JPH1026701A - 表示装置用フィルターおよび表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 耐汚染性、耐擦傷性、耐加工性などに優れた
反射防止性を有する表示装置用フィルターを得る。 【解決手段】 プラスチック基板１上に設けられた表面
膜が主として二酸化珪素からなる単層または多層の反射
防止膜２の表面に、下記一般式（Ｉ）で示されるフルオ
ロアルキル基あるいはパーフルオロポリエーテル基を有
するアルコキシシラン化合物３で被覆された反射防止性
を有する表示装置用フィルター。 Ｒ_f ＣＯＸ−Ｒ₁ −Ｓｉ（ＯＲ₂ ）₃
（Ｉ） （但し、式中Ｒ_f はフルオロアルキル基あるいはパーフ
ルオロポリエーテル基を示し、Ｘは結合原子あるいは結
合原子団を示し、Ｒ₁ はアルキレン基を含む炭素原子鎖
を示し、Ｒ₂ はアルキル基あるいはアルキル基を含む炭
素原子鎖を示す。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、耐汚染性、耐擦傷
性、耐加工性などに優れた反射防止性を有する表示装置
用フィルターに関するものであり、さらにはＣＲＴの前
面板などとして使用されることが可能なフィルターとそ
れを有する表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】透明材料を通して物を見る場合、反射光
が強く、反射像が明瞭であることは煩わしく、例えば眼
鏡用レンズではゴースト、フレアなどと呼ばれる反射像
が生じて目に不快感を与えたりする。またルッキングガ
ラスなどではガラス面上の反射した光のために内容物が
判然としない問題が生ずる。

【０００３】従来より反射防止のために屈折率が基材と
異なる物質を、真空蒸着法などにより基材上に被覆形成
させる方法が行なわれていた。この場合反射防止効果を
最も高いものとするためには、基材を被覆する物質の厚
みの選択が重要であることが知られている。

【０００４】例えば単層被膜においては基材より低屈折
率の物質を光学的膜厚を対象とする光波長の１／４ない
しはその奇数倍に選択することが極小の反射率すなわち
極大の透過率を与えることが知られている。ここで、光
学的膜厚とは、被膜形成材料の屈折率と該被膜の膜厚の
積で与えられるものである。さらに複層の反射防止膜の
形成が可能であり、この場合の膜厚の選択に関していく
つかの提案がされている（光学技術コンタクト Vol.9,
No.8,第17頁 (1971) ）。

【０００５】一方、特開昭５８−４６３０１号公報、特
開昭５９−４９５０１号公報、特開昭５９−５０４０１
号公報には前記の光学的膜厚の条件を満足させる複層か
らなる反射防止膜を液状組成物を用いて形成する方法に
ついて記載されている。近年になって、軽量安全性、取
り扱い易さなどの長所を生かして、プラスチックを基材
とした反射防止性を有する光学物品が考案され、実用化
されている。そしてその多くは表層膜に二酸化珪素を有
する膜の構成が採用されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】蒸着法により形成され
た反射防止膜は被膜形成材料が主として無機酸化物ある
いは無機ハロゲン化物であり、プラスチック基材におい
て、反射防止膜は本質的には高い表面硬度を有する半
面、手垢、指紋、汗、ヘアーリキッド、ヘアースプレー
などの汚れが目立ち易く、またこの汚れが除去しにくい
という欠点があった。さらには表面のすべり性が悪いた
めに傷が太くなるなどの問題点を有している。また水に
対する濡れ性が大きいために雨滴、水の飛沫が付着する
と大きく拡がり、眼鏡レンズなどにおいては大面積にわ
たって物体がゆがんで見えるなどの問題点があった。

【０００７】特開昭５８−４６３０１号公報、特開昭５
９−４９５０１号公報、特開昭５９−５０４０１号公報
に記載の反射防止膜においても硬い表面硬度を付与する
ためには最表層膜中にシリカ微粒子などに代表される無
機物を３０重量％以上含ませることが必要であるが、こ
のような膜組成から得られる反射防止膜は、表面のすべ
りが悪く、布などの磨耗によって傷がつき易いなどの問
題点を有している。

