JPH09199039A

JPH09199039A - ガス放電型表示パネル及びその製造方法

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Publication number: JPH09199039A
Application number: JP8003219A
Authority: JP
Inventors: Nobuyuki Ushifusa; 信之牛房; Seiichi Tsuchida; 誠一槌田; Eiji Matsuzaki; 永二松崎; Teruo Takai; 輝男高井
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1996-01-11
Filing date: 1996-01-11
Publication date: 1997-07-31
Also published as: EP0784333A3; EP0784333B1; DE69714308D1; EP0784333A2; DE69714308T2; US5883462A; KR100289752B1

Abstract

(57)【要約】【課題】充分なコントラストが得られ、精度良くかつ歩
留まりのよい表示パネルを、安価、簡便に製造する。【解決手段】放電空間を主放電空間３ｄと補助放電空間
３ｃとに分離する隔壁１３を、絶縁物により被覆された
金属材料により構成する。補助放電の光は隔壁１３によ
り遮蔽されるが、補助放電により発生した荷電粒子等
は、隔壁１３に設けられた導通径路３ｅを介して主放電
空間３ｄに導かれる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネルなどのガス放電型表示パネルに係り、特に、
高精度、高コントラストな表示を行なうことができ、か
つ、安価な、カラー表示に適する交流駆動型ガス放電型
表示パネルと、その製造方法とに関する。

【０００２】

【従来の技術】プラズマディスプレイなどのガス放電型
表示パネルは、視野角が広い、自己発光するため表示が
見やすい、薄型のものが作製できる等の特徴を有してお
り、ＯＡ（オフィス・オートメーション）機器等の表示
装置に利用される他、高品位テレビジョン受像機等への
応用が期待されている。

【０００３】ガス放電型表示パネルは、直流駆動型と交
流駆動型とに大別される。このうち、交流駆動型のパネ
ルは、電極を覆っている誘電体層の作用によりメモリ機
能を有しており、輝度が高い。また、近年では、保護膜
の適用などによって、交流駆動型でも実用に耐える程度
の寿命が得られるようになり、多用途ビデオモニタなど
に実用化されている。

【０００４】図４に、実用化されたプラズマディスプレ
イパネルの部分斜視図を示す。このガス放電型カラー表
示パネルは、互いに対向して配設された背面基板２およ
び前面基板１を備える。背面基板２は、前面基板１との
間隙を一定に保ためのバリアリブ３ａを備え、前面基板
１と背面基板２とは、このバリアリブ３ａを介して接続
されている。なお、図４は、図を見やすくするために、
前面基板１と背面基板２のバリアリブ３ａとを分離して
図示した。

【０００５】前面基板１は前面ガラス板４ａ上に表示電
極（透明電極）５、金属導体からなるバス電極６、誘電
体層７ａ、およびＭｇＯ膜（保護膜）８ａが形成された
構造となっている。背面基板２は背面ガラス板４ｂ上に
アドレス電極９、バリアリブ３ａ、および蛍光体層１４
が形成された構造となっている。そして、前面基板１と
背面基板２とを、それぞれ電極の形成された面が対向す
るように、互いに平行に配置してはりあわせることによ
り、前面基板１と背面基板２の間に放電空間３ｆを形成
している。なお、表示電極５とアドレス電極９とは、放
電空間３ｆを介して直交するようにする。

【０００６】このガス放電型表示パネルの断面図を、図
５（ａ）〜（ｃ）および図６に示す。図５（ａ）はアド
レス電極９に平行で、基板１，２表面に垂直な平面で本
実施例の表示パネルの一部を切断した場合の断面図であ
る。また、図５（ｂ）は、図５（ａ）のＡの位置での断
面図であり、その切断面は、アドレス電極９に垂直で、
基板１，２表面に垂直な平面である。図５（ｃ）は、図
５（ａ）のＢの位置での断面図であり、その切断面は、
アドレス電極９に垂直で、基板１，２表面に垂直な平面
である。なお、図５（ａ）〜（ｃ）では、図を見やすく
するために、断面のみを図示し、画面奥に見えるであろ
う構成の図示は省略した。また、図５（ａ）においてＣ
で示した平面での断面図を、図６に示す。

【０００７】図５（ｂ）、図５（ｃ）に示すように、両
基板１，２との間は、透明電極５ａ，５ｂの組ごとに、
表示セル（放電セルともいう）が形成され、両基板１，
２とバリアリブ３ａとにより放電空間３ｆが形成され
る。この表示セルの内部には、蛍光体膜１４が形成され
ている。また、セル内の空間３ｆには放電ガスが封入さ
れている。この従来の表示パネルでは、図６に示すよう
に、バリアリブ３ａは平行な棒状をしており、横（また
は縦）に連続したセルの放電空間３ｆは、バリアリブ３
ａによって隔てられていない。

