガラス表面に塗布して形成した撥水層において、該
撥水層をシリル化剤を溶媒中に含有する処理液にて処理
することにより、撥水層中の未反応基を不活性化させる
ことを特徴とする撥水性ガラスの製造方法に関する。
【0010】該処理液中のシリル化剤の濃度は、1〜2
0wt%が好ましい。シリル化剤の溶媒は、非アルコール
性のものが好ましい。さらに、ガラス表面を改質した後
に撥水層を形成し、該処理液にて処理することが好まし
い。
0wt%が好ましい。シリル化剤の溶媒は、非アルコール
性のものが好ましい。さらに、ガラス表面を改質した後
に撥水層を形成し、該処理液にて処理することが好まし
い。
【0011】表面改質する方法としては、セリア研磨及
び酸処理が適する。
び酸処理が適する。
【0012】
【発明の実施の形態】ガラス表面に形成した撥水層が、
弗素を含有するシラン化合物を被覆し未反応基を不活性
化させた薄膜よりなる撥水性ガラスは次のようにして得
る。
弗素を含有するシラン化合物を被覆し未反応基を不活性
化させた薄膜よりなる撥水性ガラスは次のようにして得
る。
【0013】撥水層用塗布液を調製する際、フルオロア
ルキル基含有シラン化合物を用い、フルオロアルキル基
含有シラン化合物の加水分解反応を終結した後、撥水層
用塗布液中の含有水分量を調製し、縮重合度を制御した
撥水層用塗布液を調製し、該調製済み撥水層用塗布液を
ガラス基板の表面上に調温調湿するなかで塗布し、室温
〜約350℃以下で1分間乃至60分間の乾燥とキュア
リングを行い、撥水層を形成したのち、ガラスをシリル
化剤を溶媒中に含有する処理液にて処理し、撥水層中の
未反応基を不活性化させる。
ルキル基含有シラン化合物を用い、フルオロアルキル基
含有シラン化合物の加水分解反応を終結した後、撥水層
用塗布液中の含有水分量を調製し、縮重合度を制御した
撥水層用塗布液を調製し、該調製済み撥水層用塗布液を
ガラス基板の表面上に調温調湿するなかで塗布し、室温
〜約350℃以下で1分間乃至60分間の乾燥とキュア
リングを行い、撥水層を形成したのち、ガラスをシリル
化剤を溶媒中に含有する処理液にて処理し、撥水層中の
未反応基を不活性化させる。
【0014】前記ガラス基板としては、建築用窓ガラス
や自動車用窓ガラス等に使用されているフロ−トガラス
等各種無機質の透明性がある板ガラスが好ましく、無色
または着色、あるいは任意ののものでもよい。また、シ
リカなどの薄膜面をもつものや他の機能性膜や別面にも
つものでもよい。形状は特に限定されるものではなく、
曲げ板ガラスはもちろん、各種強化ガラスや強度アップ
ガラスを平板や単板で使用できるとともに、複層ガラス
あるいは合せガラスとしても使用できる。
や自動車用窓ガラス等に使用されているフロ−トガラス
等各種無機質の透明性がある板ガラスが好ましく、無色
または着色、あるいは任意ののものでもよい。また、シ
リカなどの薄膜面をもつものや他の機能性膜や別面にも
つものでもよい。形状は特に限定されるものではなく、
曲げ板ガラスはもちろん、各種強化ガラスや強度アップ
ガラスを平板や単板で使用できるとともに、複層ガラス
あるいは合せガラスとしても使用できる。
【0015】フルオロアルキル基含有シラン化合物とし
ては、フルオロアルキルアルコキシシラン系化合物(以
下、FAS という)等が挙げられる。フルオロアルキルア
ルコキシシラン系化合物としては、例えばCF3CH2CH2Si
(OMe)3 、CF3(CF2)5CH2CH2Si(OMe)3 、CF3(CF2)7CH2CH2
Si(OMe)3 、CF3(CF2)9CH2CH2Si(OMe)3、 CF3(CF2)11CH 2
CH2Si(OMe)3、 CF3(CF2)7CH2CH2SiMe(OMe)2 等が挙げら
れる。
ては、フルオロアルキルアルコキシシラン系化合物(以
下、FAS という)等が挙げられる。フルオロアルキルア
ルコキシシラン系化合物としては、例えばCF3CH2CH2Si
(OMe)3 、CF3(CF2)5CH2CH2Si(OMe)3 、CF3(CF2)7CH2CH2
Si(OMe)3 、CF3(CF2)9CH2CH2Si(OMe)3、 CF3(CF2)11CH 2
CH2Si(OMe)3、 CF3(CF2)7CH2CH2SiMe(OMe)2 等が挙げら
れる。
【0016】なお、フルオロアルキル基含有シラン化合
物として一般的に分類される、フルオロイソシアネート
シラン系化合物もしくはフルオロアルキルハロゲン化シ
ラン系化合物などの、加水分解を必要とせずにガラス表
面のシラノール基と充分に反応してシロキサン結合を形
成できるものでは、加水分解および縮重合反応の制御を
しなくとも撥水膜用塗布液として充分に使用可能であ
る。
物として一般的に分類される、フルオロイソシアネート
シラン系化合物もしくはフルオロアルキルハロゲン化シ
ラン系化合物などの、加水分解を必要とせずにガラス表
面のシラノール基と充分に反応してシロキサン結合を形
成できるものでは、加水分解および縮重合反応の制御を
しなくとも撥水膜用塗布液として充分に使用可能であ
る。
【0017】また、希釈溶媒としては、イソプロピルア
