JPH10123651A - ハロゲン化銀写真感光材料および画像形成方法 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料および画像形成方法Info
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- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 36
- -1 Silver halide Chemical class 0.000 title claims description 96
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 33
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims description 33
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims description 33
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 29
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 16
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 14
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 10
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 239000000298 carbocyanine Substances 0.000 claims abstract description 3
- QWYZFXLSWMXLDM-UHFFFAOYSA-M pinacyanol iodide Chemical compound [I-].C1=CC2=CC=CC=C2N(CC)C1=CC=CC1=CC=C(C=CC=C2)C2=[N+]1CC QWYZFXLSWMXLDM-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 3
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 8
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 2
- 230000021615 conjugation Effects 0.000 claims 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 19
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 abstract 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 33
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 25
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 25
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 18
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 16
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 16
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 11
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 9
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 9
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 9
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 9
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 9
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 8
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 7
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 6
- PYWQACMPJZLKOQ-UHFFFAOYSA-N 1,3-tellurazole Chemical compound [Te]1C=CN=C1 PYWQACMPJZLKOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical class C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 4
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical compound [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzothiazole Chemical class C1=CC=C2C(N=CS3)=C3C=CC2=C1 KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 4
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- WKKIRKUKAAAUNL-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzotellurazole Chemical class C1=CC=C2[Te]C=NC2=C1 WKKIRKUKAAAUNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical class C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 3
- WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzoxazole Chemical class C1=CC=C2C(N=CO3)=C3C=CC2=C1 WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000006664 bond formation reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 3
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 3
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 3
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 3
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 3
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoselenazole Chemical class C1=CC=C2[se]C=NC2=C1 AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRFNBEZIAWKNCO-UHFFFAOYSA-N 3-pyridinol Chemical compound OC1=CC=CN=C1 GRFNBEZIAWKNCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MVVFUAACPKXXKJ-UHFFFAOYSA-N 4,5-dihydro-1,3-selenazole Chemical class C1CN=C[Se]1 MVVFUAACPKXXKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QMHIMXFNBOYPND-UHFFFAOYSA-N 4-methylthiazole Chemical compound CC1=CSC=N1 QMHIMXFNBOYPND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AAKPXIJKSNGOCO-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-1,3-benzothiazole Chemical compound C=1C=C2SC=NC2=CC=1C1=CC=CC=C1 AAKPXIJKSNGOCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical class [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 2
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 150000001556 benzimidazoles Chemical class 0.000 description 2
- AMTXUWGBSGZXCJ-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzoselenazole Chemical class C1=CC=C2C(N=C[se]3)=C3C=CC2=C1 AMTXUWGBSGZXCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 2
- 229910021472 group 8 element Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 2
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 2
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002916 oxazoles Chemical class 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical class [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920000120 polyethyl acrylate Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 150000003248 quinolines Chemical class 0.000 description 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 2
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 125000005415 substituted alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 2
- CSUFEOXMCRPQBB-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrafluoropropan-1-ol Chemical compound CC(F)(F)C(O)(F)F CSUFEOXMCRPQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUJOCRCAIOAPFK-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoselenazol-5-ol Chemical compound OC1=CC=C2[se]C=NC2=C1 UUJOCRCAIOAPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBIZQDIIVYJNRS-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-5-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2SC=NC2=C1 RBIZQDIIVYJNRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPPYOQWUJKAFSG-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazol-5-ol Chemical compound OC1=CC=C2OC=NC2=C1 UPPYOQWUJKAFSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAHAKBXWZLDNAA-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazol-6-ol Chemical compound OC1=CC=C2N=COC2=C1 SAHAKBXWZLDNAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJBOXEGAWJHKIM-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole-5-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2OC=NC2=C1 WJBOXEGAWJHKIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOBDFTUDYRPGJY-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(ethenylsulfonyl)propan-2-ol Chemical compound C=CS(=O)(=O)CC(O)CS(=O)(=O)C=C SOBDFTUDYRPGJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTDUGNCNZNUGLP-UHFFFAOYSA-N 1,3-diethyl-2h-imidazo[4,5-b]quinoxaline Chemical compound C1=CC=C2N=C3N(CC)CN(CC)C3=NC2=C1 GTDUGNCNZNUGLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEARPMOICNRYEK-UHFFFAOYSA-N 1-(disulfanyl)hexane Chemical compound CCCCCCSS SEARPMOICNRYEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCTIZUUFUMDWEH-UHFFFAOYSA-N 1h-imidazo[4,5-b]quinoxaline Chemical class C1=CC=C2N=C(NC=N3)C3=NC2=C1 FCTIZUUFUMDWEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALUQMCBDQKDRAK-UHFFFAOYSA-N 2,3,3a,4-tetrahydro-1,3-benzothiazole Chemical compound C1C=CC=C2SCNC21 ALUQMCBDQKDRAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000143 2-carboxyethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004180 3-fluorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(F)=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004208 3-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C([H])C(*)=C1[H] 0.000 description 1
- QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl Chemical group [CH2]CCO QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCCNHYWZYYIOFM-UHFFFAOYSA-N 3h-benzo[e]benzimidazole Chemical class C1=CC=C2C(N=CN3)=C3C=CC2=C1 HCCNHYWZYYIOFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOAMXHRRVFDWRQ-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethyl-5h-1,3-oxazole Chemical compound CC1(C)COC=N1 KOAMXHRRVFDWRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWSONZCNXUSTKW-UHFFFAOYSA-N 4,5-Dimethylthiazole Chemical compound CC=1N=CSC=1C UWSONZCNXUSTKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODKHOKLXMBWVOQ-UHFFFAOYSA-N 4,5-diphenyl-1,3-oxazole Chemical compound O1C=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 ODKHOKLXMBWVOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGTVICKPWACXLR-UHFFFAOYSA-N 4,5-diphenyl-1,3-thiazole Chemical compound S1C=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 BGTVICKPWACXLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPHGOBGXZQKCKI-UHFFFAOYSA-N 4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical compound N1C=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 CPHGOBGXZQKCKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTBTXIYPSLTRGQ-UHFFFAOYSA-N 4,6-dimethyl-1,3-benzothiazole Chemical compound CC1=CC(C)=C2N=CSC2=C1 MTBTXIYPSLTRGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFEPGHPDQJOYGG-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-1,3-benzothiazole Chemical compound ClC1=CC=CC2=C1N=CS2 IFEPGHPDQJOYGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQPBBURQQRLAKF-UHFFFAOYSA-N 4-ethyl-1,3-oxazole Chemical compound CCC1=COC=N1 GQPBBURQQRLAKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIUXNZAIHQAHBY-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1,3-benzothiazole Chemical compound CC1=CC=CC2=C1N=CS2 PIUXNZAIHQAHBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUMREIFKTMLCAF-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1,3-oxazole Chemical compound CC1=COC=N1 PUMREIFKTMLCAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJATXNRFAXUVCU-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1,3-selenazole Chemical compound CC1=C[se]C=N1 BJATXNRFAXUVCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYDSYBWMJBAOBK-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-4,5-dihydro-1,3-selenazole Chemical compound CC1C[Se]C=N1 RYDSYBWMJBAOBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRGCYOMCADXFJA-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-4,5-dihydro-1,3-thiazole Chemical compound CC1CSC=N1 SRGCYOMCADXFJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHAFJOZKMUPGRQ-UHFFFAOYSA-N 4-nitro-1,3-oxazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=COC=N1 GHAFJOZKMUPGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLCQHHLQESOBFS-UHFFFAOYSA-N 4-nitro-1,3-selenazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=C[se]C=N1 HLCQHHLQESOBFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYOHYDBDFCXPIE-UHFFFAOYSA-N 4-nitro-4,5-dihydro-1,3-thiazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1CSC=N1 XYOHYDBDFCXPIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTFMLYSGIKHECT-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-1,3-oxazole Chemical compound O1C=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1 NTFMLYSGIKHECT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLBGDGWUZBTFHT-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-1,3-selenazole Chemical compound [se]1C=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1 MLBGDGWUZBTFHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXCQDIWJQBSUJF-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-1,3-thiazole Chemical compound S1C=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1 KXCQDIWJQBSUJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYXKRZZFKJHDRT-UHFFFAOYSA-N 5,6-dimethoxy-1,3-benzothiazole Chemical compound C1=C(OC)C(OC)=CC2=C1SC=N2 HYXKRZZFKJHDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCIFOTJBTWDDQO-UHFFFAOYSA-N 5,6-dimethyl-1,3-benzoselenazole Chemical compound C1=C(C)C(C)=CC2=C1[se]C=N2 CCIFOTJBTWDDQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMUXKZBRYRPIPQ-UHFFFAOYSA-N 5,6-dimethyl-1,3-benzothiazole Chemical compound C1=C(C)C(C)=CC2=C1SC=N2 QMUXKZBRYRPIPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWNMLYACWNIEIG-UHFFFAOYSA-N 5,6-dimethyl-1,3-benzoxazole Chemical compound C1=C(C)C(C)=CC2=C1OC=N2 RWNMLYACWNIEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDJLLCBDLMEGEI-UHFFFAOYSA-N 5-(2-phenylethyl)-1,3-benzothiazole Chemical compound C=1C=C2SC=NC2=CC=1CCC1=CC=CC=C1 QDJLLCBDLMEGEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYKOEMQMBVZOSI-UHFFFAOYSA-N 5-(trifluoromethyl)-1,3-benzoxazole Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=C2OC=NC2=C1 IYKOEMQMBVZOSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFDDRUWQFQJGNL-UHFFFAOYSA-N 5-bromo-1,3-benzothiazole Chemical compound BrC1=CC=C2SC=NC2=C1 KFDDRUWQFQJGNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGOGTWDYLFKOHI-UHFFFAOYSA-N 5-bromo-1,3-benzoxazole Chemical compound BrC1=CC=C2OC=NC2=C1 PGOGTWDYLFKOHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUMYZVKQCMCQHJ-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-1,3-benzoselenazole Chemical compound ClC1=CC=C2[se]C=NC2=C1 DUMYZVKQCMCQHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTSFYTDPSSFCLU-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-1,3-benzothiazole Chemical compound ClC1=CC=C2SC=NC2=C1 YTSFYTDPSSFCLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWMQXAYLHOSRKA-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-1,3-benzoxazole Chemical compound ClC1=CC=C2OC=NC2=C1 VWMQXAYLHOSRKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFVJWDZJRWPOLZ-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-6-methyl-1,3-benzothiazole Chemical compound C1=C(Cl)C(C)=CC2=C1N=CS2 DFVJWDZJRWPOLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHUCWAWLNRUVMN-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-6-nitro-1,3-benzoselenazole Chemical compound C1=C(Cl)C([N+](=O)[O-])=CC2=C1N=C[se]2 NHUCWAWLNRUVMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWKNDCJHRNOQAR-UHFFFAOYSA-N 5-ethoxy-1,3-benzothiazole Chemical compound CCOC1=CC=C2SC=NC2=C1 GWKNDCJHRNOQAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHWNEQOZIDVGJS-UHFFFAOYSA-N 5-ethoxy-1,3-benzoxazole Chemical compound CCOC1=CC=C2OC=NC2=C1 MHWNEQOZIDVGJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANEKYSBZODRVRB-UHFFFAOYSA-N 5-fluoro-1,3-benzothiazole Chemical compound FC1=CC=C2SC=NC2=C1 ANEKYSBZODRVRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRMPAEOUOPNNPZ-UHFFFAOYSA-N 5-fluoro-1,3-benzoxazole Chemical compound FC1=CC=C2OC=NC2=C1 ZRMPAEOUOPNNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLKZKYSZPVHLDK-UHFFFAOYSA-N 5-iodo-1,3-benzothiazole Chemical compound IC1=CC=C2SC=NC2=C1 GLKZKYSZPVHLDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHIHYPVDBXEDMN-UHFFFAOYSA-N 5-methoxy-1,3-benzoselenazole Chemical compound COC1=CC=C2[se]C=NC2=C1 AHIHYPVDBXEDMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJKZDLZKILFNF-UHFFFAOYSA-N 5-methoxy-1,3-benzothiazole Chemical compound COC1=CC=C2SC=NC2=C1 PNJKZDLZKILFNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQQKXTVYGHYXFX-UHFFFAOYSA-N 5-methoxy-1,3-benzoxazole Chemical compound COC1=CC=C2OC=NC2=C1 IQQKXTVYGHYXFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQPFOZJCILBANS-UHFFFAOYSA-N 5-methoxybenzo[e][1,3]benzothiazole Chemical compound C12=CC=CC=C2C(OC)=CC2=C1N=CS2 PQPFOZJCILBANS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TTWTXOMTJQBYPG-UHFFFAOYSA-N 5-methoxybenzo[f][1,3]benzothiazole Chemical compound C1=C2C(OC)=CC=CC2=CC2=C1N=CS2 TTWTXOMTJQBYPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEBIXVUYSFOUEL-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1,3-benzothiazole Chemical compound CC1=CC=C2SC=NC2=C1 SEBIXVUYSFOUEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBIAVBGIRDRQLD-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1,3-benzoxazole Chemical compound CC1=CC=C2OC=NC2=C1 UBIAVBGIRDRQLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYMHCFYHVYGFMS-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1,3-oxazole Chemical compound CC1=CN=CO1 ZYMHCFYHVYGFMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1H-benzotriazole Chemical compound C1=C(C)C=CC2=NNN=C21 LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVVVSWNKYQPSEP-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-1,3-benzoselenazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2[se]C=NC2=C1 JVVVSWNKYQPSEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AEUQLELVLDMMKB-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-1,3-benzothiazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2SC=NC2=C1 AEUQLELVLDMMKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNEOLRFGVQZMLA-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-1,3-benzoxazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2OC=NC2=C1 MNEOLRFGVQZMLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOJQAWKPOGMOHO-UHFFFAOYSA-N 5-nitrobenzo[g][1,3]benzoxazole Chemical compound C12=CC=CC=C2C([N+](=O)[O-])=CC2=C1OC=N2 ZOJQAWKPOGMOHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIFNXGHHDAXUGO-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-1,3-benzoxazole Chemical compound C=1C=C2OC=NC2=CC=1C1=CC=CC=C1 NIFNXGHHDAXUGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJOUISWKEOXIMC-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-1,3-benzothiazole Chemical compound BrC1=CC=C2N=CSC2=C1 YJOUISWKEOXIMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIBQGOMAISTKSR-UHFFFAOYSA-N 6-chloro-1,3-benzothiazole Chemical compound ClC1=CC=C2N=CSC2=C1 AIBQGOMAISTKSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJOOKXUUVWIARB-UHFFFAOYSA-N 6-chloro-1,3-benzoxazole Chemical compound ClC1=CC=C2N=COC2=C1 JJOOKXUUVWIARB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHOIGFLSEXUWNV-UHFFFAOYSA-N 6-methoxy-1,3-benzothiazole Chemical compound COC1=CC=C2N=CSC2=C1 AHOIGFLSEXUWNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKYKJYSYSGEDCG-UHFFFAOYSA-N 6-methoxy-1,3-benzoxazole Chemical compound COC1=CC=C2N=COC2=C1 FKYKJYSYSGEDCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCJCAMHJUCETPI-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-1,3-benzothiazol-5-ol Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC2=C1N=CS2 XCJCAMHJUCETPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVKILQAPNDCUNJ-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-1,3-benzothiazole Chemical compound CC1=CC=C2N=CSC2=C1 IVKILQAPNDCUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZWNDAUMBWLYOQ-UHFFFAOYSA-N 6-methylbenzoxazole Chemical compound CC1=CC=C2N=COC2=C1 SZWNDAUMBWLYOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDFHXKQVTNRYLQ-UHFFFAOYSA-N 6-nitro-1,3-benzoselenazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2N=C[se]C2=C1 KDFHXKQVTNRYLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNESGHWUVLNAML-UHFFFAOYSA-N 6-nitro-1,3-benzoxazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2N=COC2=C1 NNESGHWUVLNAML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLUBSUXEOQBUFZ-UHFFFAOYSA-N 7-ethoxybenzo[g][1,3]benzothiazole Chemical compound C1=CC2=CC(OCC)=CC=C2C2=C1N=CS2 PLUBSUXEOQBUFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVKTXAJDKKMNFM-UHFFFAOYSA-N 8-methoxybenzo[g][1,3]benzothiazole Chemical compound C12=CC(OC)=CC=C2C=CC2=C1SC=N2 YVKTXAJDKKMNFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005493 Chloridazon (aka pyrazone) Substances 0.000 description 1