【０００８】これらの問題点を改良する目的で各種の表
面処理剤が提案され、市販されているが、いずれも水や
各種の溶剤によって溶解するために一時的に機能を付与
するものであり、永続性がなく耐久性に乏しいものであ
った。また、特開平３−２６６８０１号公報には、撥水
性を付与するために、フッ素系樹脂層を形成させる報告
がある。しかしながらこれらのフッ素系樹脂では確かに
撥水性は増すが、摩擦あるいは磨耗に対して満足する結
果が得られていない。

【０００９】本発明は、このような実状に鑑みて成さ
れ、耐汚染性、耐擦傷性、耐加工性などに優れた反射防
止性を有する表示装置用フィルターおよびそれを有する
表示装置を提供することを目的とする。本発明は、さら
にＣＲＴなどの表示装置の前面板として使用されて好適
なフィルターを提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の問題
点を解決するために鋭意検討した結果、以下に述べる本
発明に到達したものである。すなわち、上記目的を達成
するために、本発明に係るフィルターは、プラスチック
基板上に設けられた単層または多層の反射防止膜の表面
が、下記一般式（Ｉ）で示されるフルオロアルキル基あ
るいはパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシ
シラン化合物から成る表面改質膜で被覆されていること
を特徴とする反射防止性を有する表示装置用フィルター
である。

【００１１】

【化３】 Ｒ_f ＣＯＸ−Ｒ₁ −Ｓｉ（ＯＲ₂ ）₃ （Ｉ） （但し、式中Ｒ_f はフルオロアルキル基あるいはパーフ
ルオロポリエーテル基を示し、Ｘは通常はＯ、ＮＨ、Ｓ
等の原子あるいは原子団を示し、Ｒ₁ はアルキレン基を
含む炭素原子鎖を示し、Ｒ₂ はアルキル基あるいはアル
キル基を含む炭素原子鎖を示す。） 本発明において、反射防止膜の表面が、主として二酸化
珪素から成り、その表面に表面改質膜が形成してあるこ
とが好ましい。

【００１２】本発明に係るフィルターにおいて、上記ア
ルコキシシラン化合物を、沸点が５０〜１２０℃、かつ
粘度が２０℃で０．５〜４．０ｃｐｓの範囲の溶剤で希
釈した溶液を、反射防止膜の表面に塗布することにより
表面改質膜が形成してあることが好ましい。

【００１３】

【作用】本発明者等は、上記したような従来技術におけ
る問題を解決するために、種々検討を行なう過程におい
て、パーフルオロポリエーテル化合物による表面処理に
よって、耐摩擦磨耗、あるいは耐汚染性が向上するとい
う知見を得た。しかしながら、たしかにこの化合物によ
る表面処理は非常に効果があるが、化学的な安定性、例
えば溶剤処理等でその効果が著しく低減するとの結論に
達した。これはとりもなおさず、表面のＳｉＯ₂ との相
互作用に係るものと考えられる。

【００１４】そこで、本発明者らはさらに鋭意検討を行
なった結果、一般式（Ｉ）で表されるようなフルオロア
ルキル基あるいはパーフルオロポリエーテル基を有する
アルコキシシラン化合物、特にパーフルオロポリエーテ
ル基を有するアルコキシシラン化合物で被覆することに
よって反射防止性を有する表示装置用フィルターの耐磨
耗性あるいは耐汚染性の問題を解決したものである。

【００１５】つまり、ＳｉＯ₂ 表面との相互作用を持た
せるためにアルコキシシラン構造部を分子構造中に含
み、表面で強固な結合をなさせるものである。それゆえ
に、従来不満足であった、耐溶剤性等の問題を克服する
ことができるものである。また本発明に係る一般式
（Ｉ）で表されるアルコキシシラン化合物は、フッ素含
有基を分子中に含むことにより、撥水性を持たせ耐水汚
染性が向上する。

【００１６】なお、一般式（Ｉ）で表される化合物のう
ちフルオロアルキル基を有するアルコキシシラン化合物
は、上記したような耐溶剤性、耐水汚染性などといった
面からは十分なものであるが、耐磨耗性や摩擦特性の面
では、トライボロジー特性に優れたパーフルオロポリエ
ーテル基を分子構造中に有するアルコキシシラン化合物
を用いた場合と比較すると劣るものとなるゆえ、望まし
くは後者の化合物である。

