JPH10261298A - 半導体メモリ装置の感知増幅器 - Google Patents
半導体メモリ装置の感知増幅器Info
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Abstract
チ特性を利用しデータを感知しフルスイング電圧を持つ
信号を出力可能な半導体メモリ装置の感知増幅器。 【解決手段】 外部からの印加等化信号によりダミーラ
イン74とビットライン73を一定電圧にプリチャージ
するプリチャージ部30と、外部からの印加感知増幅器
イネーブル信号によりビットラインとダミーラインの電
圧を第1及び第2入力信号としてラッチしメモリセル7
1のデータを感知し出力するデータ感知部40と、外部
からの印加感知増幅器イネーブル信号によりデータ感知
動作中プリチャージ部をディスエーブルしそれ以外はプ
リチャージ部をイネーブルするプリチャージイネーブル
部50と、外部からの印加感知増幅器イネーブル信号に
基づきメモリセルのデータによるビットラインとダミー
ラインの電圧を第1及び第2入力信号としデータ感知部
に伝達するデータ感知イネーブル60とを含む。
Description
モリ装置の感知増幅器に係り、特に高速及び低電力の特
性を有するCMOSインバータのラッチ特性を利用した
マスクROM( MASKROM) の感知増幅器に関す
る。
memory device )は電源がオフされても貯えられたデー
タが消滅せずにそのまま保持される記憶素子であって、
マスクROM、書き込み及び読出の可能なEPROM、
EEPROM、及びフラッシュEEPROMなどがあ
る。
一つのデータを貯蔵し、読出だけの可能なメモリ素子で
あって、電子手帳及びプリンタなどの事務自動化機器或
いは高速を必要とするゲーム器などに主に用いられる。
ブロック図である。
ットラインに複数のメモリセルが配列されたメモリセル
アレー6と、外部から印加されるアドレス信号を受け入
れるためのアドレス入力バッファ1と、アドレス入力バ
ッファ1からロー(row) アドレス信号を受け入れ、デコ
ーディングして前記メモリセルアレーの多数のワードラ
インのうち該当するワードラインを選択するためのXー
プリデコーダ回路2及びXーデコーダ回路3と、アドレ
ス入力バッファ1からカラム(column)アドレス信号を受
け入れ、デコーディングして前記メモリセルアレーの多
数のビットラインのうち該当するビットラインを選択す
るためのYープリデコーダ回路4及びYーデコーダ回路
5とを備える。
ファ1からアドレス信号を受け入れてアドレス信号の転
移を検出するアドレス転移検出(address transition de
tection)部7と、前記アドレス転移検出部7の出力信号
に基づいてメモリセルアレー6から出力される情報の感
知及び増幅のための感知増幅器8と前記感知増幅器8の
出力データSAout をマスクROMの出力データDoutとし
て出力するための出力バッファ9とを含む。
動作を察してみる。
ファ1を通じて印加されると、Xープリデコーダ回路2
及びXーデコーダ回路3は印加されたアドレス信号のう
ちローアドレス信号をデコーディングして、メモリセル
アレー6の多数のワードラインのうち該当するワードラ
インを選択するためのデコーディング信号をメモリセル
アレー6に出力する。
コーダ回路5はアドレス入力バッファ1を通じて印加さ
れるアドレス信号のうちカラムアドレス信号をデコーデ
ィングして、メモリセルアレー6の多数のビットライン
のうち該当するビットラインを選択するためのデコーデ
ィング信号をメモリセルアレー6に出力する。
ファ1から印加されるアドレス信号の転移を検出して感
知増幅器8に感知増幅器イネーブル信号SEを出力す
る。アドレス転移検出部7からの感知増幅器イネーブル
信号SEによってイネーブルされた感知増幅器8は、メ
モリセルアレー6の選択されたメモリセルから出力され
るデータSAoutを感知し増幅して出力バッファ9に
出力する。出力バッファ9は感知増幅器8から感知増幅
された信号をマスクROMの出力データDoutとして出力
する。
5からのデコーディング信号に基づいて選択されたメモ
リセルから流れる小さい電流を感知し、感知された信号
を電圧信号に変換させて出力する感知増幅器8には差動
増幅型とラッチ(crossーcoupled latch )型がある。電流