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRNKZYRMFBGSGE-UHFFFAOYSA-N [1,2,4]triazolo[1,5-a]pyrimidine Chemical compound N1=CC=CN2N=CN=C21 SRNKZYRMFBGSGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZVQCMJNVPIDEA-UHFFFAOYSA-N [CH2]CN(CC)CC Chemical group [CH2]CN(CC)CC MZVQCMJNVPIDEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 235000011126 aluminium potassium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N ammonium thiosulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])(=O)=S XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940121375 antifungal agent Drugs 0.000 description 1
- 239000003429 antifungal agent Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940077388 benzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M benzenesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HJLDPBXWNCCXGM-UHFFFAOYSA-N benzo[f][1,3]benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2C=C(SC=N3)C3=CC2=C1 HJLDPBXWNCCXGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYTPOXPRHJKGHD-UHFFFAOYSA-N benzo[f][1,3]benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2C=C(OC=N3)C3=CC2=C1 GYTPOXPRHJKGHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEICFDLIJMHYQB-UHFFFAOYSA-N benzo[g][1,3]benzoselenazole Chemical compound C1=CC=CC2=C([se]C=N3)C3=CC=C21 IEICFDLIJMHYQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIUUNAJWKSTFPF-UHFFFAOYSA-N benzo[g][1,3]benzothiazole Chemical compound C1=CC=CC2=C(SC=N3)C3=CC=C21 IIUUNAJWKSTFPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVVBQOJNXLFIIG-UHFFFAOYSA-N benzo[g][1,3]benzoxazole Chemical compound C1=CC=CC2=C(OC=N3)C3=CC=C21 BVVBQOJNXLFIIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- WYKYKTKDBLFHCY-UHFFFAOYSA-N chloridazon Chemical compound O=C1C(Cl)=C(N)C=NN1C1=CC=CC=C1 WYKYKTKDBLFHCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 238000001246 colloidal dispersion Methods 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 1
- SAIGUZYNPDJAHY-UHFFFAOYSA-N ethane;2-ethenylsulfonylacetamide Chemical compound CC.NC(=O)CS(=O)(=O)C=C SAIGUZYNPDJAHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005448 ethoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- ZSBYCGYHRQGYNA-UHFFFAOYSA-N ethyl 1,3-benzothiazole-5-carboxylate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C2SC=NC2=C1 ZSBYCGYHRQGYNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000005189 flocculation Methods 0.000 description 1
- 230000016615 flocculation Effects 0.000 description 1
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 125000003453 indazolyl group Chemical class N1N=C(C2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M iodide Chemical compound [I-] XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical class [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002537 isoquinolines Chemical class 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 125000000040 m-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000006053 organic reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical class [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000002918 oxazolines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- 125000000636 p-nitrophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)[N+]([O-])=O 0.000 description 1
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004817 pentamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 125000006678 phenoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229960005323 phenoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940050271 potassium alum Drugs 0.000 description 1
- GRLPQNLYRHEGIJ-UHFFFAOYSA-J potassium aluminium sulfate Chemical compound [Al+3].[K+].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O GRLPQNLYRHEGIJ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006410 propenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003230 pyrimidines Chemical class 0.000 description 1
- GZTPJDLYPMPRDF-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-c]pyrazole Chemical compound N1=NC2=CC=NC2=C1 GZTPJDLYPMPRDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N quinoxaline Chemical compound N1=CC=NC2=CC=CC=C21 XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical class [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N silver bromoiodide Chemical compound [Ag].IBr ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 1
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000005017 substituted alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000475 sulfinyl group Chemical group [*:2]S([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006296 sulfonyl amino group Chemical group [H]N(*)S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 150000003536 tetrazoles Chemical class 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004867 thiadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- CBDKQYKMCICBOF-UHFFFAOYSA-N thiazoline Chemical compound C1CN=CS1 CBDKQYKMCICBOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003549 thiazolines Chemical class 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 239000012463 white pigment Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】高コントラストでかつ赤ないし赤外光に対する
感度が高い写真特性を有するハロゲン化銀写真感光材料
及びこれを用いた画像形成方法を提供する。 【解決手段】一般式(I)で表される化合物を含むハロ
ゲン化銀写真感光材料およびこれを用いた画像形成方
法。 【化1】 式中、R11、R22はアルキル基またはアリ−ル基を表
し、Zは5もしくは6員の含窒素複素環を完成するため
の原子群を表し、B1 、B2 、B3 、B4 、B5、B6
は水素原子または置換基を表し、L0 はカルボシアニン
もしくはジカルボシアニンの構造を完成するための共役
トリメチン鎖もしくは共役ペンタメチン鎖を表し、Xn-
はn価の陰イオンを表し、nは1以上の整数を表し、L
1 は2価の連結基を表し、Hetは5ないし7員の含窒
素複素環基を表し、jは0または1を表し、kは1、
2、または3を表す。
感度が高い写真特性を有するハロゲン化銀写真感光材料
及びこれを用いた画像形成方法を提供する。 【解決手段】一般式(I)で表される化合物を含むハロ
ゲン化銀写真感光材料およびこれを用いた画像形成方
法。 【化1】 式中、R11、R22はアルキル基またはアリ−ル基を表
し、Zは5もしくは6員の含窒素複素環を完成するため
の原子群を表し、B1 、B2 、B3 、B4 、B5、B6
は水素原子または置換基を表し、L0 はカルボシアニン
もしくはジカルボシアニンの構造を完成するための共役
トリメチン鎖もしくは共役ペンタメチン鎖を表し、Xn-
はn価の陰イオンを表し、nは1以上の整数を表し、L
1 は2価の連結基を表し、Hetは5ないし7員の含窒
素複素環基を表し、jは0または1を表し、kは1、
2、または3を表す。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は感度及び安定性の向
上したハロゲン化銀写真感光材料に関するものである。
上したハロゲン化銀写真感光材料に関するものである。
【0002】
【従来の技術】写真感光材料の露光方法の一つに、原図
を走査し、その画像信号に基づいてハロゲン化銀写真感
光材料上に露光を行い、原図の画像に対応するネガ画像
もしくはポジ画像を形成する所謂スキャナ−方式による
画像形成方法が知られている。スキャナ−方式による画
像形成方法を実用した記録装置は種々あり、これらのス
キャナ−方式記録装置の記録用、光源には従来グロ−ラ
ンプ、水銀ランプ、タングステンランプ、発光ダイオ−
ドなどが用いられてきた。しかしこれらの光源はいずれ
も出力が弱く寿命が短いという実用上の欠点を有してい
た。これらの欠点を補うものとして、Ne−Heレ−ザ
−、アルゴンレ−ザ−、He−Cdレ−ザ−などのコヒ
−レントなレ−ザ−光源をスキャナ−方式の光源として
用いるスキャナ−がある。これらは高出力が得られる装
置が大型であること、高価であること、変調器が必要で
あること、更に可視光を用いるため感光材料のセ−フラ
イトが制限されてしまい、取扱い性に劣るなどの欠点が
ある。これに対して半導体レ−ザ−は小型で、安価、し
かも変調が容易であり、上記レ−ザ−よりも長寿命で、
かつ赤外域に発光するため赤外域に感光性を有する感光
材料を用いると、明るいセ−フライトが使用できるた
め、取扱い作業性が良くなるという利点を有している。
を走査し、その画像信号に基づいてハロゲン化銀写真感
光材料上に露光を行い、原図の画像に対応するネガ画像
もしくはポジ画像を形成する所謂スキャナ−方式による
画像形成方法が知られている。スキャナ−方式による画
像形成方法を実用した記録装置は種々あり、これらのス
キャナ−方式記録装置の記録用、光源には従来グロ−ラ
ンプ、水銀ランプ、タングステンランプ、発光ダイオ−
ドなどが用いられてきた。しかしこれらの光源はいずれ
も出力が弱く寿命が短いという実用上の欠点を有してい
た。これらの欠点を補うものとして、Ne−Heレ−ザ
−、アルゴンレ−ザ−、He−Cdレ−ザ−などのコヒ
−レントなレ−ザ−光源をスキャナ−方式の光源として
用いるスキャナ−がある。これらは高出力が得られる装
置が大型であること、高価であること、変調器が必要で
あること、更に可視光を用いるため感光材料のセ−フラ
イトが制限されてしまい、取扱い性に劣るなどの欠点が
ある。これに対して半導体レ−ザ−は小型で、安価、し
かも変調が容易であり、上記レ−ザ−よりも長寿命で、
かつ赤外域に発光するため赤外域に感光性を有する感光
材料を用いると、明るいセ−フライトが使用できるた
め、取扱い作業性が良くなるという利点を有している。
【0003】しかしながら、現在使用できる半導体レ−
ザ−の出力は必ずしも高くないため、従来のスキャナ−
用感光材料の感度は大画面の走査露光を短時間で行うに
は不十分であった。したがって赤外域の感度を向上した
感光材料が求められていた。写真の感度を上げる方法と
して、ハロゲン化銀粒子の大きさを大きくしたり、種々
の化学増感剤を添加することが知られているがこれらの
方法は往々にして、銀画像の粒状性の悪化や、カブリの
出現といった好ましくない副作用があり、特に鮮鋭な画
質を要求されるスキャナ−用感材には適さなかった。米
国特許第4975362号には赤外感度の向上に有効で
あると主張されている増感色素が開示されているが、こ
れらの色素は種々の波長の光源に対して必ずしも十分高
い感度を与えるものではなかった。これらの欠点を補う
ため例えば特開平5−72659には高感度でかつ、保
存時の感度及びカブリの変化の小さいハロゲン化銀写真
感光材料が開示されているが、更に向上した感度や保存
安定性が求められていた。
ザ−の出力は必ずしも高くないため、従来のスキャナ−
用感光材料の感度は大画面の走査露光を短時間で行うに
は不十分であった。したがって赤外域の感度を向上した
感光材料が求められていた。写真の感度を上げる方法と
して、ハロゲン化銀粒子の大きさを大きくしたり、種々
の化学増感剤を添加することが知られているがこれらの
方法は往々にして、銀画像の粒状性の悪化や、カブリの
出現といった好ましくない副作用があり、特に鮮鋭な画
質を要求されるスキャナ−用感材には適さなかった。米
国特許第4975362号には赤外感度の向上に有効で
あると主張されている増感色素が開示されているが、こ
れらの色素は種々の波長の光源に対して必ずしも十分高
い感度を与えるものではなかった。これらの欠点を補う
ため例えば特開平5−72659には高感度でかつ、保
存時の感度及びカブリの変化の小さいハロゲン化銀写真
感光材料が開示されているが、更に向上した感度や保存
安定性が求められていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の課題は
高コントラストでかつ赤ないし赤外光に対する感度が十
分に高い写真特性を有するハロゲン化銀写真感光材料お
よびこれを用いた画像形成方法を提供することである。
高コントラストでかつ赤ないし赤外光に対する感度が十
分に高い写真特性を有するハロゲン化銀写真感光材料お
よびこれを用いた画像形成方法を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】上の課題は下記の
(1)、(2)によって達成された。 (1)下記一般式(I)で表される化合物を含有するこ
とを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 一般式(I)
(1)、(2)によって達成された。 (1)下記一般式(I)で表される化合物を含有するこ
とを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 一般式(I)