【０００８】この前面基板１の電極５，６と、背面基板
２に形成されたアドレス電極９との間に交流電圧を印加
すると、前面基板１、背面基板２およびバリアリブ３ａ
により形成される各セル内３ｆに補助放電が発生する。
この補助放電を利用して、各セルごとに前面基板１に形
成されている平行した電極５ａ，６ａと電極５ｂ，６ｂ
との間に交流電圧を印加すると、主放電が発生する。こ
の主放電により生じる紫外線は、セル内部に塗布されて
いる蛍光体１４を発光させる。この表示パネルの表示
は、前面基板１を通して観察されるこの蛍光体１４から
の光によるものである。

【０００９】ここで示したガス放電型表示装置の従来例
は、フラットパネル・ディスプレイ１９９４（日経マイ
クロデバイス編、１９９３年）の第１９８頁〜第２０１
頁に記載されている。

【００１０】このようなガス放電型カラー表示パネルの
従来の製造方法として、つぎに説明するような方法が知
られている。

【００１１】まず、一対の透明な基板を用意する。ガス
放電型カラー表示パネルに用いる基板としては、一般
に、歪点が約４５０℃のソーダガラス（ソーダライムガ
ラス）板が使用される。

【００１２】このガラス基板の一方（背面基板）に、厚
膜印刷法により電極用ペーストを所定パターンになるよ
うに印刷し、ペーストを１００〜１５０℃で乾燥させた
後、５００〜６００℃で焼成する。つぎに、画素となる
表示セルを形成するため、この背面基板の電極パターン
を形成した面に、厚膜印刷法によりバリアリブ形成用の
ペーストを所定パターンになるように印刷し、１００〜
１５０℃で乾燥させる。これにより、背面基板にマトリ
クス状に配列された多数のセルが形成される。なお、バ
リアリブは、十分な放電空間を確保するために、厚い膜
厚（例えば１６０〜２００μｍ）が必要とされ、１回の
厚膜印刷ではこの膜厚を得ることができない。そこで、
このバリアリブ形成用ペーストの印刷及び乾燥は、複数
回行われる。このバリアリブにより形成されたセルの内
部に、厚膜印刷法により赤、青および緑の蛍光体用ペー
ストを所定のパターンで印刷し、１００〜１５０℃で乾
燥した後、５００〜６００℃で焼成する。これにより、
表示セルが形成された背面基板が得られる。

【００１３】他方のガラス基板（前面基板用ガラス板）
には、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明な
導電体の蒸着膜を形成し、これをパターン化して、セル
の列に対して平行な２電極がセル毎に設けられるよう
に、互いに平行な多数の電極パターンを形成する。つぎ
に、この電極の抵抗を下げるため、パターンの各電極部
にバス電極を形成する。この電極を形成した面に、厚膜
印刷法により誘電体用ペーストを所定パターンになるよ
うに印刷し、１００〜１５０℃で乾燥させた後、５００
〜６００℃で焼成する。さらに、得られた誘電体膜表面
に、ＥＢ（Electron Beam）蒸着法によりＭｇＯ膜を形
成する。これにより、透明電極が形成された前面基板が
得られる。

【００１４】つぎに、前面基板と背面基板とを、前面基
板のＭｇＯ膜を形成した面と背面基板のセルを形成した
面を対向させて位置合わせし、両基板の縁部分をシール
用鉛ガラスで覆って、約４５０℃で加熱し、両基板間の
シールを行った後、両基板およびシール部で囲まれる空
隙内の空気を排気管から排気し、この排気管を介してこ
の空隙内に放電ガスを入れる。最後に、排気管の焼きち
ぎり（チップオフ）を行い、放電ガスを封止する。以上
により、ガス放電型カラー表示パネルが作成される。

【００１５】なお、上述の説明では、背面基板にバリア
リブを形成したが、表示パネルの設計によっては、バリ
アリブが前面基板に形成されたり、前面基板および背面
基板の双方に形成される場合がある。また、電極やＭｇ
Ｏ膜を厚膜印刷法により形成する場合もある。

【００１６】いずれにしても、このような従来の表示パ
ネル製造方法は、バリアリブ、電極及び蛍光体等を厚膜
印刷法により形成するため、比較的容易に表示パネルを
作製できるという利点を有している。

【００１７】

【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
技術によるガス放電型表示パネルは、補助放電及び主放
電が同一放電空間で行なわれるため、主放電が起きてい
ないところでも補助放電による発光が生じ、充分なコン
トラストが得られないという問題がある。十分なコント
ラストが得られない場合、フルカラー化に十分な階調を
表現するためには、複雑な駆動方法により高速の時分割
制御を行なわなくてはならない。そこで、ガス放電型表
示パネルの構造により、十分なコントラストを得ること
が望ましい。

