JPH0995461A - エーテル化合物の製造法 - Google Patents
エーテル化合物の製造法Info
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- JPH0995461A JPH0995461A JP8133204A JP13320496A JPH0995461A JP H0995461 A JPH0995461 A JP H0995461A JP 8133204 A JP8133204 A JP 8133204A JP 13320496 A JP13320496 A JP 13320496A JP H0995461 A JPH0995461 A JP H0995461A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 溶剤、化粧料、洗浄剤組成物、潤滑剤等に広
範囲に使用可能なエーテル化合物を簡便かつ安価に供給
できる製造法の提供。 【解決手段】 一般式（１）で表されるカルボニル化合
物を、水素雰囲気下、触媒を用いて反応させて、一般式
（２）で表されるエーテル化合物を得る。 【化１】 【化２】 〔式中、R1, R2は水素原子、炭素数１〜20のアルキル基
あるいはアルケニル基を示し、R1, R2が結合した環状構
造であってもよい。〕
範囲に使用可能なエーテル化合物を簡便かつ安価に供給
できる製造法の提供。 【解決手段】 一般式（１）で表されるカルボニル化合
物を、水素雰囲気下、触媒を用いて反応させて、一般式
（２）で表されるエーテル化合物を得る。 【化１】 【化２】 〔式中、R1, R2は水素原子、炭素数１〜20のアルキル基
あるいはアルケニル基を示し、R1, R2が結合した環状構
造であってもよい。〕
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はエーテル化合物の製
造法に関する。さらに詳しくは、溶剤、化粧料、潤滑
剤、洗浄剤組成物等に広範囲に使用可能なエーテル化合
物を簡便かつ安価に供給できるエーテル化合物の製造法
に関する。
造法に関する。さらに詳しくは、溶剤、化粧料、潤滑
剤、洗浄剤組成物等に広範囲に使用可能なエーテル化合
物を簡便かつ安価に供給できるエーテル化合物の製造法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、エーテル化合物はジエチルエーテ
ル、ジブチルエーテル等が溶剤として利用されている。
しかし、これらより分子量の大きいもの、あるいは非対
称型のものは合成が困難なため、ほとんど利用されてい
ないのが現状である。特に化粧料等に配合できる油剤と
して、エーテル化合物は、現在汎用されているエステル
系の油剤に比べ、べとつかず、しかも加水分解もしない
ので、その有用性が高くなってきている。また、エーテ
ル化合物は、洗浄剤組成物としての油剤の利用も考えら
れる。さらには、潤滑剤等への利用も可能である。上記
のような理由からもエーテル化合物の利用に対する期待
は高まっているが、本当に有用なエーテル化合物を工業
的レベルで、簡便かつ安価に製造できないのが現状であ
る。
ル、ジブチルエーテル等が溶剤として利用されている。
しかし、これらより分子量の大きいもの、あるいは非対
称型のものは合成が困難なため、ほとんど利用されてい
ないのが現状である。特に化粧料等に配合できる油剤と
して、エーテル化合物は、現在汎用されているエステル
系の油剤に比べ、べとつかず、しかも加水分解もしない
ので、その有用性が高くなってきている。また、エーテ
ル化合物は、洗浄剤組成物としての油剤の利用も考えら
れる。さらには、潤滑剤等への利用も可能である。上記
のような理由からもエーテル化合物の利用に対する期待
は高まっているが、本当に有用なエーテル化合物を工業
的レベルで、簡便かつ安価に製造できないのが現状であ
る。
【０００３】従来から知られているエーテル化合物の合
成に用いられる方法としては、例えば、アルコラートと
ハロゲン化アルキルからの合成（ウィリアムソン合成
法）、アルコールとエステル系化合物からの合成、アル
コール間の酸による脱水反応からの合成、アルコールの
オレフィンへの付加による合成等が一般的である。しか
し、アルコラートとハロゲン化アルキルからの合成で
は、アルコラートを生じさせるためのアルコールと当量
の金属（Ｎａ、Ｋ等）、あるいはアルカリが必要であ
り、さらには反応後、それに伴う多量の塩が生成し、工
業的には好ましくない。また、アルコールとエステル系
化合物からの合成については、エステル化合物がジメチ
ル硫酸、ジエチル硫酸等に限定され、メチルエーテル、
エチルエーテルの合成には好ましいが、これらの化合物
より炭素数が多いエーテル化合物を合成するのは困難で
ある。アルコール間の酸による脱水反応では副生成物と
してオレフィンが生成し、あまり好ましくない。また、
アルコールのオレフィンへの付加による合成では、オレ
フィン化合物が限定されたり、また、使用する触媒とと
もにかなり高価なものが多く、さらには、オレフィン、
触媒ともに回収再利用も困難なものが多く、工業的には
適さない。
成に用いられる方法としては、例えば、アルコラートと
ハロゲン化アルキルからの合成（ウィリアムソン合成
法）、アルコールとエステル系化合物からの合成、アル
コール間の酸による脱水反応からの合成、アルコールの
オレフィンへの付加による合成等が一般的である。しか
し、アルコラートとハロゲン化アルキルからの合成で
は、アルコラートを生じさせるためのアルコールと当量
の金属（Ｎａ、Ｋ等）、あるいはアルカリが必要であ
り、さらには反応後、それに伴う多量の塩が生成し、工
業的には好ましくない。また、アルコールとエステル系
化合物からの合成については、エステル化合物がジメチ
ル硫酸、ジエチル硫酸等に限定され、メチルエーテル、
エチルエーテルの合成には好ましいが、これらの化合物
より炭素数が多いエーテル化合物を合成するのは困難で
ある。アルコール間の酸による脱水反応では副生成物と
してオレフィンが生成し、あまり好ましくない。また、
アルコールのオレフィンへの付加による合成では、オレ
フィン化合物が限定されたり、また、使用する触媒とと
もにかなり高価なものが多く、さらには、オレフィン、
触媒ともに回収再利用も困難なものが多く、工業的には
適さない。
【０００４】また、例えば、特開昭４８−３３０３７号
公報には各種モノエーテル類の利用が開示されている
が、その合成法としてウィリアムソン法が有利と明記し
てある。しかし、先にも述べたように、ウィリアムソン
法は工業的レベルでは好ましくない。更に、エーテル化
合物の利用法が、特開昭４８−５９４１号公報、米国特
許第４００９２５４号明細書に開示されているが、これ
らもウィリアムソン法がほとんどである。
公報には各種モノエーテル類の利用が開示されている
が、その合成法としてウィリアムソン法が有利と明記し