【0006】
【化2】
【0007】〔式中、R11、R22はアルキル基またはア
リ−ル基を表し、Zは5もしくは6員の含窒素複素環を
完成するための原子群を表し、B1 、B2 、B3 、
B4 、B 5 、B6 は水素原子または置換基を表し、L0
はカルボシアニンもしくはジカルボシアニンの構造を完
成するための共役トリメチン鎖もしくは共役ペンタメチ
ン鎖を表し、Xn-はn価の陰イオンを表し、nは1以上
の整数を表し、L1 は2価の連結基を表し、Hetは5
ないし7員の含窒素複素環基を表し、jは0または1を
表し、kは1、2、または3を表す。〕 (2)(1)に記載のハロゲン化銀写真感光材料に60
0nmないし900nmの波長域内の波長の光を用いて
露光することを特徴とする画像形成方法。
リ−ル基を表し、Zは5もしくは6員の含窒素複素環を
完成するための原子群を表し、B1 、B2 、B3 、
B4 、B 5 、B6 は水素原子または置換基を表し、L0
はカルボシアニンもしくはジカルボシアニンの構造を完
成するための共役トリメチン鎖もしくは共役ペンタメチ
ン鎖を表し、Xn-はn価の陰イオンを表し、nは1以上
の整数を表し、L1 は2価の連結基を表し、Hetは5
ないし7員の含窒素複素環基を表し、jは0または1を
表し、kは1、2、または3を表す。〕 (2)(1)に記載のハロゲン化銀写真感光材料に60
0nmないし900nmの波長域内の波長の光を用いて
露光することを特徴とする画像形成方法。
【0008】
【発明の実施の形態】R11、R22は各々同一または異っ
ていてもよく、アルキル基、アリール基を表わし、これ
らは未置換でも、置換されていてもよい。また、連結基
L1 または単結合であってもよい。好ましくはアルキル
基としては炭素数1〜18、より好ましくは炭素数1〜
8のアルキル基〔例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、ドデシル基、オクタデシル基な
ど〕、炭素数1〜18、より好ましくは1〜10の置換
アルキル基〔例えばベンジル基、フェネチル基、p−ス
ルホ−2−フェネチル基、2−ヒドロキシプロピル基、
3−ヒドロキシプロピル基、2−カルボキシエチル基、
3−カルボキシプロピル基、2−メトキシエチル基、2
−(2−メトキシエトキシ)エチル基、2−スルホエチ
ル基、3−スルホプロピル基、3−スルホブチル基、4
−スルホブチル基、2−(3−スルホプロポキシ)エチ
ル基、2−ヒドロキシ−3−スルホプロピル基、3−ス
ルファトプロピル基、2−(ピロリジン−2−オン−1
−イル)エチル基、テトラフルフリル基、3−アセトキ
シプロピル基、エトキシカルボニルエチル基、3−シア
ノプロピル基、2−メタンスルホニルアミノエチル基、
2−カルバモイルエチル基、2,2,3,3−テトラフ
ルオロプロピル基、2−エチルチオエチル基など〕、置
換および未置換のアリール基としては炭素数18以下、
より好ましくは10以下の置換および未置換のアリール
基〔例えばフェニル基、ナフチル基、トリル基、アニシ
ル基、4−クロロフェニル基、スルホフェニル基、カル
ボキシフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、3
−ヒドロキシフェニル基、3−クロロ−p−トリル基な
ど〕を表わす。
ていてもよく、アルキル基、アリール基を表わし、これ
らは未置換でも、置換されていてもよい。また、連結基
L1 または単結合であってもよい。好ましくはアルキル
基としては炭素数1〜18、より好ましくは炭素数1〜
8のアルキル基〔例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、ドデシル基、オクタデシル基な
ど〕、炭素数1〜18、より好ましくは1〜10の置換
アルキル基〔例えばベンジル基、フェネチル基、p−ス
ルホ−2−フェネチル基、2−ヒドロキシプロピル基、
3−ヒドロキシプロピル基、2−カルボキシエチル基、
3−カルボキシプロピル基、2−メトキシエチル基、2
−(2−メトキシエトキシ)エチル基、2−スルホエチ
ル基、3−スルホプロピル基、3−スルホブチル基、4
−スルホブチル基、2−(3−スルホプロポキシ)エチ
ル基、2−ヒドロキシ−3−スルホプロピル基、3−ス
ルファトプロピル基、2−(ピロリジン−2−オン−1
−イル)エチル基、テトラフルフリル基、3−アセトキ
シプロピル基、エトキシカルボニルエチル基、3−シア
ノプロピル基、2−メタンスルホニルアミノエチル基、
2−カルバモイルエチル基、2,2,3,3−テトラフ
ルオロプロピル基、2−エチルチオエチル基など〕、置
換および未置換のアリール基としては炭素数18以下、
より好ましくは10以下の置換および未置換のアリール
基〔例えばフェニル基、ナフチル基、トリル基、アニシ
ル基、4−クロロフェニル基、スルホフェニル基、カル
ボキシフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、3
−ヒドロキシフェニル基、3−クロロ−p−トリル基な
ど〕を表わす。
【0009】L0 で表わされる共役トリメチン鎖または
共役ペンタメチン鎖は例えば、−CH=CH−CH=または−
CH=CH−CH=CH−CH=で表わされる基であり、各水素原
子は置換基で置換されていてもよい。好ましい置換基と
しては、低級アルキル基(例えばメチル、エチル、ブチ
ル)、フェニル基、置換フェニル基(例えばクロロフェ
ニル基、メチルフェニル基、カルボキシフェニル基な
ど)、アラルキル基(例えばベンジル基)などが挙げら
れ、これらの置換基が相互に連結して環を形成していて
もよい。好ましい置換位置は中央の3個の炭素原子上で
あり、特に中央の炭素原子上が好ましい。
共役ペンタメチン鎖は例えば、−CH=CH−CH=または−
CH=CH−CH=CH−CH=で表わされる基であり、各水素原
子は置換基で置換されていてもよい。好ましい置換基と
しては、低級アルキル基(例えばメチル、エチル、ブチ
ル)、フェニル基、置換フェニル基(例えばクロロフェ
ニル基、メチルフェニル基、カルボキシフェニル基な
ど)、アラルキル基(例えばベンジル基)などが挙げら
れ、これらの置換基が相互に連結して環を形成していて
もよい。好ましい置換位置は中央の3個の炭素原子上で
あり、特に中央の炭素原子上が好ましい。
【0010】Zによって形成される核としては、チアゾ
ール核{チアゾール核(例えば、チアゾール、4−メチ
ルチアゾール、4−フェニルチアゾール、4,5−ジメ
チルチアゾール、4,5−ジフェニルチアゾール)、ベ
ンゾチアゾール核(例えば、ベンゾチアゾール、4−ク
ロロベンゾチアゾール、5−クロロベンゾチアゾール、
6−クロロベンゾチアゾール、5−ニトロベンゾチアゾ
ール、4−メチルベンゾチアゾール、5−メチルベンゾ
チアゾール、6−メチルベンゾチアゾール、5−ブロモ
ベンゾチアゾール、6−ブロモベンゾチアゾール、5−
ヨードベンゾチアゾール、5−フェニルベンゾチアゾー
ル、5−メトキシベンゾチアゾール、6−メトキシベン
ゾチアゾール、5−エトキシベンゾチアゾール、5−エ
トキシカルボニルベンゾチアゾール、5−カルボキシベ
ンゾチアゾール、5−フェネチルベンゾチアゾール、5
−フルオロベンゾチアゾール、5−クロロ−6−メチル
ベンゾチアゾール、5,6−ジメチルベンゾチアゾー
ル、5,6−ジメトキシベンゾチアゾール、5−ヒドロ
キシ−6−メチルベンゾチアゾール、テトラヒドロベン
ゾチアゾール、5−フェニルベンゾチアゾール)、ナフ
トチアゾール核(例えば、ナフト〔2,1−d〕チアゾ
ール、ナフト〔1,2−d〕チアゾール、ナフト〔2,
3−d〕チアゾール、5−メトキシナフト〔1,2−
d〕チアゾール、7−エトキシナフト〔2,1−d〕チ
アゾール、8−メトキシナフト〔2,1−d〕チアゾー
ル、5−メトキシナフト〔2,3−d〕チアゾー
ル)}、チアゾリン核(例えば、チアゾリン、4−メチ
ルチアゾリン、4−ニトロチアゾリン)、オキサゾール
核{オキサゾール核(例えば、オキサゾール、4−メチ
ルオキサゾール、4−ニトロオキサゾール、5−メチル
オキサゾール、4−フェニルオキサゾール、4,5−ジ
フェニルオキサゾール、4−エチルオキサゾール)、ベ
ンゾオキサゾール核(例えば、ベンゾオキサゾール、5
−クロロベンゾオキサゾール、5−メチルベンゾオキサ
ゾール、5−ブロモベンゾオキサゾール、5−フルオロ
ベンゾオキサゾール、5−フェニルベンゾオキサゾー
ル、5−メトキシベンゾオキサゾール、5−ニトロベン
ゾオキサゾール、5−トリフルオロメチルベンゾオキサ
ゾール、5−ヒドロキシベンゾオキサゾール、5−カル
ボキシベンゾオキサゾール、6−メチルベンゾオキサゾ
ール、6−クロロベンゾオキサゾール、6−ニトロベン
ゾオキサゾール、6−メトキシベンゾオキサゾール、6
−ヒドロキシベンゾオキサゾール、5,6−ジメチルベ
ンゾオキサゾール、4,6−ジメチルベンゾチアゾー
ル、5−エトキシベンゾオキサゾール)、ナフトオキサ
ゾール核(例えば、ナフト〔2,1−d〕オキサゾー
ル、ナフト〔1,2−d〕オキサゾール、ナフト〔2,
3−d〕オキサゾール、5−ニトロナフト〔2,1−
d〕オキサゾール)}、オキサゾリン核(例えば、4,
4−ジメチルオキサゾリン)、セレナゾール核{セレナ
ゾール核(例えば、4−メチルセレナゾール、4−ニト
ロセレナゾール、4−フェニルセレナゾール)、ベンゾ
セレナゾール核(例えば、ベンゾセレナゾール、5−ク
ロロベンゾセレナゾール、5−ニトロベンゾセレナゾー
ル、5−メトキシベンゾセレテゾール、5−ヒドロキシ
ベンゾセレナゾール、6−ニトロベンゾセレナゾール、
5−クロロ−6−ニトロベンゾセレナゾール、5,6−
ジメチルベンゾセレナゾール)、ナフトセレナゾール核
(例えば、ナフト〔2,1−d〕セレナゾール、ナフト
〔1,2−d〕セレナゾール)}、セレナゾリン核(例
えば、セレナゾリン、4−メチルセレナゾリン)、テル
ラゾール核{テルラゾール核(例えば、テルラゾール、
4−メチルテルラゾール、4−フェニルテルラゾー
ル)、ベンゾテルラゾール核(例えば、ベンゾテルラゾ
ール、5−クロロベンゾテルラゾール、5−メチルベン
ゾテルラゾール、5,6−ジメチルベンゾテルラゾー
ル、6−メトキシベンゾテルラゾール)、ナフトテルラ
ゾール核(例えば、ナフト〔2,1−d〕テルラゾー
ル、ナフト〔1,2−d〕テルラゾール)}、テルラゾ
リン核(例えば、テルラゾリン、4−メチルテルラゾリ
ン、3,3−ジアルキルインドレニン核(例えば、3,
3−ジメチルインドレニン)、3,3−ジエチルインド
レニン、3,3−ジメチル−5−シアノインドレニン、
3,3−ジメチル−6−ニトロインドレニン、3,3−
ジメチル−5−ニトロインドレニン、3,3−ジメチル
−5−メトキシインドレニン、3,3,5−メチルイン
ドレニン、3,3−ジメチル−5−クロロインドレニ
ン)、イミダゾール核{インダゾール核(例えば、1−
アルキルイミダゾール、1−アルキル−4−フェニルイ
ミダゾール、1−アリールイミダゾール)、ベンゾイミ
ダゾール核(例えば、1−アルキルベンゾイミダゾー
ル、1−アルキル−5−クロロベンゾイミダゾール、1
−アルキル−5,6−ジクロロベンゾイミダゾール、1
−アルキル−5−メトキシベンゾイミダゾール、1−ア
ルキル−5−シアノベンゾイミダゾール、1−アルキル
−5−フルオロベンゾイミダゾール、1−アルキル−5
−トリフルオロメチルベンゾイミダゾール、1−アルキ
ル−6−クロロ−5−シアノベンゾイミダゾール、1−
アルキル−6−クロロ−5−トリフルオロメチルベンゾ
イミダゾール、1−アリル−5,6−ジクロロベンゾイ
ミダゾール、1−アリル−5−クロロベンゾイミダゾー
ル、1−アリールベンゾイミダゾール、1−アリール−
5−クロロベンゾイミダゾール、1−アリール−5,6
−ジクロロベンゾイミダゾール、1−アリール−5−メ
トキシベンゾイミダゾール、1−アリール−5−シアノ
ベンゾイミダゾール)、ナフトイミダゾール核(例え
ば、アルキルナフト〔1,2−d〕イミダゾール、1−
アリールナフト(1,2−d〕イミダゾール)、前述の
アルキル基は炭素原子1〜8個のもの、例えば、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル等の無置
換アルキル基やヒドロキシアルキル基(例えば、2−ヒ
ドロキシエチル、3−ヒドロキシプロピル)が好まし
い。特に好ましくはメチル基、エチル基である。前述の
アリール基は、フェニル基、ハロゲン(例えばクロロ)
置換フェニル、アルキル(例えばメチル)置換フェニ
ル、アルコキシ(例えばメトキシ)置換フェニルを表わ
す。}、ピリジン核(例えば、2−ピリジン、4−ピリ
ジン、5−メチル−2−ピリジン、3−メチル−4−ピ
リジン)、キノリン核{キノリン核(例えば、2−キノ
リン、3−メチル−2−キノリン、5−エチル−2−キ
ノリン、6−メチル−2−キノリン、6−ニトロ−2−
キノリン、8−フルオロ−2−キノリン、6−メトキシ
−2−キノリン、6−ヒドロキシ−2−キノリン、8−
クロロ−2−キノリン、4−キノリン、6−エトキシ−
4−キノリン、6−フェニル−4−キノリン、8−クロ
ロ−4−キノリン、8−フルオロ−4−キノリン、8−
メチル−4−キノリン、8−メトキシ−4−キノリン、
6−メチル−4−キノリン、6−メトキシ−4−キノリ
ン、6−クロロ−4−キノリン)、イソキノリン核(例
えば、6−ニトロ−1−イソキノリン、3,4−ジヒド
ロ−1−イソキノリン、6−ニトロ−3−イソキノリ
ン)}、イミダゾ〔4,5−b〕キノキザリン核(例え
ば、1,3−ジエチルイミダゾ〔4,5−b〕キノキザ
リン、6−クロロ−1,3−ジアリルイミダゾ〔4,5
−b〕キノキザリン)、オキサジアゾール核、チアジア
ゾール核、テトラゾール核、ピリミジン核を挙げること
ができる。
ール核{チアゾール核(例えば、チアゾール、4−メチ
ルチアゾール、4−フェニルチアゾール、4,5−ジメ
チルチアゾール、4,5−ジフェニルチアゾール)、ベ
ンゾチアゾール核(例えば、ベンゾチアゾール、4−ク
ロロベンゾチアゾール、5−クロロベンゾチアゾール、
6−クロロベンゾチアゾール、5−ニトロベンゾチアゾ
ール、4−メチルベンゾチアゾール、5−メチルベンゾ
チアゾール、6−メチルベンゾチアゾール、5−ブロモ
ベンゾチアゾール、6−ブロモベンゾチアゾール、5−
ヨードベンゾチアゾール、5−フェニルベンゾチアゾー
ル、5−メトキシベンゾチアゾール、6−メトキシベン
ゾチアゾール、5−エトキシベンゾチアゾール、5−エ
トキシカルボニルベンゾチアゾール、5−カルボキシベ
ンゾチアゾール、5−フェネチルベンゾチアゾール、5
−フルオロベンゾチアゾール、5−クロロ−6−メチル
ベンゾチアゾール、5,6−ジメチルベンゾチアゾー
ル、5,6−ジメトキシベンゾチアゾール、5−ヒドロ
キシ−6−メチルベンゾチアゾール、テトラヒドロベン
ゾチアゾール、5−フェニルベンゾチアゾール)、ナフ
トチアゾール核(例えば、ナフト〔2,1−d〕チアゾ
ール、ナフト〔1,2−d〕チアゾール、ナフト〔2,
3−d〕チアゾール、5−メトキシナフト〔1,2−
d〕チアゾール、7−エトキシナフト〔2,1−d〕チ
アゾール、8−メトキシナフト〔2,1−d〕チアゾー
ル、5−メトキシナフト〔2,3−d〕チアゾー
ル)}、チアゾリン核(例えば、チアゾリン、4−メチ
ルチアゾリン、4−ニトロチアゾリン)、オキサゾール
核{オキサゾール核(例えば、オキサゾール、4−メチ
ルオキサゾール、4−ニトロオキサゾール、5−メチル
オキサゾール、4−フェニルオキサゾール、4,5−ジ
フェニルオキサゾール、4−エチルオキサゾール)、ベ
ンゾオキサゾール核(例えば、ベンゾオキサゾール、5
−クロロベンゾオキサゾール、5−メチルベンゾオキサ
ゾール、5−ブロモベンゾオキサゾール、5−フルオロ
ベンゾオキサゾール、5−フェニルベンゾオキサゾー
ル、5−メトキシベンゾオキサゾール、5−ニトロベン
ゾオキサゾール、5−トリフルオロメチルベンゾオキサ
ゾール、5−ヒドロキシベンゾオキサゾール、5−カル
ボキシベンゾオキサゾール、6−メチルベンゾオキサゾ
ール、6−クロロベンゾオキサゾール、6−ニトロベン
ゾオキサゾール、6−メトキシベンゾオキサゾール、6
−ヒドロキシベンゾオキサゾール、5,6−ジメチルベ
ンゾオキサゾール、4,6−ジメチルベンゾチアゾー
ル、5−エトキシベンゾオキサゾール)、ナフトオキサ
ゾール核(例えば、ナフト〔2,1−d〕オキサゾー
ル、ナフト〔1,2−d〕オキサゾール、ナフト〔2,
3−d〕オキサゾール、5−ニトロナフト〔2,1−
d〕オキサゾール)}、オキサゾリン核(例えば、4,
4−ジメチルオキサゾリン)、セレナゾール核{セレナ
ゾール核(例えば、4−メチルセレナゾール、4−ニト
ロセレナゾール、4−フェニルセレナゾール)、ベンゾ
セレナゾール核(例えば、ベンゾセレナゾール、5−ク
ロロベンゾセレナゾール、5−ニトロベンゾセレナゾー
ル、5−メトキシベンゾセレテゾール、5−ヒドロキシ
ベンゾセレナゾール、6−ニトロベンゾセレナゾール、
5−クロロ−6−ニトロベンゾセレナゾール、5,6−
ジメチルベンゾセレナゾール)、ナフトセレナゾール核
(例えば、ナフト〔2,1−d〕セレナゾール、ナフト
〔1,2−d〕セレナゾール)}、セレナゾリン核(例
えば、セレナゾリン、4−メチルセレナゾリン)、テル
ラゾール核{テルラゾール核(例えば、テルラゾール、
4−メチルテルラゾール、4−フェニルテルラゾー
ル)、ベンゾテルラゾール核(例えば、ベンゾテルラゾ
ール、5−クロロベンゾテルラゾール、5−メチルベン
ゾテルラゾール、5,6−ジメチルベンゾテルラゾー
ル、6−メトキシベンゾテルラゾール)、ナフトテルラ
ゾール核(例えば、ナフト〔2,1−d〕テルラゾー
ル、ナフト〔1,2−d〕テルラゾール)}、テルラゾ
リン核(例えば、テルラゾリン、4−メチルテルラゾリ
ン、3,3−ジアルキルインドレニン核(例えば、3,
3−ジメチルインドレニン)、3,3−ジエチルインド
レニン、3,3−ジメチル−5−シアノインドレニン、
3,3−ジメチル−6−ニトロインドレニン、3,3−
ジメチル−5−ニトロインドレニン、3,3−ジメチル
−5−メトキシインドレニン、3,3,5−メチルイン
ドレニン、3,3−ジメチル−5−クロロインドレニ
ン)、イミダゾール核{インダゾール核(例えば、1−
アルキルイミダゾール、1−アルキル−4−フェニルイ
ミダゾール、1−アリールイミダゾール)、ベンゾイミ
ダゾール核(例えば、1−アルキルベンゾイミダゾー
ル、1−アルキル−5−クロロベンゾイミダゾール、1
−アルキル−5,6−ジクロロベンゾイミダゾール、1
−アルキル−5−メトキシベンゾイミダゾール、1−ア
ルキル−5−シアノベンゾイミダゾール、1−アルキル
−5−フルオロベンゾイミダゾール、1−アルキル−5
−トリフルオロメチルベンゾイミダゾール、1−アルキ
ル−6−クロロ−5−シアノベンゾイミダゾール、1−
アルキル−6−クロロ−5−トリフルオロメチルベンゾ
イミダゾール、1−アリル−5,6−ジクロロベンゾイ
ミダゾール、1−アリル−5−クロロベンゾイミダゾー
ル、1−アリールベンゾイミダゾール、1−アリール−
5−クロロベンゾイミダゾール、1−アリール−5,6
−ジクロロベンゾイミダゾール、1−アリール−5−メ
トキシベンゾイミダゾール、1−アリール−5−シアノ
ベンゾイミダゾール)、ナフトイミダゾール核(例え
ば、アルキルナフト〔1,2−d〕イミダゾール、1−
アリールナフト(1,2−d〕イミダゾール)、前述の
アルキル基は炭素原子1〜8個のもの、例えば、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル等の無置
換アルキル基やヒドロキシアルキル基(例えば、2−ヒ
ドロキシエチル、3−ヒドロキシプロピル)が好まし
い。特に好ましくはメチル基、エチル基である。前述の
アリール基は、フェニル基、ハロゲン(例えばクロロ)
置換フェニル、アルキル(例えばメチル)置換フェニ
ル、アルコキシ(例えばメトキシ)置換フェニルを表わ
す。}、ピリジン核(例えば、2−ピリジン、4−ピリ
ジン、5−メチル−2−ピリジン、3−メチル−4−ピ
リジン)、キノリン核{キノリン核(例えば、2−キノ
リン、3−メチル−2−キノリン、5−エチル−2−キ
ノリン、6−メチル−2−キノリン、6−ニトロ−2−
キノリン、8−フルオロ−2−キノリン、6−メトキシ
−2−キノリン、6−ヒドロキシ−2−キノリン、8−
クロロ−2−キノリン、4−キノリン、6−エトキシ−
4−キノリン、6−フェニル−4−キノリン、8−クロ
ロ−4−キノリン、8−フルオロ−4−キノリン、8−
メチル−4−キノリン、8−メトキシ−4−キノリン、
6−メチル−4−キノリン、6−メトキシ−4−キノリ
ン、6−クロロ−4−キノリン)、イソキノリン核(例
えば、6−ニトロ−1−イソキノリン、3,4−ジヒド
ロ−1−イソキノリン、6−ニトロ−3−イソキノリ
ン)}、イミダゾ〔4,5−b〕キノキザリン核(例え