【００１８】また、バリアリブの膜厚は、充分な放電空
間を確保するため、１６０〜２００μｍと厚くする必要
があるが、１回の厚膜印刷ではこの膜厚が得られない。
そこで、従来より行われてきた製造方法では、ペースト
の印刷及び乾燥を複数回繰り返すことにより、必要な膜
厚を得ていた。しかし、このようにすると、作製工程が
長くなり、また、印刷のたびに位置合わせをするため歩
留まりが悪化する。

【００１９】そこで、放電の導通径路である貫通孔を有
する隔壁と、バリアリブとが一体となった部品である隔
壁基板を設け、この隔壁基板を前面基板と背面基板と間
に挟むことが考えられる。表示セル内の空間を、隔壁に
より、補助放電空間と主放電空間とに分離すれば、補助
放電による光を遮蔽することができるため、コントラス
トが高くなる。また、隔壁とバリアリブとを備える隔壁
基板を、絶縁物であるガラスまたはセラミック板をサン
ドブラスト法などにより一体成形することにより作製す
れば、一個の部品として取り扱うことができるため、上
述のバリアリブを厚膜印刷によって形成する場合のよう
な、精密な位置合わせを必要としない。

【００２０】しかし、これらの方法では、セラミックな
どの加工が困難な基材を複雑な形状に加工する必要があ
るため、工数が多く、コスト高となってしまう。

【００２１】そこで、本発明は、精度よくかつ歩留まり
のよい、十分な放電空間を有する、安価なガス放電型表
示パネルと、その製造方法とを提供することを目的とす
る。

【００２２】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明では、セル内の補助放電空間と主放電空間
とを、隔壁基板の備える隔壁により分離し、この隔壁基
板材料に、加工性に優れた金属材料を用い、これに絶縁
材料を被覆して形成する。

【００２３】本発明によれば、コントラストの問題は、
補助放電による光を隔壁により遮蔽することにより解決
される。また、隔壁基板のコストの問題は、低コストで
加工性のよい金属材料を用いることで解決できる。金属
材料は、エッチング法、レーザ加工法、金型成形法、機
会加工法等により、容易かつ安価に複雑な形状の隔壁基
板を形成できるからである。

【００２４】ただし、隔壁基板に金属材料を用いると、
金属材料は導電性がよいため、放電時の電荷が蓄積でき
ず、時には他のセルでの誤放電を引き起こす可能性があ
る。そこで、本発明では、この金属材料に絶縁材料を被
覆して隔壁基板を電気的に絶縁とする。

【００２５】なお、隔壁基板の露出部分を被覆する絶縁
材料には、ポアなどの欠陥があってはならない。そこ
で、隔壁基板の材料には、絶縁物である酸化被膜を形成
することができる金属材料、例えば、Ａｌ、Ｔｉ、Ｆ
ｅ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｎｉ、Ｃｏ、および
Ｃｒのうちの少なくとも一種の金属、または、該金属を
含む合金を用いることが望ましい。

【００２６】金属表面の絶縁被膜の形成方法としては、
金属自体を酸化させて絶縁性の酸化被膜を形成させる方
法や、金属表面またはその酸化被膜の表面を、有機金属
化合物（特に、有機金属酸化物や有機金属アルコキシ
ド）を加水分解して得られるゲル、または、アルカリケ
イ酸塩水溶液で被覆した後、熱処理して無機酸化被膜を
形成する方法などがある。これらの方法で絶縁被膜を形
成することにより、絶縁性に優れた隔壁基板を得ること
ができる。

【００２７】なお、上述のゲルまたは水溶液を用いる場
合は、隔壁基板表面を、ディップ法、スプレー法、電着
法等により被覆する。このゲルまたは水溶液を用いる方
法は、緻密な絶縁膜を低温で形成することができるた
め、絶縁性に優れた隔壁基板を得る上で望ましい。

【００２８】

【発明の実施の形態】本発明は、画素となる各セル間を
バリアリブにより隔離して表示セルを形成し、各セル内
に、補助放電による光を遮蔽するための隔壁（放電空間
分離用隔壁）を形成して表示パネルが構成されている。
該隔壁は、前面基板および背面基板に平行であることが
望ましい。

【００２９】本発明の表示パネルでは、背面基板に設け
られた補助放電用電極に電圧を印加することにより補助
放電を発生させ、補助放電により生じた荷電粒子や励起
原子が主放電空間に導通経路を通して侵入し、主放電空
間内の放電を容易にする。すなわち、本発明では、導通
経路を介して、種火効果を持つ荷電粒子や励起原子を主
放電空間に供給することによって、主放電の開始電圧の
低下と安定化とを図る。

