JPH09248756A - 研磨布 - Google Patents
研磨布Info
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- JPH09248756A JPH09248756A JP8054596A JP8054596A JPH09248756A JP H09248756 A JPH09248756 A JP H09248756A JP 8054596 A JP8054596 A JP 8054596A JP 8054596 A JP8054596 A JP 8054596A JP H09248756 A JPH09248756 A JP H09248756A
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- Japan
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- resin
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- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体ウエハーの精密研磨に、使用される研
磨布の、品質改良、均一性の向上を目的とする。 【解決手段】 立毛構造を有する基材の、立毛層の上に
スエード状発泡ウレタン樹脂層を形成した研磨布。立毛
構造を有する基材を微多孔構造の樹脂で充填し、立毛層
の上にスエード状発泡ウレタン樹脂層を形成した研磨
布。
磨布の、品質改良、均一性の向上を目的とする。 【解決手段】 立毛構造を有する基材の、立毛層の上に
スエード状発泡ウレタン樹脂層を形成した研磨布。立毛
構造を有する基材を微多孔構造の樹脂で充填し、立毛層
の上にスエード状発泡ウレタン樹脂層を形成した研磨
布。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハー等
の精密研磨に使用される、研磨布の改良に関るものであ
る。
の精密研磨に使用される、研磨布の改良に関るものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、シリコンウエハー等の半導体ウエ
ハーの精密研磨は、砥粒を含有する研磨液を、研磨面に
供給しながら研磨布により研磨する方法が用いられてい
る。この場合不織布の片面に、スエード状の発泡ウレタ
ン樹脂層を、形成した研磨布が使用されている。
ハーの精密研磨は、砥粒を含有する研磨液を、研磨面に
供給しながら研磨布により研磨する方法が用いられてい
る。この場合不織布の片面に、スエード状の発泡ウレタ
ン樹脂層を、形成した研磨布が使用されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記の様に不織布を基
材とし、その片面にスエード状発泡ウレタン樹脂層を形
成した研磨布では、不織布の厚さ、密度、硬度、圧縮
率、圧縮弾性率のバラツキが大きく、これらの品質のバ
ラツキが研磨布の品質に直接影響し、研磨性能のバラツ
キとなる欠点をもっていた。又、不織布の厚さ、密度の
バラツキがスエード状発泡ポリウレタン樹脂層を形成す
る場合、加工精度に影響し、発泡ウレタン樹脂層のバラ
ツキの原因になっていた。本発明は研磨性能にバラツキ
のない均一な品質の研磨布を提供するものである。
材とし、その片面にスエード状発泡ウレタン樹脂層を形
成した研磨布では、不織布の厚さ、密度、硬度、圧縮
率、圧縮弾性率のバラツキが大きく、これらの品質のバ
ラツキが研磨布の品質に直接影響し、研磨性能のバラツ
キとなる欠点をもっていた。又、不織布の厚さ、密度の
バラツキがスエード状発泡ポリウレタン樹脂層を形成す
る場合、加工精度に影響し、発泡ウレタン樹脂層のバラ
ツキの原因になっていた。本発明は研磨性能にバラツキ
のない均一な品質の研磨布を提供するものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本第一発明はカットパイル織物、及び織物、紙、
フィルム等の片面に接着剤を介して静電植毛技法等で、
短繊維を植毛し立毛層を形成した植毛基材の立毛層面に
スエード状発泡ポリウレタン樹脂層を形成した。
めに、本第一発明はカットパイル織物、及び織物、紙、
フィルム等の片面に接着剤を介して静電植毛技法等で、
短繊維を植毛し立毛層を形成した植毛基材の立毛層面に