ば、1,3−ジエチルイミダゾ〔4,5−b〕キノキザ
リン、6−クロロ−1,3−ジアリルイミダゾ〔4,5
−b〕キノキザリン)、オキサジアゾール核、チアジア
ゾール核、テトラゾール核、ピリミジン核を挙げること
ができる。
【0011】Zによって形成される核として好ましく
は、ベンゾチアゾール核、ナフトチアゾール核、ベンゾ
オキサゾール核、ナフトオキサゾール核、ベンゾイミダ
ゾール核、2−キノリン核、4−キノリン核であり、特
に好ましくはベンゾチアゾール核およびナフトチアゾー
ル核である。
は、ベンゾチアゾール核、ナフトチアゾール核、ベンゾ
オキサゾール核、ナフトオキサゾール核、ベンゾイミダ
ゾール核、2−キノリン核、4−キノリン核であり、特
に好ましくはベンゾチアゾール核およびナフトチアゾー
ル核である。
【0012】L1 は炭素原子、窒素原子、硫黄原子、酸
素原子のうち、少くとも1種を含む原子または原子団か
らなる2価の連結基を表わす。好ましくはアルキレン基
(例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブ
チレン基、ペンチレン基など)、アリーレン基(例え
ば、フェニレン基、ナフチレン基など)、アルケニレン
基(例えば、エチレン基、プロペニレン基など)、スル
ホニル基、スルフィニル基、チオエーテル基、エーテル
基、カルボニル基、NR0 −(R0 は水素原子、置換ま
たは無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール
基を表わす。)、ヘテロ環2価基(例えば6−クロロ−
1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル基、ピリミジ
ン−2,4−ジイル基、キノキサリン−2,3−ジイル
基など)を1つまたはそれ以上組合せて構成される炭素
数20以下の2価の連結基を表わす。jは0または1、
kは1、2、または3を表わす。好ましくはjは0また
は1、kは1または2を表わす。nは1以上の整数、好
ましくは1ないし3の整数を表わす。Het は好ましく
は、少くとも一個の窒素原子を含み、他に窒素原子以外
のヘテロ原子(例えば、酸素原子、硫黄原子、セレン原
子、テルル原子)を含んでもよい飽和または不飽和の5
〜7員含窒素複素環基(ヘテロ環を含む化合物部分)を
表わす。好ましくは一般式(II) 〜(VI) で表わされる
構造を有すものである。各置換基の説明の項で挙げる置
換基上の置換基としては、アルキル基、アルケニル基、
アリール基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、スルホ
基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子、アルコキシ
基、アリーロキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル
基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、カルバモイル
基、スルファモイル基、などが挙げられる。 一般式(II)
素原子のうち、少くとも1種を含む原子または原子団か
らなる2価の連結基を表わす。好ましくはアルキレン基
(例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブ
チレン基、ペンチレン基など)、アリーレン基(例え
ば、フェニレン基、ナフチレン基など)、アルケニレン
基(例えば、エチレン基、プロペニレン基など)、スル
ホニル基、スルフィニル基、チオエーテル基、エーテル
基、カルボニル基、NR0 −(R0 は水素原子、置換ま
たは無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール
基を表わす。)、ヘテロ環2価基(例えば6−クロロ−
1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル基、ピリミジ
ン−2,4−ジイル基、キノキサリン−2,3−ジイル
基など)を1つまたはそれ以上組合せて構成される炭素
数20以下の2価の連結基を表わす。jは0または1、
kは1、2、または3を表わす。好ましくはjは0また
は1、kは1または2を表わす。nは1以上の整数、好
ましくは1ないし3の整数を表わす。Het は好ましく
は、少くとも一個の窒素原子を含み、他に窒素原子以外
のヘテロ原子(例えば、酸素原子、硫黄原子、セレン原
子、テルル原子)を含んでもよい飽和または不飽和の5
〜7員含窒素複素環基(ヘテロ環を含む化合物部分)を
表わす。好ましくは一般式(II) 〜(VI) で表わされる
構造を有すものである。各置換基の説明の項で挙げる置
換基上の置換基としては、アルキル基、アルケニル基、
アリール基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、スルホ
基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子、アルコキシ
基、アリーロキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル
基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、カルバモイル
基、スルファモイル基、などが挙げられる。 一般式(II)
【0013】
【化3】
【0014】式中、V1 、V2 、V3 、V4 は水素原
子、置換または無置換のアルキル基(例えばメチル、エ
チル、プロピル、ブチル、ヒドロキシエチル、トリフル
オロメチル、ベンジル、スルホプロピル、ジエチルアミ
ノエチル、シアノプロピル、アダマンチル、p−クロロ
フェネチル、エトキシエチル、エチルチオエチル、フェ
ノキシエチル、カルバモイルエチル、カルボキシエチ
ル、エトキシカルボニルメチル、アセチルアミノエチル
など)、無置換または置換のアルケニル基(例えばアリ
ル、スチリルなど)、無置換または置換のアリール基
(例えばフェニル、ナフチル、p−カルボキシフェニ
ル、3,5−ジカルボキシフェニル、m−スルホフェニ
ル、p−アセトアミドフェニル、3−カプリルアミド、
p−スルファモイルフェニル、m−ヒドロキシフェニ
ル、p−ニトロフェニル、3,5−ジクロロフェニル、
p−アニシル、o−アニシル、p−シアノフェニル、p
−N′−メチルウレイドフェニル、m−フルオロフェニ
ル、p−トリル、m−トリルなど)、置換されてもよい
ヘテロ環残基(例えばピリジル、5−メチル−2−ピリ
ジル、チエニルなど)、ハロゲン原子(例えば塩素、臭
素、フッ素)、メルカプト基、シアノ基、カルボキシル
基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルバモイル基、スルフ
ァモイル基、アミノ基、ニトロ基、置換されていてもよ
いアルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ、2−メト
キシエトキシ、2−フェニルエトキシなど)、置換され
ていてもよいアリーロキシ基(例えばフェノキシ、p−
メチルフェノキシ、p−クロロフェノキシなど)、アシ
ル基(例えばアセチル、ベンゾイル、など)、アシルア
ミノ基(例えばアセチルアミル、カプロイルアミノ)、
スルホニル基(例えばメタンスルホニル、ベンゼンスル
ホニル)、スルホニルアミノ基(例えばメタンスルホニ
ルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなど)、置換アミ
ノ基(例えばジエチルアミノ、ヒドロキシアミノな
ど)、アルキルまたはアリールチオ基(例えばメチルチ
オ、カルボキシエチルチオ、スルホブチルチオ、フェニ
ルチオなど)、アルコキシカルボニル基(例えばメトキ
シカルボニルなど)、アリーロキシカルボニル基(例え
ばフェノキシカルボニルなど)を表わし、これらき置換
基には、さらに2価の連結基L1 または単結合によりHe
t が置換していてもよい。また、V1 、V2 、V3 、V
4 のうち、少くとも1つが2価の連結基Lまたは単結合
であってもよい。 一般式(III)
子、置換または無置換のアルキル基(例えばメチル、エ
チル、プロピル、ブチル、ヒドロキシエチル、トリフル
オロメチル、ベンジル、スルホプロピル、ジエチルアミ
ノエチル、シアノプロピル、アダマンチル、p−クロロ
フェネチル、エトキシエチル、エチルチオエチル、フェ
ノキシエチル、カルバモイルエチル、カルボキシエチ
ル、エトキシカルボニルメチル、アセチルアミノエチル
など)、無置換または置換のアルケニル基(例えばアリ
ル、スチリルなど)、無置換または置換のアリール基
(例えばフェニル、ナフチル、p−カルボキシフェニ
ル、3,5−ジカルボキシフェニル、m−スルホフェニ
ル、p−アセトアミドフェニル、3−カプリルアミド、
p−スルファモイルフェニル、m−ヒドロキシフェニ
ル、p−ニトロフェニル、3,5−ジクロロフェニル、
p−アニシル、o−アニシル、p−シアノフェニル、p
−N′−メチルウレイドフェニル、m−フルオロフェニ
ル、p−トリル、m−トリルなど)、置換されてもよい
ヘテロ環残基(例えばピリジル、5−メチル−2−ピリ
ジル、チエニルなど)、ハロゲン原子(例えば塩素、臭
素、フッ素)、メルカプト基、シアノ基、カルボキシル
基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルバモイル基、スルフ
ァモイル基、アミノ基、ニトロ基、置換されていてもよ
いアルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ、2−メト
キシエトキシ、2−フェニルエトキシなど)、置換され
ていてもよいアリーロキシ基(例えばフェノキシ、p−
メチルフェノキシ、p−クロロフェノキシなど)、アシ
ル基(例えばアセチル、ベンゾイル、など)、アシルア
ミノ基(例えばアセチルアミル、カプロイルアミノ)、
スルホニル基(例えばメタンスルホニル、ベンゼンスル
ホニル)、スルホニルアミノ基(例えばメタンスルホニ
ルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなど)、置換アミ
ノ基(例えばジエチルアミノ、ヒドロキシアミノな
ど)、アルキルまたはアリールチオ基(例えばメチルチ
オ、カルボキシエチルチオ、スルホブチルチオ、フェニ
ルチオなど)、アルコキシカルボニル基(例えばメトキ
シカルボニルなど)、アリーロキシカルボニル基(例え
ばフェノキシカルボニルなど)を表わし、これらき置換
基には、さらに2価の連結基L1 または単結合によりHe
t が置換していてもよい。また、V1 、V2 、V3 、V
4 のうち、少くとも1つが2価の連結基Lまたは単結合
であってもよい。 一般式(III)
【0015】
【化4】
【0016】式中、X3 は酸素原子、硫黄原子、N−R
2 を表わす。(R2 は水素原子、置換または無置換のア
ルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または
無置換のヘテロ環基を表わす。) V5 、V6 およびV7 は前記一般式(II) におけるV1
〜V4 と夫々同意義を表わす他、前に述べた2価の連結
基L1 または単結合を表わす。またV5 とV6 が結合し
て、ベンゾまたはナフト縮合環を形成してもよい。これ
らのベンゾおよびナフト縮合環上およびR2 (水素原子
の場合をのぞく)には更に置換基として前記一般式(I
I) においてV1 〜V4 で示した置換基および/または
連結基L(または単結合)が置換していてもよい。 一般式(IV)
2 を表わす。(R2 は水素原子、置換または無置換のア
ルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または
無置換のヘテロ環基を表わす。) V5 、V6 およびV7 は前記一般式(II) におけるV1
〜V4 と夫々同意義を表わす他、前に述べた2価の連結
基L1 または単結合を表わす。またV5 とV6 が結合し
て、ベンゾまたはナフト縮合環を形成してもよい。これ
らのベンゾおよびナフト縮合環上およびR2 (水素原子
の場合をのぞく)には更に置換基として前記一般式(I
I) においてV1 〜V4 で示した置換基および/または
連結基L(または単結合)が置換していてもよい。 一般式(IV)
【0017】
【化5】
【0018】式中、X4 は酸素原子、硫黄原子、N−R
3 を表わす。R3 は前記一般式(III)で示したR2 と同
意義を表わす。また、V8 、V9 は前記一般式(II) に
おけるV1 〜V4 と各々同意義を表わす他、前に述べた
2価の連結基L1 または単結合を表わす。 一般式(V)
3 を表わす。R3 は前記一般式(III)で示したR2 と同
意義を表わす。また、V8 、V9 は前記一般式(II) に
おけるV1 〜V4 と各々同意義を表わす他、前に述べた
2価の連結基L1 または単結合を表わす。 一般式(V)
【0019】
【化6】
【0020】式中、X5 は窒素原子又はC−R5 を表わ
す。R4 、R5 は前記一般式(III)におけるR2 と、ま
た、V10、V11、V12、V 13は前記一般式(II) におけ
るV1 〜V4 と各々同意義を表わす。また、V10〜V13
は連結基L1 または単結合であってもよい。 一般式(VI)
す。R4 、R5 は前記一般式(III)におけるR2 と、ま
た、V10、V11、V12、V 13は前記一般式(II) におけ
るV1 〜V4 と各々同意義を表わす。また、V10〜V13
は連結基L1 または単結合であってもよい。 一般式(VI)
【0021】
【化7】
【0022】式中、V14、V15は前記一般式(II) で示
したV1 〜V4 と各々同意義を表わす。また、V14、V
15は連結基L1 または単結合であってもよい。
したV1 〜V4 と各々同意義を表わす。また、V14、V
15は連結基L1 または単結合であってもよい。
【0023】一般式(I)で表わされる化合物のうち特
に好ましいものは、下記一般式(VII)で表わされる化合
物である。 一般式(VII)
に好ましいものは、下記一般式(VII)で表わされる化合
物である。 一般式(VII)
【0024】
【化8】
【0025】式中、Tは酸素原子、硫黄原子、又はセレ
ン原子を表わし、L2 、L3 、L4、L5 、およびL6
はメチン基を表わし、iは0または1を表わし、B7 、
B8、B9 、およびB10は水素原子または置換基を表わ
し、R11、R22、B1 、B2、B3 、B4 、B5 、
B6 、L1 、Het 、Xn-、n、jは一般式(I)におけ
る定義と同義である。
ン原子を表わし、L2 、L3 、L4、L5 、およびL6
はメチン基を表わし、iは0または1を表わし、B7 、
B8、B9 、およびB10は水素原子または置換基を表わ
し、R11、R22、B1 、B2、B3 、B4 、B5 、
B6 、L1 、Het 、Xn-、n、jは一般式(I)におけ
る定義と同義である。
【0026】L2 ないしL6 で表わされるメチン基は置
換基を有していてもよく、好ましい置換基としてはハロ
ゲン原子(例えばF、Cl、Br、I)、置換されていても
よい炭素原子数8以下の低級アルキル基、置換されてい
てもよい炭素原子数10以下のアリール基を表わし、L
2 とR22、L2 とL4 、L3 とL5 、L4 とL6 、L 6
とB2 、L6 とB3 は互いに連結して環を形成していて
もよい。
換基を有していてもよく、好ましい置換基としてはハロ
ゲン原子(例えばF、Cl、Br、I)、置換されていても
よい炭素原子数8以下の低級アルキル基、置換されてい
てもよい炭素原子数10以下のアリール基を表わし、L
2 とR22、L2 とL4 、L3 とL5 、L4 とL6 、L 6
とB2 、L6 とB3 は互いに連結して環を形成していて
もよい。
【0027】B1 ないしB10は好ましくは水素原子、ハ
ロゲン原子(例えばF、Cl、Br、I)、ヒドロキシ基、
シアノ基、トリフルオロメチル基、ニトロ基、メチレン
ジオキシ基、カルボキシル基、スルホ基、炭素数1ない
し10の置換されていてもよいアルキル基、炭素数6な
いし10の置換されていてもよいアリール基、炭素数1
ないし10の置換されていてもよいアルコキシ基、炭素
数1ないし10の置換されていてもよいアルキルチオ
基、炭素数6ないし10の置換されていてもよいアリー
ルチオ基、炭素数2ないし10のアシルアミノ基、炭素
数2ないし10のアルコキシカルボニル基、炭素数2な
いし10のアシル基、を表わす他、2価の連結基L1 ま
たは単結合を表わす。
ロゲン原子(例えばF、Cl、Br、I)、ヒドロキシ基、
シアノ基、トリフルオロメチル基、ニトロ基、メチレン
ジオキシ基、カルボキシル基、スルホ基、炭素数1ない
し10の置換されていてもよいアルキル基、炭素数6な
いし10の置換されていてもよいアリール基、炭素数1
ないし10の置換されていてもよいアルコキシ基、炭素
数1ないし10の置換されていてもよいアルキルチオ
基、炭素数6ないし10の置換されていてもよいアリー
ルチオ基、炭素数2ないし10のアシルアミノ基、炭素
数2ないし10のアルコキシカルボニル基、炭素数2な
いし10のアシル基、を表わす他、2価の連結基L1 ま
たは単結合を表わす。
【0028】一般式(VII)において、L1 またはHet で
表わされる基はB1 ないしB10、R 11、R22、L2 ない
しL6 で表わされる基の少なくとも1つと結合すること
が好ましく、R22またはR11と結合することが特に好ま
しい。
表わされる基はB1 ないしB10、R 11、R22、L2 ない
しL6 で表わされる基の少なくとも1つと結合すること
が好ましく、R22またはR11と結合することが特に好ま
しい。
【0029】以下に本発明の一般式(I)で表わされる
化合物の具体例を挙げるが、本発明の範囲はこれらのみ
にて限定されるものではない。
化合物の具体例を挙げるが、本発明の範囲はこれらのみ
にて限定されるものではない。
【0030】
【化9】
【0031】
【化10】
【0032】
【化11】
【0033】
【化12】
【0034】本発明の化合物の合成は有機化学に於て、
よく知られている種々のアミド結合形成反応、エステル
結合形成反応をはじめとする結合形成反応を利用して、
増感色素部分とHet により示される含窒素ヘテロ環部分
とを連結せしめる方法、増感色素の合成原料及び中間体
にHet により示される含窒素ヘテロ環部分を連結せしめ
てから色素化反応を行なう方法、逆にHet により示され
る含窒素ヘテロ環部分の合成原料及び中間体を増感色素
部分に連結せしめた後にHet により示される含窒素ヘテ
ロ環部分を合成する方法などいずれの方法でもよく、適
宜選択して合成できる。これらの連結のための合成反応
については、例えば日本化学会編、新実験化学講座1
4、有機化合物の合成と反応、I〜V巻、丸善、東京
(1977年)、小方芳郎著、有機反応論、丸善、東京
(1962年)、L.F. Fieser and M.Fieser, Advanced
Organic Chemistry, 丸善、東京(1962年)など、
多くの有機合成反応に関する成書を参考にすることがで
きる。
よく知られている種々のアミド結合形成反応、エステル
結合形成反応をはじめとする結合形成反応を利用して、
増感色素部分とHet により示される含窒素ヘテロ環部分
とを連結せしめる方法、増感色素の合成原料及び中間体
にHet により示される含窒素ヘテロ環部分を連結せしめ
てから色素化反応を行なう方法、逆にHet により示され
る含窒素ヘテロ環部分の合成原料及び中間体を増感色素
部分に連結せしめた後にHet により示される含窒素ヘテ
ロ環部分を合成する方法などいずれの方法でもよく、適
宜選択して合成できる。これらの連結のための合成反応
については、例えば日本化学会編、新実験化学講座1
4、有機化合物の合成と反応、I〜V巻、丸善、東京
(1977年)、小方芳郎著、有機反応論、丸善、東京
(1962年)、L.F. Fieser and M.Fieser, Advanced
Organic Chemistry, 丸善、東京(1962年)など、
多くの有機合成反応に関する成書を参考にすることがで
きる。
【0035】本発明に使用しうるハロゲン化銀乳剤は、
臭化銀、沃臭化銀、沃塩臭化銀、塩臭化銀および塩化銀
のいずれを含むものであってもよい。ハロゲン化銀粒子
は、立方体、八面体、14面体、菱12面体のような規
則的(regular) な結晶体を有するものでもよく、また球
状、板状などのような変則的(irregular) な結晶形をも
つもの、あるいはこれらの結晶形の複合形をもつもので
もよい。種々の結晶形の粒子の混合から成ってもよい。
前記の板状粒子としては、厚みが0.5ミクロン以下、
好ましくは0.3ミクロン以下で、径が好ましくは0.