ルコ−ル(以下、i-PAと略す)の他に、メタノ−ル、エ
タノ−ルなど炭素数が5以下の低級アルコ−ル溶媒であ
ってもよく、アルコ−ル以外にエ−テル類やケトン類を
用いることができ、ことにイソプロピルアルコールを主
成分としてなるアルコールがコ−ティング溶液の調製に
おける希釈溶媒として好ましい。
ルコ−ル(以下、i-PAと略す)の他に、メタノ−ル、エ
タノ−ルなど炭素数が5以下の低級アルコ−ル溶媒であ
ってもよく、アルコ−ル以外にエ−テル類やケトン類を
用いることができ、ことにイソプロピルアルコールを主
成分としてなるアルコールがコ−ティング溶液の調製に
おける希釈溶媒として好ましい。
【0018】また、該フルオロアルキル基含有シラン化
合物を加水分解するための酸触媒としては、0.01N 以
上、好ましくは0.1N〜13N 程度の濃度の硝酸以外に、酢
酸などの有機酸、塩酸、硫酸等でもよい。肝心なこと
は、酸触媒からの水分量であって、その水分量は酸触媒
中の酸濃度と、酸触媒自体の量によって決まる。
合物を加水分解するための酸触媒としては、0.01N 以
上、好ましくは0.1N〜13N 程度の濃度の硝酸以外に、酢
酸などの有機酸、塩酸、硫酸等でもよい。肝心なこと
は、酸触媒からの水分量であって、その水分量は酸触媒
中の酸濃度と、酸触媒自体の量によって決まる。
【0019】また、撥水膜用塗布液としては、g表示
で、出発原料量:希釈溶媒量:酸触媒からの水分量=
1:5〜50:0.09〜1.0 の割合で成る組成が好まし
い。すなわち、出発原料としてフルオロアルキル基含有
シラン化合物(以下、FASと略す)、希釈溶媒としてi-P
A、酸触媒として0.1N-HNO3 を用い、撥水膜用塗布液がF
AS :i-PA:0.1N-HNO3 からの水分量=1:5〜50:0.3
(g=表示)、脱水剤がモレキュラ−シ−ブ4A(脱
水時間:2〜24h、浸漬量:5g)、塗布環境が室温で
55%RH以下の湿度の条件下で塗布液を調製し被膜を形成
した。
で、出発原料量:希釈溶媒量:酸触媒からの水分量=
1:5〜50:0.09〜1.0 の割合で成る組成が好まし
い。すなわち、出発原料としてフルオロアルキル基含有
シラン化合物(以下、FASと略す)、希釈溶媒としてi-P
A、酸触媒として0.1N-HNO3 を用い、撥水膜用塗布液がF
AS :i-PA:0.1N-HNO3 からの水分量=1:5〜50:0.3
(g=表示)、脱水剤がモレキュラ−シ−ブ4A(脱
水時間:2〜24h、浸漬量:5g)、塗布環境が室温で
55%RH以下の湿度の条件下で塗布液を調製し被膜を形成
した。
【0020】さらに、撥水膜用塗布液中の含有水分量の
調整については、出発原料としてFAS 、希釈溶媒として
i-PA、酸触媒として0.1N-HNO3 を用い、撥水膜用塗布液
がFAS :i-PA:0.1N-HNO3 からの水分量=1:25:0.3
(g=表示)、脱水剤の種類(モレキュラ−シ−ブ4A
と3A)および量(1g、2.5 g、5g)と脱水時間
(h )後の水分量(ppm )の経時変化を求めた結果、ト
ラバ−ス摺動回数3,500回後の接触角が約95°以上とな
るものは、脱水時間1〜2h以上で水分量が約4000ppm
以下、好ましくは水分量が約3000ppm 以下、より好まし
くは水分量が約2000ppm 以下である。また、脱水剤とし
ては、例えばモレキュラ−シ−ブ、塩化カルシウム、硫
酸マグネシウム、硫酸ナトリウム等である。
調整については、出発原料としてFAS 、希釈溶媒として
i-PA、酸触媒として0.1N-HNO3 を用い、撥水膜用塗布液
がFAS :i-PA:0.1N-HNO3 からの水分量=1:25:0.3
(g=表示)、脱水剤の種類(モレキュラ−シ−ブ4A
と3A)および量(1g、2.5 g、5g)と脱水時間
(h )後の水分量(ppm )の経時変化を求めた結果、ト
ラバ−ス摺動回数3,500回後の接触角が約95°以上とな
るものは、脱水時間1〜2h以上で水分量が約4000ppm
以下、好ましくは水分量が約3000ppm 以下、より好まし
くは水分量が約2000ppm 以下である。また、脱水剤とし
ては、例えばモレキュラ−シ−ブ、塩化カルシウム、硫
酸マグネシウム、硫酸ナトリウム等である。
【0021】なお、撥水膜用塗布液中の含有水分量は、
カ−ルフィッシャ−電量滴定法を用いることによって測
定し求めた。なお、シラノ−ル基の存在は水分量として
測定される。
カ−ルフィッシャ−電量滴定法を用いることによって測
定し求めた。なお、シラノ−ル基の存在は水分量として
測定される。
【0022】さらに、調製済撥水膜用塗布液をガラス基
板の表面上に調温調湿するなかで塗布する。出発原料と
してFAS 、希釈溶媒としてi-PA、酸触媒として0.1N-HNO
3 を用い、撥水膜用塗布液がFAS :i-PA:0.1N-HNO3 か
らの水分量=1:25:0.3 (g=表示)、脱水剤がモレ
キュラ−シ−ブ4A(脱水時間:16h、浸漬量:5 g)
の条件下で塗布液を調製した。塗布環境が室温で15%RH
〜>90%RHの湿度の条件下で塗布液の被膜を形成した。
約140 ℃で約5分間の乾燥とキュアリングを行った後、
