JPH0973654A - Optical head device - Google Patents
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Landscapes
- Optical Head (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は光ヘッド装置に係
り、特に基板の厚さや記録密度が異なる三種類の光記録
媒体に対し再生を行うための光ヘッド装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical head device, and more particularly to an optical head device for reproducing from three types of optical recording media having different substrate thicknesses and recording densities.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、コンパクトディスクに比べて大容
量なディジタルビデオディスク等の大容量光ディスクの
規格化が進められている。ディジタルビデオディスクの
規格には、基板厚さ0.6mmのディスクを用いるもの
と、基板厚さ1.2mmのディスクを用いるものがあ
る。一方、従来のコンパクトディスク等の規格では、基
板厚さ1.2mmのディスクを用いる。そこで、二種類
のディジタルビデオディスクとコンパクトディスクのす
べてを再生できる光ヘッド装置が望まれている。しか
し、通常の光ヘッド装置においては、対物レンズがある
基板厚さのディスクに対して球面収差を打ち消すように
設計されているため、別の基板厚さのディスクに対して
は球面収差が残留し、正しく再生することができない。2. Description of the Related Art In recent years, standardization of large-capacity optical disks such as digital video disks having a larger capacity than compact disks has been advanced. The standards for digital video discs include those using a disc having a substrate thickness of 0.6 mm and those using a disc having a substrate thickness of 1.2 mm. On the other hand, in the standard such as the conventional compact disc, a disc having a substrate thickness of 1.2 mm is used. Therefore, an optical head device capable of reproducing all two types of digital video discs and compact discs is desired. However, in a normal optical head device, the objective lens is designed to cancel spherical aberration for a disc having a certain substrate thickness, and therefore spherical aberration remains for a disc having another substrate thickness. , Can not be played correctly.
【0003】二種類のディジタルビデオディスクとコン
パクトディスクのすべてを再生できる従来の光ヘッド装
置として、オプティカルレビュー第1巻第1号の27頁
〜29頁に記載の例がある。図20はこの従来の光ヘッ
ドの一例の構成図を示す。同図において、ホログラム光
学素子192を対物レンズ16とコリメータレンズ14
との間に設け、透過光(0次光)を基板厚さ0.6mm
のディジタルビデオディスクの再生に用い、+1次回折
光を基板厚さ1.2mmのディジタルビデオディスク及
びコンパクトディスクの再生に用いる。As a conventional optical head device capable of reproducing all two types of digital video discs and compact discs, there is an example described on pages 27 to 29 of Optical Review Vol. 1, No. 1. FIG. 20 is a block diagram showing an example of this conventional optical head. In the figure, a hologram optical element 192 is provided with an objective lens 16 and a collimator lens 14.
And the transmitted light (0th order light) is provided between the
Used for reproduction of the digital video disk and the + 1st order diffracted light is used for reproduction of a digital video disk and a compact disk having a substrate thickness of 1.2 mm.
【0004】この従来の光ヘッド装置においては、半導
体レーザ190からの出射光がハーフミラー191で約
半分が反射され、コリメータレンズ14で平行光化され
てホログラム光学素子192に入射する。ホログラム光
学素子192の透過光は平行光として対物レンズ16に
入射し、基板厚さ0.6mmのディスク17上に集光さ
れる。ディスク17からの反射光は、対物レンズ16を
逆向きに透過し、再びホログラム光学素子192で透過
光と+1次回折光に分けられる。In this conventional optical head device, approximately half of the emitted light from the semiconductor laser 190 is reflected by the half mirror 191, is collimated by the collimator lens 14, and is incident on the hologram optical element 192. The transmitted light of the hologram optical element 192 enters the objective lens 16 as parallel light and is condensed on the disk 17 having a substrate thickness of 0.6 mm. The reflected light from the disk 17 passes through the objective lens 16 in the opposite direction, and is again divided into the transmitted light and the + 1st order diffracted light by the hologram optical element 192.
【0005】一方、ホログラム光学素子192の+1次
回折光は発散光として対物レンズ16に入射し、基板厚
さ1.2mmのディスク18上に集光される。ディスク
18からの反射光は対物レンズ16を逆向きに透過し、
再びホログラム光学素子192で透過光と+1次回折光
とに分離される。On the other hand, the + 1st order diffracted light of the hologram optical element 192 enters the objective lens 16 as divergent light and is condensed on the disk 18 having a substrate thickness of 1.2 mm. The reflected light from the disk 18 passes through the objective lens 16 in the opposite direction,
The hologram optical element 192 again separates the transmitted light and the + 1st order diffracted light.
【0006】ディスク17からの反射光のうちホログラ
ム光学素子192の透過光、及びディスク18からの反
射光のうちホログラム光学素子192の+1次回折光
は、共にコリメータレンズ14に平行光として入射す
る。コリメータレンズ14の透過光はハーフミラー19
1を約半分が透過し、凹レンズ193を透過して光検出
器194で受光される。光検出器194は4分割受光部
を有し、フォーカス誤差信号はハーフミラー191で生
じる非点収差を用いた非点収差法、トラック誤差信号は
プッシュプル法によりそれぞれ検出される。また、再生
信号は光検出器194の4分割受光部の出力の和から検
出される。Of the reflected light from the disk 17, the transmitted light of the hologram optical element 192 and the reflected light from the disk 18 of the + 1st order diffracted light of the hologram optical element 192 both enter the collimator lens 14 as parallel light. The transmitted light of the collimator lens 14 is a half mirror 19
Approximately half of 1 is transmitted, the concave lens 193 is transmitted, and the light is received by the photodetector 194. The photodetector 194 has a four-divided light receiving section, and the focus error signal is detected by the astigmatism method using the astigmatism generated in the half mirror 191, and the track error signal is detected by the push-pull method. Also, the reproduction signal is detected from the sum of the outputs of the four-division light receiving section of the photodetector 194.
【0007】対物レンズ16は、対物レンズ16からの
出射光が厚さ0.6mmの基板を透過する際に生じる球
面収差を打ち消す球面収差を有し、ホログラム光学素子
192は、ホログラム光学素子192の+1次回折光に
対し、対物レンズ16からの出射光が厚さ1.2mmの
基板を透過する際に生じる球面収差と対物レンズ16が
有する球面収差の和を打ち消す球面収差を有する。従っ
て、ホログラム光学素子192の透過光は対物レンズ1
6によりディスク17上に無収差で集光され、ホログラ
ム光学素子192の+1次回折光は対物レンズ16によ
りディスク18上に無収差で集光される。The objective lens 16 has a spherical aberration that cancels the spherical aberration generated when the light emitted from the objective lens 16 passes through a substrate having a thickness of 0.6 mm, and the hologram optical element 192 corresponds to the hologram optical element 192. The + 1st-order diffracted light has a spherical aberration that cancels the sum of the spherical aberration that occurs when the light emitted from the objective lens 16 passes through a substrate having a thickness of 1.2 mm and the spherical aberration that the objective lens 16 has. Therefore, the transmitted light of the hologram optical element 192 is the objective lens 1
6, the light is condensed on the disk 17 without aberration, and the + 1st order diffracted light of the hologram optical element 192 is condensed on the disk 18 by the objective lens 16 without aberration.
【0008】図21はホログラム光学素子192の平面
図を示す。同図において、ホログラム光学素子192は
同心円状の干渉縞のパターンを有し、+1次回折光に対
しては、前述した球面収差補正と共に凹レンズとしての
働きをする。従って、対物レンズ16に対し、+1次回
折光のディスク18上の集光位置を透過光のディスク1
7上の集光位置より遠ざけることができ、対物レンズ1
6からディスク17、18の表面までの距離をほぼ等し
くすることができる。FIG. 21 is a plan view of the hologram optical element 192. In the figure, the hologram optical element 192 has a pattern of concentric interference fringes, and functions as a concave lens for the + 1st order diffracted light together with the above-mentioned spherical aberration correction. Therefore, with respect to the objective lens 16, the focus position of the + 1st order diffracted light on the disk 18 is changed to the disk 1 of the transmitted light.
The objective lens 1 can be moved away from the focus position on 7.
The distance from 6 to the surface of the disks 17, 18 can be made substantially equal.
【0009】図22はホログラム光学素子192の断面
図を示す。図22(a)は断面が矩形状のホログラム光
学素子192であり、+1次回折光と同じ効率で不要な
−1次回折光が生じる。図22(b)は断面が鋸歯状の
ホログラム光学素子192であり、+1次回折光の効率
が増加して不要な−1次回折光の効率は減少する。この
とき、鋸歯領域の高さを2h、屈折率をn、入射光の波
長をλとすると、透過率η0、+1次回折効率η+1は
次式で与えられる。FIG. 22 is a sectional view of the hologram optical element 192. FIG. 22A shows a hologram optical element 192 having a rectangular cross section, which produces unnecessary −1st-order diffracted light with the same efficiency as + 1st-order diffracted light. FIG. 22B shows a hologram optical element 192 having a sawtooth cross section, in which the efficiency of the + 1st-order diffracted light increases and the efficiency of the unnecessary −1st-order diffracted light decreases. At this time, when the height of the sawtooth region is 2 h, the refractive index is n, and the wavelength of incident light is λ, the transmittance η 0 and the + 1st-order diffraction efficiency η +1 are given by the following equations.
【0010】 η0 =sin2φ/φ2 (1) η+1=sin2φ/(φ −π)2 (2) ただし、 φ=2π(n−1)h/λ (3) (1)式及び(2)式よりφ=π/2のとき透過率η0
と+1次回折効率η+1は等しく、η0=η+1=0.
405となる。Η0 = Sin2φ / φ2 (1) η+1= Sin2φ / (φ −π)2 (2) However, φ = 2π (n−1) h / λ (3) From Equation (1) and (2), the transmittance η when φ = π / 2.0
And + 1st-order diffraction efficiency η+1Are equal, η0= Η+1= 0.
It becomes 405.
【0011】[0011]
【発明が解決しようとする課題】ところで、ディジタル
ビデオディスクの規格では、波長635nm〜655n
mのレーザ光を出射する半導体レーザを用いるのに対
し、従来のコンパクトディスクの規格では、波長785
nmのレーザ光を出射する半導体レーザを用いる。図2
0に示した従来の光ヘッド装置では、コンパクトディス
クに比べて高密度なディジタルビデオディスクを再生す
るため、波長785nmに比べて集光スポットの径を小
さくできる波長635nm〜655nmのレーザ光を出
射する半導体レーザを用いる必要がある。By the way, according to the standard of the digital video disk, the wavelength is 635 nm to 655 n.
While a semiconductor laser that emits a laser beam of m is used, the standard of the conventional compact disk has a wavelength of 785.
A semiconductor laser that emits a laser beam of nm is used. FIG.
The conventional optical head device shown in FIG. 0 reproduces a high density digital video disc as compared with a compact disc, and thus emits a laser beam having a wavelength of 635 nm to 655 nm that can reduce the diameter of a focused spot as compared with a wavelength of 785 nm. It is necessary to use a semiconductor laser.
【0012】一方、コンパクトディスクの一種として、
CD−Rと呼ばれる追記型コンパクトディスクが知られ
ている。この追記型コンパクトディスクは記録媒体とし
て有機色素を用いたものであり、波長785nmでは7
0%以上の高い反射率が得られるが、波長635nm〜
655nmでは10%程度の非常に低い反射率しか得ら
れない。このため、図20に示した従来の光ヘッド装置
では、追記型コンパクトディスクの再生は不可能であ
る。On the other hand, as a kind of compact disc,
A write-once compact disc called a CD-R is known. This write-once compact disc uses an organic dye as a recording medium and has a wavelength of 785 nm.
A high reflectance of 0% or more can be obtained, but a wavelength of 635 nm to
At 655 nm, only a very low reflectance of about 10% can be obtained. Therefore, the conventional optical head device shown in FIG. 20 cannot reproduce a write-once compact disc.
【0013】また、ディジタルビデオディスクを再生す
るためには、その狭小なトラックピッチに対応してディ
スク面上の集光スポットの径をコンパクトディスクのそ
れに比し小さくする必要がある。このため、集光スポッ
トの径は対物レンズ16の開口数に反比例することか
ら、対物レンズ16の開口数は「0.52〜0.6」程
度と高くしなければならない。一方、コンパクトディス
クを再生するには、コンパクトディスクはディスクの傾
きに対する規格が緩く、ディスクの傾きに伴うコマ収差
の発生を抑制する必要から、対物レンズ16の開口数は
「0.45」程度と低くしなければならない。Further, in order to reproduce the digital video disc, it is necessary to make the diameter of the focused spot on the disc surface smaller than that of the compact disc in correspondence with the narrow track pitch. Therefore, since the diameter of the focused spot is inversely proportional to the numerical aperture of the objective lens 16, the numerical aperture of the objective lens 16 must be increased to about "0.52-0.6". On the other hand, in order to reproduce a compact disc, the compact disc has a loose standard with respect to the inclination of the disc, and it is necessary to suppress the occurrence of coma aberration due to the inclination of the disc. Therefore, the numerical aperture of the objective lens 16 is about “0.45”. Must be low.
【0014】図20に示した従来の光ヘッド装置では、
ホログラム光学素子192の中心部分と周辺部分で回折
効率を変えることにより、透過光と+1次回折光に対す
る実効的な開口数を変化させることが可能である。しか
し、例えば透過光に対する実効的な開口数を「0.
6」、+1次回折光に対する実効的な開口数を「0.4
5」とすると、透過光で基板厚さ0.6mmのディジタ
ルビデオディスク、+1次回折光でコンパクトディスク
を再生することは可能であるが、+1次回折光で基板厚
さ1.2mmのディジタルビデオディスクを再生するこ
とは、実効的な開口数が小さいため不可能である。In the conventional optical head device shown in FIG. 20,
By changing the diffraction efficiency between the central portion and the peripheral portion of the hologram optical element 192, it is possible to change the effective numerical aperture for the transmitted light and the + 1st order diffracted light. However, for example, the effective numerical aperture for transmitted light is "0.
6 ”, the effective numerical aperture for the + 1st order diffracted light is“ 0.4
5 ”, it is possible to reproduce a digital video disc with a substrate thickness of 0.6 mm by transmitted light and a compact disc with + 1st order diffracted light, but a digital video disc with a substrate thickness of 1.2mm by + 1st order diffracted light. Regeneration is not possible due to the small effective numerical aperture.
【0015】また、例えば透過光に対する実効的な開口
数を「0.6」、+1次回折光に対する実効的な開口数
を「0.52」とすると、透過光で基板厚さ0.6mm
のディジタルビデオディスク、+1次回折光で基板厚さ
1.2mmのディジタルビデオディスクを再生すること
は可能であるが、+1次回折光でコンパクトディスクを
再生することは、実効的な開口数が大きくディスクの傾
きのマージンを確保できないため困難である。If, for example, the effective numerical aperture for transmitted light is "0.6" and the effective numerical aperture for + 1st order diffracted light is "0.52", the substrate thickness of transmitted light is 0.6 mm.
