JPH10310796A - カビ取り剤組成物 - Google Patents
カビ取り剤組成物Info
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- JPH10310796A JPH10310796A JP9139228A JP13922897A JPH10310796A JP H10310796 A JPH10310796 A JP H10310796A JP 9139228 A JP9139228 A JP 9139228A JP 13922897 A JP13922897 A JP 13922897A JP H10310796 A JPH10310796 A JP H10310796A
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- Japan
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- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 強力なカビ除去力を示し、しかも刺激臭のな
いカビ取り剤組成物を提供すること、更にはスプレー容
器等で壁面に噴霧したときに、非常に優れたカビの除去
性能を示し、しかも刺激臭のないカビ取り剤組成物を提
供すること。 【解決手段】 (A)ペルオキシ化合物、(B)金属錯
体と、(C)アルカリ性物質〔場合により更に(D)界
面活性剤〕を含有し、しかも該金属錯体が下記一般式
(1)で表わされる組成物。 [LnMmDp]ZEq (1) [式中、MはII〜IV価の遷移金属。n及びmは1又は2
の整数。Dは配位種または架橋種。pは0〜6の整数。
Eは対イオンで、錯体の電荷zに依存する。qはz/
(Eの電荷)。Lは、特定シッフベース構造を有するリ
ガンド。]
いカビ取り剤組成物を提供すること、更にはスプレー容
器等で壁面に噴霧したときに、非常に優れたカビの除去
性能を示し、しかも刺激臭のないカビ取り剤組成物を提
供すること。 【解決手段】 (A)ペルオキシ化合物、(B)金属錯
体と、(C)アルカリ性物質〔場合により更に(D)界
面活性剤〕を含有し、しかも該金属錯体が下記一般式
(1)で表わされる組成物。 [LnMmDp]ZEq (1) [式中、MはII〜IV価の遷移金属。n及びmは1又は2
の整数。Dは配位種または架橋種。pは0〜6の整数。
Eは対イオンで、錯体の電荷zに依存する。qはz/
(Eの電荷)。Lは、特定シッフベース構造を有するリ
ガンド。]
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、使用時に有害なガ
スの発生がなく、しかも刺激臭のない、更には壁面にお
ける付着滞留性の良好な、カビ取り用として好適な酸素
系のカビ取り剤組成物に関する。
スの発生がなく、しかも刺激臭のない、更には壁面にお
ける付着滞留性の良好な、カビ取り用として好適な酸素
系のカビ取り剤組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】住居の中の浴室、浴槽、トイレ、流し台
等の特に水を頻繁に使用する箇所の汚れは、カビに起因
する有機物や不溶性の無機物によるものが多い。そし
て、これらの汚れを、界面活性剤を主成分とする通常の
洗浄剤により除去することは困難である。そこで、従来
から、これらのカビなどによる汚れを除去するには塩素
系又は酸素系漂白剤を主成分とする組成物をカビ取り剤
として用い、その組成物が有する漂白効果によりカビの
色を目立たなくするという方法が採られてきた。
等の特に水を頻繁に使用する箇所の汚れは、カビに起因
する有機物や不溶性の無機物によるものが多い。そし
て、これらの汚れを、界面活性剤を主成分とする通常の
洗浄剤により除去することは困難である。そこで、従来
から、これらのカビなどによる汚れを除去するには塩素
系又は酸素系漂白剤を主成分とする組成物をカビ取り剤
として用い、その組成物が有する漂白効果によりカビの
色を目立たなくするという方法が採られてきた。
【0003】しかし、次亜塩素酸ナトリウムのような塩
素系漂白剤を主成分とするカビ取り剤は、カビ色素の漂
白力とカビの除去性能の点では優れているものの、目や
皮膚を痛める危険性が大きいので、使用する際には十分
に注意すると共に換気された状態で行うことに留意しな
ければならず、時として誤って酸性の洗浄剤と併用した
場合には、有害な塩素ガスを発生し、使用者が危険にさ
れされる等の問題点を有している。
素系漂白剤を主成分とするカビ取り剤は、カビ色素の漂
白力とカビの除去性能の点では優れているものの、目や
皮膚を痛める危険性が大きいので、使用する際には十分
に注意すると共に換気された状態で行うことに留意しな
ければならず、時として誤って酸性の洗浄剤と併用した
場合には、有害な塩素ガスを発生し、使用者が危険にさ
れされる等の問題点を有している。
【0004】一方、過酸化水素に代表される酸素系漂白
剤を主成分とするカビ取り剤では、使用に際し塩素ガス
が発生するという取り扱い上の危険性はないが、過酸化
水素を単独で用いる場合には十分な漂白効果によるカビ
色素の退色効果を得ることができないことが分かった。
そのために有機過酸系漂白活性化剤などの各種の漂白活
性化剤を併用することが提案されている(例えば、特開
平2−225600号公報、特開平2−196896号
公報、特開昭62−4794号公報)。
剤を主成分とするカビ取り剤では、使用に際し塩素ガス
が発生するという取り扱い上の危険性はないが、過酸化
水素を単独で用いる場合には十分な漂白効果によるカビ
色素の退色効果を得ることができないことが分かった。
そのために有機過酸系漂白活性化剤などの各種の漂白活
性化剤を併用することが提案されている(例えば、特開