摺動回数3,500 回での接触角(°)を求め耐トラバ−ス
性能を評価し、撥水膜用塗布液の被覆時における、雰囲
気湿度(%RH)と耐トラバ−ス性能への影響を調べた。
雰囲気湿度が約80%RH程度でも、トラバ−ス摺動回数3,
500 回後の接触角が80°以上で101 °以下程度のものも
あって、雰囲気湿度が70〜80%RHでも場合によってはよ
いものの、確実には約75%RH程度以下とし、好ましくは
雰囲気湿度が約60%RH程度以下、より好ましくは約60%
RH以下15%RH以上程度、最適には約55%RH以下15%RH以
上程度とする。
板の表面上に調温調湿するなかで塗布する。出発原料と
してFAS 、希釈溶媒としてi-PA、酸触媒として0.1N-HNO
3 を用い、撥水膜用塗布液がFAS :i-PA:0.1N-HNO3 か
らの水分量=1:25:0.3 (g=表示)、脱水剤がモレ
キュラ−シ−ブ4A(脱水時間:16h、浸漬量:5 g)
の条件下で塗布液を調製した。塗布環境が室温で15%RH
〜>90%RHの湿度の条件下で塗布液の被膜を形成した。
約140 ℃で約5分間の乾燥とキュアリングを行った後、
摺動回数3,500 回での接触角(°)を求め耐トラバ−ス
性能を評価し、撥水膜用塗布液の被覆時における、雰囲
気湿度(%RH)と耐トラバ−ス性能への影響を調べた。
雰囲気湿度が約80%RH程度でも、トラバ−ス摺動回数3,
500 回後の接触角が80°以上で101 °以下程度のものも
あって、雰囲気湿度が70〜80%RHでも場合によってはよ
いものの、確実には約75%RH程度以下とし、好ましくは
雰囲気湿度が約60%RH程度以下、より好ましくは約60%
RH以下15%RH以上程度、最適には約55%RH以下15%RH以
上程度とする。
【0023】さらに、ガラス基板の表面状態の適否につ
いて調べた。出発原料としてFAS 、希釈溶媒としてi-P
A、酸触媒として0.1N-HNO3 を用い、撥水膜用塗布液がF
AS :i-PA:0.1N-HNO3 からの水分量=1:25:0.3
(g=表示)、脱水剤がモレキュラ−シ−ブ4A(浸漬
量:5g)、脱水条件が室温で約24時間浸漬後NO.7濾紙
で濾過、塗布環境が室温で45%RHの湿度、合紙による焼
け等のないものとした。撥水膜用塗布液を被覆後、中型
熱風循環炉(板温約140 ℃、昇温5分間、キ−プ5分
間)でキュアリングした条件下で、フロ−トガラスのト
ップ面(水洗浄のみ)とボトム面(セリア研磨と水洗
浄)に成膜処理し、耐光性試験(後述する実施例1を参
照)におけるS-UV照射時間(h)と接触角(°)の関係
を評価し、フロ−トガラスのトップ面とボトム面におけ
るS-UV照射時間への影響を求めた。その結果、S-UV照射
時間約600 時間(h )においてトップ面では約70°であ
るのに対しボトム面では約50°程度であってフロ−トガ
ラスのトップ面とボトム面において明らかに差異があ
り、フロ−トガラスの火造り面であるトップ面に被覆す
ることがよい。
いて調べた。出発原料としてFAS 、希釈溶媒としてi-P
A、酸触媒として0.1N-HNO3 を用い、撥水膜用塗布液がF
AS :i-PA:0.1N-HNO3 からの水分量=1:25:0.3
(g=表示)、脱水剤がモレキュラ−シ−ブ4A(浸漬
量:5g)、脱水条件が室温で約24時間浸漬後NO.7濾紙
で濾過、塗布環境が室温で45%RHの湿度、合紙による焼
け等のないものとした。撥水膜用塗布液を被覆後、中型
熱風循環炉(板温約140 ℃、昇温5分間、キ−プ5分
間)でキュアリングした条件下で、フロ−トガラスのト
ップ面(水洗浄のみ)とボトム面(セリア研磨と水洗
浄)に成膜処理し、耐光性試験(後述する実施例1を参
照)におけるS-UV照射時間(h)と接触角(°)の関係
を評価し、フロ−トガラスのトップ面とボトム面におけ
るS-UV照射時間への影響を求めた。その結果、S-UV照射
時間約600 時間(h )においてトップ面では約70°であ
るのに対しボトム面では約50°程度であってフロ−トガ
ラスのトップ面とボトム面において明らかに差異があ
り、フロ−トガラスの火造り面であるトップ面に被覆す
ることがよい。
【0024】さらに一方、摺動回数3,500 回後での接触
角θ(°)を求めた結果、フロ−トガラスのトップ面で
は接触角が>100 °であり、ボトム面では50〜100 °と
なった。よってフロ−トガラスのトップ面に被覆するこ
とがよい。
角θ(°)を求めた結果、フロ−トガラスのトップ面で
は接触角が>100 °であり、ボトム面では50〜100 °と
なった。よってフロ−トガラスのトップ面に被覆するこ
とがよい。
【0025】なお、トップ面とボトム面についても、合
紙焼けがなく、しかもセリアやアルミナを研磨材とする
ブラシやスポンジによる研磨、さらに水洗浄等を充分行
うことで接触角が>100 °を確保できる。
紙焼けがなく、しかもセリアやアルミナを研磨材とする
ブラシやスポンジによる研磨、さらに水洗浄等を充分行
うことで接触角が>100 °を確保できる。
【0026】またさらに、ガラス基板への撥水層の膜付
け法としては、手塗り、ノズルフロ−コ−ト法、ディッ