Although it is possible to reproduce a digital video disc of 1.2 mm thick with a + 1st-order diffracted light, a compact video disc with a + 1st-order diffracted light has a large effective numerical aperture. It is difficult because a tilt margin cannot be secured.
【0016】このように、基板厚さの異なる二種類のデ
ィジタルビデオディスクと追記型を含むコンパクトディ
スクは、それぞれを再生するための最適な半導体レーザ
の出射光の波長と対物レンズの開口数が異なるため、図
20に示した従来の光ヘッド装置では、これら複数種類
のディスクのすべてを再生することは不可能である。As described above, two types of digital video discs having different substrate thicknesses and compact discs including write-once discs have different wavelengths of the emitted light of the semiconductor laser and the numerical aperture of the objective lens which are optimum for reproducing the respective types. Therefore, the conventional optical head device shown in FIG. 20 cannot reproduce all of these plural types of disks.
【0017】本発明は以上の点に鑑みなされたもので、
基板厚さの異なる二種類のディジタルビデオディスクと
追記型を含むコンパクトディスクのすべてを再生するこ
とが可能な光ヘッド装置を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above points,
An object of the present invention is to provide an optical head device capable of reproducing all of two types of digital video discs having different substrate thicknesses and compact discs including write-once discs.
【0018】[0018]
【課題を解決するための手段】本発明は上記の目的を達
成するため、第1の波長の第1の光を出射する第1の光
源と、第1の波長とは異なる第2の波長の第2の光を出
射する第2の光源と、第1の光源からの第1の光と第2
の光源からの第2の光とを合波して、第1又は第2の基
板厚さの光記録媒体に導く一方、光記録媒体からの反射
光を分波する光合波・分波手段と、光合波・分波手段で
合波された光を光記録媒体に集光した後光記録媒体上で
反射させ、反射光は透過させると共に、自身の出射光が
第1の基板厚さの光記録媒体の基板を透過する際に生じ
る球面収差を打ち消す第1の球面収差を有する対物レン
ズと、光合波・分波手段と対物レンズとの間に設けられ
た開口制限付ホログラム光学素子と、光合波・分波手段
により分波された第1の波長の反射光を受光する第1の
光検出光学系と、光合波・分波手段により分波された第
2の波長の反射光を受光する第2の光検出光学系とを有
する光ヘッド装置であって、開口制限付ホログラム光学
素子を下記の構成としたものである。In order to achieve the above object, the present invention provides a first light source for emitting a first light of a first wavelength and a second light source of a second wavelength different from the first wavelength. A second light source for emitting a second light, a first light from the first light source and a second light source
Optical multiplexing / demultiplexing means for multiplexing the second light from the light source to guide the light to the optical recording medium having the first or second substrate thickness, and for splitting the reflected light from the optical recording medium. , The light multiplexed by the optical multiplexing / demultiplexing means is condensed on the optical recording medium, reflected on the optical recording medium, the reflected light is transmitted, and the emitted light of itself is the light of the first substrate thickness. An objective lens having a first spherical aberration that cancels a spherical aberration generated when transmitting through a substrate of a recording medium, a hologram optical element with an aperture limit provided between the optical multiplexing / demultiplexing means and the objective lens, A first photodetection optical system for receiving the reflected light of the first wavelength demultiplexed by the wave / demultiplexing means, and a reflected light of the second wavelength demultiplexed by the optical multiplexing / demultiplexing means. An optical head device having a second photodetection optical system, comprising a hologram optical element having an aperture limit as described below. One in which the.
【0019】すなわち、開口制限付ホログラム光学素子
は、少なくとも透過光である0次光と+1次回折光を発
生すると共に、第1の波長の+1次回折光に対し、対物
レンズからの出射光が第2の基板厚さの光記録媒体の基
板を透過する際に生じる第2の球面収差と対物レンズが
有する第1の球面収差との和を打ち消す第3の球面収差
を有するホログラム部が形成されていると共に、第1の
波長の入射光に対してはすべて透過させ、第2の波長の
入射光に対しては光束断面の中心部分のみを透過させる
開口制限部が形成されている。That is, the hologram optical element with aperture restriction generates at least 0th-order light and + 1st-order diffracted light that are transmitted light, and for the + 1st-order diffracted light of the first wavelength, the light emitted from the objective lens is the second light. A hologram portion having a third spherical aberration that cancels the sum of the second spherical aberration that occurs when transmitting through the substrate of the optical recording medium having the substrate thickness of 1 and the first spherical aberration that the objective lens has is formed. At the same time, an aperture limiting portion is formed which allows all the incident light of the first wavelength to pass therethrough and allows only the central portion of the cross section of the light flux to pass the incident light of the second wavelength.
【0020】これにより、本発明では、第1の光源から
出射され、開口制限付ホログラム光学素子を透過した第
1の光を用いて、第1の記録密度で情報が記録された第
1の基板厚さの光記録媒体の記録情報を再生し、第1の
光源から出射され、開口制限付ホログラム光学素子で回
折された+1次回折光を用いて第2の基板厚さの光記録
媒体の記録情報を再生し、第2の光源から出射され、開
口制限付ホログラム光学素子を透過した第2の光を用い
て第2の記録密度で情報が記録された第1の基板厚さの
光記録媒体の記録情報を再生するようにしたものであ
る。Thus, in the present invention, the first substrate on which the information is recorded at the first recording density by using the first light emitted from the first light source and transmitted through the hologram optical element with aperture restriction. The recorded information of the optical recording medium of the second substrate thickness is reproduced by using the + 1st order diffracted light which reproduces the recorded information of the optical recording medium of the thickness, is emitted from the first light source, and is diffracted by the hologram optical element with aperture restriction. Of the optical recording medium of the first substrate thickness on which information is recorded at the second recording density by using the second light emitted from the second light source and transmitted through the hologram optical element with aperture restriction. The recorded information is reproduced.
【0021】また、本発明における開口制限付ホログラ
ム光学素子のホログラム部は、基板上に設けられた同心
円状パターンのホログラムからなり、ホログラムの断面
形状は対物レンズの有効径よりも小なる直径の円形領域
の外側では矩形状で、円形領域内では矩形とは異なる形
状であることを特徴とする。Further, the hologram portion of the hologram optical element with aperture restriction according to the present invention comprises a hologram having a concentric circular pattern provided on the substrate, and the hologram has a circular cross section whose diameter is smaller than the effective diameter of the objective lens. It is characterized in that it has a rectangular shape outside the area and has a shape different from the rectangular shape inside the circular area.
【0022】また、本発明における開口制限付ホログラ
ム光学素子の開口制限部は、対物レンズの有効径よりも
小なる直径の円形領域の外側で、かつ、基板上のホログ
ラム部が形成された面と反対側の面に設けられた波長フ
ィルタ膜と、波長フィルタ膜上に設けられた位相補償膜
とからなり、円形領域の外側では第1の波長の第1の光
はほぼ完全に透過させ、第2の波長の第2の光はほぼ完
全に反射させ、円形領域内に入射した光は第1及び第2
の光共に完全に透過させる構成であることを特徴とす
る。Further, the aperture limiting portion of the hologram optical element with aperture limiting according to the present invention is outside the circular region having a diameter smaller than the effective diameter of the objective lens and on the surface on which the hologram portion is formed on the substrate. It consists of a wavelength filter film provided on the opposite surface and a phase compensation film provided on the wavelength filter film. Outside the circular region, the first light of the first wavelength is almost completely transmitted, and The second light having the wavelength of 2 reflects almost completely, and the light incident on the circular region has the first and second lights.
It is characterized in that it completely transmits both of the light.
【0023】更に、本発明における開口制限付ホログラ
ム光学素子の開口制限部は、第1の基板の表面の対物レ
ンズの有効径よりも小なる直径の円形領域の外側に回折
格子及び波長フィルタ膜が設けられ、第1の基板の裏面
の円形領域の外側に位相補償膜が設けられ、表面にホロ
グラム部が形成された第2の基板の裏面と該第1の基板
の表面を接着剤で張り合せた構成であり、円形領域の外
側では第1の波長の第1の光はほぼ完全に透過させ、第
2の波長の第2の光はほぼ完全に反射回折させ、円形領
域内に入射した光は第1及び第2の光共に完全に透過さ
せる構成であることを特徴とする。Further, in the aperture limiting portion of the hologram optical element with aperture limiting according to the present invention, the diffraction grating and the wavelength filter film are provided outside the circular area having a diameter smaller than the effective diameter of the objective lens on the surface of the first substrate. A phase compensation film is provided outside the circular area on the back surface of the first substrate, and the back surface of the second substrate having the hologram portion formed on the front surface is bonded to the front surface of the first substrate with an adhesive. The first light of the first wavelength is almost completely transmitted outside the circular region, the second light of the second wavelength is almost completely reflected and diffracted, and the light incident on the circular region is received. Is characterized in that the first and second lights are completely transmitted.
【0024】本発明の光ヘッド装置は、第1の光源から
の第1の光と第2の光源からの第2の光とを合波して光
記録媒体に導く一方、光記録媒体からの反射光を分波す
る光合波・分波手段と対物レンズとの間に開口制限付ホ
ログラム光学素子を設け、この開口制限付ホログラム光
学素子のホログラム部の、対物レンズの有効径よりも小
径の円形領域の中心部分とその円形領域の外側の周辺部
分とで回折効率を変えるようにしたため、開口制限付ホ
ログラム光学素子における第1の波長の透過光と+1次
回折光に対する実効的な開口数を変化させることができ
る。The optical head device of the present invention combines the first light from the first light source and the second light from the second light source and guides them to the optical recording medium, while A hologram optical element with an aperture restriction is provided between the optical multiplexing / demultiplexing means for demultiplexing the reflected light and the objective lens, and the hologram part of this hologram optical element with an aperture restriction has a diameter smaller than the effective diameter of the objective lens. Since the diffraction efficiency is changed between the central portion of the region and the peripheral portion outside the circular region, the effective numerical aperture for the transmitted light of the first wavelength and the + 1st order diffracted light in the hologram optical element with aperture restriction is changed. be able to.
【0025】また、本発明においては、開口制限付ホロ
グラム光学素子の開口制限部により、第1の波長に対し
ては入射光を開口制限することなくすべて透過させ、第
2の波長に対しては入射光の光束断面の中心部分(対物
レンズの有効径より小径の円形領域)のみを透過させる
ようにしたため、開口制限付ホログラム光学素子におけ
る第2の波長の透過光に対する実効的な開口数を、第1
の波長とは独立に設定することが可能である。Further, in the present invention, the aperture limiting portion of the hologram optical element with aperture limiting allows all the incident light to pass through the first wavelength without aperture limiting, and allows the incident light to pass through the second wavelength. Since the central portion of the cross section of the light flux of the incident light (the circular region having a diameter smaller than the effective diameter of the objective lens) is transmitted, the effective numerical aperture for the transmitted light of the second wavelength in the hologram optical element with aperture restriction is First
It can be set independently of the wavelength of.
【0026】すなわち、本発明の光ヘッド装置は、基板
厚さの異なる二種類の光記録媒体と同じ基板厚さで記録
密度が異なる二種類の光記録媒体に対して最適な波長と
対物レンズの開口数を選択することができる。That is, the optical head device of the present invention has the optimum wavelength and objective lens for two types of optical recording media having different substrate thicknesses and two types of optical recording media having the same substrate thickness and different recording densities. The numerical aperture can be selected.
【0027】[0027]
【発明の実施の形態】次に、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図1は本発明になる光ヘッ
ド装置の第1の実施の形態の構成図を示す。同図中、モ
ジュール11及びモジュール12には、半導体レーザ
と、ディスク17又は18からの反射光を受光する検出
光学系が内蔵されている。モジュール11内の半導体レ
ーザの出射光の波長は635nm、モジュール12内の
半導体レーザの出射光の波長は785nmである。Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows a block diagram of a first embodiment of an optical head device according to the present invention. In the figure, the module 11 and the module 12 have a built-in semiconductor laser and a detection optical system for receiving the reflected light from the disk 17 or 18. The wavelength of the emitted light of the semiconductor laser in the module 11 is 635 nm, and the wavelength of the emitted light of the semiconductor laser in the module 12 is 785 nm.
【0028】ディスク17及び18はそれぞれ基板厚さ
が異なる光記録媒体で、ディスク17は基板厚さが0.
6mmのディジタルビデオディスクで、ディスク18は
基板厚さが1.2mmのディジタルビデオディスク又は
コンパクトディスクである。再生時にはディスク17及
び18の一方のみが図示しない回転機構にセットされて
高速回転される。The disks 17 and 18 are optical recording media having different substrate thicknesses. The disk 17 has a substrate thickness of 0.
A 6 mm digital video disc, the disc 18 is a digital video disc or a compact disc having a substrate thickness of 1.2 mm. At the time of reproduction, only one of the disks 17 and 18 is set in a rotation mechanism (not shown) and rotated at high speed.
【0029】波長フィルタ13はモジュール11からの
第1の光とモジュール12からの第2の光とを合波し
て、コリメータレンズ14に導く一方、ディスク17又
は18からの反射光を分波する光合波・分波手段を構成
しており、波長635nmの光をほぼ完全に透過させ、
波長785nmの光をほぼ完全に反射させる働きをす
る。従って、モジュール11内の半導体レーザからの出
射光は波長フィルタ13をほぼ損失なく透過し、モジュ
ール12内の半導体レーザからの出射光は波長フィルタ
13でほぼ損失なく反射される。The wavelength filter 13 multiplexes the first light from the module 11 and the second light from the module 12 and guides them to the collimator lens 14, while demultiplexing the reflected light from the disk 17 or 18. It composes the optical multiplexing / demultiplexing means, and transmits the light of wavelength 635 nm almost completely,
It functions to almost completely reflect light having a wavelength of 785 nm. Therefore, the emitted light from the semiconductor laser in the module 11 passes through the wavelength filter 13 with almost no loss, and the emitted light from the semiconductor laser in the module 12 is reflected with almost no loss by the wavelength filter 13.
【0030】コリメータレンズ14は入射光を平行光化
する。対物レンズ16は、コリメータレンズ14から入
射した光をディスク17又は18に集光した後反射さ
せ、反射光は透過させると共に、自身の出射光がディス
ク18の基板を透過する際に生じる球面収差を打ち消す
第1の球面収差を有する。開口制限付ホログラム光学素
子15は、コリメータレンズ14と対物レンズ16との
間に設けられ、後述するようにホログラム部と開口制限
部がそれぞれ形成された構成で、波長635nmの透過
光と+1次回折光に対する実効的な開口数を変化させ、
また波長785nmの透過光の実効的な開口数を波長6
35nmのそれに対して独立に設定する。The collimator lens 14 collimates the incident light. The objective lens 16 collects the light incident from the collimator lens 14 on the disk 17 or 18 and then reflects the light, transmits the reflected light, and suppresses the spherical aberration generated when the emitted light of itself passes through the substrate of the disk 18. It has a first spherical aberration that cancels. The aperture-limited hologram optical element 15 is provided between the collimator lens 14 and the objective lens 16 and has a configuration in which a hologram portion and an aperture limiting portion are respectively formed as will be described later, and the transmitted light having a wavelength of 635 nm and the + 1st order diffracted light are provided. By changing the effective numerical aperture for
In addition, the effective numerical aperture of transmitted light with a wavelength of 785 nm is 6
Set independently for that of 35 nm.