平2−225600号公報、特開平2−196896号
公報、特開昭62−4794号公報)。
【0005】確かに、これら有機過酸系漂白活性化剤を
併用すると、カビ色素に対する漂白効果を若干向上させ
ることができるが、カビ取り剤の本来の目的であるカビ
本来の除去という点に関しては依然不十分であるため
に、しばらくすると再びカビ汚れが付着しやすいという
欠点があり、特にカビ取り剤組成物をスプレー容器等で
壁面に噴霧する場合、付着滞留性に劣ることからカビ取
り除去効果が劣化してしまうという欠点がある。
併用すると、カビ色素に対する漂白効果を若干向上させ
ることができるが、カビ取り剤の本来の目的であるカビ
本来の除去という点に関しては依然不十分であるため
に、しばらくすると再びカビ汚れが付着しやすいという
欠点があり、特にカビ取り剤組成物をスプレー容器等で
壁面に噴霧する場合、付着滞留性に劣ることからカビ取
り除去効果が劣化してしまうという欠点がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は上記
従来技術の実情に鑑みてなされたものであって、刺激臭
が無く、カビ本来の除去に適した組成物を提供するこ
と、更にスプレー容器等で壁面に組成物を噴霧したとき
に、非常に優れたカビの除去性能を示す組成物を提供す
ることを、その目的とする。
従来技術の実情に鑑みてなされたものであって、刺激臭
が無く、カビ本来の除去に適した組成物を提供するこ
と、更にスプレー容器等で壁面に組成物を噴霧したとき
に、非常に優れたカビの除去性能を示す組成物を提供す
ることを、その目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、強力なカ
ビ除去力を示し、しかも刺激臭のない組成物を開発する
ために、更にはスプレー容器等で壁面にカビ取り剤組成
物を噴霧したときに、強力なカビ除去力を示し、しかも
刺激臭のない組成物を開発するために、鋭意研究を重ね
た結果、ペルオキシ化合物と、特定の金属錯体と、アル
カリ性物質とを組み合わせることによって、特に壁面に
噴霧する場合には、更に界面活性剤を組み合わせること
によって、前記目的を達成し得ることを見出し、この知
見に基づいて本発明を完成するに至った。
ビ除去力を示し、しかも刺激臭のない組成物を開発する
ために、更にはスプレー容器等で壁面にカビ取り剤組成
物を噴霧したときに、強力なカビ除去力を示し、しかも
刺激臭のない組成物を開発するために、鋭意研究を重ね
た結果、ペルオキシ化合物と、特定の金属錯体と、アル
カリ性物質とを組み合わせることによって、特に壁面に
噴霧する場合には、更に界面活性剤を組み合わせること
によって、前記目的を達成し得ることを見出し、この知
見に基づいて本発明を完成するに至った。
【0008】即ち、本発明によれば、第一に、(A)ペ
ルオキシ化合物と、(B)金属錯体と、(C)アルカリ
性物質とからなるカビ取り剤組成物において、該金属錯
体がシッフベース構造を有するリガンドを含む下記一般
式(1)で表される化合物であることを特徴とするカビ
取り剤組成物が提供される。
ルオキシ化合物と、(B)金属錯体と、(C)アルカリ
性物質とからなるカビ取り剤組成物において、該金属錯
体がシッフベース構造を有するリガンドを含む下記一般
式(1)で表される化合物であることを特徴とするカビ
取り剤組成物が提供される。
【化1】 [式中、MはV、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、C
u、Zn、Mo、Ru、Rh、Pd、W、Reより選ば
れるII〜IV価の酸化状態の遷移金属、又はその混合物で
ある。n及びmは1又は2の整数である。Dは配位種又
は架橋種を表す。pは0〜6の整数である。Eは対イオ
ンであって、その種類は正、0若しくは負であり得る錯
体の電荷zに依存するものである。qはz/(Eの電
荷)である。Lはシッフベース構造を有するリガンドを
表し、その構造は下記一般式(2)又は(3)で表され
る。
u、Zn、Mo、Ru、Rh、Pd、W、Reより選ば
れるII〜IV価の酸化状態の遷移金属、又はその混合物で
ある。n及びmは1又は2の整数である。Dは配位種又
は架橋種を表す。pは0〜6の整数である。Eは対イオ
ンであって、その種類は正、0若しくは負であり得る錯
体の電荷zに依存するものである。qはz/(Eの電
荷)である。Lはシッフベース構造を有するリガンドを
表し、その構造は下記一般式(2)又は(3)で表され
る。
【化2】
【化3】 (式中、Rは水素原子、場合によっては任意に置換され
たアルキル基又はアリール基であり、Yは場合によって
は任意に置換されたメチレン鎖で構成される架橋種であ
り、Xは水素原子、場合によっては置換されたアルキル
基、アリール基、場合によって置換されたアルコキシ
基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、ピリジル基、
四級アンモニウム基、ピリジニウム基、スルホン酸基、
チエニル基、カルボン酸基、又は水酸基を表わす。)] 第二に、更に(D)界面活性剤を含有することを特徴と
する上記第一に記載したカビ取り剤組成物が提供され
る。
たアルキル基又はアリール基であり、Yは場合によって
は任意に置換されたメチレン鎖で構成される架橋種であ
り、Xは水素原子、場合によっては置換されたアルキル
基、アリール基、場合によって置換されたアルコキシ
基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、ピリジル基、
四級アンモニウム基、ピリジニウム基、スルホン酸基、
チエニル基、カルボン酸基、又は水酸基を表わす。)] 第二に、更に(D)界面活性剤を含有することを特徴と
する上記第一に記載したカビ取り剤組成物が提供され