てある。しかし、先にも述べたように、ウィリアムソン
法は工業的レベルでは好ましくない。更に、エーテル化
合物の利用法が、特開昭４８−５９４１号公報、米国特
許第４００９２５４号明細書に開示されているが、これ
らもウィリアムソン法がほとんどである。
【０００５】その他、エーテルの合成法として、アルコ
ールとカルボニル化合物から製造する方法がある。例え
ば、J. Chem. Soc., 5598(1963)、Chem. Commun., 422
(1967) にアルコール過剰系において、常圧水素雰囲気
下、酸性触媒を用いた条件下エーテル化合物を合成する
方法が記載されている。しかし、それらはすべてアルコ
ールが大過剰系であり、しかもメタノール、エタノー
ル、プロピルアルコールといった低級アルコールの使用
のみであり、炭素数が６を超える高級アルコールについ
ては記載されていない。また、J. Org. Chem., 26, 102
6(1961) には、各種ケタールの水素化分解反応によるエ
ーテルの合成法が開示されているが、これについても炭
素数が６以下の低級アルコールが中心であり、高級アル
コールのエーテル化の記載はなく、一般的でない。ま
た、この反応においては、一旦、ケタールを合成しなけ
ればならないという欠点もある。
ールとカルボニル化合物から製造する方法がある。例え
ば、J. Chem. Soc., 5598(1963)、Chem. Commun., 422
(1967) にアルコール過剰系において、常圧水素雰囲気
下、酸性触媒を用いた条件下エーテル化合物を合成する
方法が記載されている。しかし、それらはすべてアルコ
ールが大過剰系であり、しかもメタノール、エタノー
ル、プロピルアルコールといった低級アルコールの使用
のみであり、炭素数が６を超える高級アルコールについ
ては記載されていない。また、J. Org. Chem., 26, 102
6(1961) には、各種ケタールの水素化分解反応によるエ
ーテルの合成法が開示されているが、これについても炭
素数が６以下の低級アルコールが中心であり、高級アル
コールのエーテル化の記載はなく、一般的でない。ま
た、この反応においては、一旦、ケタールを合成しなけ
ればならないという欠点もある。
【０００６】また近年、例えば、Chem. Pharm. Bull.,
27, 2405(1979)、Chem. Lett., 743(1985)には、高級ア
ルコールを用いたエーテル化合物の合成例として、強酸
を触媒としたトリエチルシランによる還元法が開発さ
れ、高級アルコールと各種カルボニル化合物から各種エ
ーテル化合物が合成されているが、強酸、トリエチルシ
ラン等が高価なこともあり、工業的には好ましい方法と
はいえない。
27, 2405(1979)、Chem. Lett., 743(1985)には、高級ア
ルコールを用いたエーテル化合物の合成例として、強酸
を触媒としたトリエチルシランによる還元法が開発さ
れ、高級アルコールと各種カルボニル化合物から各種エ
ーテル化合物が合成されているが、強酸、トリエチルシ
ラン等が高価なこともあり、工業的には好ましい方法と
はいえない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記で述べたように、
エーテル化合物は、その用途が期待されながら、製造が
困難であるため汎用的に利用できず、簡便かつ安価に供
給できるエーテル化合物の製造法が望まれていた。従っ
て、本発明の目的は、溶剤、化粧料、洗浄剤組成物、潤
滑剤等への利用として有用なエーテル化合物を簡便かつ
安価に供給できる製造法を提供することにある。
エーテル化合物は、その用途が期待されながら、製造が
困難であるため汎用的に利用できず、簡便かつ安価に供
給できるエーテル化合物の製造法が望まれていた。従っ
て、本発明の目的は、溶剤、化粧料、洗浄剤組成物、潤
滑剤等への利用として有用なエーテル化合物を簡便かつ
安価に供給できる製造法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく、汎用的に使用できるエーテル化合物の簡
便かつ安価な製造方法について鋭意検討を行った結果、
カルボニル化合物を、水素雰囲気下、触媒を用いて反応
させることにより、一段階で、しかも高収率で対称型エ
ーテル化合物が得られることを見出し、本発明を完成す
るに到った。すなわち本発明は、一般式（１）
を解決すべく、汎用的に使用できるエーテル化合物の簡
便かつ安価な製造方法について鋭意検討を行った結果、
カルボニル化合物を、水素雰囲気下、触媒を用いて反応
させることにより、一段階で、しかも高収率で対称型エ
ーテル化合物が得られることを見出し、本発明を完成す
るに到った。すなわち本発明は、一般式（１）
【０００９】
【化３】
【００１０】〔式中、R1, R2は水素原子、炭素数１〜20
の直鎖又は分岐のアルキル基あるいはアルケニル基を示
し、R1, R2は同一であっても異なっていてもよい。ま
た、R1,R2が結合した環状構造であってもよい。〕で表
されるカルボニル化合物を、水素雰囲気下、触媒を用い
て反応させることを特徴とする一般式（２）で表される
エーテル化合物の製造法を提供するものである。
の直鎖又は分岐のアルキル基あるいはアルケニル基を示
し、R1, R2は同一であっても異なっていてもよい。ま
た、R1,R2が結合した環状構造であってもよい。〕で表
されるカルボニル化合物を、水素雰囲気下、触媒を用い
て反応させることを特徴とする一般式（２）で表される
エーテル化合物の製造法を提供するものである。
【００１１】
【化４】
【００１２】〔式中、R1, R2は前記と同じ意味を示
す。〕
す。〕
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。本発明に用いられるカルボニル化合
物は前記一般式（１）で表される化合物であれば、特に
限定されないが、具体的には、ホルムアルデヒド、パラ
ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピルアルデ
ヒド、ブチルアルデヒド、ペンチルアルデヒド、ヘキシ
ルアルデヒド、ヘプチルアルデヒド、オクチルアルデヒ
ド、ノニルアルデヒド、デシルアルデヒド、ウンデシル
アルデヒド、ドデシルアルデヒド、ヘキサデシルアルデ
ヒド、オクタデシルアルデヒド、エイコシルアルデヒド
等の直鎖アルデヒド、イソブチルアルデヒド、２−エチ
ルヘキシルアルデヒド、２−エチルブチルアルデヒド、
メチルヘプタデシルアルデヒド等の分岐アルデヒド、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチル−ｎ−プロピルケ
トン、メチルイソプロピルケトン、メチル−ｎ−ブチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、ピナコロン、メチル