6ミクロン以上であり、平均アスペクト比が5以上の粒
子が全投影面積の50%以上を占めるような平板粒子が
好ましい。ハロゲン化銀粒子は内部と表層とが異なる相
をもっていても、均一な相から成っていてもよい。また
潜像が主として表面に形成されるような粒子(例えばネ
ガ型乳剤)でもよく、粒子内部に主として形成されるよ
うな粒子(例えば、内部潜像型乳剤)であってもよい。
コア/シェル型も用いられる。以下に、本発明において
好ましいハロゲン化銀乳剤について詳細に述べる。写真
乳剤に含まれるハロゲン化銀粒子の形状は、立方体、十
四面体あるいは八面体のような規則的な(regular)結晶
形を有するもの、球状、板状などのような変則的な(ir
regular)結晶形を有するもの、あるいはこれらの複合形
を有するものを用いることができる。また、種々の結晶
形を有するものの混合したものからなっていても良い。
本発明に用いる塩臭化銀乳剤は、P.Glafkides 著 Chimi
e et Phisique Photographique(Paul Montel社刊、19
67年)、G.F.Duffin著 Photographic Emulsion Chemi
stry(Focal Press社刊、1966年)、V.L.Zelikman e
t al著 Makingand Coating Photographic Emulsion(Foc
al Press 社刊、1964年)などに記載された方法を
用いて調整することができる。すなわち、酸性法、中性
法、アンモニア等のいずれでもよく、また可溶性銀塩と
可溶性ハロゲン塩を反応させる形式としては、片側混合
法、同時混合法、及びそれらの組合せなどのいずれの方
法を用いても良い。粒子を銀イオン過剰の雰囲気の下に
おいて形成させる方法(いわゆる逆混合法)を用いるこ
ともできる。同時混合法の一つの形式としてハロゲン化
銀の生成する液相中のpAgを一定に保つ方法、すなわ
ちいわゆるコントロールド・ダブルジェット法を用いる
こともできる。この方法によると、結晶形が規則的で粒
子サイズが均一に近いハロゲン化銀乳剤を得ることがで
きる。本発明に用いるハロゲン化銀乳剤は、その乳剤粒
子形成もしくは物理熟成の過程において種々の多価金属
イオン不純物を導入することができる。使用する化合物
の例としては、カドミウム、亜鉛、鉛、銅、タリウムな
どの塩、あるいは第VIII族元素である鉄、ルテニウム、
ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金
などの塩もしくは錯塩を挙げることができる。特に上記
第VIII族元素は好ましく用いることができる。これらの
化合物の添加量は目的に応じて広範囲にわたるが、ハロ
ゲン化銀に対して10-9〜10-2モルが好ましい。本発
明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、通常化学増感及び
分光増感を施される。化学増感法については、不安定硫
黄化合物の添加に代表される硫黄増感、金増感に代表さ
れる貴金属増感、あるいは還元増感などを単独もしくは
併用して用いることができる。化学増感に用いられる化
合物については、特開昭62−215272号公報の第
18頁右下欄〜第22頁右上欄に記載のものが好ましく
用いられる。本発明に用いるハロゲン化銀乳剤には、感
光材料の製造工程、保存中あるいは写真処理中のかぶり
を防止する、あるいは写真性能を安定化させる目的で種
々の化合物あるいはそれ等の前駆体を添加することがで
きる。これらの化合物の具体例は前出の特開昭62−2
15272号公報明細書の第39頁〜第72頁に記載の
ものが好ましく用いられる。
臭化銀、沃臭化銀、沃塩臭化銀、塩臭化銀および塩化銀
のいずれを含むものであってもよい。ハロゲン化銀粒子
は、立方体、八面体、14面体、菱12面体のような規
則的(regular) な結晶体を有するものでもよく、また球
状、板状などのような変則的(irregular) な結晶形をも
つもの、あるいはこれらの結晶形の複合形をもつもので
もよい。種々の結晶形の粒子の混合から成ってもよい。
前記の板状粒子としては、厚みが0.5ミクロン以下、
好ましくは0.3ミクロン以下で、径が好ましくは0.
6ミクロン以上であり、平均アスペクト比が5以上の粒
子が全投影面積の50%以上を占めるような平板粒子が
好ましい。ハロゲン化銀粒子は内部と表層とが異なる相
をもっていても、均一な相から成っていてもよい。また
潜像が主として表面に形成されるような粒子(例えばネ
ガ型乳剤)でもよく、粒子内部に主として形成されるよ
うな粒子(例えば、内部潜像型乳剤)であってもよい。
コア/シェル型も用いられる。以下に、本発明において
好ましいハロゲン化銀乳剤について詳細に述べる。写真
乳剤に含まれるハロゲン化銀粒子の形状は、立方体、十
四面体あるいは八面体のような規則的な(regular)結晶
形を有するもの、球状、板状などのような変則的な(ir
regular)結晶形を有するもの、あるいはこれらの複合形
を有するものを用いることができる。また、種々の結晶
形を有するものの混合したものからなっていても良い。
本発明に用いる塩臭化銀乳剤は、P.Glafkides 著 Chimi
e et Phisique Photographique(Paul Montel社刊、19
67年)、G.F.Duffin著 Photographic Emulsion Chemi
stry(Focal Press社刊、1966年)、V.L.Zelikman e
t al著 Makingand Coating Photographic Emulsion(Foc
al Press 社刊、1964年)などに記載された方法を
用いて調整することができる。すなわち、酸性法、中性
法、アンモニア等のいずれでもよく、また可溶性銀塩と
可溶性ハロゲン塩を反応させる形式としては、片側混合
法、同時混合法、及びそれらの組合せなどのいずれの方
法を用いても良い。粒子を銀イオン過剰の雰囲気の下に
おいて形成させる方法(いわゆる逆混合法)を用いるこ
ともできる。同時混合法の一つの形式としてハロゲン化
銀の生成する液相中のpAgを一定に保つ方法、すなわ
ちいわゆるコントロールド・ダブルジェット法を用いる
こともできる。この方法によると、結晶形が規則的で粒
子サイズが均一に近いハロゲン化銀乳剤を得ることがで
きる。本発明に用いるハロゲン化銀乳剤は、その乳剤粒
子形成もしくは物理熟成の過程において種々の多価金属
イオン不純物を導入することができる。使用する化合物
の例としては、カドミウム、亜鉛、鉛、銅、タリウムな
どの塩、あるいは第VIII族元素である鉄、ルテニウム、
ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金
などの塩もしくは錯塩を挙げることができる。特に上記
第VIII族元素は好ましく用いることができる。これらの
化合物の添加量は目的に応じて広範囲にわたるが、ハロ
ゲン化銀に対して10-9〜10-2モルが好ましい。本発
明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、通常化学増感及び
分光増感を施される。化学増感法については、不安定硫
黄化合物の添加に代表される硫黄増感、金増感に代表さ
れる貴金属増感、あるいは還元増感などを単独もしくは
併用して用いることができる。化学増感に用いられる化
合物については、特開昭62−215272号公報の第
18頁右下欄〜第22頁右上欄に記載のものが好ましく
用いられる。本発明に用いるハロゲン化銀乳剤には、感
光材料の製造工程、保存中あるいは写真処理中のかぶり
を防止する、あるいは写真性能を安定化させる目的で種
々の化合物あるいはそれ等の前駆体を添加することがで
きる。これらの化合物の具体例は前出の特開昭62−2
15272号公報明細書の第39頁〜第72頁に記載の
ものが好ましく用いられる。
【0036】本発明に用いる乳剤は、潜像が主として粒
子表面に形成される所謂表面潜像型乳剤である。本発明
においてディジタル露光用光源として半導体レーザーを
使用する場合、赤外域を効率よく分光増感する必要があ
る。赤外増感は、増感色素のMバンドによる増感を用い
るので一般的には分光感度分布が、Jバンドによる増感
に比してブロードである。このため、所定の感光層より
感光面側のコロイド層に、染料を含有させた着色層を設
けて、分光感度分布を修正することが好ましい。この着
色層はフィルター効果により混色を防止するのに有効で
ある。分光増感色素をハロゲン化銀乳剤中に含有せしめ
るには、それらを直接乳剤中に分散してもよいし、ある
いは水、メタノール、エタノール、プロパノール、メチ
ルセルゾルブ、2,2,3,3−テトラフルオロプロパ
ノール等の溶媒の単独もしくは混合溶媒に溶解して乳剤
へ添加してもよい。また、特公昭44−23389号、
特公昭44−27555号、特公昭57−22089号
等に記載のように酸または塩基を共存させて水溶液とし
たり、米国特許3822135号、米国特許40060
25号等に記載のように界面活性剤を共存させて水溶液
あるいはコロイド分散物としたものを乳剤へ添加しても
よい。また、フェノキシエタノール等の実質上水と非混
和性の溶媒に溶解したのち、水または親水性コロイドに
分散したものを乳剤に添加してもよい。特開昭53−1
02733号、特開昭58−105141号に記載のよ
うに親水性コロイド中に直接分散させ、その分散物を乳
剤に添加してもよい。乳剤中に添加する時期としては、
これまで有用であると知られている乳剤調製のいかなる
段階であってもよい。つまりハロゲン化銀乳剤の粒子形
成前、粒子形成中、粒子形成直後から水洗工程に入る
前、化学増感前、化学増感中、化学増感直後から乳剤を
冷却固化するまで、塗布液調製時、のいずれから選ぶこ
とができる。もっとも普通には化学増感の完了後、塗布
前までの時期に行なわれるが、米国特許第362896
9号、および同第4225666号に記載されているよ
うに化学増感剤と同時期に添加し分布増感を化学増感と
同時に行なうことも、特開昭58−113928号に記
載されているように化学増感に先立って行なうこともで
き、またハロゲン化銀粒子沈殿生成の完了前に添加し分
光増感を開始することもできる。更にまた米国特許第4
225666号に教示されているように分光増感色素を
分けて添加すること、すなわち一部を化学増感に先立っ
て添加し、残部を化学増感の後で添加することも可能で
あり、米国特許第4183756号に教示されている方
法を始めとしてハロゲン化銀粒子形成中のどの時期であ
ってもよい。この中で特に乳剤の水洗工程前或いは化学
増前に増感色素を添加することが好ましい。これらの分
光増感色素の添加量は場合に応じて広範囲にわたり、ハ
ロゲン化銀1モルあたり0.5×10-6モル〜1.0×
10-2モルの範囲が好ましい。更に好ましくは、1.0
×10-6モル〜5.0×10-3モルの範囲である。本発
明における赤ないし赤外増感においてMバンド型増感に
は、特に特開平2−157749号公報第13頁右下欄
第3行から第22頁右下欄下から3行に記載の化合物に
よる強色増感が有効である。
子表面に形成される所謂表面潜像型乳剤である。本発明
においてディジタル露光用光源として半導体レーザーを
使用する場合、赤外域を効率よく分光増感する必要があ
る。赤外増感は、増感色素のMバンドによる増感を用い
るので一般的には分光感度分布が、Jバンドによる増感
に比してブロードである。このため、所定の感光層より
感光面側のコロイド層に、染料を含有させた着色層を設
けて、分光感度分布を修正することが好ましい。この着
色層はフィルター効果により混色を防止するのに有効で
ある。分光増感色素をハロゲン化銀乳剤中に含有せしめ
るには、それらを直接乳剤中に分散してもよいし、ある
いは水、メタノール、エタノール、プロパノール、メチ
ルセルゾルブ、2,2,3,3−テトラフルオロプロパ
ノール等の溶媒の単独もしくは混合溶媒に溶解して乳剤
へ添加してもよい。また、特公昭44−23389号、
特公昭44−27555号、特公昭57−22089号
等に記載のように酸または塩基を共存させて水溶液とし
たり、米国特許3822135号、米国特許40060
25号等に記載のように界面活性剤を共存させて水溶液
あるいはコロイド分散物としたものを乳剤へ添加しても
よい。また、フェノキシエタノール等の実質上水と非混
和性の溶媒に溶解したのち、水または親水性コロイドに
分散したものを乳剤に添加してもよい。特開昭53−1
02733号、特開昭58−105141号に記載のよ
うに親水性コロイド中に直接分散させ、その分散物を乳
剤に添加してもよい。乳剤中に添加する時期としては、
これまで有用であると知られている乳剤調製のいかなる
段階であってもよい。つまりハロゲン化銀乳剤の粒子形
成前、粒子形成中、粒子形成直後から水洗工程に入る