【００１７】ところで、パーフルオロポリエーテル基を
有するアルコキシシラン化合物は、その溶剤によって塗
布後の塗布ムラが生じやすく、それが耐汚染性、目視等
の諸特性に不具合をもたらす可能性がある。塗布性は溶
剤の沸点に影響を受ける。つまり溶剤の乾燥速度は沸点
が７０℃のもので通常約１μｍ／ｓと言われており、高
沸点溶剤では塗布後の乾燥の問題が残る場合があり、低
沸点では溶剤乾燥時の滞留により塗布ムラが生じやすい
という報告がある（IEEE Trans MAG., Vol.31, No. 6
(1995) pp. 2982-2984)。また粘度が高いとディップコ
ーティングによる引き上げ時に、あるいはグラビアコー
ティングによる溶液添加時に多量に塗布されるためにそ
の乾燥が不十分になりやすい。また塗布時のレイノルズ
数（下記数式参照）は溶剤の粘度に逆比例するので粘度
が小さすぎると塗布ムラとなり易い。それゆえ溶剤の沸
点あるいは粘度の観点から最適値が存在する可能性があ
る。

【００１８】

【数１】（レイノルズ数）＝ｖｌ／η （式中、ｖは引上げ速度、ｌは引上げ時のメニスカスの
高さ、ηは粘度である。） そこで本発明者らはさらに
鋭意検討を行なって、上記アルコキシシラン化合物が、
パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン
化合物である場合に、この化合物を、沸点が５０〜１２
０℃、かつ粘度が２０℃で０．５〜４．０ｃｐｓの範囲
の溶剤で希釈した溶液を塗布することによって、ムラの
ない膜厚が均一な潤滑膜を得ることができることを見い
出したものである。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明を実施形態に基づき
より詳細に説明する。図１は、本発明の一実施態様に係
る表示装置用フィルターにおける断面構造を示す。

【００２０】図１に示す実施態様における表示装置用フ
ィルター１０は、プラスチック基材１の一表面上に反射
防止膜２が設けられており、この上部面に表面改質膜３
が形成されている。本実施形態に係るフィルター１０
は、たとえば図２に示す陰極線管（ＣＲＴ）１００のパ
ネル１０１の表面に接着剤層を介して接着してある。フ
ィルター１０の機材１をパネル１０１に接着する接着剤
としては、特に限定されず、各種の公知のものを用いる
ことができるが、一般には紫外線硬化樹脂系接着剤が使
用され、かつその硬化層の屈折率が上記パネルの屈折率
と近似する、例えばその差が０．８％以内となるもので
あることが好ましい。具体的には、例えば、分子量５５
０以上のビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレ
ート１０重量％、ウレタン（メタ）アクリレート２０重
量％、水酸基含有モノ（メタ）アクリレート７０重量
％、光重合開始剤３％およびその他の添加剤数％程度を
含有する組成物などが用いられ得る。

【００２１】本発明において、図１に示すフィルター１
０のプラスチック基材１としては、特に限定されるもの
ではなく、有機高分子からなる基材であればいかなるも
のを用いても良いが、透明制、屈折率、分散などの光学
特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸特性
から見て、特に、ポリメチルメタアクリレート、メチル
メタクリレートと他のアルキル（メタ）アクリレート、
スチレンなどといったビニルモノマーとの共重合体など
の（メタ）アクリル系樹脂；ポリカーボネート、ジエチ
レングリコールビスアリルカーボネート（ＣＲ−３９）
などのポリカーボネート系樹脂；（臭素化）ビスフェノ
ールＡ型のジ（メタ）アクリレートの単独重合体ないし
共重合体、（臭素化）ビスフェノールＡのモノ（メタ）
アクリレートのウレタン変性モノマーの重合体および共
重合体などといった熱硬化性（メタ）アクリル系樹脂；
ポリエステル、特にポリエチレンテレフタレート、ポリ
エチレンナフタレートおよび不飽和ポリエステル；アク
リロニトリル−スチレン共重合体、ポリ塩化ビニル、ポ
リウレタン、エポキシ樹脂などが好ましい。また耐熱性
を考慮したアラミド系樹脂の使用も可能である。この場
合には加熱温度の上限が２００℃以上となり、その温度
範囲が幅広くなることが予想される。

【００２２】また上記のようなプラスチック基材表面は
ハードコートなどの被膜材料で被覆されたものであって
もよく、後述する無機物からなる反射防止膜の下層に存
在するこの被膜材料によって、付着性、硬度、耐薬品
性、耐久性、染色性などの諸物性を向上させることが可
能である。

