JPH10249709A - 研磨布 - Google Patents
研磨布Info
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- JPH10249709A JPH10249709A JP8234297A JP8234297A JPH10249709A JP H10249709 A JPH10249709 A JP H10249709A JP 8234297 A JP8234297 A JP 8234297A JP 8234297 A JP8234297 A JP 8234297A JP H10249709 A JPH10249709 A JP H10249709A
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- Japan
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- resin film
- polishing
- polishing cloth
- hardness
- urethane resin
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体基板、ハードディスク用基板の精密研
磨に使用される研磨布の品質改良を目的とする。 【解決手段】 たて型発泡構造を有するウレタン樹脂膜
（１）に、硬さがショアー硬度で３度以上１５度以下の
範囲で前記ウレタン樹脂膜（１）の硬度と硬さが異なる
樹脂膜（３）を、接着剤（２）を介して結合した研磨
布。
磨に使用される研磨布の品質改良を目的とする。 【解決手段】 たて型発泡構造を有するウレタン樹脂膜
（１）に、硬さがショアー硬度で３度以上１５度以下の
範囲で前記ウレタン樹脂膜（１）の硬度と硬さが異なる
樹脂膜（３）を、接着剤（２）を介して結合した研磨
布。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はシリコン等半導体基
板、ハードディスク用基板の精密研磨に使用される研磨
布の改良に関するものである。
板、ハードディスク用基板の精密研磨に使用される研磨
布の改良に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、金属シリコン、ガリウム砒素等の
半導体基板、アルミニウム／ニッケルガラス等のハード
ディスク基板の精密研磨に使用されている研磨布は、不
織布の片面にタテ型発泡構造のウレタン樹脂膜を形成し
た研磨布が使用されている。
半導体基板、アルミニウム／ニッケルガラス等のハード
ディスク基板の精密研磨に使用されている研磨布は、不
織布の片面にタテ型発泡構造のウレタン樹脂膜を形成し
た研磨布が使用されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記の様に不織布を基
材とし、その片面にタテ型発泡構造のポリウレタン樹脂
層を形成した研磨布では、不織布の厚さ、密度、硬度、
圧縮率、圧縮弾性率にバラツキが大きく、これらの品質
のバラツキが研磨布の品質に直接影響し、研磨性能のバ
ラツキとなる欠点をもっている。
材とし、その片面にタテ型発泡構造のポリウレタン樹脂
層を形成した研磨布では、不織布の厚さ、密度、硬度、
圧縮率、圧縮弾性率にバラツキが大きく、これらの品質
のバラツキが研磨布の品質に直接影響し、研磨性能のバ
ラツキとなる欠点をもっている。
【０００４】又不織布の厚み、密度のバラツキが、タテ
型発泡構造のウレタン樹脂膜を形成するとき、加工精度
に影響しタテ型発泡ウレタン樹脂膜の厚さ、構造が変動
する要因となっていた。
型発泡構造のウレタン樹脂膜を形成するとき、加工精度
に影響しタテ型発泡ウレタン樹脂膜の厚さ、構造が変動
する要因となっていた。
【０００５】更に不織布は繊維の集合体であるため裁断
面等からの粉塵の発生が多く、粉塵による研磨傷等のト
ラブル発生の要因となっていた。
面等からの粉塵の発生が多く、粉塵による研磨傷等のト
ラブル発生の要因となっていた。
【０００６】本発明は研磨性能にバラツキのない均一な
品質と粉塵の発生がない研磨布を提供するものである。
品質と粉塵の発生がない研磨布を提供するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに本発明はタテ型発泡構造のウレタン樹脂膜（１）に
このタテ型発泡構造のウレタン樹脂膜（１）の硬度より
もショアー硬度で３度以上１５度以下の範囲で硬度に差
異のある樹脂膜（３）を接着剤（２）で接着結合した。