ピング法、スプレー法、リバ−スコ−ト法、フレキソ
法、印刷法、フローコート法あるいはスピンコート法、
ならびにそれらの併用等既知の塗布手段を適宜採用し得
るものである。
け法としては、手塗り、ノズルフロ−コ−ト法、ディッ
ピング法、スプレー法、リバ−スコ−ト法、フレキソ
法、印刷法、フローコート法あるいはスピンコート法、
ならびにそれらの併用等既知の塗布手段を適宜採用し得
るものである。
【0027】また、ガラス表面にシロキサン結合により
フルオロアルキル基を固定化するには、前記研磨処理し
たガラス面を、塩酸、硫酸もしくは硝酸等の無機酸ある
いは酢酸、ギ酸もしくは蓚酸等の有機酸をPH4濃度以下
になるよう添加調製した水溶液でなる酸処理液を用い、
該酸処理液の温度が5℃〜70℃以下、処理時間が10
〜600秒の条件下で酸処理することで、研磨処理ガラ
ス表面のナトリウムイオンの抽出やシロキサン結合の切
断により、シラノール基を効率的に生成するようにし、
該シラノール基が後工程の撥水処理において撥水性フル
オロアルキル基の固定化に寄与するものとすることが好
ましい。
フルオロアルキル基を固定化するには、前記研磨処理し
たガラス面を、塩酸、硫酸もしくは硝酸等の無機酸ある
いは酢酸、ギ酸もしくは蓚酸等の有機酸をPH4濃度以下
になるよう添加調製した水溶液でなる酸処理液を用い、
該酸処理液の温度が5℃〜70℃以下、処理時間が10
〜600秒の条件下で酸処理することで、研磨処理ガラ
ス表面のナトリウムイオンの抽出やシロキサン結合の切
断により、シラノール基を効率的に生成するようにし、
該シラノール基が後工程の撥水処理において撥水性フル
オロアルキル基の固定化に寄与するものとすることが好
ましい。
【0028】酸処理の温度を5〜70℃としたのは、5
℃未満の温度では上記シラノール基の生成反応の速度が
大幅に低下し、70℃を越える温度では上記シラノール
基の生成反応の速度が増大するものの、揮発成分の蒸発
による処理液中の酸濃度の低下や水の蒸発による酸濃度
の変動及び酸成分の蒸発による周辺設備の腐食などの不
都合が生じることとなる。
℃未満の温度では上記シラノール基の生成反応の速度が
大幅に低下し、70℃を越える温度では上記シラノール
基の生成反応の速度が増大するものの、揮発成分の蒸発
による処理液中の酸濃度の低下や水の蒸発による酸濃度
の変動及び酸成分の蒸発による周辺設備の腐食などの不
都合が生じることとなる。
【0029】酸処理時間を10〜600秒としたのは、
10秒未満の処理時間ではガラス表面のナトリウムイオ
ンの抽出やシロキサン結合の切断によりシラノール基の
生成を効率的に行うことができず、600秒を越える処
理時間では実際上の量産ラインにおける生産効率が悪く
好ましくない。
10秒未満の処理時間ではガラス表面のナトリウムイオ
ンの抽出やシロキサン結合の切断によりシラノール基の
生成を効率的に行うことができず、600秒を越える処
理時間では実際上の量産ラインにおける生産効率が悪く
好ましくない。
【0030】好ましくは、酸処理液がPH3.5濃度以下
で、該液の温度が10〜60℃、処理時間が15〜42
0秒の条件下で酸処理することよい。また、撥水層の下
地層として、SiO2あるいはTiO2等の金属酸化物層
を形成することは、撥水層の膜強度及び密着性を向上す
るので好ましいが、該金属酸化物としては、SiO2、
TiO2に限定されるものではない。また、各種の添加
物が含有されていても良い。
で、該液の温度が10〜60℃、処理時間が15〜42
0秒の条件下で酸処理することよい。また、撥水層の下
地層として、SiO2あるいはTiO2等の金属酸化物層
を形成することは、撥水層の膜強度及び密着性を向上す
るので好ましいが、該金属酸化物としては、SiO2、
TiO2に限定されるものではない。また、各種の添加
物が含有されていても良い。
【0031】また、撥水層中の未反応基を不活性化する
のに用いるシリル化剤は、キュアリング後の撥水層中に
残存するシラノール基を不活性化することにより、耐光
性やアルコール性溶媒に対する耐薬品性を向上させるた
めのもので、ヘキサメチルジシラザン(CH3)3SiNHSi(C
H3)3やトリメチルクロロシラン(CH3)3SiClなどが用いら
れる。シリル化剤の濃度は、処理液に対し1〜20wt%
が好ましく、この希釈はピリジン等の非アルコール性溶
媒を用いて行い、撥水処理したガラス温度が室温〜50
℃の状態で塗布し、乾燥するのが好ましいが、これに限
定されるものではない。なお、シリル化剤としてトリメ
チルクロロシランを用いた場合の撥水層中のシラノール
基との反応は下記の式で示される。
のに用いるシリル化剤は、キュアリング後の撥水層中に
残存するシラノール基を不活性化することにより、耐光
性やアルコール性溶媒に対する耐薬品性を向上させるた
めのもので、ヘキサメチルジシラザン(CH3)3SiNHSi(C
H3)3やトリメチルクロロシラン(CH3)3SiClなどが用いら
れる。シリル化剤の濃度は、処理液に対し1〜20wt%
が好ましく、この希釈はピリジン等の非アルコール性溶
媒を用いて行い、撥水処理したガラス温度が室温〜50