【００２３】硬度向上のためには従来プラスチックの表
面高硬度化被膜として知られる各種の材料を適用したも
のを用いることができ、例えば特公昭５０−２８０９２
号公報、特公昭５０−２８４４６号公報、特公昭５１−
２４３６８号公報、特開昭５２−１１２６９８号公報、
特公昭５７−２７３５号公報に開示されるような技術を
適用可能である。さらには、（メタ）アクリル酸エステ
ルとペンタエリスリトールなどの架橋剤とを用いてなる
アクリル系架橋物や、オルガノポリシロキサン系などと
いったものであってもよい。これらは単独であるいは適
宜組合せて用いることができる。

【００２４】このようなプラスチック基材１上部に形成
される反射防止膜２は、単層または多層構造を有するも
のであって、各種の組合せが可能である。特に多層構造
とする場合には、その表層膜より下層を形成する物質の
膜構成は要求される性能、例えば耐熱性、反射防止性、
反射光色、耐久性、表面硬度などに応じて適宜実験等に
基づき決定することができる。

【００２５】これらの反射防止膜を形成する二酸化珪素
を含めた各種無機物の被膜化方法としては、真空蒸着、
イオンプレーティング、スパッタリングに代表される各
種のＰＶＤ（Physical Vapor Deposition ）法がある。
反射防止膜を得る上で、上記のＰＶＤ法に適した無機物
としては、ＳｉＯ₂ 以外に、例えば、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、Ｚｒ
Ｏ₂ 、ＴｉＯ₂ 、Ｔａ₂ Ｏ₅ 、ＴａＨｆ₂ 、ＳｉＯ、Ｔ
ｉＯ、Ｔｉ₂ Ｏ₃ 、ＨｆＯ₂ 、ＺｎＯ、Ｉｎ₂ Ｏ₃ ／Ｓ
ｎＯ₂ 、Ｙ₂ Ｏ ₃ 、Ｙｂ₂ Ｏ₃ 、Ｓｂ₂ Ｏ₃ 、ＭｇＯ、
ＣｅＯ₂ などの無機酸化物が例示できる。 なおこのよ
うなＰＶＤ法によって形成される反射防止膜の最外表層
膜は、主として二酸化珪素から構成されるものであるこ
とが好ましい。二酸化珪素以外の場合には十分な表面硬
度が得られないばかりでなく、本発明の目的とする耐汚
染性、耐擦傷性の向上、さらにはこれらの性能の耐久性
が顕著に現れない虞れがあるためである。しかしなが
ら、本発明は、主として、このような反射防止膜の表面
を被覆する表面改質膜の構成に係るものであるゆえ、特
に反射防止膜の最外表層膜の材質を限定するものではな
く、二酸化珪素以外のもので構成されていてもよい。

【００２６】また、この反射防止膜の最外表層膜の膜厚
は、反射防止効果以外の要求性能によってそれぞれ決定
されるべきものであるが、特に反射防止効果を最大限に
発揮させる目的には表層膜の光学的膜厚を対象とする光
波長の１／４ないしはその奇数倍に選択することが極小
の反射率すなわち極大の透過率を与えるという点から好
ましい。

【００２７】一方、前記表層膜の下層部の構成等につい
ては特に限定されない。すなわち、前記表層膜を直接基
材上に被膜形成させることも可能であるが、反射防止効
果をより顕著なものとするためには、基材上に表層膜よ
り屈折率の高い被膜を一層以上被覆することが有効であ
る。これらの複層の反射防止膜の膜厚および屈折率の選
択に関してもいくつかの提案がなされている（例えば、
光学技術コンタクト Vol.9, No.8, p.17 (1971) ）。

【００２８】また下層部に、カーボンスパッタ膜、カー
ボンＣＶＤ膜などの無機光透過膜を設けることも可能で
ある。しかして本発明においては、上記したような単層
または多層の反射防止膜２の表面を、下記一般式（Ｉ）
で表されるフルオロアルキル基あるいはパーフルオロポ
リエーテル基を有するアルコキシシラン化合物から形成
される表面改質膜３で被覆するものである。