めに本発明はタテ型発泡構造のウレタン樹脂膜（１）に
このタテ型発泡構造のウレタン樹脂膜（１）の硬度より
もショアー硬度で３度以上１５度以下の範囲で硬度に差
異のある樹脂膜（３）を接着剤（２）で接着結合した。
【０００８】本第２発明の研磨布は樹脂膜（３）をスポ
ンジ構造の多孔性樹脂膜（３Ａ）とした。（図２）
ンジ構造の多孔性樹脂膜（３Ａ）とした。（図２）
【０００９】本第３発明は圧縮弾性率が３０％以上９５
％以下の弾性を有する樹脂膜（３）とした。
％以下の弾性を有する樹脂膜（３）とした。
【００１０】
【発明の実施の形態】研磨スラリーの保持機能をもつタ
テ型発泡構造のウレタン樹脂膜（１）はフィルム、フィ
ラメント織物等平坦なシート状基材の片面にウレタン樹
脂液を均一に塗布し湿式凝固法で凝固后、脱溶媒、乾燥
后バフ加工にて製造されるもので、厚さ、発泡構造が非
常に均一で、従って硬度、圧縮率、圧縮弾性率及び開口
径等の物理的な品質にバラツキのない均質なタテ型発泡
構造のウレタン樹脂膜が得られる。
テ型発泡構造のウレタン樹脂膜（１）はフィルム、フィ
ラメント織物等平坦なシート状基材の片面にウレタン樹
脂液を均一に塗布し湿式凝固法で凝固后、脱溶媒、乾燥
后バフ加工にて製造されるもので、厚さ、発泡構造が非
常に均一で、従って硬度、圧縮率、圧縮弾性率及び開口
径等の物理的な品質にバラツキのない均質なタテ型発泡
構造のウレタン樹脂膜が得られる。
【００１１】樹脂膜（３）はアクリル樹脂、ウレタン樹
脂、合成ゴム、天然ゴム等の天然又は合成樹脂で形成さ
れた樹脂膜であるため、非常に均質で、厚さ、硬度、圧
縮率、圧縮弾性率等の物性値のバラツキが非常に低い。
脂、合成ゴム、天然ゴム等の天然又は合成樹脂で形成さ
れた樹脂膜であるため、非常に均質で、厚さ、硬度、圧
縮率、圧縮弾性率等の物性値のバラツキが非常に低い。
【００１２】上記の非常に均質なタテ型発泡構造のウレ
タン樹脂膜（１）、繊維等を混入しない均質な樹脂膜
（３）をアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂等
を主成分とする接着剤（２）で強固に接着することによ
り、厚さ、密度、圧縮率、圧縮弾性率、開口径等、研磨
性能に関与する物性値のバラツキの非常に少ない安定し
た品質の研磨布を提供することが出来る。
タン樹脂膜（１）、繊維等を混入しない均質な樹脂膜
（３）をアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂等
を主成分とする接着剤（２）で強固に接着することによ
り、厚さ、密度、圧縮率、圧縮弾性率、開口径等、研磨
性能に関与する物性値のバラツキの非常に少ない安定し
た品質の研磨布を提供することが出来る。
【００１３】たて型発泡構造のウレタン樹脂膜（１）の
硬度よりもショアー硬度で３度以上１５度以下の硬さに
差異のある樹脂膜（３）で構成されているため、多様な
研磨条件に最適な研磨布を設計することが出来る。
硬度よりもショアー硬度で３度以上１５度以下の硬さに
差異のある樹脂膜（３）で構成されているため、多様な
研磨条件に最適な研磨布を設計することが出来る。
【００１４】本第２発明のスポンジ構造の樹脂膜（３
Ａ）はポリウレタン樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリプロ
ピレン樹脂、合成ゴム、天然ゴムを乾式発泡法又は湿式
凝固法により独立発泡又は連続発泡のスポンジ構造樹脂
膜が得られる。（図２）
Ａ）はポリウレタン樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリプロ
ピレン樹脂、合成ゴム、天然ゴムを乾式発泡法又は湿式
凝固法により独立発泡又は連続発泡のスポンジ構造樹脂
膜が得られる。（図２）
【００１５】本第３発明の圧縮弾性率が３０％以上９５
％以下の樹脂膜は樹脂の種類と架橋度、加硫度を選択す
ることにより調整することが出来る。
％以下の樹脂膜は樹脂の種類と架橋度、加硫度を選択す
ることにより調整することが出来る。
【００１６】
［実施例１］厚さ７５ミクロンのポリエステルフィルム
の片面に、予めエーテル型ウレタン樹脂１５％、Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド（以下ＤＭＦという）８３．９
５％、顔料１％、活性剤０．０５％に調液した樹脂液
を、ナイフオーバーロール法で塗布し、直ちに水中に浸
漬、完全に凝固、水洗、脱ＤＭＦ、乾燥した后、ベルト
サンダーにてウレタン樹脂膜の表皮層を研削し、つづい
てポリエステルフィルムより剥離し、ショアー硬度６１