【００３０】この荷電粒子や励起原子を主放電空間に供
給された状態で前面基板に形成された平行な２本の電極
間に交流電圧を印加すると、主放電空間内に放電が生
じ、紫外線が発生して、蛍光体を発光させる。この蛍光
体の発光が前面基板を透して観察されることにより、表
示が行われる。本発明では、補助放電空間と主放電空間
とを分離し、補助放電空間には蛍光体層を形成しない。
従って、補助放電では蛍光体による発光が生じず、ま
た、補助放電によるガス放電光は隔壁で遮光されるた
め、前面基板の外部からは主放電による発光のみが観察
される。従って、本発明では、表示される画像に充分な
コントラストを得ることができる。

【００３１】なお、本発明では、主放電は前面基板に設
けられた近接した電極間で起こるため、電極間隔を狭く
することにより駆動電圧を低くすることができる。駆動
電圧を下げることには、消費電力の削減のみならず、放
電にともなうスパッタリングによる保護膜損傷を低減で
き、従って、表示パネルを長寿命化できるという効果も
ある。

【００３２】なお、放電の開始電圧を低く抑え、放電を
安定化させるためには、電極を誘電体により被覆してメ
モリー機能をもたせ、さらに、誘電体をＭｇＯやＣａ
Ｏ、ＳｒＯなどの材料で覆うことにより、放電空間への
２次電子放出能を高めることが有効である。

【００３３】また、前面基板および背面基板の、放電空
間に面した面には、誘電体層を保護するため、ＭｇＯ
膜、ＣａＯ膜、またはＳｒＯ膜などの保護膜を形成する
ことが望ましい。なぜなら、これらの保護膜はスパッタ
リング率が小さいために放電に伴うスパッタリングによ
る損傷が小さく、表示パネルの長寿命化を図ることがで
きるからである。なお、前面基板側の保護膜には、Ｍｇ
Ｏ膜などの透明材料を用いることが望ましい。

【００３４】本発明では、各セルを区画するためのバリ
アリブの少なくとも一部を、１つの部品、すなわち隔壁
基板として作製し、この隔壁基板と、前面基板と、背面
基板とを組み立てることにより表示パネルを作製する。
このようにすれば、隔壁およびバリアリブのための厚い
セラミック膜の形成に、厚膜印刷法等による印刷を複数
回繰り返す必要がないため、位置精度が向上するととも
に、製造歩留まりが向上する。なお、隔壁基板は、前面
基板側バリアリブ、放電空間分離用隔壁、および背面基
板用バリアリブを備えることが望ましいが、これらの一
部、例えば、前面基板側バリアリブおよび放電空間分離
用隔壁のみからなってもよい。

【００３５】また、本発明では、蛍光体層は、主放電空
間内壁を構成する、バリアリブの前面基板側の側面と、
放電空間分離用隔壁の前面基板の面とに形成することが
望ましい。このようにすれば、蛍光体層の面積を広くで
きるため、放電による発光効率の向上を図ることができ
る。

【００３６】なお、蛍光体の発した光が、各セル間のバ
リアリブ及び前面基板と背面基板との間に形成したこれ
らに平行な隔壁を透過して隣接するセルに漏れると、カ
ラー表示パネルの場合混色を起こすため好ましくない。
本発明のガス放電型表示パネルに用いるバリアリブおよ
び放電空間分離用隔壁は、絶縁物により被覆された金属
材料からなるため、不透明であり、放電により発光され
た光が隣接するセルに漏れるのが妨げられるため、混色
を防止する効果がある。さらに、絶縁物が透明な場合、
放電により発光された光が隔壁基板の金属材料の表面で
反射するため、発光効率が向上するという効果も得られ
る。

【００３７】また、隔壁およびバリアリブを金属で形成
すると、ガラスやセラミックで形成するものに比べて、
壊れにくいため、隔壁およびバリアリブの厚さを薄くで
きる。また、加工性が高いため、前面基板側バリアリブ
の高さを容易に高くできる。従って、本発明によれば、
放電空間が増大するため蛍光体の塗布量を多くでき、輝
度の向上を図ることができる。また、補助放電空間から
主放電空間への荷電粒子等の供給が容易になるため、ア
ドレス電圧を低くすることができる。さらに、セルピッ
チを狭くできるため、高精細のパネルが作製できる。

【００３８】本発明で隔壁基板の作製に使用する金属材
料には、真空放電に対し悪影響を及ぼすことのないもの
であれば、どのようなものでも用いることができるが、
機械加工性、エッチング性、レーザ加工性、または、金
型成形性が良好なものを用いることが望ましい。

【００３９】なお、機械加工法は、ドリルやバイトを用
いて加工するため、ガラスやセラミックをこの方法で加
工することは困難である。しかし、金属材料は、この方
法により比較的簡単に加工できる。この方法によれば、
工具の寸法により加工寸法がコントロールできるため、
導通径路等を同一形状で簡単に加工できる。

【００４０】エッチング法は、フォトプロセスを用いて
パターニングする。この方法では、露光、現像の寸法精
度が高精度であるため、高精度の加工が可能である。レ
ーザ加工法は、被加工材を載置するテーブルの移動精
度、レーザビームのエネルギー分布等の影響は受けるも
のの、エッチング法と遜色のない精度で加工できる。