−ｎ−アミルケトン、メチル−ｎ−ヘキシルケトン、ジ
エチルケトン、エチル−ｎ−ブチルケトン、ジ−ｎ−プ
ロピルケトン、ジイソプロピルケトン、ジイソブチルケ
トン、２，６，６−トリメチルノナノン−４、６−メチ
ル−５−ヘプテノン−２等の鎖状ケトン、シクロヘキサ
ノン、２−メチルシクロヘキサノン、イソホロン、シク
ロペンタノン、シクロヘプタノン等の環状ケトンなどが
挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではな
い。
て詳細に説明する。本発明に用いられるカルボニル化合
物は前記一般式（１）で表される化合物であれば、特に
限定されないが、具体的には、ホルムアルデヒド、パラ
ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピルアルデ
ヒド、ブチルアルデヒド、ペンチルアルデヒド、ヘキシ
ルアルデヒド、ヘプチルアルデヒド、オクチルアルデヒ
ド、ノニルアルデヒド、デシルアルデヒド、ウンデシル
アルデヒド、ドデシルアルデヒド、ヘキサデシルアルデ
ヒド、オクタデシルアルデヒド、エイコシルアルデヒド
等の直鎖アルデヒド、イソブチルアルデヒド、２−エチ
ルヘキシルアルデヒド、２−エチルブチルアルデヒド、
メチルヘプタデシルアルデヒド等の分岐アルデヒド、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチル−ｎ−プロピルケ
トン、メチルイソプロピルケトン、メチル−ｎ−ブチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、ピナコロン、メチル
−ｎ−アミルケトン、メチル−ｎ−ヘキシルケトン、ジ
エチルケトン、エチル−ｎ−ブチルケトン、ジ−ｎ−プ
ロピルケトン、ジイソプロピルケトン、ジイソブチルケ
トン、２，６，６−トリメチルノナノン−４、６−メチ
ル−５−ヘプテノン−２等の鎖状ケトン、シクロヘキサ
ノン、２−メチルシクロヘキサノン、イソホロン、シク
ロペンタノン、シクロヘプタノン等の環状ケトンなどが
挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではな
い。
【００１４】これらのカルボニル化合物の中では、炭素
数１〜20、好ましくは３〜12の脂肪族アルデヒド、炭素
数３〜12、好ましくは３〜８の対称あるいは非対称の鎖
状ケトン、炭素数３〜12、好ましくは５〜８の環状ケト
ンが好適に用いられる。これらのカルボニル化合物は、
１種又は２種以上の混合物として用いることができる。
数１〜20、好ましくは３〜12の脂肪族アルデヒド、炭素
数３〜12、好ましくは３〜８の対称あるいは非対称の鎖
状ケトン、炭素数３〜12、好ましくは５〜８の環状ケト
ンが好適に用いられる。これらのカルボニル化合物は、
１種又は２種以上の混合物として用いることができる。
【００１５】本発明において、カルボニル化合物を反応
させる際に用いられる触媒としては、水素化能を有する
ものであれば特に限定されないが、パラジウム触媒；水
酸化パラジウム、酸化パラジウム等のパラジウム化合
物；ルテニウム、ロジウムあるいは白金触媒；酸化ルテ
ニウム、酸化ロジウム、酸化白金等が挙げられる。ま
た、イリジウム、オスミウム、レニウム等の触媒も用い
ることができる。これらの触媒は、カーボン、アルミ
ナ、シリカアルミナ、シリカ、ゼオライト等の担体に適
度に担持されていてもよい。これらの触媒の中で、好ま
しくはパラジウム系触媒、更に好ましくはカーボン、ア
ルミナ、シリカアルミナもしくはシリカに担持されたパ
ラジウム触媒、水酸化パラジウム又は酸化パラジウムで
あり、特にカーボンに担持されたパラジウム触媒が好ま
しい。
させる際に用いられる触媒としては、水素化能を有する
ものであれば特に限定されないが、パラジウム触媒；水
酸化パラジウム、酸化パラジウム等のパラジウム化合
物；ルテニウム、ロジウムあるいは白金触媒；酸化ルテ
ニウム、酸化ロジウム、酸化白金等が挙げられる。ま
た、イリジウム、オスミウム、レニウム等の触媒も用い
ることができる。これらの触媒は、カーボン、アルミ
ナ、シリカアルミナ、シリカ、ゼオライト等の担体に適
度に担持されていてもよい。これらの触媒の中で、好ま
しくはパラジウム系触媒、更に好ましくはカーボン、ア
ルミナ、シリカアルミナもしくはシリカに担持されたパ
ラジウム触媒、水酸化パラジウム又は酸化パラジウムで
あり、特にカーボンに担持されたパラジウム触媒が好ま
しい。
【００１６】本発明において触媒は、通常カーボン、ア
ルミナ等の担体に対して２〜10重量％の割合で担持して
使用するが、担体に担持せずにそのまま使用しても構わ
ない。また、20〜60重量％程度の含水品であっても構わ
ない。触媒は、例えば担体に対して５重量％担持された
ものであれば、使用するカルボニル化合物に対して0.1
〜10重量％使用するのが好ましい。0.1重量％より少な
くても反応は進行するが、反応は遅く好ましくない。ま
た、10重量％より多く用いても反応は速いが、逆に副反
応も進行し好ましくない。さらに好ましくは0.5〜５重
量％である。触媒はすべてのｐＨ領域で使用できるが、
好ましくはｐＨ８〜２、更に好ましくはｐＨ 7.5〜３の
触媒がよい。ここでいう触媒のｐＨとは、イオン交換水
30ｇに触媒粉末２ｇを分散させた時の水溶液のｐＨをい
う。
ルミナ等の担体に対して２〜10重量％の割合で担持して
使用するが、担体に担持せずにそのまま使用しても構わ
ない。また、20〜60重量％程度の含水品であっても構わ
ない。触媒は、例えば担体に対して５重量％担持された
ものであれば、使用するカルボニル化合物に対して0.1
〜10重量％使用するのが好ましい。0.1重量％より少な
くても反応は進行するが、反応は遅く好ましくない。ま
た、10重量％より多く用いても反応は速いが、逆に副反
応も進行し好ましくない。さらに好ましくは0.5〜５重
量％である。触媒はすべてのｐＨ領域で使用できるが、
好ましくはｐＨ８〜２、更に好ましくはｐＨ 7.5〜３の
触媒がよい。ここでいう触媒のｐＨとは、イオン交換水
30ｇに触媒粉末２ｇを分散させた時の水溶液のｐＨをい
う。
【００１７】本発明においては、カルボニル化合物を水
素雰囲気下で反応させるが、水素圧は特に限定されず、
１〜300kg/cm2 が好ましく、１〜200kg/cm2 が特に好ま
しい。また、本発明において、カルボニル化合物を反応
させる際の反応温度は特に限定されないが、20〜 200℃
が好ましく、30〜 180℃が特に好ましい。反応時間は、
反応温度、水素圧、触媒量などによって適宜選べばよい
が、通常１〜24時間、好ましくは１〜12時間である。
素雰囲気下で反応させるが、水素圧は特に限定されず、
１〜300kg/cm2 が好ましく、１〜200kg/cm2 が特に好ま