る。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明のカビ取り剤組成物は、
(A)ペルオキシ化合物と、(B)特定のシッフベース
構造を有するリガンドを含む金属錯体と、(C)アルカ
リ性物質とを含有することを特徴とする。
(A)ペルオキシ化合物と、(B)特定のシッフベース
構造を有するリガンドを含む金属錯体と、(C)アルカ
リ性物質とを含有することを特徴とする。
【0010】本発明において、(A)成分として用いる
ペルオキシ化合物としては、過酸化水素、過酸化水素を
遊離する化合物、系中で過酸化水素を発生する化合物、
ペルオキシ酸及びその塩、ペルオキシ酸前駆体である物
質、並びにこれらの混合物が挙げられる。
ペルオキシ化合物としては、過酸化水素、過酸化水素を
遊離する化合物、系中で過酸化水素を発生する化合物、
ペルオキシ酸及びその塩、ペルオキシ酸前駆体である物
質、並びにこれらの混合物が挙げられる。
【0011】過酸化水素を遊離したり、発生する化合物
としては、アルカリ金属過酸化物、過酸化尿素のような
有機過酸化物、アルカリ金属過ホウ酸塩、過炭酸塩、過
リン酸塩及び過硫酸塩などの無機過酸化物が挙げられ
る。これらの化合物を2種以上混合してもよい。これら
の中でも特に好ましいのは過酸化水素、過炭酸ナトリウ
ム、過ホウ酸ナトリウム及び過硫酸カリウムである。
としては、アルカリ金属過酸化物、過酸化尿素のような
有機過酸化物、アルカリ金属過ホウ酸塩、過炭酸塩、過
リン酸塩及び過硫酸塩などの無機過酸化物が挙げられ
る。これらの化合物を2種以上混合してもよい。これら
の中でも特に好ましいのは過酸化水素、過炭酸ナトリウ
ム、過ホウ酸ナトリウム及び過硫酸カリウムである。
【0012】これらの化合物は、単独で又はペルオキシ
酸前駆体と組み合わせて使用してもよい。これらのペル
オキシ酸前駆体は、過酸化水素及び過酸化水素を遊離す
る化合物と共に用いられ、浴中で有機過酸を生成するも
のが挙げられる。具体的なペルオキシ酸前駆体には、ア
シルフェノールスルホネート、アシルアルキルフェノー
ルスルホネート、アシルフェノールカルボキシレート、
アシル化クエン酸エステル、アシルアルキルフェノール
カルボキシレート、芳香族二価カルボン酸と四級化アミ
ンを有するアルコールとのエステル等のエステル類,ナ
トリウム−4ベンゾイルオキシベンゼンスルホネート、
ナトリウム−1−メチル−2ベンゾイルオキシベンゼン
−4−スルホネート、ナトリウムノナノイルオキシベン
ゼンカルボキシレート、ナトリウムデカノイルオキシベ
ンゼンカルボキシレート、アセチルトリエチルシトレー
ト、2−(4−メトキシカルボニルベンゾイルオキシ)
−N,N,N−トリメチルエタンアミニウムメトサルフ
ェート等が挙げられる。
酸前駆体と組み合わせて使用してもよい。これらのペル
オキシ酸前駆体は、過酸化水素及び過酸化水素を遊離す
る化合物と共に用いられ、浴中で有機過酸を生成するも
のが挙げられる。具体的なペルオキシ酸前駆体には、ア
シルフェノールスルホネート、アシルアルキルフェノー
ルスルホネート、アシルフェノールカルボキシレート、
アシル化クエン酸エステル、アシルアルキルフェノール
カルボキシレート、芳香族二価カルボン酸と四級化アミ
ンを有するアルコールとのエステル等のエステル類,ナ
トリウム−4ベンゾイルオキシベンゼンスルホネート、
ナトリウム−1−メチル−2ベンゾイルオキシベンゼン
−4−スルホネート、ナトリウムノナノイルオキシベン
ゼンカルボキシレート、ナトリウムデカノイルオキシベ
ンゼンカルボキシレート、アセチルトリエチルシトレー
ト、2−(4−メトキシカルボニルベンゾイルオキシ)
−N,N,N−トリメチルエタンアミニウムメトサルフ
ェート等が挙げられる。
【0013】また、アシルアミド類としては、N,N,
N’,N’−テトラアセチルエチレンジアミン、第4級
アンモニウム置換ペルオキシ酸前駆体としては、N,
N,N−トリメチルアンモニウムトルイルオキシベンゼ
ンスルホネート、2−(N,N,N−トリメチルアンモ
ニウム)エチル−4−スルホフェニルカーボネート等が
挙げられる。
N’,N’−テトラアセチルエチレンジアミン、第4級
アンモニウム置換ペルオキシ酸前駆体としては、N,
N,N−トリメチルアンモニウムトルイルオキシベンゼ
ンスルホネート、2−(N,N,N−トリメチルアンモ
ニウム)エチル−4−スルホフェニルカーボネート等が
挙げられる。
【0014】これらペルオキシ化合物の含有量は特に限
定されないが、カビ取り剤組成物浴中において、1〜3
0重量%、好ましくは5〜20重量%である。この範囲
を超えて用いても、量を多く用いたことによる効果は得
られず、経済的でなく、逆にこの範囲未満の場合にはカ
ビ取りの効果を十分に発揮できないこととなる。
定されないが、カビ取り剤組成物浴中において、1〜3
0重量%、好ましくは5〜20重量%である。この範囲
を超えて用いても、量を多く用いたことによる効果は得
られず、経済的でなく、逆にこの範囲未満の場合にはカ
ビ取りの効果を十分に発揮できないこととなる。
【0015】本発明において、(B)成分として用いる
金属錯体としては、特定のシッフベース構造を有するリ
ガンドを含むものが用いられる。この金属錯体は下記一
般式(1)で表される。
金属錯体としては、特定のシッフベース構造を有するリ
ガンドを含むものが用いられる。この金属錯体は下記一
般式(1)で表される。
【化1】 [式中、MはV、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、C
u、Zn、Mo、Ru、Rh、Pd、W、Reより選ば
れるII〜IV価の酸化状態の遷移金属、又はその混合物で
ある。n及びmは1又は2の整数である。Dは配位種又
は架橋種を表す。pは0〜6の整数である。Eは対イオ