前、化学増感前、化学増感中、化学増感直後から乳剤を
冷却固化するまで、塗布液調製時、のいずれから選ぶこ
とができる。もっとも普通には化学増感の完了後、塗布
前までの時期に行なわれるが、米国特許第362896
9号、および同第4225666号に記載されているよ
うに化学増感剤と同時期に添加し分布増感を化学増感と
同時に行なうことも、特開昭58−113928号に記
載されているように化学増感に先立って行なうこともで
き、またハロゲン化銀粒子沈殿生成の完了前に添加し分
光増感を開始することもできる。更にまた米国特許第4
225666号に教示されているように分光増感色素を
分けて添加すること、すなわち一部を化学増感に先立っ
て添加し、残部を化学増感の後で添加することも可能で
あり、米国特許第4183756号に教示されている方
法を始めとしてハロゲン化銀粒子形成中のどの時期であ
ってもよい。この中で特に乳剤の水洗工程前或いは化学
増前に増感色素を添加することが好ましい。これらの分
光増感色素の添加量は場合に応じて広範囲にわたり、ハ
ロゲン化銀1モルあたり0.5×10-6モル〜1.0×
10-2モルの範囲が好ましい。更に好ましくは、1.0
×10-6モル〜5.0×10-3モルの範囲である。本発
明における赤ないし赤外増感においてMバンド型増感に
は、特に特開平2−157749号公報第13頁右下欄
第3行から第22頁右下欄下から3行に記載の化合物に
よる強色増感が有効である。
【0037】本発明に係わる感光材料には、画像のシャ
ープネス等を向上させる目的で親水性コロイド層に、欧
州特許EP0,337,490A2号明細書の第27〜
76頁に記載の、処理による脱色可能な染料(なかでも
オキソノール系染料)を該感材の680nmに於ける光
学反射濃度が0.70以上になるように添加したり、支
持体の耐水性樹脂層中に2〜4価のアルコール類(例え
ばトリメチロールエタン)等で表面処理された酸化チタ
ンを12重量%以上(より好ましくは14重量%以上)
含有させるのが好ましい。
ープネス等を向上させる目的で親水性コロイド層に、欧
州特許EP0,337,490A2号明細書の第27〜
76頁に記載の、処理による脱色可能な染料(なかでも
オキソノール系染料)を該感材の680nmに於ける光
学反射濃度が0.70以上になるように添加したり、支
持体の耐水性樹脂層中に2〜4価のアルコール類(例え
ばトリメチロールエタン)等で表面処理された酸化チタ
ンを12重量%以上(より好ましくは14重量%以上)
含有させるのが好ましい。
【0038】本発明の感光材料には、イラジエーション
防止、ハレーション防止、特に各感光層の分光感度分布
の分離並びにセーフライトに対する安全性確保のため
に、コロイド銀や染料が用いられる。
防止、ハレーション防止、特に各感光層の分光感度分布
の分離並びにセーフライトに対する安全性確保のため
に、コロイド銀や染料が用いられる。
【0039】また、本発明に係わる感光材料には、カプ
ラーと共に欧州特許EP0,277,589A2号明細
書に記載のような色像保存性改良化合物を使用するのが
好ましい。特にピラゾロアゾールカプラーとの併用が好
ましい。また、本発明に係わる感光材料には、親水性コ
ロイド層中に繁殖して画像を劣化させる各種の黴や細菌
を防ぐために、特開昭63−271247号公報に記載
のような防黴剤を添加するのが好ましい。また、本発明
に係わる感光材料に用いられる支持体としては、ディス
プレイ用に白色ポリエステル系支持体または白色顔料を
含む層がハロゲン化銀乳剤層を有する側の支持体上に設
けられた支持体を用いてもよい。更に鮮鋭性を改良する
ために、アンチハレーション層を支持体のハロゲン化銀
乳剤層塗布側または裏面に塗設するのが好ましい。特に
反射光でも透過光でもディスプレイが観賞できるよう
に、支持体の透過濃度を0.35〜0.8の範囲に設定
するのが好ましい。露光済みの感光材料は慣用の白黒ま
たはカラー現像処理が施されうるが、カラー感光材料の
場合には迅速処理の目的からカラー現像の後、漂白定着
処理するのが好ましい。特に前記高塩化銀乳剤が用いら
れる場合には、漂白定着液のpHは脱銀促進等の目的か
ら約6.5以下が好ましく、更に約6以下が好ましい。
また、シアンカプラーとして、特開平2−33144号
公報に記載のジフェニルイミダゾール系シアンカプラー
の他に、欧州特許EP0,333,085A2号明細書
に記載の3−ヒドロキシピリジン系シアンカプラー(な
かでも具体例として列挙されたカプラー(42)の4当
量カプラーに塩素離脱基をもたせて2当量化したもの
や、カプラー(6)や(9)が特に好ましい)や特開昭
64−32260号公報に記載された環状活性メチレン
系シアンカプラー(なかでも具体例として列挙されたカ
プラー例3、8、34が特に好ましい)の使用も好まし
い。本発明に適用されうるカラー現像液の処理温度は2
0〜50℃、好ましくは30〜45℃である。処理時間
は実質的に20秒以内であるのが好ましい。補充量は少
ない方が好ましいが、感光材料1m2当たり20〜600
ml適当であり、好ましくは50〜300mlである。更に
好ましくは60〜200ml、最も好ましくは60〜15
0mlである。本発明では現像時間は実質的に20秒以内
であることが好ましいが、ここでいう「実質的に20
秒」とは、現像液槽に感光材料が入った時から、次の槽
に感光材料が入るまでの時間を指し、現像液槽から次槽
への空中の渡り時間も含んでいるものとする。水洗工程
又は安定化工程の好ましいpHは4〜10であり、更に
好ましくは5〜8である。温度は感光材料の用途・特性
等で種々設定し得るが、一般には30〜45℃、好まし
くは35〜42℃である。時間は任意に設定できるが、
短い方が処理時間の低減の見地から望ましい。好ましく
は10〜45秒、更に好ましくは10〜40秒である。
補充量は、少ない方がランニングコスト、排出量低減、
取扱い性等の観点で好ましい。具体的な好ましい補充量
は、感光材料の単位面積当たり前浴からの持込み量の
0.5〜50倍、好ましくは2〜15倍である。又は感
光材料1m2当たり300ml以下、好ましくは150ml以
下である。また補充は連続的に行っても、間欠的に行っ
てもよい。水洗及び/又は安定化工程に用いた液は、更
に前工程に用いることもできる。この例として多段向流
方式によって削減した水洗水のオーバーフローを、その
前浴の漂白定着浴に流入させ、漂白定着浴には濃縮液を
補充して、廃液量を減らすことが挙げられる。次に、本
発明に使用可能な乾燥工程について説明する。本発明の
超迅速処理で画像を完成させるために乾燥時間も20秒
から40秒が望まれる。この乾燥時間を短くする手段と
して、感光材料側の手段としては、ゼラチンなどの親水
性バインダーを減量することで膜への水分の持込み量を
減じることでの改善が可能である。また持込み量を減量
する観点から水洗浴から出た後すぐにスクイズローラや
布などで水を吸収することで乾燥を早めることも可能で
ある。乾燥機からの改善手段としては、当然のことでは
あるが、温度を高くすることや乾燥風を強くすることな
どで乾燥を早めることが可能である。更に、乾燥風の感
光材料への送風角度の調整や、排出風の除去方法によっ
ても乾燥を早めることができる。
ラーと共に欧州特許EP0,277,589A2号明細
書に記載のような色像保存性改良化合物を使用するのが
好ましい。特にピラゾロアゾールカプラーとの併用が好
ましい。また、本発明に係わる感光材料には、親水性コ
ロイド層中に繁殖して画像を劣化させる各種の黴や細菌
を防ぐために、特開昭63−271247号公報に記載
のような防黴剤を添加するのが好ましい。また、本発明
に係わる感光材料に用いられる支持体としては、ディス
プレイ用に白色ポリエステル系支持体または白色顔料を
含む層がハロゲン化銀乳剤層を有する側の支持体上に設
けられた支持体を用いてもよい。更に鮮鋭性を改良する
ために、アンチハレーション層を支持体のハロゲン化銀
乳剤層塗布側または裏面に塗設するのが好ましい。特に
反射光でも透過光でもディスプレイが観賞できるよう
に、支持体の透過濃度を0.35〜0.8の範囲に設定
するのが好ましい。露光済みの感光材料は慣用の白黒ま
たはカラー現像処理が施されうるが、カラー感光材料の
場合には迅速処理の目的からカラー現像の後、漂白定着
処理するのが好ましい。特に前記高塩化銀乳剤が用いら
れる場合には、漂白定着液のpHは脱銀促進等の目的か
ら約6.5以下が好ましく、更に約6以下が好ましい。
また、シアンカプラーとして、特開平2−33144号
公報に記載のジフェニルイミダゾール系シアンカプラー
の他に、欧州特許EP0,333,085A2号明細書
に記載の3−ヒドロキシピリジン系シアンカプラー(な
かでも具体例として列挙されたカプラー(42)の4当
量カプラーに塩素離脱基をもたせて2当量化したもの
や、カプラー(6)や(9)が特に好ましい)や特開昭
64−32260号公報に記載された環状活性メチレン
系シアンカプラー(なかでも具体例として列挙されたカ
プラー例3、8、34が特に好ましい)の使用も好まし
い。本発明に適用されうるカラー現像液の処理温度は2
0〜50℃、好ましくは30〜45℃である。処理時間
は実質的に20秒以内であるのが好ましい。補充量は少
ない方が好ましいが、感光材料1m2当たり20〜600
ml適当であり、好ましくは50〜300mlである。更に
好ましくは60〜200ml、最も好ましくは60〜15
0mlである。本発明では現像時間は実質的に20秒以内
であることが好ましいが、ここでいう「実質的に20
秒」とは、現像液槽に感光材料が入った時から、次の槽
に感光材料が入るまでの時間を指し、現像液槽から次槽
への空中の渡り時間も含んでいるものとする。水洗工程
又は安定化工程の好ましいpHは4〜10であり、更に
好ましくは5〜8である。温度は感光材料の用途・特性
等で種々設定し得るが、一般には30〜45℃、好まし
くは35〜42℃である。時間は任意に設定できるが、
短い方が処理時間の低減の見地から望ましい。好ましく
は10〜45秒、更に好ましくは10〜40秒である。
補充量は、少ない方がランニングコスト、排出量低減、
取扱い性等の観点で好ましい。具体的な好ましい補充量
は、感光材料の単位面積当たり前浴からの持込み量の
0.5〜50倍、好ましくは2〜15倍である。又は感
光材料1m2当たり300ml以下、好ましくは150ml以
下である。また補充は連続的に行っても、間欠的に行っ
てもよい。水洗及び/又は安定化工程に用いた液は、更
に前工程に用いることもできる。この例として多段向流
方式によって削減した水洗水のオーバーフローを、その
前浴の漂白定着浴に流入させ、漂白定着浴には濃縮液を
補充して、廃液量を減らすことが挙げられる。次に、本
発明に使用可能な乾燥工程について説明する。本発明の
超迅速処理で画像を完成させるために乾燥時間も20秒
から40秒が望まれる。この乾燥時間を短くする手段と
して、感光材料側の手段としては、ゼラチンなどの親水
性バインダーを減量することで膜への水分の持込み量を
減じることでの改善が可能である。また持込み量を減量
する観点から水洗浴から出た後すぐにスクイズローラや
布などで水を吸収することで乾燥を早めることも可能で
ある。乾燥機からの改善手段としては、当然のことでは
あるが、温度を高くすることや乾燥風を強くすることな
どで乾燥を早めることが可能である。更に、乾燥風の感
光材料への送風角度の調整や、排出風の除去方法によっ
ても乾燥を早めることができる。
【0040】
【実施例】次に、本発明を実施例によって具体的に説明
するが、本発明がこれらによって限定されるものではな
い。 実施例1 乳剤の調整 乳剤A:0.13Mの硝酸銀水溶液と、0.04Mの臭
化カリウムと0.09Mの塩化ナトリウムを含むハロゲ
ン塩水溶液を、塩化ナトリウムと1,8−ジヒドロキシ
−3,6−ジチアオクタンを含有するゼラチン水溶液
に、攪拌しながら45℃で12分間ダブルジェット法に
より添加し、平均粒子サイズ0.15μm、塩化銀含有
率70モル%の塩臭化銀粒子を得ることにより核形成を
行なった。続いて同様に0.87Mの硝酸銀水溶液と
0.26Mの臭化カリウムと0.65Mの塩化ナトリウ
ムを含むハロゲン塩水溶液をダブルジェット法により、
20分間かけて添加した。その後常法に従ってフロキュ
レーション法により水洗し、ゼラチン40gを加え、p
H6.5、pAg7.5に調整し、さらに銀1モルあた
りチオ硫酸ナトリウム5mg及び塩化金酸8mgを加え、6
0℃で75分間加熱し、化学増感処理を施し、安定剤と
して1,3,3a,7−テトラザインデン150mgを加
えた。得られた粒子は、平均粒子サイズ0.28μm、
塩化銀含量70モル%の塩臭化銀立方体粒子であった。
(変動係数10%)。
するが、本発明がこれらによって限定されるものではな
い。 実施例1 乳剤の調整 乳剤A:0.13Mの硝酸銀水溶液と、0.04Mの臭