度のタテ型発泡構造のウレタン樹脂膜（１）を得た。
の片面に、予めエーテル型ウレタン樹脂１５％、Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド（以下ＤＭＦという）８３．９
５％、顔料１％、活性剤０．０５％に調液した樹脂液
を、ナイフオーバーロール法で塗布し、直ちに水中に浸
漬、完全に凝固、水洗、脱ＤＭＦ、乾燥した后、ベルト
サンダーにてウレタン樹脂膜の表皮層を研削し、つづい
てポリエステルフィルムより剥離し、ショアー硬度６１
度のタテ型発泡構造のウレタン樹脂膜（１）を得た。
【００１７】一方、エチレン酢ビコポリマー（以下エバ
ーという）を押出し機にてシート状に押出し成型し、厚
さ０．９ｍｍ、ショアー硬度７０度の均一なシート
（３）をえた。このエバーシート（３）の片面にクロロ
プレンゴム接着剤（２）をナイフオーバーロール法でコ
ートし乾燥した后、上記タテ型発泡構造のウレタン樹脂
膜（１）を圧着接合し研磨布を得た。この研磨布の品質
を測定した結果、厚さ、硬度、圧縮率、圧縮弾性率のバ
ラツキが不織布を基材とした研磨布に比べ非常に少な
く、ウレタン樹脂膜のタテ型発泡構造が均一で開口径の
バラツキが認められなかった。更に裁断面からの発塵が
全くなく、粉塵による研磨傷の発生は全く認められなか
った。
ーという）を押出し機にてシート状に押出し成型し、厚
さ０．９ｍｍ、ショアー硬度７０度の均一なシート
（３）をえた。このエバーシート（３）の片面にクロロ
プレンゴム接着剤（２）をナイフオーバーロール法でコ
ートし乾燥した后、上記タテ型発泡構造のウレタン樹脂
膜（１）を圧着接合し研磨布を得た。この研磨布の品質
を測定した結果、厚さ、硬度、圧縮率、圧縮弾性率のバ
ラツキが不織布を基材とした研磨布に比べ非常に少な
く、ウレタン樹脂膜のタテ型発泡構造が均一で開口径の
バラツキが認められなかった。更に裁断面からの発塵が
全くなく、粉塵による研磨傷の発生は全く認められなか
った。
【００１８】［実施例２］ポリエーテルトリオールとト
リレンジイソシアネートを反応させて作成したポリウレ
タン発泡体をスライス加工し、厚さ０．９５ｍｍ、硬度
５０度、圧縮率１２％、圧縮弾性率８５％のスポンジ構
造の樹脂膜（３Ａ）を得た。実施例１で作製したタテ型
発泡構造のウレタン樹脂膜（１）の膜面に硬化型ウレタ
ン接着剤溶液をスプレーコーターで塗布、乾燥した后、
上記スポンジ構造の樹脂膜（３）を貼合せ、４０℃、４
８時間硬化させて接着し、研磨布を得た。この研磨布を
使用し、シリコンウエハーを低圧にて研磨した結果、従
来の不織布基材の研磨布では得られなかった平坦性の非
常にすぐれた研磨結果を得ることが出来た。
リレンジイソシアネートを反応させて作成したポリウレ
タン発泡体をスライス加工し、厚さ０．９５ｍｍ、硬度
５０度、圧縮率１２％、圧縮弾性率８５％のスポンジ構
造の樹脂膜（３Ａ）を得た。実施例１で作製したタテ型
発泡構造のウレタン樹脂膜（１）の膜面に硬化型ウレタ
ン接着剤溶液をスプレーコーターで塗布、乾燥した后、
上記スポンジ構造の樹脂膜（３）を貼合せ、４０℃、４
８時間硬化させて接着し、研磨布を得た。この研磨布を
使用し、シリコンウエハーを低圧にて研磨した結果、従
来の不織布基材の研磨布では得られなかった平坦性の非
常にすぐれた研磨結果を得ることが出来た。
【００１９】［実施例３］繊度５０デニール、織密度、
経１１２本／インチ、緯９８本／インチのポリエステル
長繊維織物を精錬加工、弗素処理、熱セット処理した基
材の片面に、予めウレタン樹脂１６％、ＤＭＦ８３％、
顔料０．９９５％、活性剤０．００５％に調液した樹脂
液を、ナイフオーバーロール法にて塗布し、直ちに水中
に浸漬、凝固、水洗、乾燥し、形成したウレタン樹脂膜
の表皮をベルトサンダーにて研削した后、基材より剥離
し、ショアー硬度６８度のタテ型発泡構造のウレタン樹
脂膜（１）を得た。
経１１２本／インチ、緯９８本／インチのポリエステル
長繊維織物を精錬加工、弗素処理、熱セット処理した基
材の片面に、予めウレタン樹脂１６％、ＤＭＦ８３％、
顔料０．９９５％、活性剤０．００５％に調液した樹脂
液を、ナイフオーバーロール法にて塗布し、直ちに水中
に浸漬、凝固、水洗、乾燥し、形成したウレタン樹脂膜
の表皮をベルトサンダーにて研削した后、基材より剥離
し、ショアー硬度６８度のタテ型発泡構造のウレタン樹
脂膜（１）を得た。
【００２０】放射線架橋にて製造したポリプロピレン発
泡体を厚さ０．６ｍｍにスライス加工し、ショアー硬度
６０度、圧縮率６％、圧縮弾性率５５％のスポンジ構造
の樹脂膜（３Ａ）を得た。このスポンジ構造の樹脂膜