ンであって、正、0若しくは負であり得る錯体の電荷z
に依存するものである。qはz/(Eの電荷)である。
Lは特定のシッフベース構造を有するリガンドであ
る。]
u、Zn、Mo、Ru、Rh、Pd、W、Reより選ば
れるII〜IV価の酸化状態の遷移金属、又はその混合物で
ある。n及びmは1又は2の整数である。Dは配位種又
は架橋種を表す。pは0〜6の整数である。Eは対イオ
ンであって、正、0若しくは負であり得る錯体の電荷z
に依存するものである。qはz/(Eの電荷)である。
Lは特定のシッフベース構造を有するリガンドであ
る。]
【0016】特定のシッフベース構造を有するリガンド
は、下記一般式(2)又は(3)で表される。
は、下記一般式(2)又は(3)で表される。
【化2】
【化3】 (式中、Rは水素原子、場合によっては任意に置換され
たアルキル基又はアリール基であり、Yは場合によって
は任意に置換されたメチレン鎖で構成される架橋種であ
り、Xは水素原子、場合によっては置換されたアルキル
基、アリール基、場合によって置換されたアルコキシ
基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、ピリジル基、
四級アンモニウム基、ピリジニウム基、スルホン酸基、
チエニル基、カルボン酸基、又は水酸基を表す。)
たアルキル基又はアリール基であり、Yは場合によって
は任意に置換されたメチレン鎖で構成される架橋種であ
り、Xは水素原子、場合によっては置換されたアルキル
基、アリール基、場合によって置換されたアルコキシ
基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、ピリジル基、
四級アンモニウム基、ピリジニウム基、スルホン酸基、
チエニル基、カルボン酸基、又は水酸基を表す。)
【0017】更に詳しくは、金属錯体の中心金属はV、
Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Mo、R
u、Rh、Pd、W、Reをベースとするものであり、
下記一般式(1)で表される。
Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Mo、R
u、Rh、Pd、W、Reをベースとするものであり、
下記一般式(1)で表される。
【化1】 [式中、Mは上記金属において、II、III、IV価の酸化
状態の金属、又はその混合物である。Dは配位種又は架
橋種であって、例えばアセチルアセトナト基、N
(R2)3基(R2は水素原子又は置換若しくは未置換の
アルキル基又はアリール基)、芳香族窒素化合物、フェ
ノール性水酸基を有する化合物、H2O、OH-、O2-、
S2-、>S=O、N3-、HOO-、O2 2-、O2 -、C
l-、SCN-、シュウ酸基、R1COO-基(R1は水素
原子又は置換若しくは未置換のアルキル基又はアリール
基)、又はこれらの組み合わせを示す。pは0〜6、好
ましくは2〜4の整数を示す。Eは錯体の電荷zに基づ
く性質の対イオンを示す。zは錯体の電荷であり、正の
整数、0又は負の整数を示し、zが正の時はEはアニオ
ンであり、例えばCl-、Br-、I-、NO3 -、ClO4
-、NCS-、PF6 -、RSO4 -、OAc-、CF3S
O3 -、RSO3 -等であり、zが負の時はEはカチオンで
あり、例えばアルカリ金属、アルカリ土類金属又はアン
モニウムカチオン等を示す。qはz/(Eの電荷)であ
る。Lはシッフベース構造を有するリガンドである。]
状態の金属、又はその混合物である。Dは配位種又は架
橋種であって、例えばアセチルアセトナト基、N
(R2)3基(R2は水素原子又は置換若しくは未置換の
アルキル基又はアリール基)、芳香族窒素化合物、フェ
ノール性水酸基を有する化合物、H2O、OH-、O2-、
S2-、>S=O、N3-、HOO-、O2 2-、O2 -、C
l-、SCN-、シュウ酸基、R1COO-基(R1は水素
原子又は置換若しくは未置換のアルキル基又はアリール
基)、又はこれらの組み合わせを示す。pは0〜6、好
ましくは2〜4の整数を示す。Eは錯体の電荷zに基づ
く性質の対イオンを示す。zは錯体の電荷であり、正の
整数、0又は負の整数を示し、zが正の時はEはアニオ
ンであり、例えばCl-、Br-、I-、NO3 -、ClO4
-、NCS-、PF6 -、RSO4 -、OAc-、CF3S
O3 -、RSO3 -等であり、zが負の時はEはカチオンで
あり、例えばアルカリ金属、アルカリ土類金属又はアン
モニウムカチオン等を示す。qはz/(Eの電荷)であ
る。Lはシッフベース構造を有するリガンドである。]
【0018】本発明のシッフベース構造を有するリガン
ドは、次の一般式(2)又は(3)で表される。
ドは、次の一般式(2)又は(3)で表される。
【化2】
【化3】 (式中、Rは水素原子、場合によっては任意に置換され
たアルキル基又はアリール基であり、Yは場合によって
は任意に置換されたメチレン鎖で構成される架橋種であ
り、Xは水素原子、場合によっては置換されたアルキル
基、アリール基、場合によって置換されたアルコキシ
基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、ピリジル基、
四級アンモニウム基、ピリジニウム基、スルホン酸基、
チエニル基、カルボン酸基、又は水酸基を表す。水酸基
は金属に配位するために解離していてもよく、また、シ
ッフべースのC=N結合を水素還元してもよい。)
たアルキル基又はアリール基であり、Yは場合によって
は任意に置換されたメチレン鎖で構成される架橋種であ
り、Xは水素原子、場合によっては置換されたアルキル
基、アリール基、場合によって置換されたアルコキシ