ミラーを利用した差動増幅型感知増幅器は良好なゲイン
を得ることができ、速度の速い特徴を有している。
図である。
知増幅器は、ダミーセル12の連結されているダミーラ
イン14とメモリセル11の連結されているビットライ
ン13を等化器(図示せず)からの等化信号(/EQ,
equalizer signal )によって一定電圧にプリチャージさ
せるためのプリチャージ回路10と、感知増幅器イネー
ブル信号SEによってイネーブルされてメモリセル11
のデータに基づいて発生するダミーライン14とビット
ライン13の電圧差を感知して出力信号SAoutとして出
力するデータ感知回路20とを含んでいる。
セルを用い、ダミーセル12を通じて流れる電流がメモ
リセル11を通じて流れる電流の1/2だけなるように
メモリセル11を構成するセル数の2倍にダミーセル1
2を構成する。例えば、メモリセルが16NANDスプ
リングセルであればダミーセルは32NANDスプリン
グセルとなる。
イン13を一定電圧にプリチャージさせるための第1プ
リチャージ手段と、ダミーライン14を一定電圧にプリ
チャージさせるための第2プリチャージ手段とからな
り、第1及び第2プリチャージ手段の構成と動作は同一
である。
/EQによってビットライン13を一定電圧にプリチャ
ージさせるための直列連結のPMOSトランジスタPT
11,PT12と、常時ビットライン13を一定電圧に
プリチャージさせるためのPMOSトランジスタPT1
3とから構成され、第2プリチャージ手段は等化信号/
EQによってダミーライン14を一定電圧にプリチャー
ジさせるための直列連結のPMOSトランジスタPT1
4,PT15と、常時ダミーライン14を一定電圧にプ
リチャージさせるためのPMOSトランジスタPT16
とから構成される。
とビットライン13に常時同一の電流を流すための、P
MOSトランジスタPT21,PT22から構成された
電流ミラーと、メモリセル11からビットライン13を
通じて印加されるデータを感知するための感知手段とか
らなる。感知手段は、ゲートが前記プリチャージ回路1
0にそれぞれ連結されてメモリセルのデータによるビッ
トライン13とダミーライン14の電圧差を差動増幅す
るNMOSトランジスタNT21,NT22と、感知増
幅器イネーブル信号SEによってイネーブルされて前記
NMOSトランジスタNT21,NT22を駆動させる
ためのNMOSトランジスタNT23とから構成され
る。
器(図示せず) から印加される基準電圧Vrefによっ
て駆動される、それぞれビットライン13とダミーライ
ン14に連結されるパストランジスタ用NMOSトラン
ジスタNT24,NT25と、前記電流ミラー用NMO
SトランジスタNT21,NT22にそれぞれ並列連結
されたPMOSトランジスタPT23,PT24とをさ
らに備える。
器は、等化器から印加される等化信号/EQによってプ
リチャージ回路10のビットライン用PMOSトランジ
スタPT11,PT12とダミーライン用PMOSトラ
ンジスタPT14,PT15がターンオンされてビット
ライン13及びダミーライン14、すなわちノードa,
bを一定電圧にプリチャージさせる。
ル信号SEによってNMOSトランジスタNT23がタ
ーンオンされてデータ感知回路20がイネーブルされ
る。従って、データ感知回路20ではメモリセル11の
データによるビットライン13とダミーライン14との
間の電圧差をNMOSトランジスタNT21,NT22
を通じて差動増幅し、差動増幅された感知信号をインバ
ータ15を通じて出力信号SAout として出力する。ビッ
トライン13のデータを感知する従来の感知増幅器は電
流ミラー用PMOSトランジスタPT21,PT22を
それぞれPMOSトランジスタPT23,PT24にそ
れぞれ並列構成して利得を増加させた。
知増幅器イネーブル信号SEによってNMOSトランジ
スタNT23がイネーブルされている間には、利得増加
用PMOSトランジスタPT23,PT24とNMOS
トランジスタNT23を通じて続いて多量の電流が流れ
る問題点があった。
MOSトランジスタPT21,PT22と、利得増加用
PMOSトランジスタPT23,PT24が弱いターン
オン状態を保持するだけでなく、ビットライン13とダ
ミーライン14に連結されたNMOSトランジスタNT
21,NT22もターンオンされる。すなわちPMOS