しい。また、本発明において、カルボニル化合物を反応
させる際の反応温度は特に限定されないが、20〜 200℃
が好ましく、30〜 180℃が特に好ましい。反応時間は、
反応温度、水素圧、触媒量などによって適宜選べばよい
が、通常１〜24時間、好ましくは１〜12時間である。
【００１８】また、本反応においては、反応を促進させ
る目的で、反応により副生する水を除去しながら反応を
行ってもよい。反応により副生する水を除去する方法と
しては、反応系外に水を除去する方法はもちろん、反応
系内において脱水剤等により水を除去する方法も用いる
ことができ、具体的には、脱水剤の存在下に反応を行う
ことにより水を除去する方法、水素等の気体を流通させ
ながら水を除去する方法、共沸脱水により水を除去する
方法等の方法が挙げられる。これらの方法の中では脱水
剤の存在下に反応を行うことにより水を除去する方法、
あるいは水素を流通させながら水を系外に除去する方法
が好ましく、特に脱水管を備えた反応装置を用い水素を
流通させながら反応により副生する水を系外に除去し、
かつ水とともに系外に出た未反応のカルボニル化合物を
系内に戻す方法が好ましい。
る目的で、反応により副生する水を除去しながら反応を
行ってもよい。反応により副生する水を除去する方法と
しては、反応系外に水を除去する方法はもちろん、反応
系内において脱水剤等により水を除去する方法も用いる
ことができ、具体的には、脱水剤の存在下に反応を行う
ことにより水を除去する方法、水素等の気体を流通させ
ながら水を除去する方法、共沸脱水により水を除去する
方法等の方法が挙げられる。これらの方法の中では脱水
剤の存在下に反応を行うことにより水を除去する方法、
あるいは水素を流通させながら水を系外に除去する方法
が好ましく、特に脱水管を備えた反応装置を用い水素を
流通させながら反応により副生する水を系外に除去し、
かつ水とともに系外に出た未反応のカルボニル化合物を
系内に戻す方法が好ましい。
【００１９】脱水剤の存在下に反応を行うことにより水
を除去する方法において、用いられる脱水剤としては、
硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、
硫酸銅、塩化カルシウム等の無機塩類、好ましくはこれ
らの無水物、水酸化カルシウム等の水酸化物、酸化マグ
ネシウム等の酸化物、モレキュラーシーブ等の結晶性ゼ
オライト、シリカゲル等が挙げられるが、必ずしもこれ
らに限定されるものではない。これらの脱水剤の中で
は、無機塩類の無水物、結晶性ゼオライトが好ましく、
無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水硫酸
カルシウム、モレキュラーシーブが特に好ましい。本発
明において脱水剤を用いる場合、その使用量は特に限定
されないが、カルボニル化合物に対して 0.1〜50モル％
が好ましく、１〜30モル％が更に好ましい。
を除去する方法において、用いられる脱水剤としては、
硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、
硫酸銅、塩化カルシウム等の無機塩類、好ましくはこれ
らの無水物、水酸化カルシウム等の水酸化物、酸化マグ
ネシウム等の酸化物、モレキュラーシーブ等の結晶性ゼ
オライト、シリカゲル等が挙げられるが、必ずしもこれ
らに限定されるものではない。これらの脱水剤の中で
は、無機塩類の無水物、結晶性ゼオライトが好ましく、
無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、無水硫酸
カルシウム、モレキュラーシーブが特に好ましい。本発
明において脱水剤を用いる場合、その使用量は特に限定
されないが、カルボニル化合物に対して 0.1〜50モル％
が好ましく、１〜30モル％が更に好ましい。
【００２０】また、水素を流通させながら水を系外に除
去する方法において、水素の流通量は、反応スケールに
応じて適宜選べばよいが、例えば、１リットルのスケー
ルでは0.01〜30リットル／min が好ましく、0.01〜10リ
ットル／min が更に好ましい。水素の流通量を0.01リッ
トル／min 以上にすることで水が系外へ除去されやす
く、反応は速くなる。また水素の流通量が30リットル／
min 以下であると、過剰の水素量が調整できるととも
に、水と共に除去される未反応原料のカルボニル化合物
等も少なくなるので好ましい。また、水素の流通は反応
中連続的に行ってもよいし、断続的に行ってもよいが、
反応をスムースに進行させるためには連続的な流通が好
ましい。また、反応系内に流通させた水素はそのまま大
気中へ放出しても構わないが、水素を有効に使用するた
めには、系外に出た水素を循環ライン等で再度系内に戻
して流通させ、循環させながら反応に利用するのが効率
的で好ましい。更に、水と共に未反応のカルボニル化合
物や生成物等の有用成分が同時に系外に除去される場合
には、未反応のカルボニル化合物等を、分留、分液や脱
水剤により水を除去後、系内に再び戻すことが好まし
い。
去する方法において、水素の流通量は、反応スケールに
応じて適宜選べばよいが、例えば、１リットルのスケー
ルでは0.01〜30リットル／min が好ましく、0.01〜10リ
ットル／min が更に好ましい。水素の流通量を0.01リッ
トル／min 以上にすることで水が系外へ除去されやす
く、反応は速くなる。また水素の流通量が30リットル／
min 以下であると、過剰の水素量が調整できるととも
に、水と共に除去される未反応原料のカルボニル化合物
等も少なくなるので好ましい。また、水素の流通は反応
中連続的に行ってもよいし、断続的に行ってもよいが、
反応をスムースに進行させるためには連続的な流通が好
ましい。また、反応系内に流通させた水素はそのまま大
気中へ放出しても構わないが、水素を有効に使用するた
めには、系外に出た水素を循環ライン等で再度系内に戻
して流通させ、循環させながら反応に利用するのが効率
的で好ましい。更に、水と共に未反応のカルボニル化合
物や生成物等の有用成分が同時に系外に除去される場合
には、未反応のカルボニル化合物等を、分留、分液や脱
水剤により水を除去後、系内に再び戻すことが好まし
い。
【００２１】また、本発明においては、反応を促進させ
る目的で、メタノール、エタノール等の低級アルコール
を添加して反応を行ったり、ルイス酸存在下で反応を行
ってもよい。ここで用いられるルイス酸としては、電子
対受容体ならいずれでもよいが、 BF3・OEt2（三フッ化
ホウ素・ジエチルエーテル錯体）、 BF3・2CH3CO2H（三
フッ化ホウ素・酢酸錯体）、 BF3・(CH3)3COCH3(三フッ
化ホウ素・ｔ−ブチルメチルエーテル錯体）、 BF3・CH
3OH(三フッ化ホウ素・メタノール錯体）、BF3・CH3(C
H2)2OH(三フッ化ホウ素・プロパノール錯体）、TiCl