基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、ピリジル基、
四級アンモニウム基、ピリジニウム基、スルホン酸基、
チエニル基、カルボン酸基、又は水酸基を表す。水酸基
は金属に配位するために解離していてもよく、また、シ
ッフべースのC=N結合を水素還元してもよい。)
【0019】このリガンドの最も簡単な形態は次の通り
である。
である。
【化4】
【化5】
【化6】
【0020】これらのリガンドを有する金属錯体は、予
め形成されていても、カビ取り剤組成物浴中で形成され
てもよい。また、これらリガンドを有する金属錯体は単
核でも多核でもよい。リガンドの種類及び金属の酸化状
態で、2核又は多核の金属錯体を形成し得る。該錯体中
で配位種及び/又は架橋種が金属中心間の架橋を形成し
ている。
め形成されていても、カビ取り剤組成物浴中で形成され
てもよい。また、これらリガンドを有する金属錯体は単
核でも多核でもよい。リガンドの種類及び金属の酸化状
態で、2核又は多核の金属錯体を形成し得る。該錯体中
で配位種及び/又は架橋種が金属中心間の架橋を形成し
ている。
【0021】このシッフベース構造を有するリガンドを
有する金属錯体の最も代表的な錯体としては、Mn(S
ALEN)(CH3COO-)、Mn(SALPN)(C
l-)、Mn(SALEN)−O−Mn(SALEN)、
Fe(SALEN)(Cl)、Fe(SALEN)−O−
Fe(SALEN)、Cu(SALEN)、Co(SALE
N)、Cu(SALPN)等を挙げることができる。しか
しながら、金属錯体の金属と配位子の数多くの組み合わ
せが考えられるので、これらの例示された金属錯体に限
定されるものではない。
有する金属錯体の最も代表的な錯体としては、Mn(S
ALEN)(CH3COO-)、Mn(SALPN)(C
l-)、Mn(SALEN)−O−Mn(SALEN)、
Fe(SALEN)(Cl)、Fe(SALEN)−O−
Fe(SALEN)、Cu(SALEN)、Co(SALE
N)、Cu(SALPN)等を挙げることができる。しか
しながら、金属錯体の金属と配位子の数多くの組み合わ
せが考えられるので、これらの例示された金属錯体に限
定されるものではない。
【0022】これら金属錯体の含有量は特に限定されな
いが、カビ取り剤組成物浴中において、0.01〜10
00ppm、好ましくは1〜500ppmである。
いが、カビ取り剤組成物浴中において、0.01〜10
00ppm、好ましくは1〜500ppmである。
【0023】本発明では、(C)成分としてアルカリ性
物質が用いられる。アルカリ性物質はカビ取り剤組成物
をアルカリ性に保持する作用をする。本発明のカビ取り
剤組成物のpHは特別な範囲に限定されるものではない
が、7〜12、好ましくは8〜11に調整されることが
好ましい。アルカリ性物質としては、アルカリ金属やア
ンモニウムの水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩等が挙げら
れる。これらは水に溶解してアルカリ性を呈するもので
あればよい。これらの中で取り扱いが便利で、pH調整
が簡単であるという点からは炭酸ナトリウムまたは炭酸
カリウムが好ましい。中でも特に好ましいのは炭酸カリ
ウムである。
物質が用いられる。アルカリ性物質はカビ取り剤組成物
をアルカリ性に保持する作用をする。本発明のカビ取り
剤組成物のpHは特別な範囲に限定されるものではない
が、7〜12、好ましくは8〜11に調整されることが
好ましい。アルカリ性物質としては、アルカリ金属やア
ンモニウムの水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩等が挙げら
れる。これらは水に溶解してアルカリ性を呈するもので
あればよい。これらの中で取り扱いが便利で、pH調整
が簡単であるという点からは炭酸ナトリウムまたは炭酸
カリウムが好ましい。中でも特に好ましいのは炭酸カリ
ウムである。
【0024】これらアルカリ性物質の含有量は特に限定
されないが、カビ取り剤組成物浴中において、0.1〜
20重量%、好ましくは1〜10重量%である。
されないが、カビ取り剤組成物浴中において、0.1〜
20重量%、好ましくは1〜10重量%である。
【0025】本発明のカビ取り剤組成物には、更に界面
活性剤を配合すると、壁面における付着滞留性が向上す
るので、非常に好ましい。即ち、スプレー容器等で壁面
にカビ取り剤組成物を噴霧したときに、該組成物中に界
面活性剤が含まれていると、壁面における付着滞留性が
向上し、強力なカビ除去力を発揮し得るものとなる。
活性剤を配合すると、壁面における付着滞留性が向上す
るので、非常に好ましい。即ち、スプレー容器等で壁面
にカビ取り剤組成物を噴霧したときに、該組成物中に界
面活性剤が含まれていると、壁面における付着滞留性が
向上し、強力なカビ除去力を発揮し得るものとなる。
【0026】この場合、(D)成分として用いる界面活
性剤は、一般に使用される界面活性剤を用いることが出
来る。この界面活性剤は、例えばアルキル硫酸塩、アル
キルベンゼンスルホン酸塩、ポリオキシエチレンアルキ
ルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニ
ルエーテル硫酸塩、α−スルホ脂肪酸アルコールエステ
ル塩、スルホコハク酸モノエステル塩等の陰イオン性界
面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ソル
ビタン脂肪酸エステル、アルキルグリコシド、アルキル
グリコシド脂肪酸エステル、等の非イオン性界面活性
剤、長鎖モノ、ジアルキル四級アンモニウム塩、アミン
オキシド等の陽イオン性界面活性剤、カルボシキベタイ
ン、スルホベタイン等の両性界面活性剤等が挙げられ
る。
性剤は、一般に使用される界面活性剤を用いることが出