スエード状発泡ポリウレタン樹脂層を形成した。
【０００５】更に本第二発明は、微多孔構造の樹脂を、
含浸等の加工方法で、立毛層の基材に充填した。
含浸等の加工方法で、立毛層の基材に充填した。
【０００６】
【発明の実施の形態】本第一発明はカットパイル又は静
電植毛技法で植毛された立毛層と、織布、紙、フィルム
等で構成された基材であるため、従来の不織布に構造が
非常に均一であり、厚さ、密度、硬度等のバラツキが少
なく、且つ短繊維が垂直方向に均一に構成されているた
め、均一でバラツキのない圧縮率、圧縮弾性率が得られ
る。更にスエード状発泡ウレタン樹脂層を形成加工に於
て、立毛層が均一な構造をもっているため、安定した均
一なスエード状発泡ウレタン樹脂層を作ることが容易と
なり、基材の品質の均一化と、均一なスエード状発泡構
造により、バラツキのない、安定した研磨性能のある研
磨布が得られる。
電植毛技法で植毛された立毛層と、織布、紙、フィルム
等で構成された基材であるため、従来の不織布に構造が
非常に均一であり、厚さ、密度、硬度等のバラツキが少
なく、且つ短繊維が垂直方向に均一に構成されているた
め、均一でバラツキのない圧縮率、圧縮弾性率が得られ
る。更にスエード状発泡ウレタン樹脂層を形成加工に於
て、立毛層が均一な構造をもっているため、安定した均
一なスエード状発泡ウレタン樹脂層を作ることが容易と
なり、基材の品質の均一化と、均一なスエード状発泡構
造により、バラツキのない、安定した研磨性能のある研
磨布が得られる。
【０００７】さらに本第二発明は、立毛層を有する基材
を、微多孔構造の樹脂で充填することにより、立毛層の
構造を緻密に、より均一にすることが出来るため、硬
度、圧縮率、圧縮弾性率の均一性を向上させることが出
来、研磨性能の均一性、安定性をより良くする効果があ
る。又硬度、圧縮率、圧縮弾性率等、研磨性能に影響す
る品質を、充填する樹脂の性能、発泡倍率、充填量等で
調整することが出来るため研磨されるワークに最適な研
磨布を提供することが出来る。
を、微多孔構造の樹脂で充填することにより、立毛層の
構造を緻密に、より均一にすることが出来るため、硬
度、圧縮率、圧縮弾性率の均一性を向上させることが出
来、研磨性能の均一性、安定性をより良くする効果があ
る。又硬度、圧縮率、圧縮弾性率等、研磨性能に影響す
る品質を、充填する樹脂の性能、発泡倍率、充填量等で
調整することが出来るため研磨されるワークに最適な研
磨布を提供することが出来る。
【０００８】
［実施例１］太さ５０デニールのポリエステルフィラメ
ン織物（１）に静電植毛技法で太さ１．５デニール、長
さ０．４ｍｍのポリエステル短繊維（２）を熱硬化樹脂
７％を混入したアクリル樹脂接着剤（４）を介して、植
毛した基材の植毛面に、ポリウレタン樹脂１５％をジメ
チルホルムアミド（以下ＤＭＦという）８４％、着色剤
１％に溶解した塗料を、ナイフオーバーロール法で塗布
し、直ちに水中に浸漬、塗布したウレタン樹脂を凝固
し、タテ型発泡構造のウレタン樹脂層を形成した。水洗
により完全にＤＭＦを除去、乾燥した后ウレタン層の表
皮をバフ加工にて研削し、スエード状研磨布を得た。こ
の研磨布の品質を測定した結果、厚さ、硬度、圧縮率、
圧縮弾性率のバラツキが従来の研磨布に比べて非常に小
さく、スエード状ウレタン樹脂層のスポンジ構造も非常
に均一であった。
ン織物（１）に静電植毛技法で太さ１．５デニール、長
さ０．４ｍｍのポリエステル短繊維（２）を熱硬化樹脂
７％を混入したアクリル樹脂接着剤（４）を介して、植
毛した基材の植毛面に、ポリウレタン樹脂１５％をジメ
チルホルムアミド（以下ＤＭＦという）８４％、着色剤
１％に溶解した塗料を、ナイフオーバーロール法で塗布
し、直ちに水中に浸漬、塗布したウレタン樹脂を凝固
し、タテ型発泡構造のウレタン樹脂層を形成した。水洗
により完全にＤＭＦを除去、乾燥した后ウレタン層の表
皮をバフ加工にて研削し、スエード状研磨布を得た。こ
の研磨布の品質を測定した結果、厚さ、硬度、圧縮率、
圧縮弾性率のバラツキが従来の研磨布に比べて非常に小
さく、スエード状ウレタン樹脂層のスポンジ構造も非常
に均一であった。
【０００９】［実施例２］ポリエステル繊維を湿式抄紙
した紙（６）に、太さ１．０デニール、長さ０．４ｍｍ
に裁断したポリエステル繊維（２）を植毛した基材を、
ポリウレタン樹脂１０％、ＤＭＦ８９％、顔料１％に調
整した樹脂液に含浸し、直ちに水中に浸漬、凝固、水