【0031】次に、この実施の形態の動作について説明
する。波長フィルタ13をほぼ損失なく透過したモジュ
ール11内の半導体レーザからの出射光は、コリメータ
レンズ14で平行光化され、後述する構成の開口制限付
ホログラム光学素子15に入射し、透過光と+1次回折
光とに分けられる。開口制限付ホログラム光学素子15
の往路の透過光は、平行光として対物レンズ16で基板
厚さ1.2mmで第1の記録密度のディスク18(この
場合、ディジタルビデオディスク)上に集光されスポッ
トを形成後反射される。ディスク18からの反射光は対
物レンズ16を逆向きに透過し、再び開口制限付ホログ
ラム光学素子15に入射し、透過光と+1次回折光に分
けられる。Next, the operation of this embodiment will be described. The light emitted from the semiconductor laser in the module 11 that has passed through the wavelength filter 13 with almost no loss is collimated by the collimator lens 14 and is incident on the hologram optical element 15 with an aperture limit having a configuration described later. It is divided into Origami. Holographic optical element with aperture restriction 15
The transmitted light of the forward path is condensed as parallel light by the objective lens 16 onto the disk 18 (in this case, a digital video disk) having a substrate thickness of 1.2 mm and a first recording density, and is reflected after forming a spot. The reflected light from the disk 18 passes through the objective lens 16 in the opposite direction, enters the hologram optical element with aperture restriction 15 again, and is divided into transmitted light and + 1st order diffracted light.
【0032】また、開口制限付ホログラム光学素子15
の往路の+1次回折光は、収束光として対物レンズ16
に入射し、これにより基板厚さ0.6mmのディスク1
7(ディジタルビデオディスク)上に集光されスポット
を形成後反射される。ディスク17からの反射光は対物
レンズ16を逆向きに透過し、再び開口制限付ホログラ
ム光学素子15に入射し、透過光と+1次回折光に分け
られる。Further, the hologram optical element 15 with aperture restriction is provided.
The + 1st order diffracted light on the outward path of
Incident on the disk 1 with a substrate thickness of 0.6 mm
7 (digital video disk) is focused and formed into a spot and then reflected. The reflected light from the disk 17 passes through the objective lens 16 in the opposite direction, enters the hologram optical element with aperture restriction 15 again, and is separated into transmitted light and + 1st order diffracted light.
【0033】ディスク18からの反射光のうち開口制限
付ホログラム光学素子15の復路の透過光、及びディス
ク17からの反射光のうち開口制限付ホログラム光学素
子15の復路の+1次回折光は、共に平行光としてコリ
メータレンズ14を逆向きに透過し、波長フィルタ13
を透過したのち、モジュール11内の検出光学系で受光
される。Of the reflected light from the disk 18, the transmitted light on the return path of the hologram optical element with aperture restriction 15 and the reflected light from the disk 17 on the return path of the hologram optical element 15 with aperture restriction are both parallel. The light passes through the collimator lens 14 in the opposite direction, and the wavelength filter 13
After being transmitted, the light is received by the detection optical system in the module 11.
【0034】一方、波長フィルタ13によりほぼ損失な
く反射されたモジュール12内の半導体レーザからの出
射光は、コリメータレンズ14で平行光化され、光束断
面の中心部分のみが開口制限付ホログラム光学素子15
を透過した後、対物レンズ16で基板厚さ1.2mmで
第2の記録密度のディスク(この場合はコンパクトディ
スク)18上に集光されスポットを形成後反射される。On the other hand, the light emitted from the semiconductor laser in the module 12 which is reflected by the wavelength filter 13 with almost no loss is collimated by the collimator lens 14 and only the central portion of the cross section of the light beam has a hologram optical element 15 with aperture restriction.
After being transmitted, the light is condensed by the objective lens 16 on the disk (the compact disk in this case) 18 having the substrate thickness of 1.2 mm and the second recording density, and after forming a spot, it is reflected.
【0035】ディスク18からの反射光は対物レンズ1
6を逆向きに透過し、再び開口制限付ホログラム光学素
子15に入射する。この反射光のうち一部の光は、開口
制限付ホログラム光学素子15とコリメータレンズ14
を逆向きに透過し、波長フィルタ13で反射された後、
モジュール12内の検出光学系で受光される。モジュー
ル12内の半導体レーザの出射光の波長は785nmで
あるため、ディスク18が追記型コンパクトディスクで
ある場合にも再生が可能である。なお、開口制限付ホロ
グラム光学素子15と対物レンズ16は、アクチュエー
タで一体駆動される。The light reflected from the disk 18 is the objective lens 1
The light passes through 6 in the opposite direction and is incident on the hologram optical element 15 with a limited aperture again. A part of the reflected light is a hologram optical element with aperture restriction 15 and a collimator lens 14.
In the opposite direction, and after being reflected by the wavelength filter 13,
The light is received by the detection optical system in the module 12. Since the wavelength of the emitted light of the semiconductor laser in the module 12 is 785 nm, reproduction is possible even when the disk 18 is a write-once compact disk. Note that the hologram optical element with aperture restriction 15 and the objective lens 16 are integrally driven by an actuator.
【0036】対物レンズ16は、対物レンズ16からの
出射光が基板厚さ1.2mmのディスク18の基板を透
過する際に生じる球面収差を打ち消す第1の球面収差を
有する。また、開口制限付ホログラム光学素子15に
は、開口制限付ホログラム光学素子15における波長6
35nmの+1次回折光に対し、対物レンズ6からの出
射光が基板厚さ0.6mmのディスク17の基板を透過
する際に生じる第2の球面収差と、上記の対物レンズ1
6が有する第1の球面収差の和を打ち消すための、後述
の図2(a)に示すような第3の球面収差を有するホロ
グラム部が形成されている。The objective lens 16 has a first spherical aberration that cancels the spherical aberration generated when the light emitted from the objective lens 16 passes through the substrate of the disk 18 having a substrate thickness of 1.2 mm. Further, the hologram optical element with aperture restriction 15 has a wavelength of 6 in the hologram optical element with aperture restriction 15.
With respect to the + 1st-order diffracted light of 35 nm, the second spherical aberration generated when the light emitted from the objective lens 6 passes through the substrate of the disk 17 having the substrate thickness of 0.6 mm, and the above-mentioned objective lens 1
A hologram portion having a third spherical aberration as shown in FIG. 2A to be described later is formed for canceling the sum of the first spherical aberrations 6 has.
【0037】従って、開口制限付ホログラム光学素子1
5の透過光は、波長635nm及び785nmのいずれ
の場合も対物レンズ16によりディスク18上に無収差
で集光され、波長635nmの開口制限付ホログラム光
学素子15の+1次回折光は、対物レンズ16によりデ
ィスク17上に無収差で集光される。Therefore, the hologram optical element 1 with aperture restriction
The transmitted light of No. 5 is converged onto the disk 18 without aberration by the objective lens 16 in both cases of the wavelengths of 635 nm and 785 nm, and the + 1st order diffracted light of the hologram optical element with aperture restriction 635 nm of wavelength 635 nm is transmitted by the objective lens 16. It is focused on the disk 17 without aberration.
【0038】図2は開口制限付ホログラム光学素子15
の平面図を示す。図2(a)は表面側から見た平面図、
同図(b)は裏面側から見た平面図である。また、図3
は開口制限付ホログラム光学素子15の断面図を示す。
開口制限付ホログラム光学素子15の表面には、図2
(a)に示すように、図21に示したホログラム光学素
子192と同様に同心円状の干渉縞のパターンからなる
ホログラム20が形成されており、+1次回折光に対し
ては前記した球面収差補正と共に凸レンズとしての働き
をする。FIG. 2 shows a hologram optical element 15 with a limited aperture.
FIG. FIG. 2A is a plan view seen from the front side,
FIG. 3B is a plan view seen from the back surface side. Also, FIG.
Shows a sectional view of the hologram optical element 15 with aperture restriction.
As shown in FIG.
As shown in (a), a hologram 20 having a pattern of concentric interference fringes is formed similarly to the hologram optical element 192 shown in FIG. Acts as a convex lens.
【0039】従って、図1に示した対物レンズ16に対
し、開口制限付ホログラム光学素子15は+1次回折光
のディスク17上の集光位置を透過光のディスク18上
の集光位置よりも近付けることができ、対物レンズ16
からディスク17、18の表面までの距離をほぼ等しく
することができる。Therefore, with respect to the objective lens 16 shown in FIG. 1, the hologram optical element with aperture restriction 15 should bring the focus position of the + 1st order diffracted light on the disk 17 closer than the focus position of the transmitted light on the disk 18. Objective lens 16
From the surfaces of the disks 17, 18 can be substantially equal.
【0040】開口制限付ホログラム光学素子15の表面
には図2(a)に示すようなホログラム20を有するホ
ログラム部が形成されており、開口制限付ホログラム光
学素子15の裏面には図2(b)に示すように中心に円
形の開口を有する開口制限部23が形成されている。上
記のホログラム部は、図3に示すように、ガラス基板1
9の表面上にホログラム20が形成された構造である。
ホログラム20は、対物レンズ16の有効径を2aとし
たとき、これよりも小さい直径2bの領域内では鋸歯状
で、直径2bの領域の外側では矩形状の断面形状を有す
る。ホログラム20の中心部の直径2bの領域の断面形
状を矩形状でなく鋸歯状とすることにより、+1次回折
光の効率が増加して不要な−1次回折光の効率を減少さ
せることができる。A hologram portion having a hologram 20 as shown in FIG. 2A is formed on the front surface of the hologram optical element with aperture restriction 15, and the back surface of the hologram optical element with aperture restriction 15 is shown in FIG. As shown in (), an opening limiting portion 23 having a circular opening is formed at the center. As shown in FIG. 3, the hologram portion is formed on the glass substrate 1
This is a structure in which the hologram 20 is formed on the surface of 9.
When the effective diameter of the objective lens 16 is 2a, the hologram 20 has a sawtooth shape in a region of a diameter 2b smaller than this, and has a rectangular cross-sectional shape outside the region of the diameter 2b. By making the cross-sectional shape of the area of the diameter 2b at the center of the hologram 20 into a sawtooth shape instead of a rectangular shape, the efficiency of the + 1st order diffracted light can be increased and the efficiency of the unnecessary −1st order diffracted light can be reduced.
【0041】ここで、ホログラム20の直径2bの鋸歯
状断面領域(以下、鋸歯領域と略す)におけるホログラ
ム20の高さと、直径2bの外側の矩形状断面領域(以
下、矩形領域と略す)におけるホログラム20の高さを
共に2hとし、また、屈折率をn、入射光の波長をλと
すると、鋸歯領域における透過率ηS0、+1次回折効率
ηS+1は次式で与えられる。Here, the height of the hologram 20 in a sawtooth-shaped cross-sectional area (hereinafter abbreviated as a sawtooth area) having a diameter 2b of the hologram 20 and the hologram in a rectangular cross-sectional area (hereinafter abbreviated as a rectangular area) outside the diameter 2b. When the heights of both 20 are 2h, the refractive index is n, and the wavelength of incident light is λ, the transmittance η S0 and the + 1st order diffraction efficiency η S + 1 in the sawtooth region are given by the following equations.
【0042】 ηS0 =sin2φS/φ 2 S (4 ) ηS+1=sin2φS/(φ S−π)2 (5 ) ただし、 φS=2π(n−1)h/λ (6) 例えば、h=345nm、n=1.46のとき、λ=6
35nmに対しては、(6)式からφS=π/2である
から、(4)式及び(5)式からηS0=ηS+1=0.4
05となる。また、λ=785nmに対しては、(6)
式からφS=0.404πであるから、(4)式からη
S0=0.566となる。Η S0 = sin 2 φ S / φ 2 S (4) η S + 1 = sin 2 φ S / (φ S −π) 2 (5) where φ S = 2π (n−1) h / λ (6) For example, when h = 345 nm and n = 1.46, λ = 6
For 35 nm, since φ S = π / 2 from the equation (6), η S0 = η S + 1 = 0.4 from the equations (4) and (5).
It will be 05. For λ = 785 nm, (6)
Since φ S = 0.404π from the equation, η from the equation (4)
S0 = 0.566.
【0043】一方、矩形領域における透過率ηR0、+1
次回折効率ηR+1は次式で与えられる。On the other hand, the transmittance η R0 of the rectangular area, +1
The next diffraction efficiency η R + 1 is given by the following equation.
【0044】 ηR0 =cos2(φR/2) (7) ηR+1=(4/π2)sin2(φ R/2) (8 ) ただし、 φR=4π(n−1)h/λ (9) 例えば、h=345nm、n=1.46のとき、λ=6
35nmに対しては、(9)式からφR=πであるか
ら、(7)式及び(8)式からηR0=0、ηR+1=0.
405となる。ΗR0 = Cos2(ΦR/ 2) (7) ηR + 1= (4 / π2) Sin2(Φ R/ 2) (8) However, φR= 4π (n-1) h / λ (9) For example, when h = 345 nm and n = 1.46, λ = 6
For 35 nm, from equation (9), φRIs π
From equations (7) and (8)R0= 0, ηR + 1= 0.
It becomes 405.
【0045】すなわち、以上の計算結果からわかるよう
に、開口制限付ホログラム光学素子15のホログラム部
において、波長635nmの光は、直径2bの鋸歯領域
のみを40.5%が透過し、直径2aの領域全体にわた
って+1次回折光として40.5%が回折される。ま
た、波長785nmの光は、上記ホログラム部の直径2
bの鋸歯領域を56.6%が透過する。That is, as can be seen from the above calculation results, in the hologram part of the aperture-limited hologram optical element 15, the light of wavelength 635 nm passes through only the sawtooth region of diameter 2b at 40.5% and the diameter of 2a. 40.5% is diffracted as + 1st order diffracted light over the entire region. In addition, the light having a wavelength of 785 nm is equivalent to the diameter 2 of the hologram portion.
56.6% is transmitted through the sawtooth region of b.
【0046】一方、図2(b)に示した開口制限付ホロ
グラム光学素子15の開口制限部23は、図3に示すよ
うに、ガラス基板19の裏面上に波長フィルタ膜21及
び位相補償膜22が積層された構造である。波長フィル
タ膜21及び位相補償膜22は、上記の直径2bよりも
小さい直径2cの円形領域の外側にのみ形成されてい
る。On the other hand, the aperture limiting portion 23 of the hologram optical element with aperture limiting 15 shown in FIG. 2B has a wavelength filter film 21 and a phase compensation film 22 on the back surface of the glass substrate 19, as shown in FIG. Is a laminated structure. The wavelength filter film 21 and the phase compensation film 22 are formed only outside the circular region having a diameter 2c smaller than the diameter 2b.