来る。この界面活性剤は、例えばアルキル硫酸塩、アル
キルベンゼンスルホン酸塩、ポリオキシエチレンアルキ
ルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニ
ルエーテル硫酸塩、α−スルホ脂肪酸アルコールエステ
ル塩、スルホコハク酸モノエステル塩等の陰イオン性界
面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ソル
ビタン脂肪酸エステル、アルキルグリコシド、アルキル
グリコシド脂肪酸エステル、等の非イオン性界面活性
剤、長鎖モノ、ジアルキル四級アンモニウム塩、アミン
オキシド等の陽イオン性界面活性剤、カルボシキベタイ
ン、スルホベタイン等の両性界面活性剤等が挙げられ
る。
【0027】これらの界面活性剤は、単独でもあるいは
2種類以上組み合わせてもよい。これらの界面活性剤の
含有量は特に限定されないが、カビ取り剤組成物浴中に
おいて、0.1〜10重量%、好ましくは1〜5重量%
である。
2種類以上組み合わせてもよい。これらの界面活性剤の
含有量は特に限定されないが、カビ取り剤組成物浴中に
おいて、0.1〜10重量%、好ましくは1〜5重量%
である。
【0028】本発明のカビ取り剤組成物には、保存安定
性、使用性などを向上させる目的で、所望によりビルダ
ー、ラジカル捕捉剤、アルコール類、増粘剤、香料、色
素、酵素などを適宜配合することが出来る。
性、使用性などを向上させる目的で、所望によりビルダ
ー、ラジカル捕捉剤、アルコール類、増粘剤、香料、色
素、酵素などを適宜配合することが出来る。
【0029】本発明におけるカビ取り剤組成物の使用形
態は特に限定されないが、ペルオキシ化合物、界面活性
剤の性状により使用形態が異なる。即ち、ペルオキシ化
合物として過酸化水素等の溶液を、場合により界面活性
剤として水溶液を用いる場合は、(A)成分として過酸
化水素と界面活性剤の混合溶液を、(B)成分としてア
ルカリ剤、金属錯体等の混合物を用意し、これを使用前
に混合して使用すればよい。
態は特に限定されないが、ペルオキシ化合物、界面活性
剤の性状により使用形態が異なる。即ち、ペルオキシ化
合物として過酸化水素等の溶液を、場合により界面活性
剤として水溶液を用いる場合は、(A)成分として過酸
化水素と界面活性剤の混合溶液を、(B)成分としてア
ルカリ剤、金属錯体等の混合物を用意し、これを使用前
に混合して使用すればよい。
【0030】また、ペルオキシ化合物として過炭酸ナト
リウム等の粉体を、場合により界面活性剤として粉粒状
の物質を用いる場合は、アルカリ剤、金属錯体等と混合
した成分を用意し、これを使用前に水と混合して使用す
ればよい。
リウム等の粉体を、場合により界面活性剤として粉粒状
の物質を用いる場合は、アルカリ剤、金属錯体等と混合
した成分を用意し、これを使用前に水と混合して使用す
ればよい。
【0031】
【実施例】次に実施例により、本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれらの例によって何ら限定されるも
のではない。
するが、本発明はこれらの例によって何ら限定されるも
のではない。
【0032】尚、各表における成分、記号は以下の意味
を持ち、TPDC及びA〜Eは合成品である。 過酸化水素;三菱ガス化学社製 PC;過炭酸ナトリウム;三菱ガス化学社製 TAED:N,N,N’,N’−テトラアセチルエチレ
ンジアミン;ヘキスト社製 TPDC:2−(4−メトキシカルボニルベンゾイルオ
キシ)−N,N,N−トリメチルエタンアミニウム メ
トサルフェート 3−NPA:無水3−ニトロフタル酸;試薬 A:Co(SALEN) B:Cu(SALEN) C:Mn(SALEN)−O−Mn(SALEN) D:Mn(SALPN)(Cl-) E:Mn(SALEN)(CH3COO-) 炭酸カリウム;旭硝子社製 炭酸ナトリウム;旭硝子社製 NES:ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルサ
ルフェート(EO平均付加モル数9);自社製 LAS:直鎖アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム;
自社製 NRE:ポリオキシエチレンラウリルエーテル (EO平均付加モル数9);自社製
を持ち、TPDC及びA〜Eは合成品である。 過酸化水素;三菱ガス化学社製 PC;過炭酸ナトリウム;三菱ガス化学社製 TAED:N,N,N’,N’−テトラアセチルエチレ
ンジアミン;ヘキスト社製 TPDC:2−(4−メトキシカルボニルベンゾイルオ
キシ)−N,N,N−トリメチルエタンアミニウム メ
トサルフェート 3−NPA:無水3−ニトロフタル酸;試薬 A:Co(SALEN) B:Cu(SALEN) C:Mn(SALEN)−O−Mn(SALEN) D:Mn(SALPN)(Cl-) E:Mn(SALEN)(CH3COO-) 炭酸カリウム;旭硝子社製 炭酸ナトリウム;旭硝子社製 NES:ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルサ
ルフェート(EO平均付加モル数9);自社製 LAS:直鎖アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム;
自社製 NRE:ポリオキシエチレンラウリルエーテル (EO平均付加モル数9);自社製
【0033】また、各例におけるカビの除去効果、刺激
臭の無さ及び付着滞留性は、次のようにして測定した。
臭の無さ及び付着滞留性は、次のようにして測定した。
【0034】(イ)カビの除去効果;黒カビ(Clad
osporium cladosporioides)
を培養し、付着させて調整した素焼きタイル表面(2.