【００４１】また、金型成形法は、基材を金型で加圧し
て成形するものであり、量産性に優れている。本発明の
隔壁基板のように、同一寸法のセルの繰り返しである構
造に加工する場合、量産性に優れた金型成形法が特に適
している。なお、金型成形法には、プレス加工法とロー
ル加工法とがある。プレス加工法は、上下の型の間に基
材を挟み、圧力を加えることにより成形するものであ
る。成形性をよくするために、熱を加えることもある。
また、ロール加工法は、型の形成された上下のロールの
間に基材を通すことにより成形するものである。

【００４２】以上のような方法により、隔壁およびバリ
アリブの形に成形した成形体は、絶縁性を確保するた
め、絶縁物により被覆される。この絶縁物による被覆と
しては、表面にガラスなどの絶縁材の層を形成してもよ
いが、金属材料を空気中で加熱するなどして、絶縁性の
酸化膜を形成することにより酸化物で被覆する方法は、
簡便かつ安価な方法であり、優れている。そこで、成形
体を形成するための基材としては、絶縁物である酸化被
膜を緻密に形成することができる金属材料を用いること
が望ましく、例えば、Ａｌ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｔａ、Ｗ、Ｍ
ｏ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｎｉ、Ｃｏ、およびＣｒのうちの少な
くとも一種の金属、または、該金属を含む合金を用いる
ことが望ましい。

【００４３】上述の酸化被膜のみでも絶縁性は確保され
るが、この酸化被膜上に、絶縁材料による絶縁膜をさら
に形成することが望ましい。この絶縁材料による絶縁膜
は、紫外線および特定波長（表示色）の光を透過するも
のであれば、蛍光体表面に成膜してもよい。このように
すれば、蛍光体の保護膜としても働くため、蛍光体の寿
命を長くすることができる。蛍光体層表面に絶縁膜を成
膜する場合、蛍光体層表面のみに成膜してもよく、蛍光
体層を含む隔壁基板表面の全面あるいは一部に成膜して
もよい。

【００４４】隔壁基板の、金属成形体表面、金属酸化物
層表面、または蛍光体層表面に形成される絶縁層は、例
えばガラスなどの無機酸化物であることが好ましく、特
に、透明であることが望ましい。このような無機酸化物
としては、例えば、有機金属化合物を加水分解して得ら
れるゲル（以下、有機金属ゲルと呼ぶ）、または、アル
カリケイ酸塩水溶液（以下、水ガラスと呼ぶ）を、加熱
することにより得られる無機酸化物が挙げられる。

【００４５】この有機金属ゲルは、分子レベルのセラミ
ックスが分散したものであり、水またはアルコールのよ
うな溶媒を除去することで無機質の材料を得ることがで
きるものである。しかし、放電中にガスを発生すること
のないように、吸着している水またはアルコールを充分
に除去するともに、均質で強度を有する絶縁体層を得る
ために、十分な熱処理を行うことが望ましい。ただし、
このゲルは分子レベルのセラミックスであることから、
焼成温度が低く、ソーダガラス材料の歪点である４５０
℃以下の温度で充分な熱処理が可能である。

【００４６】均質で強度を有する絶縁体層を得るために
は、少なくとも５０℃以上の熱処理を行うことが望まし
い。熱処理温度が低い場合には、水またはアルコールの
ような溶媒は除去できているが、形成した絶縁体の表面
に吸着した水酸基などが充分に除去できないことがある
ため、パネルを組み立てて真空排気し、さらに、封止ガ
ス導入したときに水蒸気やアルコールを放出することが
あり、放電に影響を及ぼす可能性がある。また、熱処理
温度がソーダガラス材料の歪点である４５０℃に近くな
ると、歪点を超えなくても、ガラスが変形しやすくな
る。しかも、ガス放電型表示パネルに用いる大面積のガ
ラス板は、特に自重でも変形しやすいため、極力温度を
上げないことが要求される。そこで、本発明における有
機金属ゲルの加熱処理の温度は、１００℃以上４００℃
以下とすることが望ましい。

【００４７】本発明に用いられる有機金属ゲルは、例え
ば、Ｓｉ，Ｔｉ，Ａｌ，Ｚｒなどの有機金属化合物の溶
液（水溶液、アルコール溶液など）を、常温またはそれ
に近い温度で加水分解することにより得られる。反応溶
液は、加水分解の進行に伴い重縮合反応が進行してゾル
となり、さらに反応が進行すると、本発明に用いられる
ゲルが得られる。