【0047】波長フィルタ膜21は、波長635nmの
光をほぼ完全に透過させ、波長785nmの光をほぼ完
全に反射させる働きをする。また、位相補償膜22は、
波長635nmに対し、波長フィルタ膜21および位相
補償膜22を通る光と空気中を通る光の位相差を2π
[rad.]に調整する働きをする。すなわち、開口制
限付ホログラム光学素子15の開口制限部23は、波長
635nmの光を直径2aの領域内全体にわたって完全
に透過させ、波長785nmの光を直径2cの円形領域
内では完全に透過させ、円形領域の外側では完全に反射
させる。The wavelength filter film 21 functions to almost completely transmit light having a wavelength of 635 nm and almost completely reflect light having a wavelength of 785 nm. Further, the phase compensation film 22 is
For a wavelength of 635 nm, the phase difference between the light passing through the wavelength filter film 21 and the phase compensation film 22 and the light passing through the air is 2π.
[Rad. ] To adjust. That is, the aperture limiting portion 23 of the hologram optical element with aperture limitation 15 completely transmits the light having the wavelength of 635 nm over the entire area of the diameter 2a, and completely transmits the light having the wavelength of 785 nm within the circular area of the diameter 2c, The light is completely reflected outside the circular area.
【0048】波長フィルタ膜21は、例えばガラス基板
19上に高屈折率層と低屈折率層が交互に奇数層堆積さ
れた構成である。上記の波長選択特性をもたせるために
は、高屈折率層と低屈折率層の屈折率がn1、n2、厚さ
がd1、d2のとき、n1・d1=n2・d2=λ/4(λ=
785[nm])とすればよい。高屈折率層としてTi
O2、低屈折率層としてSiO2を用いると、n1=2.
30、n2=1.46であるから、前記式からd1=85
[nm]、d2=134[nm]となる。一方、位相補
償膜22は、例えば波長フィルタ膜21上にSiO2を
堆積させることにより作製できる。The wavelength filter film 21 has, for example, a structure in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are alternately deposited on the glass substrate 19 in an odd number. In order to provide the above wavelength selection characteristics, when the high refractive index layer and the low refractive index layer have refractive indices n 1 and n 2 and thicknesses d 1 and d 2 , n 1 · d 1 = n 2 · d 2 = λ / 4 (λ =
785 [nm]). Ti as high refractive index layer
If O 2 and SiO 2 are used as the low refractive index layer, n 1 = 2.
Since 30 and n 2 = 1.46, d 1 = 85 from the above formula.
[Nm] and d 2 = 134 [nm]. On the other hand, the phase compensation film 22 can be produced by depositing SiO 2 on the wavelength filter film 21, for example.
【0049】本発明の光ヘッド装置の第2の実施の形態
は、図1の構成図中、図2に示した開口制限付ホログラ
ム光学素子15を、図4及び図5に示す開口制限付ホロ
グラム光学素子25で置き換えた構成である。図4は開
口制限付ホログラム光学素子25の平面図を示す。図4
(a)は表面側から見た平面図、同図(b)は裏面側か
ら見た平面図である。また、図5は開口制限付ホログラ
ム光学素子25の断面図を示す。In the second embodiment of the optical head device of the present invention, the hologram optical element with aperture restriction 15 shown in FIG. 2 is replaced by the hologram with aperture restriction shown in FIGS. In this configuration, the optical element 25 is replaced. FIG. 4 shows a plan view of the hologram optical element 25 with aperture restriction. FIG.
(A) is a plan view seen from the front side, and (b) is a plan view seen from the back side. Further, FIG. 5 shows a sectional view of the hologram optical element 25 with aperture restriction.
【0050】開口制限付ホログラム光学素子25の表面
には図4(a)に示すようなホログラム27を有するホ
ログラム部が形成されており、開口制限付ホログラム光
学素子25の裏面には図4(b)に示すように中心に円
形の開口を有する開口制限部32が形成されている。上
記のホログラム部は、図5に示すように、ガラス基板2
6の表面上にホログラム27が形成された構造である。
ホログラム27は、対物レンズ16の有効径を2aとし
たとき、これよりも小さい直径2bの領域内では4レベ
ルの階段状で、直径2bの領域の外側では矩形状の断面
形状を有する。ホログラム27の中心部の直径2bの領
域の断面形状を矩形状でなく4レベルの階段状とするこ
とにより、+1次回折光の効率が増加して不要な−1次
回折光の効率を減少させることができる。A hologram portion having a hologram 27 as shown in FIG. 4A is formed on the front surface of the hologram optical element with aperture restriction 25, and the back surface of the hologram optical element with aperture restriction 25 is shown in FIG. As shown in (), an opening limiting portion 32 having a circular opening is formed at the center. As shown in FIG. 5, the hologram portion is formed on the glass substrate 2
This is a structure in which the hologram 27 is formed on the surface of 6.
When the effective diameter of the objective lens 16 is 2a, the hologram 27 has a stepwise structure of four levels in a region of a diameter 2b smaller than this, and has a rectangular cross-sectional shape outside the region of the diameter 2b. By making the cross-sectional shape of the region of the diameter 2b at the center of the hologram 27 not a rectangular shape but a stepped shape of four levels, the efficiency of the + 1st-order diffracted light is increased and the efficiency of the unnecessary -1st-order diffracted light is reduced. it can.
【0051】ここで、ホログラム27の直径2bの4レ
ベルの階段状断面領域(以下、階段領域と略す)におけ
る各段の高さをh/2、直径2bの外側の矩形状断面領
域(以下、矩形領域と略す)におけるホログラム27の
高さを3h/2とし、また、屈折率をn、入射光の波長
をλとすると、階段領域における透過率ηF0、+1次回
折効率ηF+1は次式で与えられる。Here, the height of each step in the four-level stepwise cross-sectional area (hereinafter abbreviated as stepwise area) of the diameter 2b of the hologram 27 is h / 2, and the rectangular cross-sectional area outside the diameter 2b (hereinafter, If the height of the hologram 27 in the rectangular area is 3h / 2, the refractive index is n, and the wavelength of incident light is λ, the transmittance η F0 and the + 1st-order diffraction efficiency η F + 1 in the staircase region are It is given by the following formula.
【0052】 ηF0 =cos2(φF/2)cos2(φ F/4) (10) ηF+1=(8/π2)sin2(φF/2)cos2 [(φ F−π)/4] (1 1) ただし、 φF=2π(n−1)h/λ (12) 例えば、h=345nm、n=1.46のとき、λ=6
35nmに対しては、(12)式からφF=π/2であ
るから、(10)式及び(11)式からηF0=0.42
7、ηF+1=0.346となる。また、λ=785nm
に対しては、(12)式からφF=0.404πである
から、(10)式からηF0=0.585となる。ΗF0 = Cos2(ΦF/ 2) cos2(Φ F/ 4) (10) ηF + 1= (8 / π2) sin2(φF/ 2) cos2 [(φ F−π) / 4] (11 1) where φF= 2π (n-1) h / λ (12) For example, when h = 345 nm and n = 1.46, λ = 6
For 35 nm, φ from equation (12)F= Π / 2
Therefore, from equations (10) and (11), ηF0= 0.42
7, ηF + 1= 0.346. Also, λ = 785 nm
For, from equation (12), φF= 0.404π
From equation (10), ηF0= 0.585.
【0053】一方、矩形領域における透過率ηR0、+1
次回折効率ηR+1は次式で与えられる。On the other hand, the transmittance in the rectangular area η R0 , +1
The next diffraction efficiency η R + 1 is given by the following equation.
【0054】 ηR0 =cos2(φR/2) (13) ηR+1=(4/π2)sin2(φ R/2) (14 ) ただし、 φR=3π(n−1)h/λ (15) 例えば、h=345nm、n=1.46のとき、λ=6
35nmに対しては、(15)式からφR=3π/4で
あるから、(13)式及び(14)式からηR0=0.1
46、ηR+1=0.346となる。ΗR0 = Cos2(ΦR/ 2) (13) ηR + 1= (4 / π2) Sin2(Φ R/ 2) (14) However, φR= 3π (n-1) h / λ (15) For example, when h = 345 nm and n = 1.46, λ = 6
For 35 nm, from equation (15) φR= 3π / 4
Therefore, from equations (13) and (14), ηR0= 0.1
46, ηR + 1= 0.346.
【0055】すなわち、以上の計算結果からわかるよう
に、開口制限付ホログラム光学素子25のホログラム部
において、波長635nmの光は、直径2bの階段領域
内を42.7%、階段領域外を14.6%が透過し、直
径2aの領域全体にわたって+1次回折光として34.
6%が回折される。透過光の往復の効率は、直径2bの
階段領域内では18.2%、階段領域外では2.1%と
なり、後者は前者に比べて無視できるレベルである。ま
た、波長785nmの光は、上記ホログラム部の直径2
bの階段領域を58.5%が透過する。That is, as can be seen from the above calculation results, in the hologram portion of the aperture-limited hologram optical element 25, the light having a wavelength of 635 nm is 42.7% inside the staircase region with a diameter 2b, and 14% outside the staircase region. 6% is transmitted, and as the + 1st order diffracted light over the entire area of the diameter 2a, 34.
6% is diffracted. The round-trip efficiency of transmitted light is 18.2% inside the staircase region with a diameter of 2b and 2.1% outside the staircase region, and the latter is at a level that can be ignored compared to the former. In addition, the light having a wavelength of 785 nm is equivalent to the diameter 2 of the hologram portion.
58.5% is transmitted through the staircase region of b.
【0056】一方、図4(b)に示した開口制限付ホロ
グラム光学素子25の開口制限部32は、図5に示すよ
うに、表面上に回折格子29及び波長フィルタ膜30が
設けられ、裏面上に位相補償膜31が形成されたガラス
基板28の表面をガラス基板26の裏面に接着剤33を
介して貼り合わせた構造である。回折格子29、波長フ
ィルタ膜30及び位相補償膜31は、上記の直径2bよ
りも小さい直径2cの円形領域の外側にのみ形成されて
いる。On the other hand, as shown in FIG. 5, the aperture limiting portion 32 of the hologram optical element with aperture limiting 25 shown in FIG. 4B has a diffraction grating 29 and a wavelength filter film 30 on the front surface, and the back surface. In this structure, the surface of the glass substrate 28 on which the phase compensation film 31 is formed is attached to the back surface of the glass substrate 26 with an adhesive 33. The diffraction grating 29, the wavelength filter film 30, and the phase compensation film 31 are formed only outside the circular region having the diameter 2c smaller than the diameter 2b.
【0057】波長フィルタ膜30は、波長635nmの
光をほぼ完全に透過させ、波長785nmの光をほぼ完
全に反射させる働きをする。また、位相補償膜31は、
波長635nmに対し、回折格子29、波長フィルタ膜
30および位相補償膜31を通る光と接着剤33及び空
気中を通る光の位相差を2π[rad.]に調整する働
きをする。The wavelength filter film 30 has a function of almost completely transmitting light having a wavelength of 635 nm and almost completely reflecting light having a wavelength of 785 nm. In addition, the phase compensation film 31 is
For a wavelength of 635 nm, the phase difference between the light passing through the diffraction grating 29, the wavelength filter film 30, and the phase compensation film 31 and the light passing through the adhesive 33 and the air is 2π [rad. ] To adjust.
【0058】回折格子29はガラス基板28上へのSi
O2の堆積、ガラス基板28のエッチング等により作成
される。回折格子29は波長フィルタ膜30の透過光に
対しては回折格子として働かず、波長フィルタ膜30の
反射光に対してはcos2(φ/2)(ただし、φ=4
πnh/λ)で表される反射率で光を反射又は回折す
る。ここで、hは回折格子29の厚さ、nは屈折率、λ
は入射光の波長である。従って、例えば、回折格子29
の厚さhを134nm、屈折率nを1.46とすると、
入射光の波長λが785nmのときはφ=πであるから
反射率は0%となる。The diffraction grating 29 is made of Si on the glass substrate 28.
It is formed by depositing O 2 , etching the glass substrate 28, and the like. The diffraction grating 29 does not work as a diffraction grating with respect to the transmitted light of the wavelength filter film 30, and cos 2 (φ / 2) (where φ = 4) with respect to the reflected light of the wavelength filter film 30.
Reflects or diffracts light with a reflectance represented by πnh / λ). Here, h is the thickness of the diffraction grating 29, n is the refractive index, and λ
Is the wavelength of the incident light. Therefore, for example, the diffraction grating 29
Assuming that the thickness h is 134 nm and the refractive index n is 1.46,
When the wavelength λ of the incident light is 785 nm, φ = π, so the reflectance is 0%.
【0059】すなわち、開口制限付ホログラム光学素子
25の開口制限部32は、波長635nmの光を直径2
aの領域内全体にわたって完全に透過させ、波長785
nmの光を直径2cの円形領域内では完全に透過させ、
円形領域の外側では完全に反射回折させる。That is, the aperture limiting section 32 of the hologram optical element with aperture limitation 25 transmits light with a wavelength of 635 nm to a diameter of 2
A wavelength of 785
nm light is completely transmitted within the circular area of diameter 2c,
Outside the circular area, the light is completely reflected and diffracted.
【0060】波長フィルタ膜30は、例えばガラス基板
28上に高屈折率層と低屈折率層が交互に奇数層堆積さ
れた構成である。上記の波長選択特性をもたせるために
は、高屈折率層と低屈折率層の屈折率がn1、n2、厚さ
がd1、d2のとき、n1・d1=n2・d2=λ/4(λ=
785[nm])とすればよい。高屈折率層としてTi
O2、低屈折率層としてSiO2を用いると、n1=2.
30、n2=1.46であるから、前記式からd1=85
[nm]、d2=134[nm]となる。The wavelength filter film 30 has, for example, a structure in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are alternately deposited on the glass substrate 28 in odd layers. In order to provide the above wavelength selection characteristics, when the high refractive index layer and the low refractive index layer have refractive indices n 1 and n 2 and thicknesses d 1 and d 2 , n 1 · d 1 = n 2 · d 2 = λ / 4 (λ =
785 [nm]). Ti as high refractive index layer
If O 2 and SiO 2 are used as the low refractive index layer, n 1 = 2.
Since 30 and n 2 = 1.46, d 1 = 85 from the above formula.
[Nm] and d 2 = 134 [nm].