4(四塩化チタン）、SnCl4(四塩化スズ）、AlCl3(三塩化
アルミニウム）、TMSOTf（トリフルオロメタンスルホン
酸トリメチルシリル）、Ti(Oi-Pro)4(チタン酸テトライ
ソプロピル）、ZnCl2(二塩化亜鉛）、FeCl3(三塩化鉄）
等が挙げられ、特に好ましくは BF3・OEt2である。本発
明においてルイス酸を用いる場合、その使用量は特に限
定されないが、カルボニル化合物に対して、好ましくは
0.01〜20倍モル、更に好ましくは 0.1〜10倍モル、更に
特に好ましくは 0.5〜５倍モルである。
る目的で、メタノール、エタノール等の低級アルコール
を添加して反応を行ったり、ルイス酸存在下で反応を行
ってもよい。ここで用いられるルイス酸としては、電子
対受容体ならいずれでもよいが、 BF3・OEt2（三フッ化
ホウ素・ジエチルエーテル錯体）、 BF3・2CH3CO2H（三
フッ化ホウ素・酢酸錯体）、 BF3・(CH3)3COCH3(三フッ
化ホウ素・ｔ−ブチルメチルエーテル錯体）、 BF3・CH
3OH(三フッ化ホウ素・メタノール錯体）、BF3・CH3(C
H2)2OH(三フッ化ホウ素・プロパノール錯体）、TiCl
4(四塩化チタン）、SnCl4(四塩化スズ）、AlCl3(三塩化
アルミニウム）、TMSOTf（トリフルオロメタンスルホン
酸トリメチルシリル）、Ti(Oi-Pro)4(チタン酸テトライ
ソプロピル）、ZnCl2(二塩化亜鉛）、FeCl3(三塩化鉄）
等が挙げられ、特に好ましくは BF3・OEt2である。本発
明においてルイス酸を用いる場合、その使用量は特に限
定されないが、カルボニル化合物に対して、好ましくは
0.01〜20倍モル、更に好ましくは 0.1〜10倍モル、更に
特に好ましくは 0.5〜５倍モルである。
【００２２】また、本発明の反応においては、場合によ
っては反応に全く悪影響を及ぼさない溶媒を用いて反応
を行ってもよい。反応に全く悪影響を及ぼさない溶媒と
しては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の炭化水素系
溶媒が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるもの
ではなく、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶
媒を用いてもよい。反応に全く悪影響を及ぼさない溶媒
を用いる場合の溶媒の使用量は、特に限定されないが、
反応液に対して0.5 〜２倍容量が好ましい。
っては反応に全く悪影響を及ぼさない溶媒を用いて反応
を行ってもよい。反応に全く悪影響を及ぼさない溶媒と
しては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の炭化水素系
溶媒が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるもの
ではなく、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶
媒を用いてもよい。反応に全く悪影響を及ぼさない溶媒
を用いる場合の溶媒の使用量は、特に限定されないが、
反応液に対して0.5 〜２倍容量が好ましい。
【００２３】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明をより詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。
【００２４】実施例１ ジブチルエーテルの合成 ＣＨ３（ＣＨ２）２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２（ＣＨ２）２Ｃ
Ｈ３ 水素ガス導入管及び攪拌装置を備えた ５００ｍｌのオ
ートクレーブにｎ−ブチルアルデヒド 284ｇ(4.0モ
ル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（ｐＨ 6.6)5.7ｇを仕込
み、水素圧60kg/cm2下、 150℃で８時間攪拌を行った。
反応終了後、濾過により触媒を除去し、さらに蒸留(140
℃／常圧) を行い、目的のジブチルエーテル 247ｇ(1.9
モル）を無色透明な液体として得た。単離収率は90％で
あった。
Ｈ３ 水素ガス導入管及び攪拌装置を備えた ５００ｍｌのオ
ートクレーブにｎ−ブチルアルデヒド 284ｇ(4.0モ
ル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（ｐＨ 6.6)5.7ｇを仕込
み、水素圧60kg/cm2下、 150℃で８時間攪拌を行った。
反応終了後、濾過により触媒を除去し、さらに蒸留(140
℃／常圧) を行い、目的のジブチルエーテル 247ｇ(1.9
モル）を無色透明な液体として得た。単離収率は90％で
あった。
【００２５】実施例２ ジヘキシルエーテルの合成 CH3(CH2)4CH2-O-CH2(CH2)4CH3 水素ガス導入管及び攪拌装置を備えた 500mlのオートク
レーブにｎ−ヘキシルアルデヒド 250ｇ(2.5モル）、触
媒として５％Ｐｄ−Ｃ（ｐＨ 6.6)5.0ｇを仕込み、水素
圧80kg/cm2下、 150℃で８時間攪拌を行った。反応終了
後、濾過により触媒を除去し、さらに減圧蒸留(102℃／
50Torr) を行い、目的のジヘキシルエーテル 205ｇ(1.1
モル）を無色透明な液体として得た。単離収率は88％で
あった。
レーブにｎ−ヘキシルアルデヒド 250ｇ(2.5モル）、触
媒として５％Ｐｄ−Ｃ（ｐＨ 6.6)5.0ｇを仕込み、水素
圧80kg/cm2下、 150℃で８時間攪拌を行った。反応終了
後、濾過により触媒を除去し、さらに減圧蒸留(102℃／
50Torr) を行い、目的のジヘキシルエーテル 205ｇ(1.1
モル）を無色透明な液体として得た。単離収率は88％で
あった。
【００２６】実施例３ ジオクチルエーテルの合成 CH3(CH2)6CH2-O-CH2(CH2)6CH3 水素ガス導入管及び攪拌装置を備えた 500mlのオートク
レーブにｎ−オクチルアルデヒド 256ｇ(2.0モル）、触
媒として５％Ｐｄ−Ｃ（ｐＨ 3.8)5.1ｇを仕込み、水素
圧 100kg/cm2下、 150℃で８時間攪拌を行った。反応終
了後、濾過により触媒を除去し、さらに減圧蒸留(127℃
／3.5Torr)を行い、目的のジオクチルエーテル 215ｇ
(0.89モル）を無色透明な液体として得た。単離収率は8
9％であった。
レーブにｎ−オクチルアルデヒド 256ｇ(2.0モル）、触
媒として５％Ｐｄ−Ｃ（ｐＨ 3.8)5.1ｇを仕込み、水素
圧 100kg/cm2下、 150℃で８時間攪拌を行った。反応終
了後、濾過により触媒を除去し、さらに減圧蒸留(127℃
／3.5Torr)を行い、目的のジオクチルエーテル 215ｇ