【００２９】

【化４】 Ｒ_f ＣＯＸ−Ｒ₁ −Ｓｉ（ＯＲ₂ ）₃ （Ｉ） （但し、式中Ｒ_f はフルオロアルキル基あるいはパーフ
ルオロポリエーテル基を示し、Ｘは結合原子あるいは結
合原子団を示し、Ｒ₁ はアルキレン基を含む炭素原子鎖
を示し、Ｒ₂ はアルキル基あるいはアルキル基を含む炭
素原子鎖を示す。） Ｒ_f としてのパーフルオロポリエ
ーテル基の分子構造としては、特に限定されるものでは
なく、各種鎖長のパーフルオロポリエーテル基が含まれ
るが、好ましくはＣ₁ 〜Ｃ₃ 程度のパーフルオロアルキ
ルオキシ基を繰返し単位とするパーフルオロポリエーテ
ルである。具体的には例えば、単官能のものとしては、
次に示すようなものがあり、

【００３０】

【化５】

【００３１】多官能のものとしては、次に示すようなも
のがある。

【００３２】

【化６】

【００３３】なお上記化学構造式中の、ｌ、ｍ、ｎ、
ｋ、ｐおよびｑはそれぞれ１以上の整数を示す。しかし
ながら、前記したようにパーフルオロポリエーテルの分
子構造はこれら例示したものに限定されるものではな
い。一方、Ｒ_f としてのフルオロアルキル基の分子構造
としても、特に限定されるものではなく、各種鎖長およ
び各種フッ素置換度のフルオロアルキル基が含まれる
が、好ましくはＣ₅ 〜Ｃ₁₂程度のパーフルオロアルキル
基である。

【００３４】なお、Ｒ_f としては、前記したようにより
優れた耐磨耗性や摩擦特性を得ることができるゆえに、
パーフルオロポリエーテル基が望ましい。一般式（Ｉ）
におけるＸとしての結合原子ないし結合原子団としては
特に限定されるものではないが、通常は、例えばＯ、Ｎ
Ｈ、Ｓ等の原子あるいは原子団である。

【００３５】また一般式（Ｉ）におけるＲ₁ およびＲ₂
の炭素数としては特に限定されるものではない。例え
ば、Ｃ₁ 〜Ｃ₅ 程度の直鎖状の炭素原子鎖であり得る。
なお、当該炭素原子鎖の柔軟性ないしゆらぎ性を損なわ
ない限りにおいて、一部に不飽和結合、特性基、芳香環
などの環状構造を有するものであってもよく、さらに、
短鎖の分岐鎖ないし側鎖を有するものであってもよい。

【００３６】また、この一般式（Ｉ）で表される化合物
の分子量は特に限定されないが、安定性、取扱い易さな
どの点から数平均分子量で５００〜１００００、さらに
好ましくは５００〜４０００程度のものが使用される。
さらにこのような化合物により形成される表面改質膜の
膜厚についても、特に限定されるものではないが、反射
防止性と水に対する静止接触角とのバランスおよび表面
硬度との関係から、０．５ｎｍ〜５０ｎｍ、さらに好ま
しくは１ｎｍ〜１０ｎｍ程度であることが望ましい。

【００３７】またその塗布方法としては、通常のコーテ
ィング作業で用いられる各種の方法が適用可能である
が、均一膜厚のコントロールという観点からスピン塗
布、浸漬塗布、カーテンフロー塗布などが好ましく用い
られる。また作業性の点から紙、布などの材料に液を含
浸させて塗布流延させる方法も好ましく使用される。

【００３８】このような塗布作業において、前記一般式
（Ｉ）で表される化合物は、通常揮発性溶媒に希釈され
て使用される。溶媒として用いられるものは、特に限定
されないが、使用にあたっては組成物の安定性、被塗布
面である反射防止膜の最表面層、代表的には二酸化珪素
膜に対する濡れ性、揮発性などを考慮して決められるべ
きである。本発明においては、特にアルコール系溶剤が
好ましい。

【００３９】さらに、希釈溶剤としては、沸点が５０℃
〜１２０℃で、かつ粘度が２０℃で０．５〜４．０ｃｐ
ｓの範囲のものを使用することが望ましく、このような
条件を満たす希釈溶剤で希釈して塗布することによっ
て、膜厚が均一でムラのない被膜を得ることができる。
例えば、前記アルコール系溶剤において、このような条
件を満たすものとしては、メタノール、エタノール、ｎ
−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブチルアルコ
ール、ｉ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコー
ル、ｓｅｃ−アミルアルコールなどが挙げられる。なお
希釈溶剤としては、単独あるいは２種以上の混合物とし
て用いることができる。