【0061】一方、位相補償膜31は、例えばガラス基
板28の裏面上にSiO2を堆積させることにより作製
できる。接着剤33には、回折格子29と屈折率がほぼ
同じ材料を用いる。また、回折格子29のパターンは、
図4(b)に示すような直線状でなく、同心円状等の他
の形状でも構わない。On the other hand, the phase compensation film 31 can be produced by depositing SiO 2 on the back surface of the glass substrate 28, for example. As the adhesive 33, a material having substantially the same refractive index as that of the diffraction grating 29 is used. The pattern of the diffraction grating 29 is
Instead of the linear shape shown in FIG. 4B, other shapes such as concentric circles may be used.
【0062】図6は開口制限付ホログラム光学素子25
のホログラム部の断面の拡大図を示す。図6(a)はガ
ラス基板26上にSiO235を堆積させて作成したホ
ログラム部の断面、図6(b)はガラス基板36をエッ
チングして作成したホログラム部の断面を示す。どちら
も作成には2枚のフォトマスクが用いられる。図6
(a)の作成方法では、1枚目のフォトマスクを用い
て、階段領域中の領域F1及び矩形領域中の領域R1に
それぞれSiO2を高さhだけ堆積した後、2枚目のフ
ォトマスクを用いて階段領域中の領域F2及びF3と矩
形領域中の領域R1の上部の領域R2にそれぞれSiO
2を高さh/2だけ堆積する。FIG. 6 shows a hologram optical element 25 with a limited aperture.
3 is an enlarged view of a cross section of the hologram portion of FIG. FIG. 6A shows a cross section of a hologram portion formed by depositing SiO 2 35 on the glass substrate 26, and FIG. 6B shows a cross section of a hologram portion formed by etching the glass substrate 36. In both cases, two photomasks are used for creation. Figure 6
In the manufacturing method of (a), the first photomask is used to deposit SiO 2 in the region F1 in the staircase region and the region R1 in the rectangular region by the height h, and then the second photomask. To the regions F2 and F3 in the staircase region and the region R2 above the region R1 in the rectangular region.
2. Deposit 2 at height h / 2.
【0063】これに対し、図6(b)の作成方法では、
1枚目のフォトマスクを用いて、階段領域中の領域F1
1及び矩形領域中の領域R11にそれぞれ深さhのエッ
チングを行った後、2枚目のフォトマスクを用いて階段
領域中の領域F12とF13と矩形領域中の領域R11
の下側の領域R12のそれぞれに深さh/2のエッチン
グを行う。On the other hand, in the creating method of FIG. 6B,
Using the first photomask, the area F1 in the staircase area
1 and the region R11 in the rectangular region are respectively etched to the depth h, and then the regions F12 and F13 in the staircase region and the region R11 in the rectangular region are etched using the second photomask.
Etching is performed to a depth h / 2 in each of the lower regions R12.
【0064】図3及び図5に断面を示した開口制限付ホ
ログラム光学素子15及び25における、波長635n
mの透過光と+1次回折光、波長785nmの透過光に
対する実効的な開口数は、対物レンズ16の焦点距離を
fとすると、それぞれb/f、a/f、c/fで与えら
れる。従って、例えばf=3[mm]、a=1.8[m
m]、b=1.56[mm]、c=1.35[mm]と
すると、a/f=0.6、b/f=0.52、c/f=
0.45となる。The wavelength of 635n in the hologram optical elements with aperture restrictions 15 and 25 whose cross sections are shown in FIGS.
The effective numerical apertures for the transmitted light of m, the + 1st order diffracted light, and the transmitted light of wavelength 785 nm are given by b / f, a / f, and c / f, respectively, where f is the focal length of the objective lens 16. Therefore, for example, f = 3 [mm] and a = 1.8 [m
m], b = 1.56 [mm], and c = 1.35 [mm], a / f = 0.6, b / f = 0.52, c / f =
It becomes 0.45.
【0065】従って、図3及び図5に断面を示した開口
制限付ホログラム光学素子15又は25を備え、図1に
示す如き構成の本発明の実施の形態によれば、波長63
5nmと開口数0.6の組合せで基板厚さ0.6mmの
ディジタルビデオディスクを再生でき、また、波長63
5nmと開口数0.52の組合せで基板厚さ1.2mm
で第1の記録密度のディジタルビデオディスクを再生で
き、更に波長785nmと開口数0.45の組合せで基
板厚さ1.2mmで第2の記録密度の追記型を含むコン
パクトディスクを再生することができる。本発明はさら
に、再生専用型や追記型のみならず、書換型の相変化デ
ィスクや光磁気ディスクにも適用できる。Therefore, according to the embodiment of the present invention having the hologram optical element with aperture restriction 15 or 25 whose cross section is shown in FIGS. 3 and 5, and having the configuration as shown in FIG.
With a combination of 5 nm and a numerical aperture of 0.6, a digital video disc with a substrate thickness of 0.6 mm can be reproduced, and a wavelength of 63 mm can be reproduced.
Substrate thickness 1.2 mm with combination of 5 nm and numerical aperture 0.52
It is possible to reproduce a digital video disc having a first recording density by using a combination of a wavelength of 785 nm and a numerical aperture of 0.45, and a compact disc including a write-once disc having a second recording density of 1.2 mm with a substrate thickness. it can. The present invention can be applied not only to the read-only type and the write-once type but also to the rewritable type phase change disk and the magneto-optical disk.
【0066】なお、開口制限付ホログラム光学素子15
及び25は、プラスチック又はガラスによる一体成形で
作成することも可能である。また、ホログラム部を対物
レンズ16上に直接形成することにより、開口制限付ホ
ログラム光学素子15、25を対物レンズ16と一体化
することも可能である。It should be noted that the hologram optical element with aperture restriction 15
It is also possible to fabricate 25 and 25 by integral molding with plastic or glass. Further, by forming the hologram portion directly on the objective lens 16, it is possible to integrate the hologram optical elements 15 and 25 with aperture restrictions with the objective lens 16.
【0067】次に、本発明の光ヘッド装置の実施の形態
に用いる波長フィルタの構成について説明する。図7は
図1に13で示した波長フィルタの各例の構成図を示
す。図7(a)に示す波長フィルタ13は、二つのガラ
スのブロック41及び42を誘電体多層膜43を介して
貼り合わせたものである。図7(a)に示すように、波
長635nmの入射光44は、誘電体多層膜43に入射
角45度で入射し、ほぼ完全に透過して直進する。一
方、波長785nmの入射光45は、誘電体多層膜43
に入射角45度で入射し、ほぼ完全に反射されて進行方
向が90度曲げられる。Next, the structure of the wavelength filter used in the embodiment of the optical head device of the present invention will be described. FIG. 7 shows a configuration diagram of each example of the wavelength filter shown at 13 in FIG. The wavelength filter 13 shown in FIG. 7A is formed by bonding two glass blocks 41 and 42 with a dielectric multilayer film 43 interposed therebetween. As shown in FIG. 7A, the incident light 44 having a wavelength of 635 nm is incident on the dielectric multilayer film 43 at an incident angle of 45 degrees, is almost completely transmitted, and travels straight. On the other hand, the incident light 45 having a wavelength of 785 nm is generated by the dielectric multilayer film 43.
Is incident at an incident angle of 45 degrees, is almost completely reflected, and the traveling direction is bent by 90 degrees.
【0068】図7(b)に示す波長フィルタ47は、三
つのガラスのブロック48、49及び50のうちブロッ
ク48及び49を誘電体多層膜51を介して貼り合わ
せ、かつ、ブロック49及び50を誘電体多層膜52を
介して貼り合わせたものである。図7(b)に示すよう
に、波長635nmの入射光44は、ブロック50を介
して誘電体多層膜52に入射角22.5度で入射し、ほ
ぼ完全に透過してブロック49を介して直進する。一
方、波長785nmの入射光45は、図7(b)に示す
ように、ブロック49を介して誘電体多層膜51に入射
角22.5度で入射し、ここでほぼ完全に反射された
後、誘電体多層膜52に入射角22.5度で入射し、こ
こでもほぼ完全に反射されることにより、進行方向が9
0度曲げられてブロック49を介して出射する。一般
に、波長フィルタは誘電体多層膜への入射角が小さいほ
ど設計が容易である。In the wavelength filter 47 shown in FIG. 7B, the blocks 48 and 49 of the three glass blocks 48, 49 and 50 are bonded together via the dielectric multilayer film 51, and the blocks 49 and 50 are combined. The dielectric multilayer film 52 is used for bonding. As shown in FIG. 7B, the incident light 44 having a wavelength of 635 nm is incident on the dielectric multilayer film 52 through the block 50 at an incident angle of 22.5 degrees, is almost completely transmitted, and is transmitted through the block 49. Go straight. On the other hand, as shown in FIG. 7B, the incident light 45 having a wavelength of 785 nm enters the dielectric multilayer film 51 through the block 49 at an incident angle of 22.5 degrees, and after being reflected almost completely here. , Is incident on the dielectric multilayer film 52 at an incident angle of 22.5 degrees, and is reflected almost completely also here, the traveling direction is 9
It is bent at 0 ° and emitted through the block 49. Generally, the wavelength filter is easier to design as the incident angle to the dielectric multilayer film is smaller.
【0069】図7(a)、(b)に示す波長フィルタ1
3、47で用いられる誘電体多層膜43、51及び52
は、波長635nmの入射光44をほぼ完全に透過さ
せ、波長785nmの入射光45をほぼ完全に反射させ
るように設計されているが、波長785nmの光をほぼ
完全に透過させ、波長635nmの光をほぼ完全に反射
させるように設計することも可能である。この場合は、
図1のモジュール11内の半導体レーザの波長を785
nm、モジュール12内の半導体レーザの波長を635
nmにそれぞれ変更すればよい。The wavelength filter 1 shown in FIGS. 7 (a) and 7 (b)
Dielectric multilayer films 43, 51 and 52 used in 3, 47
Is designed to almost completely transmit the incident light 44 having a wavelength of 635 nm and almost completely reflect the incident light 45 having a wavelength of 785 nm. However, it transmits almost completely the light having a wavelength of 785 nm and transmits the light having a wavelength of 635 nm. Can also be designed to reflect almost completely. in this case,
The wavelength of the semiconductor laser in the module 11 of FIG.
nm, the wavelength of the semiconductor laser in the module 12 is 635
nm may be changed respectively.
【0070】また、半導体レーザからの出射光の偏光方
向とディスクからの反射光の偏光方向が同じ場合は、波
長フィルタの代わりに偏光ビームスプリッタを用いるこ
とも可能である。例えば、波長635nm、785nm
の光を偏光ビームスプリッタにそれぞれP偏光、S偏光
として入射させることにより、前者はほぼ完全に透過
し、後者はほぼ完全に反射される。If the polarization direction of the emitted light from the semiconductor laser and the polarization direction of the reflected light from the disk are the same, a polarization beam splitter can be used instead of the wavelength filter. For example, wavelengths of 635 nm and 785 nm
By making the light of (1) enter the polarization beam splitter as P-polarized light and S-polarized light, respectively, the former is almost completely transmitted and the latter is almost completely reflected.
【0071】次に、本発明の光ヘッド装置を再生専用型
のディスクの光ヘッド装置に適用した場合のモジュール
について説明する。図8はこの場合のモジュールの一例
の構成図を示す。同図に示すように、このモジュール
は、半導体レーザ54及び光検出器55を収納したパッ
ケージ56と、半導体レーザ54の出射レーザ光の光路
中にあるパッケージ56の窓部に、スペーサ59を挟ん
で設けられた回折格子57及びホログラム光学素子58
とから構成される。回折格子57及びホログラム光学素
子58は、ガラス基板上にSiO2でパターンが形成さ
れた構造であり、入射光の一部を透過、一部を回折させ
る働きをする。Next, a module when the optical head device of the present invention is applied to an optical head device for a read-only type disk will be described. FIG. 8 shows a block diagram of an example of the module in this case. As shown in the figure, in this module, a spacer 59 is sandwiched between a package 56 accommodating a semiconductor laser 54 and a photodetector 55 and a window portion of the package 56 in the optical path of laser light emitted from the semiconductor laser 54. Diffraction grating 57 and hologram optical element 58 provided
It is composed of The diffraction grating 57 and the hologram optical element 58 have a structure in which a pattern is formed of SiO 2 on a glass substrate, and have a function of transmitting a part of incident light and diffracting a part thereof.
【0072】次に、このモジュールの動作について説明
するに、半導体レーザ54からの出射レーザ光は、直進
して回折格子57で透過光と±1次回折光の三つの光に
分けられ、それぞれホログラム光学素子58を約50%
が透過して図示しないディスクに向かう。ディスクで反
射された三つの光は、それぞれホログラム光学素子58
に入射してここで±1次回折光として約40%が回折さ
れ、回折格子57を透過して光検出器55で受光され
る。Next, to explain the operation of this module, the laser light emitted from the semiconductor laser 54 travels straight and is divided by the diffraction grating 57 into three lights, that is, the transmitted light and the ± first-order diffracted lights, each of which is hologram optical. About 50% of element 58
Permeate through to the disc (not shown). The three lights reflected by the disc are respectively holographic optical elements 58.
Is incident on the photodetector 55 and is then diffracted by about 40% as ± first-order diffracted light, transmitted through the diffraction grating 57 and received by the photodetector 55.
【0073】図9は図8のモジュールにおける半導体レ
ーザ54の光検出器55への実装形態の各例を示す。図
9(a)はガラスのミラーを用いた場合である。半導体
レーザ54は、光検出器55上にヒートシンク61を介
して設置されている。半導体レーザ54から側方に出射
された光は、ガラスのミラー62の傾斜面で反射されて
図の上方に向かう。FIG. 9 shows each example of the mounting form of the semiconductor laser 54 on the photodetector 55 in the module of FIG. FIG. 9A shows the case where a glass mirror is used. The semiconductor laser 54 is installed on the photodetector 55 via a heat sink 61. The light emitted laterally from the semiconductor laser 54 is reflected by the inclined surface of the glass mirror 62 and travels upward in the drawing.
【0074】また、図9(b)は光検出器55にエッチ
ングで形成されたミラーを用いた場合である。光検出器
55は上部に凹部63と傾斜面のミラー64がエッチン
グで形成され、半導体レーザ54が光検出器55にエッ
チングで形成された凹部63に設置されている。これに
より、半導体レーザ54から側方に出射された光は、光
検出器55にエッチングで形成されたミラー64で反射
されて図の上方に向かう。Further, FIG. 9B shows the case where a mirror formed by etching is used for the photodetector 55. The photodetector 55 has a concave portion 63 and a mirror 64 with an inclined surface formed by etching in the upper portion, and the semiconductor laser 54 is installed in the concave portion 63 formed by etching in the photodetector 55. As a result, the light emitted laterally from the semiconductor laser 54 is reflected by the mirror 64 formed by etching in the photodetector 55 and travels upward in the drawing.