5×2.5cm)に、各試料を等量(0.5mL)滴下
する(実施例1〜15&比較例1〜4)か、又は同じく
付着させて調整した素焼きタイルを垂直に立てた表面
(3×3cm)に、各試料をトリガー(吉野工業所社
製)より等量(0.5mL)噴霧して(実施例16〜2
8)、15分間放置した後、水洗を行い、30℃で2時
間乾燥した。このタイルに、フードスタンプ(真菌用:
サブロー寒天)を1時間密着させ、30℃による経時
(2日)変化を観察し、以下の評価基準で判定した。
osporium cladosporioides)
を培養し、付着させて調整した素焼きタイル表面(2.
5×2.5cm)に、各試料を等量(0.5mL)滴下
する(実施例1〜15&比較例1〜4)か、又は同じく
付着させて調整した素焼きタイルを垂直に立てた表面
(3×3cm)に、各試料をトリガー(吉野工業所社
製)より等量(0.5mL)噴霧して(実施例16〜2
8)、15分間放置した後、水洗を行い、30℃で2時
間乾燥した。このタイルに、フードスタンプ(真菌用:
サブロー寒天)を1時間密着させ、30℃による経時
(2日)変化を観察し、以下の評価基準で判定した。
【0035】
【0036】(ロ)刺激臭の無さ;5.5m3の密閉さ
れた浴室の側面全体に、各試料200mLをトリガー容
器より満遍なく噴霧し、3分間そのままの状態でいた時
の刺激臭の程度を、以下の評価基準で官能により判定し
た。尚、試験は5人で行った。
れた浴室の側面全体に、各試料200mLをトリガー容
器より満遍なく噴霧し、3分間そのままの状態でいた時
の刺激臭の程度を、以下の評価基準で官能により判定し
た。尚、試験は5人で行った。
【0037】
【0038】(ハ)付着滞留性;試料が定常状態で噴霧
されるように調整されたトリガー(吉野工業所社製)を
用いて、距離が20cmになる位置から、垂直に立てた
スプレーパネル(30×30cm)の中央部分に噴霧
し、10秒後にパネルの重量を測定する。この試験を3
回行い、次式により付着滞留率を算出し、以下の評価基
準で判定した。
されるように調整されたトリガー(吉野工業所社製)を
用いて、距離が20cmになる位置から、垂直に立てた
スプレーパネル(30×30cm)の中央部分に噴霧
し、10秒後にパネルの重量を測定する。この試験を3
回行い、次式により付着滞留率を算出し、以下の評価基
準で判定した。
【0039】
【0040】実施例1〜4及び比較例1〜3 濃度5重量%の過酸化水素水溶液に、表1に示す組成
(前記水溶液に対する重量%)のペルオキシ化合物(T
AED)と金属錯体及びアルカリ性物質を混合し、カビ
の除去効果、及び刺激臭の無さの試験を行った。その結
果を表1に示す。
(前記水溶液に対する重量%)のペルオキシ化合物(T
AED)と金属錯体及びアルカリ性物質を混合し、カビ
の除去効果、及び刺激臭の無さの試験を行った。その結
果を表1に示す。
【0041】
【表1】
【0042】実施例5〜8及び比較例4 濃度5重量%の過酸化水素水溶液に、表2に示す組成
(前記水溶液に対する重量%)のペルオキシ化合物と金
属錯体及びアルカリ性物質を混合し、カビの除去効果、
及び刺激臭の無さの試験を行った。その結果を表2に示
す。
(前記水溶液に対する重量%)のペルオキシ化合物と金
属錯体及びアルカリ性物質を混合し、カビの除去効果、
及び刺激臭の無さの試験を行った。その結果を表2に示
す。
【0043】
【表2】
【0044】実施例9〜15 表3に示す組成(トータル水溶液に対する重量%)のペ
ルオキシ化合物と金属錯体及びアルカリ性物質を水に混
合し、カビの除去効果、及び刺激臭の無さの試験を行っ
た。その結果を表3に示す。
ルオキシ化合物と金属錯体及びアルカリ性物質を水に混
合し、カビの除去効果、及び刺激臭の無さの試験を行っ
た。その結果を表3に示す。
【0045】
【表3】
【0046】表1〜表3の結果から、本発明の(A)ペ
ルオキシ化合物と、(B)金属錯体と、(C)アルカリ
性物質を含有するカビ取り剤組成物は、強力なカビ除去
力を示し、しかも刺激臭がないものであることが判る。
ルオキシ化合物と、(B)金属錯体と、(C)アルカリ
性物質を含有するカビ取り剤組成物は、強力なカビ除去
力を示し、しかも刺激臭がないものであることが判る。
【0047】実施例16〜22 濃度5重量%の過酸化水素と表4に示す界面活性剤の混
合水溶液に、表4に示す組成(前記水溶液に対する重量
%)のペルオキシ化合物(TAED、TPDC)と金属
錯体及びアルカリ性物質を混合し、カビの除去効果、及
び付着滞留性の試験を行った。その結果を表4に示す。
合水溶液に、表4に示す組成(前記水溶液に対する重量
%)のペルオキシ化合物(TAED、TPDC)と金属
錯体及びアルカリ性物質を混合し、カビの除去効果、及
び付着滞留性の試験を行った。その結果を表4に示す。
【0048】
【表4】
【0049】実施例23〜28 表5に示す組成(トータル水溶液に対する重量%)のペ
ルオキシ化合物と金属錯体と界面活性剤及びアルカリ性
物質を混合し、カビの除去効果、及び付着滞留性の試験
を行った。また、界面活性剤を配合せずに、表5に示す
組成のペルオキシ化合物と金属錯体及びアルカリ性物質
を水に混合し、カビの除去効果、及び付滞留性の試験を
行った(実施例28)。その結果を表5に示す。
ルオキシ化合物と金属錯体と界面活性剤及びアルカリ性
物質を混合し、カビの除去効果、及び付着滞留性の試験
を行った。また、界面活性剤を配合せずに、表5に示す
組成のペルオキシ化合物と金属錯体及びアルカリ性物質
を水に混合し、カビの除去効果、及び付滞留性の試験を
行った(実施例28)。その結果を表5に示す。
【0050】
【表5】
【0051】
【発明の効果】請求項1のカビ取り剤組成物は、高いカ
ビ取り除去能力を有するため、カビの再繁殖を極力低下
させると共に刺激臭がなく、しかも使用時に有害なガス
が発生する危険性がないので、実用上極めて有用であ
る。
ビ取り除去能力を有するため、カビの再繁殖を極力低下
させると共に刺激臭がなく、しかも使用時に有害なガス
が発生する危険性がないので、実用上極めて有用であ
る。
【0052】請求項2のカビ取り剤組成物は、スプレー
容器等を用いて壁面に噴霧した場合に、高いカビ取り除
去能力を有するので、カビの再繁殖を極力低下させる上
に刺激臭がなく、しかも使用時に有害なガスが発生する
危険性がないので、実用上極めて有用である。
容器等を用いて壁面に噴霧した場合に、高いカビ取り除
去能力を有するので、カビの再繁殖を極力低下させる上
に刺激臭がなく、しかも使用時に有害なガスが発生する
危険性がないので、実用上極めて有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C11D 7:18 7:38 7:32 7:22) (72)発明者 長谷川 貴通 東京都墨田区本所一丁目3番7号 ライオ ン株式会社内