℃の状態で塗布し、乾燥するのが好ましいが、これに限
定されるものではない。なお、シリル化剤としてトリメ
チルクロロシランを用いた場合の撥水層中のシラノール
基との反応は下記の式で示される。
【0032】
【化1】
【0033】また、シリル化剤の溶媒としては、アルコ
ール性の溶媒を用いるとシリル化剤と反応するので、非
アルコール性溶媒を用いることが好ましい。また、室温
以上350 ℃以下で1分間乃至60分間の乾燥とキュアリン
グを行い成膜することとしたのは、S-UV照射時間(h)
と接触角(°)の関係を評価した結果、いずれもS-UV照
射時間が約600時間(h )においても接触角が約70°程
度以上、70〜80°程度であり、耐光性が良好なものであ
る。したがって乾燥とキュアリングとしては50℃以上35
0 ℃以下で1分間乃至60分間である。好ましくは約80℃
以上300 ℃以下程度で乾燥とキュアリングをするのが好
ましい。
ール性の溶媒を用いるとシリル化剤と反応するので、非
アルコール性溶媒を用いることが好ましい。また、室温
以上350 ℃以下で1分間乃至60分間の乾燥とキュアリン
グを行い成膜することとしたのは、S-UV照射時間(h)
と接触角(°)の関係を評価した結果、いずれもS-UV照
射時間が約600時間(h )においても接触角が約70°程
度以上、70〜80°程度であり、耐光性が良好なものであ
る。したがって乾燥とキュアリングとしては50℃以上35
0 ℃以下で1分間乃至60分間である。好ましくは約80℃
以上300 ℃以下程度で乾燥とキュアリングをするのが好
ましい。
【0034】撥水層中の未反応基を不活性化させること
により、仕上げ工程でアルコール拭きを行っても、撥水
性ガラスの品質がばらつくことなく、安定した優れた品
質の撥水性ガラスを容易に得ることが出来るものであ
る。得られた撥水層は、格段に優れた耐薬品性及び耐光
性能を有する撥水性薄膜であって、高硬度かつ高密着性
であって耐久性や耐摩耗性とを併せ持つ。また、本発明
の製造方法によれば、制御性よく極めて安定し、しかも
高安全で厄介な工程もなく、簡便に効率よく被膜を形成
することができ、より長期的に優れた撥水性能を維持す
ることができ、かつ撥水性能のバラツキ幅を低減するこ
とができ、より確実でかつ安定した品質のものとなる。
により、仕上げ工程でアルコール拭きを行っても、撥水
性ガラスの品質がばらつくことなく、安定した優れた品
質の撥水性ガラスを容易に得ることが出来るものであ
る。得られた撥水層は、格段に優れた耐薬品性及び耐光
性能を有する撥水性薄膜であって、高硬度かつ高密着性
であって耐久性や耐摩耗性とを併せ持つ。また、本発明
の製造方法によれば、制御性よく極めて安定し、しかも
高安全で厄介な工程もなく、簡便に効率よく被膜を形成
することができ、より長期的に優れた撥水性能を維持す
ることができ、かつ撥水性能のバラツキ幅を低減するこ
とができ、より確実でかつ安定した品質のものとなる。
【0035】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。ただし本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。
る。ただし本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。
【0036】実施例1 ガラス:200×300×3.5(厚さ)mmのフロート平板強化
ガ。ラスを用いた。 研磨 :セリア(三井金属工業製’ミレーク(A+
B)’:水=1:100(wt%) なる縣濁液を用い、ブラシポリッシャーでガラス表面を
研磨後、充分に洗浄した。
ガ。ラスを用いた。 研磨 :セリア(三井金属工業製’ミレーク(A+
B)’:水=1:100(wt%) なる縣濁液を用い、ブラシポリッシャーでガラス表面を
研磨後、充分に洗浄した。
【0037】酸処理 :35℃の硫酸水溶液(0.1N)に1
分間ガラスを浸漬後、水洗した。 撥水処理:撥水膜層を形成するための撥水剤溶液組成の
原料として、フルオロアルキルアルコキシシラン〔FAS
:CF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH3)3、東芝シリコ−ン製 〕
と、イソプロピルアルコ−ル〔iPA ;キシダ化学製〕
と、0.1N- 硝酸〔キシダ化学製〕を用い、その配合割合
をFAS:iPA :0.1N-HNO3 =1:25:0.3 (単位:g)と
し、室温で約2時間撹拌し加水分解反応をさせた。
分間ガラスを浸漬後、水洗した。 撥水処理:撥水膜層を形成するための撥水剤溶液組成の
原料として、フルオロアルキルアルコキシシラン〔FAS
:CF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH3)3、東芝シリコ−ン製 〕
と、イソプロピルアルコ−ル〔iPA ;キシダ化学製〕
と、0.1N- 硝酸〔キシダ化学製〕を用い、その配合割合
をFAS:iPA :0.1N-HNO3 =1:25:0.3 (単位:g)と
し、室温で約2時間撹拌し加水分解反応をさせた。