【００４０】一般式（Ｉ）で表される化合物の塗布溶液
を調製するに際しての希釈溶剤による希釈度合としては
特に限定されるものではないが、例えば、０．１〜５．
０重量％濃度程度に調製することが適当である。またこ
の塗布溶液中には、必要に応じて反応触媒としての酸あ
るいは塩基を添加することも可能である。酸触媒として
は例えば，硫酸、塩酸、硝酸、燐酸、酸性白土、酸化
鉄、硼酸、トリフルオロ酢酸などを用いることができ、
また塩基触媒としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物などを用
いることができる。さらに燐酸エステル系の触媒、ある
いはアセチルアセトンのようなカルボニル化合物を添加
してその触媒効果を高めることが可能である。このよう
に触媒が添加されることによって一般式（Ｉ）で表され
る化合物のシラノ基と、反射防止膜表面のＳｉＯ₂ との
結合反応を伴なう相互作用が、加熱を行なわずとも良好
に進行する。このためＳｉＯ₂ 上の薄膜材料において
は、その膜厚から耐久性への要求が厳しいものであるに
もかかわらず、良好な耐久性の向上が望めるものとな
る。

【００４１】本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合
物の塗布にあたっては、塗布されるべき反射防止膜の表
面は清浄化されていることが好ましく、清浄化に際して
は、界面活性剤による汚れ除去、さらには有機溶剤によ
る脱脂、フッ素系ガスによる蒸気洗浄などが適用され
る。また密着性、耐久性の向上を目的として各種の前処
理を施すことも有効な手段であり、特に好ましく用いら
れる方法としては活性化ガス処理、酸、アルカリなどに
よる薬品処理などが挙げられる。

【００４２】本発明によって得られる表示装置用反射防
止フィルターは、通常の反射防止膜よりも汚れにくく、
かつ汚れが目立たない。さらには汚れが容易に除去でき
る、あるいは表面の滑りが良好なため傷がつきにくいな
どの長所を有し、かつこれらの性能に加えて磨耗に関し
ても耐久性がある。

【００４３】なお、本発明は、上述した実施形態に限定
されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変する
ことができる。たとえば上述した実施形態では、フィル
ター１０を、図２に示すＣＲＴ１００のパネル１０１に
接着して用いたが、本発明に係るフィルター１０は、必
ずしもパネル１０１の表面に接着して用いるものである
必要はなく、パネル１０１の前面に取り外し自在に取り
付けるタイプのフィルターであっても良い。

【００４４】また、フィルター１０が取り付けられる対
象となる表示装置のパネルとしては、ＣＲＴのような曲
率を有するパネルに限らず、液晶ディスプレイ装置ある
いはプラズマディスプレイのような平面表示装置のパネ
ルの他、各種の表示装置のパネルが含まれる。これら表
示装置のパネルには、本発明に係るフィルターは、接着
剤などで接着しても良いが、取り外し自在に装着しても
良い。取り外し自在に装着する場合には、本発明に係る
フィルターの外周部には、枠体が装着され、この枠体に
対して本発明に係るフィルターが張設されることにな
る。

【００４５】また、本発明に係るフィルターの多層構造
は、図１に示す実施形態に限定されず、種々の多層構造
が考えられる。

【００４６】

【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定される
ものではない。なお実施例中において「部」は重量部を
表すものである。

【００４７】実施例１ （１）反射防止膜の作製 基材として厚さ１００μｍの透明なポリエチレンテレフ
タレート（ＰＥＴ）フィルムを用いた。このＰＥＴフィ
ルムの片面には、あらかじめ表面硬度を確保するための
ハードコート処理が施されており、その上に反射防止膜
として真空蒸着法により、厚さ１２０ｎｍのＩＴＯをプ
レ蒸着し、その上にＳｉＯ₂ を７０ｎｍ厚に蒸着して形
成した。なお、ここで言うハードコート処理とは、一般
的にアクリル系架橋性樹脂原料を塗布し、紫外線や電子
線等によって架橋硬化させたり、シリコン系、メラミン
系、エポキシ系の樹脂原料を塗布し、熱硬化させたりし
て行われているものである。 （２）パーフルオロポリエーテル基を持つアルコキシシ
ラン化合物含有コーティング組成物の調製 パーフルオロポリエーテル基を持つアルコキシシラン化
合物（１）（分子量約１０００、表１参照のこと）４部
に、メチルアルコール２００部を添加混合し、さらにア
セチルアセトンを１ｃｃと濃塩酸を０．０１ｃｃ加え均
一な溶液としたのち、さらにメンブランフィルターで瀘
過を行ない、コーティング組成物を得た。 （３）塗布および乾燥 前記（１）で得た反射防止膜の表面に前記（２）で調製
したコーティング組成物を５ｃｍ／ｍｉｎの引上げ速度
でディップコーティングし、その後風乾して反射防止性
を有する光学物品を得た。なお塗布および乾燥工程にお
いて特に温度操作は行なわなかった。 （４）性能評価 得られた光学物品の性能は下記の方法に従い試験を行な
うことにより評価した。下記（ａ）から（ｅ）までの評
価項目の試験結果を表２に示す。また耐溶剤性を見るた
め、エタノール洗浄を行なった後に再度同様の試験を行
なった。得られた結果を同様に表２に示す。