Claims (2)
- 【請求項1】 (A)ペルオキシ化合物と、(B)金属
錯体と、(C)アルカリ性物質とからなるカビ取り剤組
成物において、該金属錯体がシッフベース構造を有する
リガンドを含む下記一般式(1)で表される化合物であ
ることを特徴とするカビ取り剤組成物。 【化1】 [式中、MはV、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、C
u、Zn、Mo、Ru、Rh、Pd、W、Reより選ば
れるII〜IV価の酸化状態の遷移金属、又はその混合物で
ある。n及びmは1又は2の整数である。Dは配位種又
は架橋種を表す。pは0〜6の整数である。Eは対イオ
ンであって、その種類は正、0若しくは負であり得る錯
体の電荷zに依存するものである。qはz/(Eの電
荷)である。Lはシッフベース構造を有するリガンドを
表し、その構造は下記一般式(2)又は(3)で表され
る。 【化2】 【化3】 (式中、Rは水素原子、場合によっては任意に置換され
たアルキル基又はアリール基であり、Yは場合によって
は任意に置換されたメチレン鎖で構成される架橋種であ
り、Xは水素原子、場合によっては置換されたアルキル
基、アリール基、場合によって置換されたアルコキシ
基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、ピリジル基、
四級アンモニウム基、ピリジニウム基、スルホン酸基、
チエニル基、カルボン酸基、又は水酸基を表わす。)] - 【請求項2】 更に(D)界面活性剤を含有することを
特徴とする請求項1記載のカビ取り剤組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9139228A JPH10310796A (ja) | 1997-05-14 | 1997-05-14 | カビ取り剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9139228A JPH10310796A (ja) | 1997-05-14 | 1997-05-14 | カビ取り剤組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10310796A true JPH10310796A (ja) | 1998-11-24 |
Family
ID=15240479
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9139228A Pending JPH10310796A (ja) | 1997-05-14 | 1997-05-14 | カビ取り剤組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10310796A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003505349A (ja) * | 1999-07-14 | 2003-02-12 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 三脚状配位子の金属錯体 |
WO2010058280A1 (ja) * | 2008-11-20 | 2010-05-27 | 株式会社Ihi | 自己磁性金属サレン錯体化合物 |
US8691261B2 (en) | 2005-08-31 | 2014-04-08 | Ihi Corporation | Drug, drug guidance system, magnetic detection system, and drug design method |
US10034941B2 (en) | 2007-12-28 | 2018-07-31 | Ihi Corporation | Iron-salen complex |
CN108424467A (zh) * | 2018-04-16 | 2018-08-21 | 陕西科技大学 | 一种纤维素基复合抗菌材料的制备方法 |
-
1997
- 1997-05-14 JP JP9139228A patent/JPH10310796A/ja active Pending
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003505349A (ja) * | 1999-07-14 | 2003-02-12 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 三脚状配位子の金属錯体 |
JP4666447B2 (ja) * | 1999-07-14 | 2011-04-06 | チバ ホールディング インコーポレーテッド | 三脚状配位子の金属錯体 |
US8691261B2 (en) | 2005-08-31 | 2014-04-08 | Ihi Corporation | Drug, drug guidance system, magnetic detection system, and drug design method |
US10034941B2 (en) | 2007-12-28 | 2018-07-31 | Ihi Corporation | Iron-salen complex |
WO2010058280A1 (ja) * | 2008-11-20 | 2010-05-27 | 株式会社Ihi | 自己磁性金属サレン錯体化合物 |
CN102239138A (zh) * | 2008-11-20 | 2011-11-09 | 株式会社Ihi | 自磁性金属salen络合物 |
RU2495045C2 (ru) * | 2008-11-20 | 2013-10-10 | АйЭйчАй КОРПОРЕЙШН | Комплексное соединение самонамагничивающегося металла с саленом |
JP5513405B2 (ja) * | 2008-11-20 | 2014-06-04 | 株式会社Ihi | 自己磁性金属サレン錯体化合物 |
US9505732B2 (en) | 2008-11-20 | 2016-11-29 | Ihi Corporation | Auto magnetic metal salen complex compound |
CN108424467A (zh) * | 2018-04-16 | 2018-08-21 | 陕西科技大学 | 一种纤维素基复合抗菌材料的制备方法 |
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