【0038】次いで、該加水分解反応をさせた溶液にモ
レキュラ−シ−ブ4A〔キシダ化学製〕を約5g 添加浸
漬して約16時間放置し縮重合反応させつつ脱水し完了し
た後、濾紙(NO.7)を用いて濾過しモレキュラ−シ−ブ
4Aを分離除去して塗布溶液とした。次に、予めセリア
研磨、酸処理、上水で水洗、蒸留水でリンス処理した上
記ガラス基板のトップ面側表面に、前記塗布溶液を室温
で湿度約55%RH程度の環境において手塗りで塗布した。
続いて、塗布後風冷乾燥してから、約140 ℃程度で約5
分間程度の乾燥とキュアリングをすることで成膜を行
い、F-SiOx膜付きガラスを得た。
レキュラ−シ−ブ4A〔キシダ化学製〕を約5g 添加浸
漬して約16時間放置し縮重合反応させつつ脱水し完了し
た後、濾紙(NO.7)を用いて濾過しモレキュラ−シ−ブ
4Aを分離除去して塗布溶液とした。次に、予めセリア
研磨、酸処理、上水で水洗、蒸留水でリンス処理した上
記ガラス基板のトップ面側表面に、前記塗布溶液を室温
で湿度約55%RH程度の環境において手塗りで塗布した。
続いて、塗布後風冷乾燥してから、約140 ℃程度で約5
分間程度の乾燥とキュアリングをすることで成膜を行
い、F-SiOx膜付きガラスを得た。
【0039】不活性化:キュアリング後、ガラス温度が
室温に戻ってから、トリメチルシリル化液を手塗りにて
ガラス面全体に塗布し、乾燥後余剰な撥水剤成分を拭
き、撥水性ガラスを得た。
室温に戻ってから、トリメチルシリル化液を手塗りにて
ガラス面全体に塗布し、乾燥後余剰な撥水剤成分を拭
き、撥水性ガラスを得た。
【0040】トリメチルシリル化液には、溶媒にピリジ
ン(キシダ化学製)を用い、トリメチルクロロシラン(CH
3)3SiCl(キシダ化学製)の含有量を10%に希釈したもの
を用いた。
ン(キシダ化学製)を用い、トリメチルクロロシラン(CH
3)3SiCl(キシダ化学製)の含有量を10%に希釈したもの
を用いた。
【0041】
【実施例2】ガラスと撥水層の中間に、下地層としてS
iO2膜をゾルゲル法で形成したこと以外は、実施例1
と同じ条件でサンプルを作成した。
iO2膜をゾルゲル法で形成したこと以外は、実施例1
と同じ条件でサンプルを作成した。
【0042】下地膜の形成:テトラエトキシシランをイ
ソプロピルアルコールで希釈した溶液に微量の酸触媒
(0.1Nの塩酸)と水を加えて約3時間撹拌し、酸化物換算
の溶質濃度が約0.5wt%になるようにさらにイソプロピ
ルアルコールを加えてコーティング液を得た。この溶液
の粘度は、約2.5mPa・sであった。次に、ガラス基板の
成膜面を水で洗浄、乾燥後、温度25℃、湿度50%に保持
されたクリーンルーム内において前記コーティング液を
スピンコーティング(回転数は200rpm)して乾燥後、約
620℃で5分間加熱して、SiO2薄膜を得た。得られた
薄膜は、屈折率がn=1.45,膜厚d=100nmであった。
ソプロピルアルコールで希釈した溶液に微量の酸触媒
(0.1Nの塩酸)と水を加えて約3時間撹拌し、酸化物換算
の溶質濃度が約0.5wt%になるようにさらにイソプロピ
ルアルコールを加えてコーティング液を得た。この溶液
の粘度は、約2.5mPa・sであった。次に、ガラス基板の
成膜面を水で洗浄、乾燥後、温度25℃、湿度50%に保持
されたクリーンルーム内において前記コーティング液を
スピンコーティング(回転数は200rpm)して乾燥後、約
620℃で5分間加熱して、SiO2薄膜を得た。得られた
薄膜は、屈折率がn=1.45,膜厚d=100nmであった。
【0043】
【比較例1】不活性化する工程を経ないこと以外は、実
施例1と同条件で行った。
施例1と同条件で行った。
【0044】
【比較例2】不活性化処理液のトリメチルクロロシラン
の含有量が、0.5wt%のものを用いた以外は、実施例1
と同条件で行った。
の含有量が、0.5wt%のものを用いた以外は、実施例1
と同条件で行った。
【0045】
【比較例3】不活性化処理液の希釈溶媒に、イソプロピ
ルアルコールを用いた以外は、実施例1と同条件で行っ
た。
ルアルコールを用いた以外は、実施例1と同条件で行っ
た。
【0046】
測定機器 :協和界面科学製CA-X200型 測定環境 :大気中(約25℃) 水 :純水( 2μl )の水滴 評価 :ガラス面上に上記の水滴を落とし、
該ガラスと水滴のなす角度(°)(すなわち、接触角と呼
ぶ)を測定。 なお、試験前の接触角はθ0 (°)、 各試験後の接触角
はθ(°)で示す。 〔耐磨耗性試験〕 試験機 :トラバ−ス式摺動試験機 試料サイズ :約100mm ×200mm 摩擦布への荷重 :キャンバス布に0.1kg /cm2(JIS L
3102-1206) ストロ−ク :100mm の往復摺動(摺動回数は往復
の回数) 摺動速度 :30往復/分 評価 :摺動回数3500回に対する接触角θ
(°)の測定 なお、過剰の不活性処理液を払拭後のトラバース試験に
ついては、上記と同じトラバース試験機を用いて、払拭
ガラスサンプルにイソプロピルアルコールを含んだ紙タ
オルをセットし20回摺動後、乾燥紙タオルでさらに20回
摺動した後に、上記正規の耐磨耗性試験を実施し、過剰