トランジスタとNMOSトランジスタが同時にターンオ
ンされてこれらを通じて続いて電流が流れる。したがっ
て、ノードCの電位を反転させて感知増幅器の出力信号
SAout として出力するインバータ15の入力としてフル
スイング電圧が印加されないために多量の電力が消費さ
れる問題点があった。
及び低電力の特性を有するCMOSインバータのラッチ
特性を利用してデータを感知することにより、フルスイ
ング電圧を持つ信号を出力することのできる半導体メモ
リ装置の感知増幅器を提供することにある。
リチャージ回路をターンオフさせて電力消費を防止する
ことのできる半導体装置の感知増幅器を提供することに
ある。
に、本発明は、ダミーセルの連結されているダミーライ
ンとメモリセルの連結されているビットラインの電圧差
を感知してメモリセルのデータとして出力する半導体メ
モリ装置において、外部から印加される等化信号によっ
てダミーラインとビットラインを一定電圧にプリチャー
ジさせるためのプリチャージ部と、外部から印化される
感知増幅器イネーブル信号によってビットラインの電圧
とダミーラインの電圧をそれぞれ第1及び第2入力信号
として入力及びラッチしメモリセルのデータを感知して
出力信号として出力するデータ感知部と、外部から印化
される感知増幅器イネーブル信号によってデータ感知動
作中にはプリチャージ部のプリチャージ動作をディスエ
ーブルさせ、それ以外ではプリチャージ部のプリチャー
ジ動作をイネーブルさせるためのプリチャージイネーブ
ル部と、外部から印加される感知増幅器イネーブル信号
に基づいてメモリセルのデータによるビットラインとダ
ミーラインの電圧をそれぞれ第1及び第2入力信号とし
て前記データ感知部に伝達するためのデータ感知イネー
ブル部とを含む。
感知増幅器において、前記プリチャージイネーブル部
は、ソースに電源電圧が印加され、ゲートに感知増幅器
イネーブル信号が印加され、ドレインがプリチャージ部
に連結されて電源電圧をプリチャージ部に印加するため
のPMOSトランジスタから構成されることにより、デ
ータ感知動作中にはプリチャージ動作をディスエーブル
させて電流の消費を防止する。
感知増幅器において、前記データ感知イネーブル部は感
知増幅器イネーブル信号がゲートに印加される第1及び
第2NMOSトランジスタから構成され、メモリセルの
データによる前記ビットラインの電圧を第1NMOSト
ランジスタを通じて前記データ感知部の第1入力信号と
して伝達し、前記ダミーラインの電圧を第2NMOSト
ランジスタを通じて前記データ感知部の第2入力信号と
して伝達する。
おいて、データ感知部はデータ感知イネーブル部を通じ
て印加される第1入力信号をゲート入力信号とする、P
MOSトランジスタとNMOSトランジスタから構成さ
れた第1CMOSインバータと、第2入力信号をゲート
入力信号とするPMOSトランジスタとNMOSトラン
ジスタから構成された第2CMOSインバータとからな
って、その出力をデータ出力信号として出力し、第1及
び第2CMOSインバータの出力が第2及び第1CMO
Sインバータにフィードバックされて第1及び第2入力
信号をラッチする。
てメモリセルのデータを感知することにより、データの
高速感知が可能であり、PMOSトランジスタとNMO
Sトランジスタが同時にターンオンされることを防止
し、インバータの入力としてフルスイングの電圧信号を
印加する。
知増幅器の詳細回路図を示す図面である。
マスクROMの感知増幅器は図2の感知増幅器と同様
に、メモリセル71の連結されているビットライン73
とダミーセル72の連結されているダミーライン74を
等化器( 図示せず) ら印加される等化信号/EQによっ
て一定電圧にプリチャージさせるためのプリチャージ回
路30と、ビットライン73及びダミーライン74の電
圧を第1及び第2入力信号としてメモリセル71のデー
タを感知し、感知された信号を出力信号SAout として出
力するデータ感知回路40を備える。また、本発明の実
施例による半導体メモリ装置の感知増幅器は感知増幅器
イネーブル信号に基づいて前記データ感知回路40のデ
ータ感知動作中にはプリチャージ回路30をディスエー
ブルさせ、データ感知回路40がデータ感知動作中でな
い場合にはプリチャージ回路30がビットライン73と
ビットライン74を一定電圧にプリチャージさせるよう