洗、乾燥し、微多孔構造のウレタン樹脂（５）を形成し
た。ポリウレタン樹脂１５％、ＤＭＦ８３％、顔料１
％、気孔調整剤他１％に調整した塗料を、植毛面にナイ
フオーバーロール法にて塗布し、直ちに水中に浸漬、ウ
レタン樹脂を凝固し、タテ型発泡構造の樹脂層（３）を
形成した。水洗、乾燥后バフ加工を行いスエード状とし
た。この研磨布の品質を測定した結果、厚さ、硬度、圧
縮率、圧縮弾性率のバラツキが全くなく且つスエード状
ポリウレタン樹脂層の構造が非常に均一でスポンジ構
造、開口径のバラツキがない研磨布が得られた。
した紙（６）に、太さ１．０デニール、長さ０．４ｍｍ
に裁断したポリエステル繊維（２）を植毛した基材を、
ポリウレタン樹脂１０％、ＤＭＦ８９％、顔料１％に調
整した樹脂液に含浸し、直ちに水中に浸漬、凝固、水
洗、乾燥し、微多孔構造のウレタン樹脂（５）を形成し
た。ポリウレタン樹脂１５％、ＤＭＦ８３％、顔料１
％、気孔調整剤他１％に調整した塗料を、植毛面にナイ
フオーバーロール法にて塗布し、直ちに水中に浸漬、ウ
レタン樹脂を凝固し、タテ型発泡構造の樹脂層（３）を
形成した。水洗、乾燥后バフ加工を行いスエード状とし
た。この研磨布の品質を測定した結果、厚さ、硬度、圧
縮率、圧縮弾性率のバラツキが全くなく且つスエード状
ポリウレタン樹脂層の構造が非常に均一でスポンジ構
造、開口径のバラツキがない研磨布が得られた。
【００１０】［実施例３］タテ糸７５ｄ／３６ｆ、ヨコ
糸７５ｄ／３６ｆ、織密度タテ７０本／インチ、ヨコ４
６本／インチ、パイル長０．６ｍｍのポリエステル１０
０％カットパイル織物（７）に、ポリウレタン樹脂１２
％、ＤＭＦ８７％、顔料１％に調整した樹脂液に含浸
し、実施例２と同じ工程に加工した研磨布の品質を測定
した結果、品質のバラツキが非常に少ない研磨布が得ら
れた。
糸７５ｄ／３６ｆ、織密度タテ７０本／インチ、ヨコ４
６本／インチ、パイル長０．６ｍｍのポリエステル１０
０％カットパイル織物（７）に、ポリウレタン樹脂１２
％、ＤＭＦ８７％、顔料１％に調整した樹脂液に含浸
し、実施例２と同じ工程に加工した研磨布の品質を測定
した結果、品質のバラツキが非常に少ない研磨布が得ら
れた。
【００１１】
【発明の効果】本第一発明による研磨布は、厚さ、硬
度、圧縮率、圧縮弾性率のバラツキが少なく、研磨性能
が均一で、安定した研磨効果を発揮する。
度、圧縮率、圧縮弾性率のバラツキが少なく、研磨性能
が均一で、安定した研磨効果を発揮する。
【００１２】本第二発明により本第一発明による研磨性
能の均一性をより向上させることが出来る。さらに硬
度、圧縮率、圧縮弾性率を調整することが容易に出来
る。
能の均一性をより向上させることが出来る。さらに硬
度、圧縮率、圧縮弾性率を調整することが容易に出来
る。
【図１】本発明実施例１による研磨布の断面図である。
【図２】本発明実施例２による研磨布の断面図である。
【図３】本発明実施例３による研磨布の断面図。
１ 織物 ２ 立毛繊維 ３ スエード状発泡ポリウレタン樹脂層 ４ 接着剤 ５ 微多孔構造の樹脂 ６ ポリエステル紙 ７ カットパイル織物
Claims (2)
- 【請求項１】 立毛構造を有する基材の、立毛層の上
に、スエード状発泡ポリウレタン樹脂層を形成する事を
特徴とする研磨布。 - 【請求項２】 立毛構造を有する基材を、微多孔構造の
樹脂で、充填した請求項１の研磨布。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8054596A JPH09248756A (ja) | 1996-03-08 | 1996-03-08 | 研磨布 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8054596A JPH09248756A (ja) | 1996-03-08 | 1996-03-08 | 研磨布 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09248756A true JPH09248756A (ja) | 1997-09-22 |
Family
ID=13721324