【００４８】ここで用いられる有機金属化合物の例とし
ては、一般式Ｍ（ＯＲ¹）_nで表される金属アルコキシド
が挙げられる。ここで、Ｍは金属原子（半金属を含む）
を表し、例えば、Ｓｉ，Ｔｉ，Ａｌ，Ｚｒが挙げられ
る。また、Ｒ¹は有機基を表し、炭素数１〜５のアルキ
ル基が望ましい。ｎはＭの価数によって定まる正の整数
であり、通常、１〜４である。金属アルコキシドおよび
その加水分解生成物は、熱処理により金属酸化物に変化
する。

【００４９】本発明に使用できる金属アルコキシドに
は、例えば、テトラ（ｎ−ブチル）シリケート：Ｓｉ
（ＯＣ₄Ｈ₉）₄、トリ（ｓｅｃ−ブトキシ）アルミニウ
ム：Ａｌ（ＯＣ₄Ｈ₉）₃、テトラ（ｎ−プロピル）チタ
ネート：Ｔｉ（ＯＣ₃Ｈ₇）₄、テトラ（ｎ−ブチル）ジ
ルコネート：Ｚｒ（ＯＣ₄Ｈ₉）₄、トリメチルボレー
ト：Ｂ（ＯＣＨ₃）₃などがある。

【００５０】金属アルコキシドは、例えば、合成原料と
して金属塩化物を用い、この塩化物を蒸留、再結晶など
通常の精製方法を用いて精製しておくことにより、容易
に高純度のものを得ることができる。また、金属アルコ
キシドは、ほとんどの金属について作ることができ、通
常、常温で液体である。そこで、これらの金属アルコキ
シドを複数種類混合して加水分解することにより、所望
の組成を有するガラスまたはセラミックの原料ゲルを容
易に調製することができる。有機金属ゲルから得ること
のできる絶縁体の組成例を、表１に示す。

【００５１】

【表１】

【００５２】また、本発明で提供される絶縁材料のひと
つである水ガラスは、Ｒ² ₂Ｏ・ｎＳｉＯ₂で表されるア
ルカリケイ酸塩の濃厚水溶液（水の量が、全体の７０〜
９０重量％）である。ここで、Ｒ²はナトリウム、カリ
ウム、リチウム、およびルビジウムのうちの少なくとも
一つであり、特にカリウムが好ましい。また、ｎは４〜
６であり、ｎが４より小さいと、生成されるガラスの重
合度が不足し吸湿しやすいが、ｎが６より大きいと、加
水分解速度が遅い。水ガラスから得られる絶縁材料の組
成例を、表２に示す。

【００５３】

【表２】

【００５４】絶縁層の形成には、上述の有機金属ゲルや
水ガラスを用いる方法のほか、スパッタリング法、化学
気相反応法、あるいは厚膜印刷法などを用いることもで
きる。

【００５５】

【実施例】以下、本発明によるガス放電型カラー表示パ
ネルの実施例を、図面を用いて詳細に説明する。なお、
以下の説明において挙げられている材料、膜厚、温度、
時間及び使用装置は、実施の一態様を示しているにすぎ
ず、本発明は、これらの例に限定されるものではない。

【００５６】＜実施例１＞本実施例により作製されたガ
ス放電型カラー表示パネルの断面を、図１および図７に
示す。本実施例のガス放電型カラー表示パネルは、図１
（ａ）〜（ｃ）に示すように、前面基板１と、背面基板
２と、それらの間隙を区画して画素となるセルを形成す
る隔壁基板３とを備える。前面基板１と背面基板２との
間の空隙３ｂには、ＨｅとＸｅとの混合ガス（Ｘｅ含有
量５体積％）が封入されている。

【００５７】前面基板１は、ソーダガラス板４ａと、そ
の表面に形成された、図１の紙面に垂直方向に延伸され
たＩＴＯ電極５ａ，５ｂと、ＩＴＯ電極５ａ，５ｂ表面
に形成されたバス電極６ａ，６ｂと、ＩＴＯ電極５ａ，
５ｂおよびバス電極６ａ，６ｂを覆うようにソーダガラ
ス板４ａ表面に形成された誘電体層７ａと、さらに誘電
体層７ａ表面に形成されたＭｇＯ膜８ａとを備える。Ｉ
ＴＯ電極５ａ，５ｂと、バス電極６ａ，６ｂとにより形
成される電極パターンは、マトリクス状に配列されたセ
ルのうち、一方の方向に並ぶセル列の各セルに対して平
行な２つの電極が設けられるように、多数の並行な直線
状のパターンとしてパターンニングされる。なお、セル
列ごとの２本の主放電用電極のうち、主放電用電極５ａ
および６ａは、セル列中央の導通径路上に設けられ、主
放電用電極５ｂおよび６ｂは、２本のセル列にまたがっ
て設けられている。