【００４８】（ａ）耐汚染性試験 水道水５ｍｌをフィルター面にしたたらせ、室温雰囲気
（２５℃±２℃）下で４８時間放置後、布で拭いた後の
水垢の残存状態を目視にて観察した。水垢が除去できた
時を良好とし、除去できなかった場合を不良とした。

【００４９】（ｂ）表面滑り性 鉛筆（硬度 ３Ｈ）で表面を引掻いた時の引っかかり具
合を評価した。判定基準は以下の通りである。 ○：まったく引っかからない。

【００５０】 △：強くすると引っかかる。 ×：弱くしても引っかかる。 （ｃ）耐磨耗性試験 光学物品表面をスチールウール＃００００、２００ｇ荷
重下で３０回擦った後傷が付いたかどうかで評価した。
判定基準は以下の通りである。

【００５１】 ○：全く付かない。 △：細かい傷が付く。 ×：傷が著しい。 （ｄ）手垢の付きにくさ 手垢の付きにくさについて、目視にて評価した。判定基
準は以下の通りである。

【００５２】 ○：付いても目立たない。 △：付くが簡単に除去できる。 ×：付いた後が目立つ。 （ｅ）接触角 水およびヨウ化メチレンの接触角を測定した。測定は、
協和界面化学社製ＣＡ−Ａを用いて行なった。なお測定
された接触角の値は、表面改質膜の残存率ないし水ある
いは油に対する汚染性に関しての目安となるものであ
る。実施例２ 実施例１において、パーフルオロポリエーテル基を有す
るアルコキシシラン化合物含有コーティング組成物の調
製において溶剤として溶剤１（メタノール）に代えて表
２に示すように溶剤２（エタノール）を使用した以外は
実施例１とすべて同様にして光学物品を得、その性能評
価を行なった。得られた結果を表２に示す。実施例３〜８ 実施例１において、パーフルオロポリエーテル基を有す
るアルコキシシラン化合物含有コーティング組成物の調
製において、使用した溶剤およびアルコキシシラン化合
物の組合せを表２に示すようにそれぞれ代えた以外は実
施例１とすべて同様にして光学物品を得、その性能評価
を行なった。得られた結果を表２に示す。なお、使用し
たアルコキシシラン化合物は表１に、また溶剤は表３に
それぞれ列挙されたものである。比較例１〜４ 実施例１において、パーフルオロポリエーテル基を有す
るアルコキシシラン化合物含有コーティング組成物の調
製において、使用した溶剤およびアルコキシシラン化合
物の組合せを表２に示すようにそれぞれ代えた以外は実
施例１とすべて同様にして光学物品を得、その性能評価
を行なった。得られた結果を表２に示す。なお、使用し
たアルコキシシラン化合物は表１に、また溶剤は表３に
それぞれ列挙されたものである。

【００５３】

【表１】

【００５４】

【表２】

【００５５】

【表３】

【００５６】

【発明の効果】以上述べたように、本発明に係るフィル
ターは、プラスチック基板上に設けられた単層または多
層の反射防止膜の表面が、一般式（Ｉ）で示されるフル
オロアルキル基あるいはパーフルオロポリエーテル基を
有するアルコキシシラン化合物から成る表面改質膜で被
覆してある表示装置用フィルターである。このため、本
発明に係るフィルターおよびそれを有する表示装置は、
次の効果を有する。 （１）指紋、手垢などによる汚れが付きにくく、また目
立ちにくい。これらの効果が永続的に保持される。 （２）水垢などが付着し、乾燥されても容易に除去する
ことが可能である。 （３）表面滑り性が良好である。 （４）ほこりなどの汚れが付きにくく、使用性が良い。 （５）磨耗に対する耐久性がある。 （６）塗布後の乾燥温度を５０℃以下の低温にすること
も可能である。