(0.89モル）を無色透明な液体として得た。単離収率は8
9％であった。
【００２７】実施例４ ジデシルエーテルの合成 CH3(CH2)8CH2-O-CH2(CH2)8CH3 水素ガス導入管及び攪拌装置を備えた 500mlのオートク
レーブにｎ−デシルアルデヒド 265ｇ(1.7モル）、触媒
として５％Ｐｄ−Ｃ（ｐＨ 6.6)5.3ｇを仕込み、水素圧
100kg/cm2下、 150℃で８時間攪拌を行った。反応終了
後、濾過により触媒を除去し、さらに減圧蒸留(142℃／
0.3Torr)を行い、目的のジデシルエーテル 215ｇ (0.72
モル）を無色透明な液体として得た。単離収率は85％で
あった。
レーブにｎ−デシルアルデヒド 265ｇ(1.7モル）、触媒
として５％Ｐｄ−Ｃ（ｐＨ 6.6)5.3ｇを仕込み、水素圧
100kg/cm2下、 150℃で８時間攪拌を行った。反応終了
後、濾過により触媒を除去し、さらに減圧蒸留(142℃／
0.3Torr)を行い、目的のジデシルエーテル 215ｇ (0.72
モル）を無色透明な液体として得た。単離収率は85％で
あった。
【００２８】実施例５ ジドデシルエーテルの合成 CH3(CH2)10CH2-O-CH2(CH2)10CH3 水素ガス導入管及び攪拌装置を備えた 500mlのオートク
レーブにｎ−ドデシルアルデヒド 276ｇ(1.5モル）、触
媒として５％Ｐｄ−Ｃ（ｐＨ 3.8)5.5ｇを仕込み、水素
圧 120kg/cm2下、 150℃で８時間攪拌を行った。反応終
了後、濾過により触媒を除去し、さらに減圧蒸留(165℃
／0.2Torr)を行い、目的のジドデシルエーテル 231ｇ
(0.65モル）を白色固体として得た。単離収率は87％で
あった。
レーブにｎ−ドデシルアルデヒド 276ｇ(1.5モル）、触
媒として５％Ｐｄ−Ｃ（ｐＨ 3.8)5.5ｇを仕込み、水素
圧 120kg/cm2下、 150℃で８時間攪拌を行った。反応終
了後、濾過により触媒を除去し、さらに減圧蒸留(165℃
／0.2Torr)を行い、目的のジドデシルエーテル 231ｇ
(0.65モル）を白色固体として得た。単離収率は87％で
あった。
【００２９】実施例６ ビス（１，３−ジメチルブチル）エーテルの合成
【００３０】
【化５】
【００３１】水素ガス導入管及び攪拌装置を備えた 500
mlのオートクレーブにメチルイソブチルケトン 250ｇ
(2.5モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（ｐＨ 3.8)5.0ｇ
を仕込み、水素圧 150kg/cm2下、 150℃で８時間攪拌を
行った。反応終了後、濾過により触媒を除去し、さらに
減圧蒸留（97℃／50Torr) を行い、目的のビス（１，３
−ジメチルブチル）エーテル 145ｇ（0.78モル）を無色
透明な液体として得た。単離収率は62％であった。
mlのオートクレーブにメチルイソブチルケトン 250ｇ
(2.5モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（ｐＨ 3.8)5.0ｇ
を仕込み、水素圧 150kg/cm2下、 150℃で８時間攪拌を
行った。反応終了後、濾過により触媒を除去し、さらに
減圧蒸留（97℃／50Torr) を行い、目的のビス（１，３
−ジメチルブチル）エーテル 145ｇ（0.78モル）を無色
透明な液体として得た。単離収率は62％であった。
【００３２】実施例７ ジシクロヘキシルエーテルの合成
【００３３】
【化６】
【００３４】水素ガス導入管及び攪拌装置を備えた 500
mlのオートクレーブにシクロヘキサノン 245ｇ(2.5モ
ル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（ｐＨ 6.6)4.9ｇを仕込
み、水素圧 150kg/cm2下、 150℃で８時間攪拌を行っ
た。反応終了後、濾過により触媒を除去し、さらにシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより目的のジシクロ
ヘキシルエーテル 129ｇ（0.71モル）を無色透明な液体
として得た。単離収率は57％であった。
mlのオートクレーブにシクロヘキサノン 245ｇ(2.5モ
ル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（ｐＨ 6.6)4.9ｇを仕込
み、水素圧 150kg/cm2下、 150℃で８時間攪拌を行っ
た。反応終了後、濾過により触媒を除去し、さらにシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより目的のジシクロ
ヘキシルエーテル 129ｇ（0.71モル）を無色透明な液体
として得た。単離収率は57％であった。
【００３５】実施例８ ジデシルエーテルの合成 実施例４と全く同じ原料及び触媒を用い、無水硫酸マグ
ネシウム2.7 ｇ(0.02モル) を加えて、実施例４と同様
の反応及び同様の処理を行い、ジデシルエーテル 228ｇ
（0.77モル）を無色透明な液体として得た。単離収率は
90％であった。
ネシウム2.7 ｇ(0.02モル) を加えて、実施例４と同様
の反応及び同様の処理を行い、ジデシルエーテル 228ｇ
（0.77モル）を無色透明な液体として得た。単離収率は
90％であった。
【００３６】実施例９ ビス（１，３−ジメチルブチル）エーテルの合成 実施例６と全く同じ原料及び触媒を用い、無水硫酸マグ
ネシウム2.5 ｇ(0.02モル) を加えて、実施例６と同様
の反応及び同様の処理を行い、ビス（１，３−ジメチル
ブチル）エーテル 174ｇ（0.94モル）を無色透明な液体
として得た。単離収率は75％であった。
ネシウム2.5 ｇ(0.02モル) を加えて、実施例６と同様
の反応及び同様の処理を行い、ビス（１，３−ジメチル
ブチル）エーテル 174ｇ（0.94モル）を無色透明な液体
として得た。単離収率は75％であった。
【００３７】実施例１０ ジブチルエーテルの合成 CH3(CH2)2CH2-O-CH2(CH2)2CH3 水素ガス導入管、攪拌装置及び冷却脱水管を備えた 500
mlのオートクレーブにｎ−ブチルアルデヒド 284ｇ(4.0
モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（ｐＨ 6.6)8.5 ｇを
仕込み、水素圧50kg/cm2下、水素流通量700ml/min 、15
0 ℃で８時間攪拌を行い、反応により副生する水を系外
に除去し、水とともに系外に出たｎ−ブチルアルデヒド
は系内に戻しながら反応を行った。反応終了後、濾過に
より触媒を除去し、さらに蒸留(140℃／常圧) を行い、
目的のジブチルエーテル 247ｇ(1.9モル）を無色透明な
液体として得た。単離収率は95％であった。