【００５８】ＩＴＯ電極５ａ，５ｂは透明電極である。
しかし、ＩＴＯ電極５ａ，５ｂは配線抵抗値が高く、こ
れのみを用いたのでは、主放電の駆動速度が遅い。そこ
で、本実施例の表示パネルでは、このＩＴＯ電極５ａ，
５ｂ表面に、ＩＴＯ電極５ａ，５ｂのなす直線に平行な
金属製のバス電極６ａ，６ｂを設け、前面基板１での電
極の配線抵抗値を低くしている。ただし、このバス電極
６ａ，６ｂは不透明であるから、できるかぎり幅狹のも
のとすることが望ましい。これは、蛍光体１４から発光
する光の、バス電極６ａ，６ｂによって遮蔽される量を
少なくするためである。

【００５９】背面基板２は、ソーダガラス板４ｂと、そ
の表面に形成されたアドレス電極９と、第１のアドレス
電極９表面に形成された誘電体層７ｂと、誘電体層７ｂ
表面を覆うように形成されたＭｇＯ膜８ｂとを備える。
アドレス電極９は、ＩＴＯ電極５ａ，５ｂの延伸方向に
直角なセル列の各セル２列に対して平行な３本の電極が
設けられるように、多数の並行な直線状のパターンとし
てパターンニングされる。３本のアドレス電極９のうち
の中央の一本は、２本のセル列にまたがって設けられて
いる。

【００６０】なお、前面基板１及び背面基板２に形成さ
れるＭｇＯ膜８ａ，８ｂは、スパッタリング率が低く耐
スパッタリング性に優れているため、放電におけるスパ
ッタリングによる損傷を抑制でき、誘電体層７ａ，７ｂ
の保護膜として働く。ＭｇＯ膜８ａ，８ｂは、放電によ
るスパッタを防止し、表示パネルの長寿命化を図るため
に有効である。また、ＭｇＯ膜８ａ，８ｂは透明である
から、蛍光体１４から発光した光を通しやすく、表示パ
ネルに用いるのに適している。

【００６１】なお、図１（ａ）はアドレス電極９に平行
で、基板１，２表面に垂直な平面で表示パネルを切断し
た断面図である。また、図１（ｂ）は、図１（ａ）のＡ
の位置での断面図であり、その切断面は、アドレス電極
９に垂直で、基板１，２表面に垂直な平面である。図１
（ｃ）は、図１（ａ）のＢの位置での断面図であり、そ
の切断面は、アドレス電極９に垂直で、基板１，２表面
に垂直な平面である。

【００６２】隔壁基板３は、前面基板１のＭｇＯ膜８ａ
と背面基板２のＭｇＯ膜８ｂとに接続したバリアリブ１
１，１２と、前面基板および背面基板に平行な隔壁１３
と、前面基板側バリアリブ１１側面および隔壁１３の前
面基板側の表面に形成された蛍光体層１４とを備える。

【００６３】バリアリブ１１，１２と隔壁１３とは、一
体に成形されており、絶縁層１１ｂ，１２ｂ，１３ｂに
より被覆された金属成形体１１ａ，１２ａ，１３ａから
なる。

【００６４】蛍光体層１４は、放射線により緑、青、ま
たは赤を発光する蛍光体からなる塗膜であり、本実施例
では、広範囲に蛍光体層１４が備えられているため、主
放電による発光効率がよい。なお、いずれの色を発色す
る蛍光体を用いるかは、セルごとに、基板全体の配色が
所定のパターンとなるように定められている。

【００６５】バリアリブ１１，１２は、基板１，２の間
隙を区画してセルを形成するために、格子状をしてい
る。前面基板側バリアリブ１１の、前面基板の表裏の平
面に平行な面で切断した断面図を図７（ａ）に示し、背
面基板側バリアリブ１２の、前面基板の表裏の平面に平
行な面で切断した断面図を図７（ｂ）に示す。

【００６６】前面基板１、背面基板２、隔壁基板３によ
り形成されるセルは、バリアリブ１１，１２により隣接
するセルと隔離される。各セル内には、基板１，２の面
に並行な隔壁１３が設けられている。なお、本実施例で
は、隔壁１３はガラス板４ａ、４ｂに対して水平に設け
られているが、荷電粒子等の移動を妨げない限り、必ず
しも水平でなくてもよい。

【００６７】セル内の空間は、隔壁１３と背面基板２と
の間の空間３ｃが補助放電用の空間とされ、隔壁１３と
前面基板１との間の空間３ｄが主放電用の空間とされ
る。補助放電用の空間３ｃと主放電用の空間３ｄとは、
隔壁１３の端部とバリアリブとの間に形成された導通経
路３ｅにより連通されている。セル内には、上述のよう
に放電用ガスが封止されている。

【００６８】この本実施例によるガス放電型カラー表示
パネルでは、背面基板２に設けられた隣接する２本のア
ドレス電極９ａ，９ｂの間に交流電圧が印加されること
により、それらの誘電体層７ｂを介した上にあるセルの
補助空間３ｃ内で補助放電が起こる。