【００５７】さらに、上記アルコキシシラン化合物が、
パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン
化合物であって、かつこの化合物を、沸点が５０〜１２
０℃、かつ粘度が２０℃で０．５〜４．０ｃｐｓの範囲
の溶剤で希釈した溶液を反射防止膜に塗布することによ
り表面改質膜が形成してあるフィルターおよび表示装置
によれば、上記したような効果が顕著なものとなるのみ
ならず、塗布ムラを少なくすることができるために歩留
りが改善され、かつ見た目にも美しく不快感もないもの
となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 図１は本発明の一実施態様に係る表示装置用
フィルターにおける断面構造を示す図面である。

【図２】 図２は本発明の一実施態様に係るＣＲＴの概
略斜視図である。

【符号の説明】

１… プラスチック基材、２… 反射防止膜、３… 表
面改質膜、１０… フィルター、１００… ＣＲＴ、１
０１… パネル。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】プラスチック基板上に設けられた単層また
   は多層の反射防止膜の表面が、下記一般式（Ｉ）で示さ
   れるフルオロアルキル基あるいはパーフルオロポリエー
   テル基を有するアルコキシシラン化合物を用いた表面改
   質膜で被覆されていることを特徴とする反射防止性を有
   する表示装置用フィルター。 【化１】 Ｒ_f ＣＯＸ−Ｒ₁ −Ｓｉ（ＯＲ₂ ）₃ （Ｉ） （但し、式中Ｒ_f はフルオロアルキル基あるいはパーフ
   ルオロポリエーテル基を示し、Ｘは結合原子あるいは結
   合原子団を示し、Ｒ₁ はアルキレン基を含む炭素原子鎖
   を示し、Ｒ₂ はアルキル基あるいはアルキル基を含む炭
   素原子鎖を示す。）
2. 【請求項２】上記アルコキシシラン化合物が、パーフル
   オロポリエーテル基を有するアルロキシシラン化合物で
   あって、かつこの化合物を、沸点が５０〜１２０℃、か
   つ粘度が２０℃で０．５〜４．０ｃｐｓの範囲の溶剤で
   希釈した溶液を、反射防止膜の表面に塗布することによ
   り表面改質膜が形成してある請求項１に記載の表示装置
   用フィルター。
3. 【請求項３】上記反射防止膜の表面が、主として二酸化
   珪素から成り、その表面に表面改質膜が形成してある請
   求項１に記載の表示装置用フィルター。
4. 【請求項４】プラスチック基板上に設けられた単層また
   は多層の反射防止膜の表面が、下記一般式（Ｉ）で示さ
   れるフルオロアルキル基あるいはパーフルオロポリエー
   テル基を有するアルコキシシラン化合物を用いた表面改
   質膜で被覆されていることを特徴とする反射防止性を有
   するフィルターを持つ表示装置。 【化２】 Ｒ_f ＣＯＸ−Ｒ₁ −Ｓｉ（ＯＲ₂ ）₃ （Ｉ） （但し、式中Ｒ_f はフルオロアルキル基あるいはパーフ
   ルオロポリエーテル基を示し、Ｘは結合原子あるいは結
   合原子団を示し、Ｒ₁ はアルキレン基を含む炭素原子鎖
   を示し、Ｒ₂ はアルキル基あるいはアルキル基を含む炭
   素原子鎖を示す。）
5. 【請求項５】上記アルコキシシラン化合物が、パーフル
   オロポリエーテル基を有するアルロキシシラン化合物で
   あって、かつこの化合物を、沸点が５０〜１２０℃、か
   つ粘度が２０℃で０．５〜４．０ｃｐｓの範囲の溶剤で
   希釈した溶液を、反射防止膜の表面に塗布することによ
   り表面改質膜が形成してある請求項４に記載の表示装
   置。
6. 【請求項６】上記反射防止膜の表面が、主として二酸化
   珪素から成り、その表面に表面改質膜が形成してある請
   求項４に記載の表示装置。