mlのオートクレーブにｎ−ブチルアルデヒド 284ｇ(4.0
モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（ｐＨ 6.6)8.5 ｇを
仕込み、水素圧50kg/cm2下、水素流通量700ml/min 、15
0 ℃で８時間攪拌を行い、反応により副生する水を系外
に除去し、水とともに系外に出たｎ−ブチルアルデヒド
は系内に戻しながら反応を行った。反応終了後、濾過に
より触媒を除去し、さらに蒸留(140℃／常圧) を行い、
目的のジブチルエーテル 247ｇ(1.9モル）を無色透明な
液体として得た。単離収率は95％であった。
【００３８】実施例１１ ジヘキシルエーテルの合成 CH3(CH2)4CH2-O-CH2(CH2)4CH3 水素ガス導入管、攪拌装置及び冷却脱水管を備えた 500
mlのオートクレーブにｎ−ヘキシルアルデヒド 250ｇ
(2.5モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（ｐＨ 6.6)7.5ｇ
を仕込み、水素圧50kg/cm2下、水素流通量700ml/min 、
150℃で８時間攪拌を行い、反応により副生する水を系
外に除去し、水とともに系外に出たｎ−ヘキシルアルデ
ヒドは系内に戻しながら反応を行った。反応終了後、濾
過により触媒を除去し、さらに減圧蒸留(102℃／50Tor
r) を行い、目的のジヘキシルエーテル 216ｇ(1.16 モ
ル）を無色透明な液体として得た。単離収率は93％であ
った。
mlのオートクレーブにｎ−ヘキシルアルデヒド 250ｇ
(2.5モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（ｐＨ 6.6)7.5ｇ
を仕込み、水素圧50kg/cm2下、水素流通量700ml/min 、
150℃で８時間攪拌を行い、反応により副生する水を系
外に除去し、水とともに系外に出たｎ−ヘキシルアルデ
ヒドは系内に戻しながら反応を行った。反応終了後、濾
過により触媒を除去し、さらに減圧蒸留(102℃／50Tor
r) を行い、目的のジヘキシルエーテル 216ｇ(1.16 モ
ル）を無色透明な液体として得た。単離収率は93％であ
った。
【００３９】実施例１２ ジオクチルエーテルの合成 CH3(CH2)6CH2-O-CH2(CH2)6CH3 水素ガス導入管、攪拌装置及び冷却脱水管を備えた 500
mlのオートクレーブにｎ−オクチルアルデヒド 256ｇ
(2.0モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（ｐＨ 3.8)7.7ｇ
を仕込み、水素圧50kg/cm2下、水素流通量800ml/min 、
150℃で８時間攪拌を行い、反応により副生する水を系
外に除去し、水とともに系外に出たｎ−オクチルアルデ
ヒドは系内に戻しながら反応を行った。反応終了後、濾
過により触媒を除去し、さらに減圧蒸留(127℃／3.5Tor
r)を行い、目的のジオクチルエーテル 225ｇ (0.93モ
ル）を無色透明な液体として得た。単離収率は93％であ
った。
mlのオートクレーブにｎ−オクチルアルデヒド 256ｇ
(2.0モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（ｐＨ 3.8)7.7ｇ
を仕込み、水素圧50kg/cm2下、水素流通量800ml/min 、
150℃で８時間攪拌を行い、反応により副生する水を系
外に除去し、水とともに系外に出たｎ−オクチルアルデ
ヒドは系内に戻しながら反応を行った。反応終了後、濾
過により触媒を除去し、さらに減圧蒸留(127℃／3.5Tor
r)を行い、目的のジオクチルエーテル 225ｇ (0.93モ
ル）を無色透明な液体として得た。単離収率は93％であ
った。
【００４０】実施例１３ ジデシルエーテルの合成 CH3(CH2)8CH2-O-CH2(CH2)8CH3 水素ガス導入管、攪拌装置及び冷却脱水管を備えた 500
mlのオートクレーブにｎ−デシルアルデヒド 265ｇ(1.7
モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（ｐＨ 6.6)8.0ｇを仕
込み、水素圧50kg/cm2下、水素流通量１リットル/min、
150℃で８時間攪拌を行い、反応により副生する水を系
外に除去し、水とともに系外に出たｎ−デシルアルデヒ
ドは系内に戻しながら反応を行った。反応終了後、濾過
により触媒を除去し、さらに減圧蒸留(142℃／0.3Torr)
を行い、目的のジデシルエーテル 233ｇ (0.78モル）を
無色透明な液体として得た。単離収率は92％であった。
mlのオートクレーブにｎ−デシルアルデヒド 265ｇ(1.7
モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（ｐＨ 6.6)8.0ｇを仕
込み、水素圧50kg/cm2下、水素流通量１リットル/min、
150℃で８時間攪拌を行い、反応により副生する水を系
外に除去し、水とともに系外に出たｎ−デシルアルデヒ
ドは系内に戻しながら反応を行った。反応終了後、濾過
により触媒を除去し、さらに減圧蒸留(142℃／0.3Torr)
を行い、目的のジデシルエーテル 233ｇ (0.78モル）を
無色透明な液体として得た。単離収率は92％であった。
【００４１】実施例１４ ジドデシルエーテルの合成 CH3(CH2)10CH2-O-CH2(CH2)10CH3 水素ガス導入管、攪拌装置及び冷却脱水管を備えた 500
mlのオートクレーブにｎ−ドデシルアルデヒド 276ｇ
(1.5モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（ｐＨ 3.8)8.3ｇ
を仕込み、水素圧60kg/cm2下、水素流通量１リットル/m
in、 150℃で８時間攪拌を行い、反応により副生する水
を系外に除去し、水とともに系外に出たｎ−ドデシルア
ルデヒドは系内に戻しながら反応を行った。反応終了
後、濾過により触媒を除去し、さらに減圧蒸留(165℃／
0.2Torr)を行い、目的のジドデシルエーテル 247ｇ (0.
70モル）を白色固体として得た。単離収率は93％であっ
た。
mlのオートクレーブにｎ−ドデシルアルデヒド 276ｇ
(1.5モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（ｐＨ 3.8)8.3ｇ
を仕込み、水素圧60kg/cm2下、水素流通量１リットル/m
in、 150℃で８時間攪拌を行い、反応により副生する水
を系外に除去し、水とともに系外に出たｎ−ドデシルア
ルデヒドは系内に戻しながら反応を行った。反応終了
後、濾過により触媒を除去し、さらに減圧蒸留(165℃／
0.2Torr)を行い、目的のジドデシルエーテル 247ｇ (0.