（３Ａ）の片面にクロロプレン系接着剤（２）をナイフ
オーバーロールにて塗布し乾燥した后、上記タテ型発泡
構造のウレタン樹脂膜を貼合せ、研磨布を得た。この研
磨布を使用し、ハードディスク用基板であるアルミニウ
ム／ニッケル基板を研磨した結果、研磨傷のない、平坦
性の優れた研磨結果が得られた。
泡体を厚さ０．６ｍｍにスライス加工し、ショアー硬度
６０度、圧縮率６％、圧縮弾性率５５％のスポンジ構造
の樹脂膜（３Ａ）を得た。このスポンジ構造の樹脂膜
（３Ａ）の片面にクロロプレン系接着剤（２）をナイフ
オーバーロールにて塗布し乾燥した后、上記タテ型発泡
構造のウレタン樹脂膜を貼合せ、研磨布を得た。この研
磨布を使用し、ハードディスク用基板であるアルミニウ
ム／ニッケル基板を研磨した結果、研磨傷のない、平坦
性の優れた研磨結果が得られた。
【００２１】
【発明の効果】本発明による研磨布は厚さ、密度、硬
度、圧縮率、圧縮弾性率等の物性値のバラツキが非常に
小さく、たて型発泡構造が均質であるため、均一で安定
した研磨効果を発揮する。基材である樹脂膜（３）と研
磨スラリーを保持するタテ型発泡構造のウレタン樹脂膜
（１）とで硬さがショアー硬度３度以上１５度以下の差
異をもっているため広い範囲の研磨条件に対応できる。
更に発塵性が非常に低いため、研磨傷の発生を防止する
ことが出来る。
度、圧縮率、圧縮弾性率等の物性値のバラツキが非常に
小さく、たて型発泡構造が均質であるため、均一で安定
した研磨効果を発揮する。基材である樹脂膜（３）と研
磨スラリーを保持するタテ型発泡構造のウレタン樹脂膜
（１）とで硬さがショアー硬度３度以上１５度以下の差
異をもっているため広い範囲の研磨条件に対応できる。
更に発塵性が非常に低いため、研磨傷の発生を防止する
ことが出来る。
【００２２】本第２発明による研磨布は密度、硬度、圧
縮率、圧縮弾性率等の物性値を広い範囲にかえることが
出来るため、広い範囲の研磨条件に対応出来る。
縮率、圧縮弾性率等の物性値を広い範囲にかえることが
出来るため、広い範囲の研磨条件に対応出来る。
【００２３】本第３発明による研磨布は研磨材の歪み等
による研磨面の歪みを防止し、安定した研磨効果を発揮
する。
による研磨面の歪みを防止し、安定した研磨効果を発揮
する。
【図１】本発明の実施例による研磨布の断面図である。
【図２】本発明の実施例２による研磨布の断面図であ
る。
る。
１ タテ型発泡構造のウレタン樹脂膜 ２ 接着剤 ３，３Ａ 樹脂膜
Claims (3)
- 【請求項１】 たて型発泡構造を有するウレタン樹脂膜
（１）に、ショアー硬度で３度以上１５度以下の範囲で
前記ウレタン樹脂膜（１）の硬度と硬さが異なる樹脂膜
（３）を、接着剤（２）を介して結合した研磨布。 - 【請求項２】 樹脂膜（３）がスポンジ構造の多孔性樹
脂膜（３Ａ）である請求項１記載の研磨布。 - 【請求項３】 圧縮弾性率が３０％以上９５％以下の弾
性を有する樹脂膜（３）である請求項１記載の研磨布。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8234297A JPH10249709A (ja) | 1997-03-14 | 1997-03-14 | 研磨布 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8234297A JPH10249709A (ja) | 1997-03-14 | 1997-03-14 | 研磨布 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10249709A true JPH10249709A (ja) | 1998-09-22 |
Family
ID=13771903
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8234297A Pending JPH10249709A (ja) | 1997-03-14 | 1997-03-14 | 研磨布 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10249709A (ja) |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1997
- 1997-03-14 JP JP8234297A patent/JPH10249709A/ja active Pending
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