にプリチャージ回路30をイネーブルさせるプリチャー
ジイネーブル部50と、感知増幅器イネーブル信号SE
に基づいてメモリセル71のデータによるビットライン
73の電圧及びダミーライン74の電圧をそれぞれ第1
及び第2入力信号としてデータ感知回路40に伝達する
ためのデータ感知イネーブル部60とを備える。
て、プリチャージ回路30の構成は図1のプリチャージ
回路と構成がほぼ同様である。つまり、外部から印加さ
れる等加信号/EQによってビットライン73を一定電
圧にプリチャージさせるための第1乃至第3PMOSト
ランジスタPT31〜PT33と、ダミーライン74を
一定電圧にプリチャージさせるための第4乃至第6PO
MSトランジスタPT33〜PT35から構成される。
この時、本発明のプリチャージ回路30はプリチャージ
イネーブル部50によってディスエーブル或いはイネー
ブルされる。
ル部60を通じて印加されるビットライン73の電圧で
ある第1入力信号がゲート入力信号としてそれぞれ印加
され、電源VDDと接地との間に直列連結される第7P
MOSトランジスタPT41と第1NMOSトランジス
タNT41とから構成される第1CMOSインバータ
と、データ感知イネーブル部60を通じて印加されるダ
ミーライン74の電圧である第2入力信号がゲート入力
信号としてそれぞれ印加され、電源電圧VDDと接地V
SSとの間にそれぞれ直列連結される第8PMOSトラ
ンジスタPT42と第2NMOSトランジスタNT42
とから構成され、その出力をデータ出力信号SAout とし
て出力する。図3を参照すると、第1及び第2CMOS
インバータはそれぞれその出力が互いに異なるCMOS
インバータの入力によってフィードバックされ、データ
感知イネーブル部60を通じて印加される第1及び第2
入力信号をラッチする。
て、プリチャージイネーブル部50は、ソースに電源電
圧VDDに印加され、ゲートに感知増幅器イネーブル信
号SEが印加され、ドレインが前記プリチャージ回路3
0に連結された第9PMOSトランジスタPT51から
構成される。
知増幅器イネーブル信号SEがLOW状態のときにPM
OSトランジスタPT51がターンオンされて電源電圧
VDDをプリチャージ回路30に印加することにより、
プリチャージ回路30はビットライン73とダミーライ
ン74を一定電圧にプリチャージさせる。一方、感知増
幅器イネーブル信号SEがHIGH状態のときにPMO
SトランジスタPT51がターンオフされて電源電圧V
DDがプリチャージ回路30に印加されることを遮断す
ることにより、プリチャージ回路30はビットライン7
3とダミーライン74の電圧をプリチャージすることが
できなくなる。
感知増幅器イネーブル信号SEによってメモリセル71
のデータによる前記ビットライン73の電圧をデータ感
知回路40の第1入力信号として印加するための第1イ
ネーブル手段と、前記感知増幅器イネーブル信号SEに
よってダミーライン74の電圧を前記データ感知回路4
0の第2入力信号として印加するための第2イネーブル
手段とからなる。
ネーブル手段は、感知増幅器イネーブル信号SEがゲー
トに印加され、ドレインが前記ビットライン73に連結
され、ソースが前記データ感知回路40に連結された第
3NMOSトランジスタNT61からなって、前記感知
増幅器イネーブル信号SEによってメモリセル71のデ
ータによるビットライン73の電圧を前記データ感知回
路40の第1入力信号として印加する。
ネーブル手段は感知増幅器イネーブル信号SEがゲート
に印加され、ドレインが前記ダミーライン74に連結さ
れ、ソースが前記データ感知回路40に連結された第4
NMOSトランジスタNT62からなって、前記感知増
幅器イネーブル信号SEによってダミーライン74の電
圧を前記データ感知回路40の第2入力信号として印加
する。
器の動作を説明すると下記の通りである。
1のデータを感知する感知動作区間でない場合には、外
部から印加される感知増幅器イネーブル信号SEがLO
W状態になって、プリチャージイネーブル部50及びデ
ータ感知イネーブル部60に印加される。従って、プリ
チャージイネーブル部50のPMOSトランジスタPT
51が感知増幅器イネーブル信号SEによって駆動され
て電源電圧VDDをプリチャージ部30に印加する。こ
れによって、プリチャージ部30は外部から印加される