【0075】図10(a)は図8のモジュール中の回折
格子57の干渉縞のパターン、図10(b)は図8のモ
ジュール中のホログラム光学素子58の干渉縞のパター
ンをそれぞれ示す。回折格子57は中心付近の領域66
にのみパターンを有する。半導体レーザ54からの出射
光は領域66の内部を通り、ディスクからの反射光は領
域66の外部を通る。FIG. 10A shows an interference fringe pattern of the diffraction grating 57 in the module of FIG. 8, and FIG. 10B shows an interference fringe pattern of the hologram optical element 58 in the module of FIG. The diffraction grating 57 has a region 66 near the center.
Only has a pattern. The light emitted from the semiconductor laser 54 passes through the inside of the region 66, and the reflected light from the disk passes through the outside of the region 66.
【0076】また、ホログラム光学素子58は図10
(b)に示すように、オフアクシスの同心円状のパター
ンを有し、+1次回折光に対しては凸レンズ、−1次回
折光に対しては凹レンズとしての働きをする。The hologram optical element 58 is shown in FIG.
As shown in (b), it has an off-axis concentric circular pattern, and functions as a convex lens for + 1st-order diffracted light and as a concave lens for -1st-order diffracted light.
【0077】図11は図8のモジュール中の光検出器5
5の受光部のパターンと、受光部上の光スポットの配置
の一例を示す。図11において、光検出器55の中央や
や下の位置に半導体レーザ54が設けられ、かつ、半導
体レーザ54の出射光を反射するためのミラー70が設
けられている。また、ミラー70の設置位置を挟んで図
中、左側に受光部71、72及び73が、また右側に受
光部74、75及び76がそれぞれ配置されている。更
に、受光部71、74の図中上側にそれぞれ受光部7
7、78が設けられ、受光部73、76の図中下側にそ
れぞれ受光部79、80が設けられている。 受光部7
1、72及び73全体の受光面積と、受光部74、75
及び76全体の受光面積とは同一で、受光部77、7
8、79及び80の各受光面積とほぼ同一である。FIG. 11 shows the photodetector 5 in the module of FIG.
5 shows an example of the pattern of the light receiving part of No. 5 and the arrangement of the light spots on the light receiving part. In FIG. 11, a semiconductor laser 54 is provided at a position slightly below the center of the photodetector 55, and a mirror 70 for reflecting the emitted light of the semiconductor laser 54 is provided. Further, in the figure, the light receiving portions 71, 72 and 73 are arranged on the left side and the light receiving portions 74, 75 and 76 are arranged on the right side of the installation position of the mirror 70. Further, the light receiving portions 7 are provided above the light receiving portions 71 and 74, respectively.
7, 78 are provided, and light receiving portions 79, 80 are provided on the lower side of the light receiving portions 73, 76 in the figure, respectively. Light receiving part 7
1, 72 and 73 total light receiving area and light receiving portions 74 and 75
And the total light-receiving area of 76 is the same,
The light receiving areas of 8, 79 and 80 are almost the same.
【0078】図8に示した回折格子57の往路の透過光
のうち、復路のホログラム光学素子58の+1次回折光
は、図11に示す3分割された受光部71〜73上に光
スポット81を形成し、復路のホログラム光学素子58
の−1次回折光は、3分割された受光部74〜76上に
光スポット82を形成する。また、回折格子57の往路
の+1次回折光のうち、復路のホログラム光学素子58
の±1次回折光は、それぞれ受光部77、78上に光ス
ポット83、84を形成し、回折格子57の往路の−1
次回折光のうち、復路のホログラム光学素子58の±1
次回折光は、それぞれ受光部79、80上に光スポット
85、86を形成する。Of the transmitted light on the outward path of the diffraction grating 57 shown in FIG. 8, the + 1st order diffracted light of the hologram optical element 58 on the return path forms a light spot 81 on the three-divided light receiving portions 71 to 73 shown in FIG. Form and return hologram optical element 58
The -1st-order diffracted light forms a light spot 82 on the three-divided light receiving portions 74 to 76. Further, of the + 1st order diffracted light on the outward path of the diffraction grating 57, the hologram optical element 58 on the backward path is used.
The ± 1st-order diffracted light of the above forms light spots 83 and 84 on the light receiving portions 77 and 78, respectively, and the outward −1 of the diffraction grating 57
Of the diffracted light of the next order, ± 1 of the return hologram optical element 58
The secondary diffracted light forms light spots 85 and 86 on the light receiving portions 79 and 80, respectively.
【0079】受光部71〜73、77、79は集光点の
後方に位置しており、受光部74〜76、78、80は
集光点の前方に位置している。受光部71〜80により
それぞれ光電変換して得られた電気信号のレベルをそれ
ぞれV71〜V80で表わすと、フォーカス誤差信号は
公知のスポットサイズ法により、{(V71+V73+
V75)−(V72+V74+V76)}の演算から得
られ、トラック誤差信号は公知の3ビーム法により、
{(V77+V78)−(V79+V80)}の演算か
ら得られる。また、ディスクの再生信号は、(V71+
V72+V73+V74+V75+V76)の演算から
得られる。The light receiving parts 71 to 73, 77 and 79 are located behind the converging point, and the light receiving parts 74 to 76, 78 and 80 are located in front of the converging point. When the levels of the electric signals obtained by photoelectric conversion by the light receiving units 71 to 80 are represented by V71 to V80, the focus error signal is {(V71 + V73 +) by the known spot size method.
V75)-(V72 + V74 + V76)}, and the track error signal is obtained by the known 3-beam method.
It is obtained from the calculation of {(V77 + V78)-(V79 + V80)}. The reproduction signal of the disc is (V71 +
V72 + V73 + V74 + V75 + V76).
【0080】次に、本発明の光ヘッド装置を追記型のデ
ィスク又は書換型の相変化ディスクの光ヘッド装置に適
用した場合のモジュールについて説明する。図12はこ
の場合のモジュールの一例の構成図を示す。同図に示す
ように、このモジュールは、半導体レーザ90、光検出
器91を収納したパッケージ92と、半導体レーザ90
の出射レーザ光の光路中にあるパッケージ92の窓部に
設けられた偏光性ホログラム光学素子93と1/4波長
板94から構成される。Next, a module when the optical head device of the present invention is applied to an optical head device of a write-once disc or a rewritable phase change disc will be described. FIG. 12 shows a block diagram of an example of the module in this case. As shown in the figure, this module includes a semiconductor laser 90, a package 92 accommodating a photodetector 91, and a semiconductor laser 90.
The polarizing hologram optical element 93 and the quarter-wave plate 94 provided in the window portion of the package 92 in the optical path of the emitted laser light.
【0081】偏光性ホログラム光学素子93は、図13
に示すように、複屈折性を有するニオブ酸リチウム基板
96上にプロトン交換領域97と位相補償膜98でパタ
ーンが形成された構造であり、入射光のうち常光はすべ
て透過させ、異常光はすべて回折させる働きをする。The polarizing hologram optical element 93 is shown in FIG.
As shown in FIG. 3, a pattern is formed on the lithium niobate substrate 96 having birefringence by the proton exchange region 97 and the phase compensation film 98, and all the ordinary light of the incident light is transmitted and all the extraordinary light is transmitted. It works to diffract.
【0082】次に、図12のモジュールの動作について
説明するに、半導体レーザ90からの出射光は、偏光性
ホログラム光学素子93に常光として入射してすべて透
過し、1/4波長板94で直線偏光から円偏光に変換さ
れて図示しないディスクに向かう。ディスクからの反射
光は、1/4波長板94に入射して円偏光から直線偏光
に変換された後、偏光性ホログラム光学素子93に異常
光として入射し、±1次回折光として約80%が回折さ
れて光検出器91で受光される。半導体レーザ90の光
検出器91への実装形態は図9と同様である。Next, the operation of the module shown in FIG. 12 will be described. The emitted light from the semiconductor laser 90 is incident on the polarizing hologram optical element 93 as ordinary light and is transmitted therethrough. The polarized light is converted into circularly polarized light and goes to a disk (not shown). The reflected light from the disc is incident on the quarter-wave plate 94 and converted from circularly polarized light to linearly polarized light, and then is incident on the polarizing hologram optical element 93 as extraordinary light. The light is diffracted and received by the photodetector 91. The mounting form of the semiconductor laser 90 on the photodetector 91 is similar to that shown in FIG.
【0083】図14は偏光性ホログラム光学素子93の
干渉縞のパターンを示す。同図に示すように、偏光性ホ
ログラム光学素子93は四つの領域101〜104に分
割された構成である。また、偏光性ホログラム光学素子
93の光学軸105は、半導体レーザ90からの出射光
の偏光方向と垂直な方向に設定されている。FIG. 14 shows a pattern of interference fringes of the polarization hologram optical element 93. As shown in the figure, the polarization hologram optical element 93 is divided into four regions 101 to 104. The optical axis 105 of the polarization hologram optical element 93 is set in the direction perpendicular to the polarization direction of the light emitted from the semiconductor laser 90.
【0084】図15は図12に示したモジュールの光検
出器91の受光部のパターンと受光部上の光スポットの
配置の一例を示す。図15において、光検出器91の中
央やや下の位置に半導体レーザ90が設けられ、かつ、
半導体レーザ90の出射光を反射するためのミラー10
7が設けられている。また、ミラー107の設置位置を
挟んで図中、左側に2分割された受光部109及び11
0が、また右側に2分割された受光部111及び112
がそれぞれ配置されている。更に、受光部109、11
1の図中上側にそれぞれ受光部113、114が設けら
れ、受光部110、112の図中下側にそれぞれ受光部
115、116が設けられている。FIG. 15 shows an example of the pattern of the light receiving portion of the photodetector 91 of the module shown in FIG. 12 and the arrangement of the light spots on the light receiving portion. In FIG. 15, the semiconductor laser 90 is provided at a position slightly below the center of the photodetector 91, and
Mirror 10 for reflecting emitted light of semiconductor laser 90
7 are provided. Further, in the figure, the light receiving portions 109 and 11 divided into two parts on the left side of the installation position of the mirror 107.
0 is also divided into two light receiving portions 111 and 112 on the right side.
Are arranged respectively. Further, the light receiving units 109 and 11
1, the light receiving portions 113 and 114 are provided on the upper side in the drawing, and the light receiving portions 115 and 116 are provided on the lower side in the drawing of the light receiving portions 110 and 112, respectively.
【0085】図12及び図14に示した偏光性ホログラ
ム光学素子93の領域103からの+1次回折光は、図
15に示すように2分割された受光部109、110の
分割線上に光スポット118を形成し、領域103から
の−1次回折光は受光部116上に光スポット122を
形成する。偏光性ホログラム光学素子93の図14の領
域104からの+1次回折光は、図15に示すように2
分割された受光部111、112の分割線上に光スポッ
ト119を形成し、領域104からの−1次回折光は受
光部115上に光スポット123を形成する。The + 1st order diffracted light from the region 103 of the polarizing hologram optical element 93 shown in FIGS. 12 and 14 forms a light spot 118 on the dividing line of the two light receiving portions 109 and 110 as shown in FIG. The −1st-order diffracted light from the region 103 forms a light spot 122 on the light receiving portion 116. The + 1st-order diffracted light from the region 104 of the polarizing hologram optical element 93 in FIG.
A light spot 119 is formed on the dividing line of the divided light receiving portions 111 and 112, and the −1st order diffracted light from the region 104 forms a light spot 123 on the light receiving portion 115.
【0086】また、偏光性ホログラム光学素子93の図
14に示した領域102からの±1次回折光は、図15
に示すように、それぞれ受光部113、116上に光ス
ポット120、124を形成し、図14に示した領域1
01からの±1次回折光は、図15に示すように、それ
ぞれ受光部114、115上に光スポット121、12
5を形成する。Further, the ± first-order diffracted light from the region 102 of the polarizing hologram optical element 93 shown in FIG.
14A and 14B, light spots 120 and 124 are formed on the light receiving portions 113 and 116, respectively, and the area 1 shown in FIG.
The ± 1st-order diffracted lights from 01 are light spots 121 and 12 on the light receiving portions 114 and 115, respectively, as shown in FIG.
5 is formed.
【0087】これらのすべての受光部109〜116に
より光電変換されて得られた電気信号のレベルをそれぞ
れV109〜V116で表わすと、フォーカス誤差信号
は公知のフーコー法により、{(V109+V112)
−(V110+V111)}の演算から得られ、トラッ
ク誤差信号は公知のプッシュプル法により、(V113
−V114)の演算から得られる。また、ディスクの再
生信号は、(V115+V116)の演算から得られ
る。When the levels of the electric signals obtained by photoelectric conversion by all the light receiving sections 109 to 116 are represented by V109 to V116, the focus error signal is {(V109 + V112) by the known Foucault method.
The track error signal obtained from the calculation of − (V110 + V111)} is (V113
It is obtained from the calculation of −V114). The reproduction signal of the disc is obtained from the calculation of (V115 + V116).
【0088】次に、本発明の光ヘッド装置を書換型の光
磁気ディスクの光ヘッド装置に適用した場合のモジュー
ルについて説明する。図16はこの場合のモジュールの
一例の構成図を示す。同図に示すように、このモジュー
ルは、半導体レーザ126、光検出器127、マイクロ
プリズム128及び129を収納したパッケージ130
と、半導体レーザ126の出射レーザ光の光路中にある
パッケージ130の窓部にスペーサ133を挟んで設け
られた偏光性回折格子131、ホログラム光学素子13
2から構成されている。偏光性回折格子131は、図1
3に示した偏光性ホログラム光学素子93と同様の構造
であり、入射光のうち常光は一部を透過、一部を回折さ
せ、異常光はすべて回折させる働きをする。Next, a module when the optical head device of the present invention is applied to an optical head device of a rewritable type magneto-optical disk will be described. FIG. 16 shows a block diagram of an example of the module in this case. As shown in the figure, this module includes a package 130 containing a semiconductor laser 126, a photodetector 127, and microprisms 128 and 129.
And the polarizing diffraction grating 131 and the hologram optical element 13 provided on the window of the package 130 in the optical path of the laser light emitted from the semiconductor laser 126 with the spacer 133 interposed therebetween.
It consists of two. The polarizing diffraction grating 131 is shown in FIG.
It has a structure similar to that of the polarization hologram optical element 93 shown in FIG. 3, and functions to pass a part of the ordinary light of the incident light, diffract a part thereof, and diffract all the abnormal light.
【0089】次に、図16のモジュールの動作について
説明する。図16において、半導体レーザ126からの
出射レーザ光は、ホログラム光学素子132を約80%
が透過し、偏光性回折格子131に常光として入射し、
約90%が透過して図示しないディスクに向かう。一
方、ディスクからの反射光のうち、常光成分の約8%と
異常光成分の約80%は偏光性回折格子131で±1次
回折光として回折され、そのうち+1次回折光はマイク
ロプリズム128を介して、−1次回折光はマイクロプ
リズム129を介して光検出器127で受光される。ま
た、常光成分の約90%は偏光性回折格子131を透過
してホログラム光学素子132に入射し、±1次回折光
として約16%が回折されて光検出器127で受光され
る。半導体レーザ126の光検出器127への実装形態
は図9と同様である。Next, the operation of the module shown in FIG. 16 will be described. In FIG. 16, the laser light emitted from the semiconductor laser 126 passes through the hologram optical element 132 by about 80%.