70モル）を白色固体として得た。単離収率は93％であっ
た。
【００４２】実施例１５ ビス（１，３−ジメチルブチル）エーテルの合成
【００４３】
【化７】
【００４４】水素ガス導入管、攪拌装置及び冷却脱水管
を備えた 500mlのオートクレーブにメチルイソブチルケ
トン250ｇ(2.5モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（ｐＨ
3.8)10ｇを仕込み、水素圧60kg/cm2下、水素流通量700m
l/min 、150 ℃で８時間攪拌を行い、反応により副生す
る水を系外に除去し、水とともに系外に出たメチルイソ
ブチルケトンは系内に戻しながら反応を行った。反応終
了後、濾過により触媒を除去し、さらに減圧蒸留（97℃
／50Torr) を行い、目的のビス（１，３−ジメチルブチ
ル）エーテル 184ｇ（0.99モル）を無色透明な液体とし
て得た。単離収率は79％であった。
を備えた 500mlのオートクレーブにメチルイソブチルケ
トン250ｇ(2.5モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（ｐＨ
3.8)10ｇを仕込み、水素圧60kg/cm2下、水素流通量700m
l/min 、150 ℃で８時間攪拌を行い、反応により副生す
る水を系外に除去し、水とともに系外に出たメチルイソ
ブチルケトンは系内に戻しながら反応を行った。反応終
了後、濾過により触媒を除去し、さらに減圧蒸留（97℃
／50Torr) を行い、目的のビス（１，３−ジメチルブチ
ル）エーテル 184ｇ（0.99モル）を無色透明な液体とし
て得た。単離収率は79％であった。
【００４５】実施例１６ ジシクロヘキシルエーテルの合成
【００４６】
【化８】
【００４７】水素ガス導入管、攪拌装置及び冷却脱水管
を備えた 500mlのオートクレーブにシクロヘキサノン 2
45ｇ(2.5モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（ｐＨ 6.6)
9.8ｇを仕込み、水素圧60kg/cm2下、水素流通量700ml/m
in 、150 ℃で８時間攪拌を行い、反応により副生する
水を系外に除去し、水とともに系外に出たシクロヘキサ
ノンは系内に戻しながら反応を行った。反応終了後、濾
過により触媒を除去し、さらにシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより目的のジシクロヘキシルエーテル 1
87ｇ（1.03モル）を無色透明な液体として得た。単離収
率は82％であった。
を備えた 500mlのオートクレーブにシクロヘキサノン 2
45ｇ(2.5モル）、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ（ｐＨ 6.6)
9.8ｇを仕込み、水素圧60kg/cm2下、水素流通量700ml/m
in 、150 ℃で８時間攪拌を行い、反応により副生する
水を系外に除去し、水とともに系外に出たシクロヘキサ
ノンは系内に戻しながら反応を行った。反応終了後、濾
過により触媒を除去し、さらにシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより目的のジシクロヘキシルエーテル 1
87ｇ（1.03モル）を無色透明な液体として得た。単離収
率は82％であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Claims (8)
- 【請求項１】 一般式（１） 【化１】 〔式中、R1, R2は水素原子、炭素数１〜20の直鎖又は分
岐のアルキル基あるいはアルケニル基を示し、R1, R2は
同一であっても異なっていてもよい。また、R1,R2が結
合した環状構造であってもよい。〕で表されるカルボニ
ル化合物を、水素雰囲気下、触媒を用いて反応させるこ
とを特徴とする一般式（２）で表されるエーテル化合物
の製造法。 【化２】 〔式中、R1, R2は前記と同じ意味を示す。〕 - 【請求項２】 一般式（１）で表されるカルボニル化合
物が、炭素数１〜20の脂肪族アルデヒドである請求項１
記載のエーテル化合物の製造法。 - 【請求項３】 一般式（１）で表されるカルボニル化合
物が、炭素数３〜12の対称あるいは非対称の鎖状ケト
ン、あるいは炭素数３〜12の環状ケトンである請求項１
記載のエーテル化合物の製造法。 - 【請求項４】 触媒が、カーボン、アルミナ、シリカア
ルミナもしくはシリカに担持されたパラジウム触媒、水
酸化パラジウム又は酸化パラジウムである請求項１〜３
のいずれか一項に記載のエーテル化合物の製造法。 - 【請求項５】 反応により副生する水を除去しながら反
応を行う請求項１〜４のいずれか一項に記載のエーテル
化合物の製造法。 - 【請求項６】 脱水剤の存在下に反応を行うことにより
水を除去する請求項５記載のエーテル化合物の製造法。 - 【請求項７】 水素を流通させながら水を系外に除去す
る請求項５記載のエーテル化合物の製造法。 - 【請求項８】 水とともに系外に出た未反応の一般式
（１）で表されるカルボニル化合物を系内に戻す請求項
７記載のエーテル化合物の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8133204A JPH0995461A (ja) | 1995-07-27 | 1996-05-28 | エーテル化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19158295 | 1995-07-27 | ||
| JP7-191582 | 1995-07-27 | ||
| JP8133204A JPH0995461A (ja) | 1995-07-27 | 1996-05-28 | エーテル化合物の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0995461A true JPH0995461A (ja) | 1997-04-08 |
Family
ID=26467615
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8133204A Pending JPH0995461A (ja) | 1995-07-27 | 1996-05-28 | エーテル化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0995461A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020059677A (ja) * | 2018-10-11 | 2020-04-16 | Jnc株式会社 | 不飽和カルボニル化合物からの飽和ホモエーテル製造法 |
| JP2020097541A (ja) * | 2018-12-18 | 2020-06-25 | Jnc株式会社 | 不飽和カルボニル化合物からの飽和ホモエーテルの高効率な製造法 |
| JP2021024806A (ja) * | 2019-08-05 | 2021-02-22 | Jnc株式会社 | カルボニル化合物からの飽和ホモエーテルの製造方法 |
| US11787760B2 (en) * | 2018-11-20 | 2023-10-17 | Bp P.L.C. | Process for making ethers via enol ethers |
-
1996
- 1996-05-28 JP JP8133204A patent/JPH0995461A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2020059677A (ja) * | 2018-10-11 | 2020-04-16 | Jnc株式会社 | 不飽和カルボニル化合物からの飽和ホモエーテル製造法 |
| CN111039763A (zh) * | 2018-10-11 | 2020-04-21 | 捷恩智株式会社 | 自不饱和羰基化合物制造饱和均聚醚的方法 |
| US11787760B2 (en) * | 2018-11-20 | 2023-10-17 | Bp P.L.C. | Process for making ethers via enol ethers |
| JP2020097541A (ja) * | 2018-12-18 | 2020-06-25 | Jnc株式会社 | 不飽和カルボニル化合物からの飽和ホモエーテルの高効率な製造法 |
| CN111333492A (zh) * | 2018-12-18 | 2020-06-26 | 捷恩智株式会社 | 自不饱和羰基化合物制造饱和均聚醚的方法 |
| JP2021024806A (ja) * | 2019-08-05 | 2021-02-22 | Jnc株式会社 | カルボニル化合物からの飽和ホモエーテルの製造方法 |
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