化カリウムと0.09Mの塩化ナトリウムを含むハロゲ
ン塩水溶液を、塩化ナトリウムと1,8−ジヒドロキシ
−3,6−ジチアオクタンを含有するゼラチン水溶液
に、攪拌しながら45℃で12分間ダブルジェット法に
より添加し、平均粒子サイズ0.15μm、塩化銀含有
率70モル%の塩臭化銀粒子を得ることにより核形成を
行なった。続いて同様に0.87Mの硝酸銀水溶液と
0.26Mの臭化カリウムと0.65Mの塩化ナトリウ
ムを含むハロゲン塩水溶液をダブルジェット法により、
20分間かけて添加した。その後常法に従ってフロキュ
レーション法により水洗し、ゼラチン40gを加え、p
H6.5、pAg7.5に調整し、さらに銀1モルあた
りチオ硫酸ナトリウム5mg及び塩化金酸8mgを加え、6
0℃で75分間加熱し、化学増感処理を施し、安定剤と
して1,3,3a,7−テトラザインデン150mgを加
えた。得られた粒子は、平均粒子サイズ0.28μm、
塩化銀含量70モル%の塩臭化銀立方体粒子であった。
(変動係数10%)。
【0041】塗布試料の作成 上記の乳剤1kgに第1表に示す増感色素の0.01%溶
液を60ml加えて分光増感を行なった。この乳剤に強色
増感及び安定化のために、4,4′−ビス−(4,6−
ジナフトキシ−ピリミジン−2−イルアミノ)−スチル
ベンジスルホン酸ジナトリウム塩の0.5%メタノール
溶液70mlと2,5−ジメチル−3−アリル−ベンゾチ
アゾールヨード塩の0.5%メタノール溶液90mlを加
えた。さらにハイドロキノン100mg/m2、可塑剤とし
てポリエチルアクリレートラテックスをゼラチンバイン
ダー比25%、硬膜剤として2−ビス(ビニルスルホニ
ルアセトアミド)エタンを86.2mg/m2添加しポリエ
ステル支持体上に銀3.7g/m2になるように塗布し
た。ゼラチンは2.5g/m2であった。この上にゼラチ
ン0.6g/m2、マット剤として粒径3〜4μのポリメ
チルメタクリレート60mg/m2、粒径10〜20mμの
コロイダルシリカ70mg/m2、シリコーンオイル10mg
/m2を添加し、塗布助剤としてドデシルベンゼンスルフ
ォン酸ナトリウム塩、下記構造式のフッ素系界面活性
剤を添加した保護層上層およびゼラチン0.7g/m2、
ポリエチルアクリレートラテックス225mg/m2、で
表わされる染料20mg/m2、で表わされる染料10mg
/m2および塗布助剤としてドデシルベンゼンスルホン酸
ナトリウムを添加した保護層下層を同時に塗布し、試料
を作成した。
液を60ml加えて分光増感を行なった。この乳剤に強色
増感及び安定化のために、4,4′−ビス−(4,6−
ジナフトキシ−ピリミジン−2−イルアミノ)−スチル
ベンジスルホン酸ジナトリウム塩の0.5%メタノール
溶液70mlと2,5−ジメチル−3−アリル−ベンゾチ
アゾールヨード塩の0.5%メタノール溶液90mlを加
えた。さらにハイドロキノン100mg/m2、可塑剤とし
てポリエチルアクリレートラテックスをゼラチンバイン
ダー比25%、硬膜剤として2−ビス(ビニルスルホニ
ルアセトアミド)エタンを86.2mg/m2添加しポリエ
ステル支持体上に銀3.7g/m2になるように塗布し
た。ゼラチンは2.5g/m2であった。この上にゼラチ
ン0.6g/m2、マット剤として粒径3〜4μのポリメ
チルメタクリレート60mg/m2、粒径10〜20mμの
コロイダルシリカ70mg/m2、シリコーンオイル10mg
/m2を添加し、塗布助剤としてドデシルベンゼンスルフ
ォン酸ナトリウム塩、下記構造式のフッ素系界面活性
剤を添加した保護層上層およびゼラチン0.7g/m2、
ポリエチルアクリレートラテックス225mg/m2、で
表わされる染料20mg/m2、で表わされる染料10mg
/m2および塗布助剤としてドデシルベンゼンスルホン酸
ナトリウムを添加した保護層下層を同時に塗布し、試料
を作成した。
【0042】
【化13】
【0043】なお本実施例で使用したベースは下記組成
のバック層およびバック保護層を有する。(バック層、
の膨潤率は110%である。) (バック層) ゼラチン 3.0g/m2 ドデシルベンゼンスルフォン酸ナトリウム 80mg 染料 a 80mg 〃 b 30mg 〃 c 100mg 1,3−ジビニルスルホニル−2−プロパノール 60mg/m2 ポリビニル−ベンゼンスルフォン酸カリウム 30g/m2 (バック保護層) ゼラチン 0.75g/m2 ポリメチルメタクリレート(粒子サイズ4.7μ) 30mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 20mg/m2 フッ素系界面活性剤(前記化合物) 2mg/m2 シリコーンオイル 100mg/m2
のバック層およびバック保護層を有する。(バック層、
の膨潤率は110%である。) (バック層) ゼラチン 3.0g/m2 ドデシルベンゼンスルフォン酸ナトリウム 80mg 染料 a 80mg 〃 b 30mg 〃 c 100mg 1,3−ジビニルスルホニル−2−プロパノール 60mg/m2 ポリビニル−ベンゼンスルフォン酸カリウム 30g/m2 (バック保護層) ゼラチン 0.75g/m2 ポリメチルメタクリレート(粒子サイズ4.7μ) 30mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 20mg/m2 フッ素系界面活性剤(前記化合物) 2mg/m2 シリコーンオイル 100mg/m2
【0044】
【化14】
【0045】 現像液処方 水 720ml エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 4g 水酸化ナトリウム 44g 亜硫酸ソーダ 45g 2−メチルイミダゾール 2g 炭酸ソーダ 26.4g ホウ酸 1.6g 臭化カリウム 1g ハイドロキノン 20g ジエチレングリコール 39g 5−メチル−ベンゾトリアゾール 0.2g ピラゾン 0.7g 水を加えて 1リットル 定着液処方 チオ硫酸アンモニウム 170g 亜硫酸ナトリウム(無水) 15g 硝酸 7g 氷酢酸 15ml カリ明ばん 20g エチレンジアミン四酢酸 0.1g 酒石酸 3.5g 水を加えて 1リットル
【0046】写真性能の評価 得られた試料を、750nmにピークを持つ干渉フィル
ターと連続ウエッジを介し、発光時間10-6sec のキセ
ノンフラッシュ光で露光し下記組成の現像液及び定着液
を用いて、富士写真フイルム(株)製自動現像機FG−
360F(水洗槽容量6リットル)で38℃20″現
像、定着、水洗、乾燥し、センシトメトリーを行なっ
た。濃度3.0を与える露光量の逆数を感度とし、相対
感度で第1表に示した。また特性曲線で濃度0.1と
3.0の点を結ぶ直線の傾きを階調として同じく第1表
に示した。各試料を50kg/m2の加圧大気中に50℃で
7日間放置した後、上記と同様の写真性評価を行なった
結果を第1表に示した。第1表より明らかなように、本
発明の一般式(I)で表わされる化合物を含有する試料
は、従来知られている類似構造の化合物を含有する試料
に比べて、感度が高く、保存時の感度の変動も少ないこ
とがわかる。
ターと連続ウエッジを介し、発光時間10-6sec のキセ
ノンフラッシュ光で露光し下記組成の現像液及び定着液
を用いて、富士写真フイルム(株)製自動現像機FG−
360F(水洗槽容量6リットル)で38℃20″現
像、定着、水洗、乾燥し、センシトメトリーを行なっ
た。濃度3.0を与える露光量の逆数を感度とし、相対
感度で第1表に示した。また特性曲線で濃度0.1と
3.0の点を結ぶ直線の傾きを階調として同じく第1表
に示した。各試料を50kg/m2の加圧大気中に50℃で
7日間放置した後、上記と同様の写真性評価を行なった
結果を第1表に示した。第1表より明らかなように、本
発明の一般式(I)で表わされる化合物を含有する試料
は、従来知られている類似構造の化合物を含有する試料
に比べて、感度が高く、保存時の感度の変動も少ないこ
とがわかる。
【0047】
【表1】
【0048】比較化合物
【0049】
【化15】
【0050】
【化16】
【0051】実施例2 実施例1の試料1において比較化合物Aの代りに表2に
示す化合物を用いるほかは、試料1と同様にして表2に
示す試料101ないし105を作成した。これらの試料
を、650nmの半導体レーザーを備えたレーザー感光計
を用いて露光した後、実施例1と同じ現像液と定着液と
を用いて処理し、相対感度と60℃、湿度85%、4日
間保存した後の感度を比較し、結果を表2に示した。本
発明の一般式(I)で表わされる化合物を含有する写真
感光材料は、従来から知られていた化合物を含有する写
真感光材料より、レーザー露光においても感度が高く、
保存時の性能変化も小さいことがわかる。
示す化合物を用いるほかは、試料1と同様にして表2に
示す試料101ないし105を作成した。これらの試料
を、650nmの半導体レーザーを備えたレーザー感光計
を用いて露光した後、実施例1と同じ現像液と定着液と
を用いて処理し、相対感度と60℃、湿度85%、4日
間保存した後の感度を比較し、結果を表2に示した。本
発明の一般式(I)で表わされる化合物を含有する写真
感光材料は、従来から知られていた化合物を含有する写
真感光材料より、レーザー露光においても感度が高く、
保存時の性能変化も小さいことがわかる。
【0052】
【表2】
Claims (2)
- 【請求項1】 下記一般式(I)で表される化合物を含
有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。一
般式(I) 【化1】 〔式中、R11、R22はアルキル基またはアリ−ル基を表
し、Zは5もしくは6員の含窒素複素環を完成するため
の原子群を表し、B1 、B2 、B3 、B4 、B 5 、B6
は水素原子または置換基を表し、L0 はカルボシアニン
もしくはジカルボシアニンの構造を完成するための共役
トリメチン鎖もしくは共役ペンタメチン鎖を表し、Xn-
はn価の陰イオンを表し、nは1以上の整数を表し、L
1 は2価の連結基を表し、Hetは5ないし7員の含窒
素複素環基を表し、jは0または1を表し、kは1、
2、または3を表す。〕 - 【請求項2】 請求項1に記載のハロゲン化銀写真感光
材料に600nmないし900nmの波長域内の波長の
光を用いて露光することを特徴とする画像形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27473096A JPH10123651A (ja) | 1996-10-17 | 1996-10-17 | ハロゲン化銀写真感光材料および画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27473096A JPH10123651A (ja) | 1996-10-17 | 1996-10-17 | ハロゲン化銀写真感光材料および画像形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10123651A true JPH10123651A (ja) | 1998-05-15 |
Family
ID=17545785
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27473096A Pending JPH10123651A (ja) | 1996-10-17 | 1996-10-17 | ハロゲン化銀写真感光材料および画像形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10123651A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6492102B1 (en) * | 1999-08-20 | 2002-12-10 | Konica Corporation | Silver halide emulsion and silver halide light sensitive photographic material |
-
1996
- 1996-10-17 JP JP27473096A patent/JPH10123651A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6492102B1 (en) * | 1999-08-20 | 2002-12-10 | Konica Corporation | Silver halide emulsion and silver halide light sensitive photographic material |
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