Is transmitted and enters the polarizing diffraction grating 131 as ordinary light,
About 90% of the light is transmitted to the disc (not shown). On the other hand, of the reflected light from the disc, about 8% of the ordinary light component and about 80% of the extraordinary light component are diffracted by the polarizing diffraction grating 131 as ± first-order diffracted light, of which the + 1st-order diffracted light passes through the micro prism 128. The −1st-order diffracted light is received by the photodetector 127 via the microprism 129. Further, about 90% of the ordinary light component passes through the polarization diffraction grating 131 and enters the hologram optical element 132, and about 16% of ± first-order diffracted light is diffracted and received by the photodetector 127. The mounting form of the semiconductor laser 126 on the photodetector 127 is the same as in FIG.
【0090】図17(a)は図16のモジュール中の偏
光性回折格子131の干渉縞のパターン、図17(b)
は図16のモジュール中のホログラム光学素子132の
干渉縞のパターンをそれぞれ示す。偏光性回折格子13
1の光学軸135は、半導体レーザ126からの出射光
の偏光方向と垂直な方向に設定されている。また、ホロ
グラム光学素子132は図17(b)に示すように中心
付近にのみ、四つの領域136〜139に分割されたパ
ターンを有している。FIG. 17 (a) is a pattern of interference fringes of the polarization diffraction grating 131 in the module of FIG. 16, FIG. 17 (b).
Shows respective interference fringe patterns of the hologram optical element 132 in the module of FIG. Polarizing diffraction grating 13
The first optical axis 135 is set in the direction perpendicular to the polarization direction of the light emitted from the semiconductor laser 126. The hologram optical element 132 has a pattern divided into four regions 136 to 139 only near the center as shown in FIG. 17B.
【0091】ディスクからの反射光のうち、偏光性回折
格子131の透過光は領域136〜139の内部を通
り、偏光性回折格子131の±1次回折光は領城136
〜139の外部を通る。ホログラム光学素子132の領
域136、137はオフアクシスの同心円状のパターン
を有し、+1次回折光に対しては凸レンズ、−1次回折
光に対しては凹レンズとしての働きをする。Of the reflected light from the disc, the transmitted light of the polarizing diffraction grating 131 passes through the inside of the regions 136 to 139, and the ± 1st order diffracted light of the polarizing diffraction grating 131 is the castle 136.
Pass through the exterior of ~ 139. The regions 136 and 137 of the hologram optical element 132 have an off-axis concentric circular pattern, and function as a convex lens for + 1st order diffracted light and a concave lens for −1st order diffracted light.
【0092】図18は図16のモジュール中のマイクロ
プリズム128の構成を示す。マイクロプリズム128
は、三つのガラスのブロック141、142及び143
のうち、ブロック141と142を誘電体多層膜145
を介して貼り合わせ、ブロック142と143を誘電体
多層膜146を介して貼り合わせたものである。FIG. 18 shows the structure of the micro prism 128 in the module of FIG. Micro prism 128
Are three glass blocks 141, 142 and 143.
Blocks 141 and 142 of the dielectric multilayer film 145
The blocks 142 and 143 are bonded together via the dielectric multilayer film 146.
【0093】この構成のマイクロプリズム128によれ
ば、入射光147のP偏光成分はブロック142、誘電
体多層膜146及びブロック143をほぼ完全に透過し
て透過光148となる。一方、入射光147のS偏光成
分は誘電体多層膜146、145で二回ほぼ完全に反射
され、更にブロック142を透過して反射光149とな
る。マイクロプリズム129の構成も図18と同様であ
る。According to the micro-prism 128 having this structure, the P-polarized component of the incident light 147 is almost completely transmitted through the block 142, the dielectric multilayer film 146 and the block 143 to become the transmitted light 148. On the other hand, the S-polarized component of the incident light 147 is almost completely reflected twice by the dielectric multilayer films 146 and 145, and further passes through the block 142 to become reflected light 149. The structure of the micro prism 129 is similar to that shown in FIG.
【0094】図19は図16に示したモジュール中の光
検出器127の受光部のパターンと、受光部上の光スポ
ットの配置の一例を示す。図19において、光検出器1
27の中央やや下の位置に半導体レーザ126が設けら
れ、かつ、半導体レーザ126の出射光を反射するため
のミラー150が設けられている。また、図中、左斜め
上に受光部151及び152が設けられ、右斜め下に受
光部153及び154が設けられている。FIG. 19 shows an example of the pattern of the light receiving portion of the photodetector 127 in the module shown in FIG. 16 and the arrangement of the light spots on the light receiving portion. In FIG. 19, the photodetector 1
A semiconductor laser 126 is provided at a position slightly below the center of 27, and a mirror 150 for reflecting the emitted light of the semiconductor laser 126 is provided. Further, in the figure, light receiving portions 151 and 152 are provided on the upper left side and light receiving portions 153 and 154 are provided on the lower right side.
【0095】また、ミラー150の設置位置を挟んで図
中、左側に3分割された受光部155、156及び15
7が、また右側に3分割された受光部158、159及
び160がそれぞれ配置されている。更に、受光部15
5、158の図中上側にそれぞれ受光部161、162
が設けられ、受光部157、160の図中下側にそれぞ
れ受光部163、164が設けられている。Further, in the figure, the light receiving parts 155, 156, and 15 divided into three parts on the left side of the installation position of the mirror 150.
7, and light receiving portions 158, 159 and 160 divided into three parts are arranged on the right side. Further, the light receiving unit 15
5, light receiving parts 161 and 162 are provided on the upper side of FIG.
Are provided, and the light receiving portions 163 and 164 are provided on the lower side of the light receiving portions 157 and 160 in the figure, respectively.
【0096】この光検出器127において、図16に示
した偏光性回折格子131からの+1次回折光は、マイ
クロプリズム128を検光子として図18に示したよう
に透過光と反射光に分離され、透過光は図19に示すよ
うに受光部151上に光スポット171を形成し、反射
光は受光部152上に光スポット172を形成する。ま
た、偏光性回折格子131からの−1次回折光は、マイ
クロプリズム129を検光子として透過光と反射光に分
離され、透過光は図19に示すように受光部153上に
光スポット173を形成し、反射光は受光部154上に
光スポット174を形成する。In the photodetector 127, the + 1st order diffracted light from the polarizing diffraction grating 131 shown in FIG. 16 is separated into the transmitted light and the reflected light as shown in FIG. 18 using the microprism 128 as an analyzer. The transmitted light forms a light spot 171 on the light receiving portion 151 as shown in FIG. 19, and the reflected light forms a light spot 172 on the light receiving portion 152. The −1st-order diffracted light from the polarization diffraction grating 131 is separated into transmitted light and reflected light by using the microprism 129 as an analyzer, and the transmitted light forms a light spot 173 on the light receiving portion 153 as shown in FIG. Then, the reflected light forms a light spot 174 on the light receiving portion 154.
【0097】一方、ホログラム光学素子132の図17
(b)に示した領域136、137からの+1次回折光
は、図19に示すように3分割された受光部155〜1
57上にそれぞれ光スポット175、176を形成し、
上記領域136、137からの−1次回折光は、3分割
された受光部158〜160上にそれぞれ光スポット1
77、178を形成する。受光部155〜157は集光
点の後方に位置しており、受光部158〜160は集光
点の前方に位置している。On the other hand, the hologram optical element 132 shown in FIG.
The + 1st order diffracted light from the regions 136 and 137 shown in (b) is divided into three light receiving portions 155 to 1 as shown in FIG.
57 light spots 175 and 176 are formed on 57,
The −1st-order diffracted light from the regions 136 and 137 is formed into a light spot 1 on each of the three light receiving portions 158 to 160.
77 and 178 are formed. The light receiving units 155 to 157 are located behind the converging point, and the light receiving units 158 to 160 are located in front of the converging point.
【0098】また、ホログラム光学素子132の図17
(b)に示した領域138からの±1次回折光は、図1
9に示すように、それぞれ受光部161、164上に光
スポット179、181を形成する。更に、ホログラム
光学素子132の図17(b)に示した領域139から
の±1次回折光は、図19に示すように、それぞれ受光
部162、163上に光スポット180、182を形成
する。Further, the hologram optical element 132 shown in FIG.
The ± first-order diffracted light from the region 138 shown in FIG.
As shown in FIG. 9, light spots 179 and 181 are formed on the light receiving portions 161 and 164, respectively. Further, the ± first-order diffracted light from the region 139 shown in FIG. 17B of the hologram optical element 132 forms light spots 180 and 182 on the light receiving portions 162 and 163, respectively, as shown in FIG.
【0099】この光検出器127におけるすべての受光
部151〜164によりそれぞれ光電変換されて得られ
た電気信号のレベルをそれぞれV151〜V164で表
わすと、フォーカス誤差信号は公知のスポットサイズ法
により、{(V155+V157+V159)−(V1
56十V158+V160)}の演算から得られ、トラ
ック誤差信号は公知のプッシュプル法により、{(V1
61+V164)−(V162+V163)}の演算か
ら得られる。また、ディスクの再生信号は、{(V15
1+V153)−(V152+V154)}の演算から
得られる。When the levels of the electric signals obtained by photoelectric conversion by all the light receiving sections 151 to 164 in the photodetector 127 are represented by V151 to V164, respectively, the focus error signal is represented by the well-known spot size method. (V155 + V157 + V159)-(V1
56 + V158 + V160)}, and the track error signal is {(V1
61 + V164)-(V162 + V163)}. Also, the reproduction signal of the disc is {(V15
1 + V153)-(V152 + V154)}.
【0100】なお、図1に示した本発明の光ヘッド装置
の実施の形態は、小型化のために半導体レーザと検出光
学系を内蔵した二個のモジュール11及び12を用いた
構成であるが、本発明はこれに限定されるものではな
く、半導体レーザと検出光学系を別々に設けた二組のブ
ロックを用いた構成も可能である。また、開口制限付ホ
ログラム光学素子25のホログラム部の対物レンズの有
効径よりも小なる直径の円形領域内の断面形状は、4レ
ベル以上の階段数の階段形状でもよい。Although the embodiment of the optical head device of the present invention shown in FIG. 1 has a configuration using two modules 11 and 12 each having a semiconductor laser and a detection optical system built therein for downsizing. However, the present invention is not limited to this, and a configuration using two sets of blocks in which a semiconductor laser and a detection optical system are separately provided is also possible. Further, the cross-sectional shape in a circular area having a diameter smaller than the effective diameter of the objective lens of the hologram portion of the hologram optical element with aperture restriction 25 may be a step shape having four or more steps.
【0101】[0101]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
第1の光源からの第1の光と第2の光源からの第2の光
とを合波して光記録媒体に導く一方、光記録媒体からの
反射光を分波する光合波・分波手段と対物レンズとの間
に開口制限付ホログラム光学素子を設け、この開口制限
付ホログラム光学素子のホログラム部の、対物レンズの
有効径よりも小径の円形領域の中心部分とその円形領域
の外側の周辺部分とで回折効率を変えるようにしたた
め、開口制限付ホログラム光学素子における第1の波長
の透過光と+1次回折光に対する実効的な開口数を変化
させることができる。As described above, according to the present invention,
Optical multiplexing / demultiplexing for multiplexing the first light from the first light source and the second light from the second light source to guide them to the optical recording medium, while demultiplexing the reflected light from the optical recording medium A hologram optical element with aperture restriction is provided between the means and the objective lens, and the central portion of a circular area having a diameter smaller than the effective diameter of the objective lens and the outside of the circular area of the hologram portion of the hologram optical element with aperture restriction are provided. Since the diffraction efficiency is changed between the peripheral portion and the peripheral portion, the effective numerical aperture of the transmitted light of the first wavelength and the + 1st order diffracted light in the hologram optical element with aperture restriction can be changed.
【0102】また、本発明においては、開口制限付ホロ
グラム光学素子の開口制限部により、第1の波長に対し
ては入射光を開口制限することなくすべて透過させ、第
2の波長に対しては入射光の光束断面の中心部分(対物
レンズの有効径より小径の円形領域)のみを透過させる
ようにしたため、開口制限付ホログラム光学素子におけ
る第2の波長の透過光に対する実効的な開口数を、第1
の波長とは独立に設定することが可能である。Further, in the present invention, the aperture limiting section of the hologram optical element with aperture limiting allows all incident light to pass through the first wavelength without aperture limiting, and allows the incident light to pass through the second wavelength. Since the central portion of the cross section of the light flux of the incident light (the circular region having a diameter smaller than the effective diameter of the objective lens) is transmitted, the effective numerical aperture for the transmitted light of the second wavelength in the hologram optical element with aperture restriction is First
It can be set independently of the wavelength of.
【0103】従って、本発明によれば、基板厚さの異な
る二種類の光記録媒体と同じ基板厚さで記録密度が異な
る二種類の光記録媒体に対して、最適な波長と対物レン
ズの実効的な開口数を選択することができ、開口制限付
ホログラム光学素子を透過した第1の波長の光を用いて
第1の記録密度で情報が記録された第1の基板厚さの光
記録媒体の記録情報を再生でき、第1の波長の+1次回
折光を用いて、第2の基板厚さの光記録媒体の記録情報
を再生でき、第2の波長の開口制限付ホログラム光学素
子の透過光を用いて、第2の記録密度で情報が記録され
た第1の基板厚さの光記録媒体の記録情報を再生するこ
とができる。Therefore, according to the present invention, the optimum wavelength and the effective of the objective lens are effective for two kinds of optical recording media having different substrate thicknesses and two kinds of optical recording media having the same substrate thickness and different recording densities. The optical recording medium having the first substrate thickness in which the information is recorded at the first recording density by using the light of the first wavelength transmitted through the hologram optical element with the aperture restriction. Recorded information of the optical recording medium of the second substrate thickness can be reproduced by using the + 1st-order diffracted light of the first wavelength, and the transmitted light of the hologram optical element with aperture restriction of the second wavelength can be reproduced. Can be used to reproduce the recorded information on the optical recording medium having the first substrate thickness on which the information is recorded at the second recording density.
【図1】本発明の光ヘッド装置の第1の実施の形態の構
成を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a first embodiment of an optical head device of the present invention.
【図2】本発明の光ヘッド装置の第1の実施の形態に用
いる開口制限付ホログラム光学素子の平面図である。FIG. 2 is a plan view of a hologram optical element with aperture restriction used in the first embodiment of the optical head device of the present invention.
【図3】図2の開口制限付ホログラム光学素子の断面図
である。3 is a sectional view of the hologram optical element with aperture restriction shown in FIG.
【図4】本発明の光ヘッド装置の第2の実施の形態に用
いる開口制限付ホログラム光学素子の平面図である。FIG. 4 is a plan view of a hologram optical element with aperture restriction used in the second embodiment of the optical head device of the present invention.