等化信号/EQによってビットライン73とダミーライ
ン74を一定電圧にプリチャージさせる。
NMOSトランジスタNT61,NT62が両方とも感
知増幅器イネーブル信号SEによってターンオフされ
て、ビットライン73の電圧及びダミーライン74の電
圧である第1及び第2入力信号がデータ感知部40に印
加されることを遮断する。従って、データ感知部40は
データ感知動作を遂行しない。
セルのデータを感知する感知動作区間では、外部から印
加される感知増幅器イネーブル信号SEはHIGH状態
になってプリチャージイネーブル部50のPMOSトラ
ンジスタPT51がターンオフして、電源電圧VDDが
プリチャージ部30に印加されることを遮断することに
より、プリチャージ部30はデータ感知区間ではプリチ
ャージ動作を遂行しない。
知増幅器イネーブル信号SEによってNMOSトランジ
スタNT61,NT62がターンオンされてビットライ
ン73の電圧及びダミーライン74の電圧が第1及び第
2入力信号としてデータ感知部40に印加される。
60を通じて印加される第1及び第2入力信号を入力し
てメモリセルのデータを感知増幅することにより、イン
バータ75を通じて出力信号SAout として出力する。例
えば、メモリセルのデータによってビットライン73の
電圧がダミーライン74の電圧より高くてノードaの電
位がノードbの電位より高い場合には、即ち第1入力信
号がHIGH状態で第2入力信号がLOW状態である場
合には、第1入力信号によって第1インバータのNMO
SトランジスタNT41がターンオンされ、第2入力信
号により第2インバータのPMOSトランジスタ(PT
42)がターンオンしてノードcはHIGH状態、ノー
ドdはLOW状態になる。
H状態の出力はインバータ75を通じて出力信号SAout
として出力する。そして、第1及び第2CMOSインバ
ータの各出力は互いに異なるCMOSインバータの入力
としてフィードバックされることにより、ノードcとd
の電位はそれぞれHIGH状態及びLOW状態にラッチ
される。
ライン73の電圧がダミーライン74の電圧より低くて
ノードa電位がノードbの電位より低い場合、即ち第1
入力信号がLOW状態であり、第2入力信号がHIGH
状態である場合には、LOW状態の第1入力信号によっ
て第1CMOSインバータのPMOSトランジスタPT
41がターンオンされてノードdはHIGH状態にな
る。そして、第2入力信号によって第2インバータのN
MOSトランジスタNT42がターンオンされてノード
cはLOW状態になる。
力はインバータ75を通じて出力信号SAout として出力
される。そして、第1及び第2CMOSインバータの各
出力は互いに異なるCMOSインバータによってノード
cとdの電位はそれぞれLOW状態及びHIGH状態に
ラッチする。
感知回路を高速のCMOSインバータで構成することに
より、データ感知動作を迅速に行ってインバータ75を
通じて出力する。
のPMOSトランジスタとNMOSトランジスタが同時
にターンオンしてインバータ75の入力としてフルスイ
ングの電圧を印加することができなかった。しかし、本
発明の感知増幅器は、第1CMOSインバータを構成す
るPMOSトランジスタPT41とNMOSトランジス
タNT41が同時にターンオンするか、または第2CM
OSインバータを構成するPMOSトランジスタPT4
2とNMOSトランジスタNT42が同時にターンオン
する現象が発生しないので、インバータの入力としてフ
ルスイングの電圧が印加される。
イネーブル信号SEによってプリチャージイネーブル部
50がプリチャージ回路30を制御する。つまり、デー
タ感知動作以外の区間ではプリチャージイネーブル部5
0は電源電圧がプリチャージ部30に印加されることを
遮断してプリチャージ動作をディスエーブルさせること
により、従来のようにデータ感知動作以外にも常時プリ
チャージ用PMOSトランジスタがターンオンすること
による電流の流れを防止することができる。
従来とは異なり電流ミラーを利用せずにCMOSインバ
ータのラッチ特性を利用してメモリセルのデータを感知
することにより、データの高速感知が可能であり、PM
OSトランジスタとNMOSトランジスタが同時にター
ンオンすることによる電流の流れを防止することができ
るのみならず、インバータの入力としてフルスイングの
電圧信号を印加することができる利点がある。