払拭後の接触角を測定した。 〔耐光性試験〕 測定機器 :スーパーUV(S-UV)耐光促進試験機
〔イワキエレクトリック製、EYE SUPER UV TESTER 、SV
U-W11 型〕。
該ガラスと水滴のなす角度(°)(すなわち、接触角と呼
ぶ)を測定。 なお、試験前の接触角はθ0 (°)、 各試験後の接触角
はθ(°)で示す。 〔耐磨耗性試験〕 試験機 :トラバ−ス式摺動試験機 試料サイズ :約100mm ×200mm 摩擦布への荷重 :キャンバス布に0.1kg /cm2(JIS L
3102-1206) ストロ−ク :100mm の往復摺動(摺動回数は往復
の回数) 摺動速度 :30往復/分 評価 :摺動回数3500回に対する接触角θ
(°)の測定 なお、過剰の不活性処理液を払拭後のトラバース試験に
ついては、上記と同じトラバース試験機を用いて、払拭
ガラスサンプルにイソプロピルアルコールを含んだ紙タ
オルをセットし20回摺動後、乾燥紙タオルでさらに20回
摺動した後に、上記正規の耐磨耗性試験を実施し、過剰
払拭後の接触角を測定した。 〔耐光性試験〕 測定機器 :スーパーUV(S-UV)耐光促進試験機
〔イワキエレクトリック製、EYE SUPER UV TESTER 、SV
U-W11 型〕。
【0047】 条件 :約75〜76mW/cm2 、ランプとサンプ
ル間距離約25mm、パネル温度約50℃、SUV 照射時間約 2
00時間、400時間、600時間。 評価 :各SUV 照射時間に対する接触角θ
(°)を測定。
ル間距離約25mm、パネル温度約50℃、SUV 照射時間約 2
00時間、400時間、600時間。 評価 :各SUV 照射時間に対する接触角θ
(°)を測定。
【0048】
【評価結果】実施例及び比較例における性能評価結果を
表1及び図1に示す。
表1及び図1に示す。
【0049】
【表1】
【0050】払拭後の耐磨耗性試験において、実施例
1、2はいずれも接触角が104〜105°とバラツキがほと
んどなく且つ値も100°以上で良好であるのに対し、比
較例1〜3は、バラツキが7〜10°と大きく好ましい
ものではなかった。
1、2はいずれも接触角が104〜105°とバラツキがほと
んどなく且つ値も100°以上で良好であるのに対し、比
較例1〜3は、バラツキが7〜10°と大きく好ましい
ものではなかった。
【0051】また耐光性試験について、600時間UV照
射後の接触角は、実施例1、2が接触角80°以上と長期
的に撥水性能を維持し耐久性が高いものであった。一
方、比較例は何れも70°前後と低く、初期接触角からの
落ち込みも大きく、長期耐久性に乏しいものであった。
射後の接触角は、実施例1、2が接触角80°以上と長期
的に撥水性能を維持し耐久性が高いものであった。一
方、比較例は何れも70°前後と低く、初期接触角からの
落ち込みも大きく、長期耐久性に乏しいものであった。
【0052】以上のように、本発明の実施を施したもの
は、撥水層中の未反応基が不活性化され、耐光性、耐薬
品性及び耐磨耗性等の品質がばらつかず、優れているの
に対して、比較例のものは、比較例1においては未反応
基が不活性化されていないために、また比較例2、3の
ものは不活性化の効果が認められなかった。
は、撥水層中の未反応基が不活性化され、耐光性、耐薬
品性及び耐磨耗性等の品質がばらつかず、優れているの
に対して、比較例のものは、比較例1においては未反応
基が不活性化されていないために、また比較例2、3の
ものは不活性化の効果が認められなかった。
【0053】なお、市販品の撥水性サンプルの耐光性試
験を行った結果、S-UV照射時間約200時間程度で接触角
θが約65°程度と極めて短寿命であると言えるものであ
った。
験を行った結果、S-UV照射時間約200時間程度で接触角
θが約65°程度と極めて短寿命であると言えるものであ
った。
【0054】
【発明の効果】撥水層中の未反応基を不活性化させるこ
とにより、仕上げ工程でアルコール拭きを行っても、撥
水性ガラスの品質がばらつくことなく、安定した優れた
品質の撥水性ガラスを容易に得ることが出来るものであ
る。得られた撥水層は、格段に優れた耐薬品性及び耐光
性能を有する撥水性薄膜であって、高硬度かつ高密着性
であって耐久性や耐摩耗性とを併せ持つ。また、本発明
の製造方法によれば、制御性よく極めて安定し、しかも
高安全で厄介な工程もなく、簡便に効率よく被膜を形成
することができ、より長期的に優れた撥水性能を維持す
ることができ、かつ撥水性能のバラツキ幅を低減するこ
とができ、より確実でかつ安定した品質のものとなる。
とにより、仕上げ工程でアルコール拭きを行っても、撥
水性ガラスの品質がばらつくことなく、安定した優れた
品質の撥水性ガラスを容易に得ることが出来るものであ
る。得られた撥水層は、格段に優れた耐薬品性及び耐光
性能を有する撥水性薄膜であって、高硬度かつ高密着性
であって耐久性や耐摩耗性とを併せ持つ。また、本発明
の製造方法によれば、制御性よく極めて安定し、しかも
高安全で厄介な工程もなく、簡便に効率よく被膜を形成
することができ、より長期的に優れた撥水性能を維持す