【図5】図4の開口制限付ホログラム光学素子の断面図
である。5 is a sectional view of the hologram optical element with aperture restriction shown in FIG.
【図6】図4の開口制限付ホログラム光学素子のホログ
ラム部の断面拡大図である。6 is an enlarged cross-sectional view of a hologram portion of the hologram optical element with aperture restriction shown in FIG.
【図7】本発明の光ヘッド装置の実施の形態に用いる波
長フィルタの構成を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a configuration of a wavelength filter used in the embodiment of the optical head device of the present invention.
【図8】図1の実施の形態を再生専用型のディスクに適
用した場合のモジュールの構成を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing a module configuration when the embodiment of FIG. 1 is applied to a read-only disc.
【図9】図8のモジュールにおける半導体レーザの光検
出器への実装形態を示す図である。9 is a diagram showing a mounting mode of a semiconductor laser on a photodetector in the module of FIG. 8;
【図10】図8のモジュールにおける回折格子およびホ
ログラム光学素子の干渉縞のパターンを示す図である。10 is a diagram showing a pattern of interference fringes of a diffraction grating and a hologram optical element in the module of FIG.
【図11】図8のモジュールにおける、光検出器の受光
部のパターンと受光部上の光スポットの配置の一例を示
す図である。11 is a diagram showing an example of a pattern of a light receiving part of a photodetector and an arrangement of light spots on the light receiving part in the module of FIG.
【図12】本発明の光ヘッド装置の実施の形態を追記型
のディスクまたは書換型の相変化ディスクに適用した場
合のモジュールの構成を示す図である。FIG. 12 is a diagram showing a configuration of a module when the embodiment of the optical head device of the present invention is applied to a write-once disc or a rewritable phase change disc.
【図13】図12のモジュールにおける、偏光性ホログ
ラム光学素子の一例の構造を示す図である。13 is a diagram showing a structure of an example of a polarization hologram optical element in the module of FIG.
【図14】図12のモジュールにおける、偏光性ホログ
ラム光学素子の干渉縞のパターンを示す図である。14 is a diagram showing a pattern of interference fringes of the polarization hologram optical element in the module of FIG.
【図15】図12のモジュールにおける、光検出器の受
光部のパターンと受光部上の光スポットの配置を示す図
である。FIG. 15 is a diagram showing a pattern of a light receiving part of a photodetector and an arrangement of light spots on the light receiving part in the module of FIG. 12;
【図16】本発明の光ヘッド装置の実施の形態を書換型
の光磁気ディスクに適用した場合のモジュールの構成を
示す図である。FIG. 16 is a diagram showing the configuration of a module when the embodiment of the optical head device of the present invention is applied to a rewritable magneto-optical disk.
【図17】図16のモジュールにおける、偏光性回折格
子およびホログラム光学素子の干渉縞のパターンを示す
図である。17 is a diagram showing a pattern of interference fringes of a polarization diffraction grating and a hologram optical element in the module of FIG.
【図18】図16のモジュールにおける、マイクロプリ
ズムの構成を示す図である。18 is a diagram showing a configuration of a micro prism in the module of FIG.
【図19】図16のモジュールにおける、光検出器の受
光部のパターンと受光部上の光スポットの配置を示す図
である。FIG. 19 is a diagram showing a pattern of a light receiving part of a photodetector and an arrangement of light spots on the light receiving part in the module of FIG. 16;
【図20】従来の光ヘッド装置の一例の構成を示す図で
ある。FIG. 20 is a diagram showing a configuration of an example of a conventional optical head device.
【図21】図20の装置で用いるホログラム光学素子の
平面図である。21 is a plan view of a hologram optical element used in the apparatus of FIG.
【図22】図20の装置で用いるホログラム光学素子の
断面図である。22 is a cross-sectional view of a hologram optical element used in the apparatus of FIG.
11、12 モジュール 13、47 波長フィルタ 14 コリメータレンズ 15、25 開口制限付ホログラム光学素子 16 対物レンズ 17 基板厚さ0.6mmのディスク 18 基板厚さ1.2mmのディスク 19、26、28、36 ガラス基板 20、27 ホログラム 21、30 波長フィルタ膜 22、31、98 位相補償膜 23、32 開口制限部 29、57 回折格子 33 接着剤 35 SiO2 41、42、48〜50、141〜143 ブロック 43、51、52、145、146 誘電体多層膜 44、45、147 入射光 54、90、126 半導体レーザ 55、91、127 光検出器 56、92、130 パッケージ 58、132 ホログラム光学素子 59、133 スペーサ 61 ヒートシンク 62、64、70、107、150 ミラー 63 凹部 66、101〜104、136〜139 領域 71〜80、109〜116、151〜164 受光部 81〜86、118〜125、171〜182 光スポ
ット 93 偏光性ホログラム光学素子 94 1/4波長板 96 ニオブ酸リチウム基板 97 プロトン交換領域 105、135 光学軸 128、129 マイクロプリズム 131 偏光性回折格子 148 透過光 149 反射光11, 12 Module 13, 47 Wavelength Filter 14 Collimator Lens 15, 25 Hologram Optical Element with Aperture Limit 16 Objective Lens 17 Substrate Thickness of 0.6 mm Disc 18 Substrate Thickness of 1.2 Disc 19, 26, 28, 36 Glass Substrate 20, 27 Hologram 21, 30 Wavelength filter film 22, 31, 98 Phase compensation film 23, 32 Aperture limiting part 29, 57 Diffraction grating 33 Adhesive 35 SiO 2 41, 42, 48-50, 141-143 Block 43, 51, 52, 145, 146 Dielectric multilayer film 44, 45, 147 Incident light 54, 90, 126 Semiconductor laser 55, 91, 127 Photodetector 56, 92, 130 Package 58, 132 Hologram optical element 59, 133 Spacer 61 Heat sink 62, 64, 70, 107, 15 Mirror 63 Recesses 66, 101-104, 136-139 Regions 71-80, 109-116, 151-164 Light receiving parts 81-86, 118-125, 171-282 Light spots 93 Polarizing hologram optical element 94 1/4 wavelength Plate 96 Lithium niobate substrate 97 Proton exchange region 105, 135 Optical axis 128, 129 Micro prism 131 Polarizing diffraction grating 148 Transmitted light 149 Reflected light
Claims (6)
光源と、 前記第1の波長とは異なる第2の波長の第2の光を出射
する第2の光源と、 前記第1の光源からの前記第1の光と前記第2の光源か
らの前記第2の光とを合波して、第1又は第2の基板厚
さの光記録媒体に導く一方、該光記録媒体からの反射光
を分波する光合波・分波手段と、 前記光合波・分波手段で合波された光を前記光記録媒体
に集光した後該光記録媒体上で反射させ、反射光は透過
させると共に、自身の出射光が前記第1の基板厚さの光
記録媒体の基板を透過する際に生じる球面収差を打ち消
す第1の球面収差を有する対物レンズと、 前記光合波・分波手段と前記対物レンズとの間に設けら
れた開口制限付ホログラム光学素子と、 前記光合波・分波手段により分波された前記第1の波長
の反射光を受光する第1の光検出光学系と、 前記光合波・分波手段により分波された前記第2の波長
の反射光を受光する第2の光検出光学系とを有する光ヘ
ッド装置であって、 前記開口制限付ホログラム光学素子は、少なくとも透過
光である0次光と+1次回折光を発生すると共に、前記
第1の波長の+1次回折光に対し、前記対物レンズから
の出射光が前記第2の基板厚さの光記録媒体の基板を透
過する際に生じる第2の球面収差と前記対物レンズが有
する第1の球面収差との和を打ち消す第3の球面収差を
有するホログラム部が形成されていると共に、前記第1
の波長の入射光に対してはすべて透過させ、前記第2の
波長の入射光に対しては光束断面の中心部分のみを透過
させる開口制限部が形成されており、 前記第1の光源から出射され、前記開口制限付ホログラ
ム光学素子を透過した前記第1の光を用いて、第1の記
録密度で情報が記録された前記第1の基板厚さの前記光
記録媒体の記録情報を再生し、前記第1の光源から出射
され、前記開口制限付ホログラム光学素子で回折された
前記+1次回折光を用いて、前記第2の基板厚さの前記
光記録媒体の記録情報を再生し、前記第2の光源から出
射され、前記開口制限付ホログラム光学素子を透過した
前記第2の光を用いて、第2の記録密度で情報が記録さ
れた前記第1の基板厚さの前記光記録媒体の記録情報を
再生することを特徴とする光ヘッド装置。1. A first light source for emitting a first light of a first wavelength, a second light source for emitting a second light of a second wavelength different from the first wavelength, and While the first light from the first light source and the second light from the second light source are multiplexed and guided to an optical recording medium having a first or second substrate thickness, the light An optical multiplexing / demultiplexing means for demultiplexing the reflected light from the recording medium, and the light multiplexed by the optical multiplexing / demultiplexing means is condensed on the optical recording medium and then reflected on the optical recording medium, An objective lens having a first spherical aberration that allows reflected light to pass therethrough and cancels spherical aberration that occurs when its own outgoing light passes through the substrate of the optical recording medium having the first substrate thickness; A hologram optical element with aperture restriction provided between the demultiplexing means and the objective lens, and demultiplexed by the optical multiplexing / demultiplexing means. A first photodetection optical system for receiving the reflected light of the first wavelength, and a second photodetection optical system for receiving the reflected light of the second wavelength demultiplexed by the optical multiplexing / demultiplexing means. The hologram optical element with aperture restriction generates at least 0th-order light and + 1st-order diffracted light that are transmitted light, and the objective lens for the + 1st-order diffracted light of the first wavelength. A third spherical surface that cancels the sum of the second spherical aberration generated when the light emitted from the lens passes through the substrate of the optical recording medium having the second substrate thickness and the first spherical aberration of the objective lens. A hologram portion having aberration is formed, and the first portion
An opening limiting portion is formed to transmit all incident light of the wavelength of 2 and to transmit only the central portion of the light flux cross section to the incident light of the second wavelength, and to emit from the first light source. The recorded information of the optical recording medium having the first substrate thickness on which information is recorded at the first recording density is reproduced by using the first light transmitted through the hologram optical element with aperture restriction. , The + 1st-order diffracted light emitted from the first light source and diffracted by the aperture-limited hologram optical element is used to reproduce recorded information on the optical recording medium having the second substrate thickness, and Of the optical recording medium having the first substrate thickness in which information is recorded at a second recording density by using the second light emitted from the second light source and transmitted through the hologram optical element with aperture restriction. Optical head characterized by reproducing recorded information apparatus.
記ホログラム部は、基板上に設けられた同心円状パター
ンのホログラムからなり、該ホログラムの断面形状は前
記対物レンズの有効径よりも小なる直径の円形領域の外
側では矩形状で、該円形領域内では矩形とは異なる形状
であることを特徴とする請求項1記載の光ヘッド装置。2. The hologram portion of the hologram optical element with aperture restriction is composed of a hologram having a concentric circular pattern provided on a substrate, and the hologram has a cross-sectional shape with a diameter smaller than the effective diameter of the objective lens. 2. The optical head device according to claim 1, wherein the optical head device has a rectangular shape outside the circular area and a shape different from the rectangular shape inside the circular area.
記ホログラム部を構成するホログラムの断面形状は前記
円形領域内では鋸歯形状若しくは階段形状であることを
特徴とする請求項2記載の光ヘッド装置。3. The optical head device according to claim 2, wherein the hologram forming the hologram portion of the aperture-limited hologram optical element has a sawtooth shape or a step shape in the circular region.
記開口制限部は、前記対物レンズの有効径よりも小なる
直径の円形領域の外側で、かつ、基板上の前記ホログラ
ム部が形成された面と反対側の面に設けられた波長フィ
ルタ膜と、該波長フィルタ膜上に設けられた位相補償膜
とからなり、前記円形領域の外側では前記第1の波長の
第1の光はほぼ完全に透過させ、前記第2の波長の第2
の光はほぼ完全に反射させ、前記円形領域内に入射した
光は前記第1及び第2の光共に完全に透過させる構成で
あることを特徴とする請求項1記載の光ヘッド装置。4. The aperture limiting portion of the hologram optical element with aperture limiting is outside a circular area having a diameter smaller than the effective diameter of the objective lens and on the surface of the substrate on which the hologram portion is formed. And a phase compensation film provided on the wavelength filter film, and the first light of the first wavelength is almost completely outside the circular region. The second wavelength of the second wavelength
2. The optical head device according to claim 1, wherein the light is reflected almost completely, and the light incident on the circular area is completely transmitted by both the first and second lights.
記開口制限部は、第1の基板の表面の前記対物レンズの
有効径よりも小なる直径の円形領域の外側に回折格子及
び波長フィルタ膜が設けられ、該第1の基板の裏面の該
円形領域の外側に位相補償膜が設けられ、表面に前記ホ
ログラム部が形成された第2の基板の裏面と該第1の基
板の表面を接着剤で張り合せた構成であり、前記円形領
域の外側では前記第1の波長の第1の光はほぼ完全に透
過させ、前記第2の波長の第2の光はほぼ完全に反射回
折させ、前記円形領域内に入射した光は前記第1及び第
2の光共に完全に透過させる構成であることを特徴とす
る請求項1記載の光ヘッド装置。5. A diffraction grating and a wavelength filter film are provided outside the circular region having a diameter smaller than the effective diameter of the objective lens on the surface of the first substrate in the aperture restriction portion of the hologram optical element with aperture restriction. A phase compensation film is provided outside the circular region on the back surface of the first substrate, and the back surface of the second substrate having the hologram portion formed on the front surface and the front surface of the first substrate are bonded with an adhesive. Outside of the circular region, the first light of the first wavelength is almost completely transmitted, and the second light of the second wavelength is almost completely reflected and diffracted. 2. The optical head device according to claim 1, wherein the light incident on the circular area is configured to completely transmit both the first light and the second light.
記ホログラム部は、基板上に同心円状に設けられたホロ
グラムからなり、該ホログラムの断面形状は前記対物レ
ンズの有効径よりも小なる直径の円形領域の外側では矩
形状で、該円形領域内では矩形とは異なる形状であり、
前記開口制限付ホログラム光学素子の前記開口制限部の
前記円形領域の直径は、該ホログラム部の円形領域の直
径よりも小であることを特徴とする請求項4又は5記載
の光ヘッド装置。6. The hologram section of the hologram optical element with aperture restriction is composed of a hologram provided concentrically on a substrate, and the hologram has a circular cross section whose diameter is smaller than the effective diameter of the objective lens. A rectangular shape outside the area, and a shape different from the rectangular shape within the circular area,
6. The optical head device according to claim 4, wherein the diameter of the circular area of the aperture limiting portion of the hologram optical element with aperture limitation is smaller than the diameter of the circular area of the hologram portion.
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