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8054596A Pending JPH09248756A (ja) | 1996-03-08 | 1996-03-08 | 研磨布 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09248756A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002516764A (ja) * | 1998-06-02 | 2002-06-11 | スキャパ・グループ・パブリック・リミテッド・カンパニー | 水分吸収を減少した改良みがきパッド |
| JP2004524683A (ja) * | 2001-02-07 | 2004-08-12 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 半導体ウエハを改質するために好適な研磨物品 |
| JP2006239786A (ja) * | 2005-03-01 | 2006-09-14 | Fujibo Holdings Inc | 保持パッド |
| KR100695740B1 (ko) * | 2000-09-29 | 2007-03-15 | 주식회사 코오롱 | 촉감 및 마모강도가 우수한 직편물 스웨이드 및 그의제조방법 |
| CN104786137A (zh) * | 2014-01-17 | 2015-07-22 | 三芳化学工业股份有限公司 | 研磨垫、研磨装置及制造研磨垫的方法 |
| CN105437056A (zh) * | 2014-09-19 | 2016-03-30 | 三芳化学工业股份有限公司 | 研磨垫、研磨装置及制造研磨垫的方法 |
| CN115008852A (zh) * | 2022-05-20 | 2022-09-06 | 安徽禾臣新材料有限公司 | 一种用于晶体抛光的多孔阻尼布及其制备工艺 |
| CN115194666A (zh) * | 2022-07-12 | 2022-10-18 | 陈猛 | 适用于多种材料表面打磨抛光的静电植绒材料及制造方法 |
-
1996
- 1996-03-08 JP JP8054596A patent/JPH09248756A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002516764A (ja) * | 1998-06-02 | 2002-06-11 | スキャパ・グループ・パブリック・リミテッド・カンパニー | 水分吸収を減少した改良みがきパッド |
| KR100695740B1 (ko) * | 2000-09-29 | 2007-03-15 | 주식회사 코오롱 | 촉감 및 마모강도가 우수한 직편물 스웨이드 및 그의제조방법 |
| JP2004524683A (ja) * | 2001-02-07 | 2004-08-12 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 半導体ウエハを改質するために好適な研磨物品 |
| JP2006239786A (ja) * | 2005-03-01 | 2006-09-14 | Fujibo Holdings Inc | 保持パッド |
| JP4540502B2 (ja) * | 2005-03-01 | 2010-09-08 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 保持パッド |
| CN104786137A (zh) * | 2014-01-17 | 2015-07-22 | 三芳化学工业股份有限公司 | 研磨垫、研磨装置及制造研磨垫的方法 |
| CN105437056A (zh) * | 2014-09-19 | 2016-03-30 | 三芳化学工业股份有限公司 | 研磨垫、研磨装置及制造研磨垫的方法 |
| CN115008852A (zh) * | 2022-05-20 | 2022-09-06 | 安徽禾臣新材料有限公司 | 一种用于晶体抛光的多孔阻尼布及其制备工艺 |
| CN115008852B (zh) * | 2022-05-20 | 2023-09-12 | 安徽禾臣新材料有限公司 | 一种用于晶体抛光的多孔阻尼布及其制备工艺 |
| CN115194666A (zh) * | 2022-07-12 | 2022-10-18 | 陈猛 | 适用于多种材料表面打磨抛光的静电植绒材料及制造方法 |
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