ることができ、かつ撥水性能のバラツキ幅を低減するこ
とができ、より確実でかつ安定した品質のものとなる。
【0055】さらに、建築用はもとより自動車用窓材に
格段に安定した品質で供給でき、船舶や航空機の窓材、
種々のミラ−等各種ガラス物品等、種々の分野に広く採
用できる利用価値の高い、有用な撥水性ガラス及びその
製法を提供することができる。
格段に安定した品質で供給でき、船舶や航空機の窓材、
種々のミラ−等各種ガラス物品等、種々の分野に広く採
用できる利用価値の高い、有用な撥水性ガラス及びその
製法を提供することができる。
【図1】S-UV照射時間と接触角との関係
Claims (6)
- 【請求項1】 ガラス表面に形成した撥水層が、弗素を
含有するシラン化合物を被覆し未反応基を不活性化させ
た薄膜であることを特徴とする撥水性ガラス。 - 【請求項2】 撥水層は、ガラス表面にシロキサン結合
によりフルオロアルキル基が固定化されている請求項1
記載の撥水性ガラス。 - 【請求項3】 撥水層は、金属酸化物膜よりなる下地層
の上部に形成されたものである請求項1記載の撥水性ガ
ラス。 - 【請求項4】 ガラス基板の表面上にフルオロアルキル
基を含有するシラン化合物を加水分解ならびに脱水縮重
合させた塗布液を被覆し形成した撥水層において、該撥
水層をシリル化剤を溶媒中に含有する処理液にて処理す
ることにより、撥水層中の未反応基を不活性化させるこ
とを特徴とする撥水性ガラスの製造方法。 - 【請求項5】 該処理液中のシリル化剤の濃度は、1〜
20wt%である請求項4記載の撥水性ガラスの製造方
法。 - 【請求項6】 表面を改質したガラスに撥水層を形成し
たのちに、該処理液にて処理する請求項4記載の撥水性
ガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17251297A JPH1111984A (ja) | 1997-06-27 | 1997-06-27 | 撥水性ガラス及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17251297A JPH1111984A (ja) | 1997-06-27 | 1997-06-27 | 撥水性ガラス及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1111984A true JPH1111984A (ja) | 1999-01-19 |
Family
ID=15943340
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17251297A Pending JPH1111984A (ja) | 1997-06-27 | 1997-06-27 | 撥水性ガラス及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1111984A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006306631A (ja) * | 2005-04-26 | 2006-11-09 | Central Glass Co Ltd | 機能性物品の製法及びプライマー層の再活性化方法 |
CN100410687C (zh) * | 2006-07-14 | 2008-08-13 | 温州绿宝视光科技有限公司 | 眼镜镜片超硬防水药制备方法 |
JP2019185050A (ja) * | 2019-05-23 | 2019-10-24 | キヤノン株式会社 | 光学部材及び光学部材の製造方法 |
WO2019221128A1 (ja) * | 2018-05-18 | 2019-11-21 | Agc株式会社 | ガラス基板および光学部品 |
-
1997
- 1997-06-27 JP JP17251297A patent/JPH1111984A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006306631A (ja) * | 2005-04-26 | 2006-11-09 | Central Glass Co Ltd | 機能性物品の製法及びプライマー層の再活性化方法 |
CN100410687C (zh) * | 2006-07-14 | 2008-08-13 | 温州绿宝视光科技有限公司 | 眼镜镜片超硬防水药制备方法 |
WO2019221128A1 (ja) * | 2018-05-18 | 2019-11-21 | Agc株式会社 | ガラス基板および光学部品 |
US10752543B2 (en) | 2018-05-18 | 2020-08-25 | AGC Inc. | Glass substrate and optical component |
JP2019185050A (ja) * | 2019-05-23 | 2019-10-24 | キヤノン株式会社 | 光学部材及び光学部材の製造方法 |
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