である。
である。
器の詳細回路図である。
て、プリチャージ回路30の構成は図1のプリチャージ
回路と構成がほぼ同様である。つまり、外部から印加さ
れる等加信号/EQによってビットライン73を一定電
圧にプリチャージさせるための第1乃至第3PMOSト
ランジスタPT31〜PT33と、ダミーライン74を
一定電圧にプリチャージさせるための第4乃至第6PO
MSトランジスタPT33〜PT35から構成される。
この時、本発明のプリチャージ回路30はプリチャージ
イネーブル部50によってディスエーブル或いはイネー
ブルされる。
Claims (7)
- 【請求項1】 ダミーセルの連結されているダミーライ
ンとメモリセルの連結されているビットラインの電圧差
を感知してメモリセルのデータとして出力する半導体メ
モリ装置において、 外部から印加される等化信号によってダミーラインとビ
ットラインを一定電圧にプリチャージさせるためのプリ
チャージ部と、 外部から印化される感知増幅器イネーブル信号によって
ビットラインの電圧とダミーラインの電圧をそれぞれ第
1及び第2入力信号としてラッチし、メモリセルのデー
タを感知して出力信号として出力するデータ感知部と、 外部から印化される感知増幅器イネーブル信号によって
データ感知動作中にはプリチャージ部のプリチャージ動
作をディスエーブルさせ、それ以外ではプリチャージ部
のプリチャージ動作をイネーブルさせるためのプリチャ
ージイネーブル部と、 外部から印加される感知増幅器イネーブル信号に基づい
てメモリセルのデータによるビットラインとダミーライ
ンの電圧をそれぞれ第1及び第2入力信号として前記デ
ータ感知部に伝達するためのデータ感知イネーブル部と
を含むことを特徴とする半導体メモリ装置の感知増幅
器。 - 【請求項2】 前記プリチャージイネーブル部は、ソー
スに電源電圧が印加され、ゲートに外部から感知増幅器
イネーブル信号が印加され、ドレインに前記データ感知
部が連結されるPMOSトランジスタから構成されるこ
とを特徴とする請求項1記載の半導体メモリ装置の感知
増幅器。 - 【請求項3】 前記データ感知イネーブル部は前記感知
増幅器イネーブル信号に基づいてメモリセルのデータに
よるビットラインの電圧を前記データ感知部の第1入力
信号として伝達するための第1イネーブル手段と、 前記感知増幅器イネーブル信号に基づいて前記ダミーラ
インの電圧を前記データ感知部の第2入力信号として伝
達するための第2イネーブル手段とを含んでなることを
特徴とする請求項1記載の半導体メモリ装置の感知増幅
器。 - 【請求項4】 前記データ感知イネーブル部の第1イネ
ーブル手段は、前記感知増幅器イネーブル信号がゲート
に印加され、ソースが前記データ感知部に連結さればド
レインは前記ビットラインに連結され、メモリセルのデ
ータによるビットラインの電圧を前記データ感知部の第
1入力信号として伝達するための第1NMOSトランジ
スタから構成されることを特徴とする請求項3記載の半
導体メモリ装置の感知増幅器。 - 【請求項5】 前記データ感知イネーブル部の第2イネ
ーブル手段は、前記感知増幅器イネーブル信号がゲート
に印加され、ドレインが前記ダミーラインに連結され、
ソースが前記データ感知部に連結され、前記ダミーライ
ンの電圧をデータ感知部の第2入力信号として伝達する
ための第2NMOSトランジスタから構成されることを
特徴とする請求項3記載の半導体メモリ装置の感知増幅
器。 - 【請求項6】 前記データ感知部は、前記データ感知イ
ネーブル部を通じて印加される第1入力信号が印加さ
れ、電源電圧と接地との間に直列連結される第1CMO
Sインバータと、 前記データ感知イネーブル部を通じて印加される第2入
力信号が印加され、電源電圧と接地との間に直列連結さ
れる第2CMOSインバータとを含んでなることを特徴
とする請求項1記載の半導体メモリ装置の感知増幅器。 - 【請求項7】 前記データ感知部の第1CMOSインバ
ータと第2CMOSインバータの出力が互いに異なる入
力としてフィードバックされるように構成され、データ
感知イネーブル部から印加される第1及び第2入力信号
をラッチすることを特徴とする請求項6記載の半導体メ
モリ装置の感知増幅器。
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