【００６９】本実施例の表示パネルでは、２列の表示セ
ルにまたがった主放電用電極５ｂおよび６ｂのすべてに
電圧が印加される。そこで、上述のように、補助放電が
発生している状態で、表示させたいセル専用の主放電用
電極５ａ、６ａに交流電圧を印加すると、これらの電極
の電荷パターンが誘電体層７ａを介してＭｇＯ層８ａ表
面に誘導され、補助放電の影響が導通経路３ｅを介して
主放電用空間３ｄに波及しているため、ＭｇＯ層８ａ表
面の異なる電荷間に主放電を起こさせる。すなわち、こ
の主放電は、バス電極６ａが設けられたＩＴＯ電極５ａ
への電圧の印加により、誘電体層７ａを介してＭｇＯ層
８ａの表面に誘導された電荷と、バス電極６ｂが設けら
れたＩＴＯ電極５ｂへの電圧の印加により、誘電体層７
ａを介してＭｇＯ層８ａの表面に誘導された電荷との間
で生じる。なお、この主放電は、非共通の主放電用電極
５ａ，５ｂに電圧が印加されていないセルや、補助放電
の発生していないセルでは起こらない。

【００７０】この主放電により、放電空間内のガス（Ｈ
ｅとＸｅとの混合ガス）が励起されて放射線（紫外線）
を発生し、この放射線は、蛍光体１４を励起して可視光
を発生させる。電圧を印加する電極を選択することで、
所望の各セルにおいてこの可視光を発生させ、該可視光
が前面基板１を通して外部に放射されることにより、本
表示パネルに画像が形成される。

【００７１】このように、この実施例では、各セルを、
バリアリブ３ａで区切るほか、前面基板１と背面基板２
の間の空間を隔壁１３で区切ることにより、補助放電に
より発生する放射線が蛍光体１４に当たらないように、
補助放電を蛍光体１４から隠す。このため、本実施例の
表示パネルでは、背面基板２側のアドレス電極９により
補助放電を発生さても、この補助放電による発光が隔壁
１３によって阻止されることになり、主放電によっての
み蛍光体１４が発光することになるため、補助放電のみ
が起こり、主放電が起きていないセル（すなわち、アド
レス電極９には電圧が印加されているが、バス電極６
ａ，６ｂには電圧が印加されていないセル）では、蛍光
体１４が発光せず、主放電による発光だけが前面基板１
側から観察できるから、充分なコントラストを得ること
ができる。

【００７２】つぎに、本実施例のガス放電型表示パネル
の製造方法を、図８（ａ）〜（ｐ）を用いて説明する。
図８は、本実施例の表示パネルの製造方法を模式的に示
した説明図である。

【００７３】Ａ．前面基板の作製（１）主放電用電極の形成まず、前面基板１を作製した。表裏一方の面にＩＴＯ膜
５ｃの形成された、幅：約８５ｃｍ、奥行：約７０ｃ
ｍ、厚さ：約２．８ｍｍのソーダガラス板４ａ（図８
（ａ））を用意し、室温１５〜２５℃、湿度６０％の防
塵室内で、ＩＴＯ膜５ｃ表面に感光性樹脂組成物を塗布
し、この感光性樹脂組成物塗膜を、所定パターンのマス
クを介して３ｋＷ（出力８ｋＷ）の超高圧水銀灯により
露光量を２００〜２５０ｍＪ／ｃｍ²として露光させ、
０．２〜０．５％の炭酸ナトリウム水溶液を用いて、現
像温度２５℃、圧力１．２ｋｇ／ｃｍ²の条件で、１０
５秒間スプレー現像したのち、０．１％の希酸で中和し
て、水洗し、乾燥して、所定パターンのレジスト膜を形
成した。つぎに、エッチング液によりＩＴＯ膜５ｃの露
出部分をエッチングしたのち、剥離液でレジスト膜を剥
離した。これにより、ＩＴＯ膜５ｃがパターン化され、
所定の位置にＩＴＯ電極５ａ，５ｂが形成された（図８
（ｂ））。

【００７４】同様にして、得られたＩＴＯ電極５ａ，５
ｂ上に、所定のパターンのレジスト膜を形成したのち、
無電解めっき法により、幅：０．０５ｍｍ、厚さ：０．
０３ｍｍのバス電極６ａ，６ｂを形成した（図８
（ｃ））。電極材料は、良好な導電性を有する金属であ
ればよく、ここでは、銅を用いた。このめっき処理後、
剥離液によってレジスト膜を剥離した。

【００７５】（２）誘電体層の形成つぎに、ＩＴＯ電極５ａ，５ｂおよびバス電極６ａ，６
ｂと、ガラス板４ａとの表面に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｏを主成
分とする加水分解型コーティング剤（表１のＮｏ．１１
の組成物。本実施例では、トリ（ｎ−ブトキシ）アルミ
ニウムと、テトラ（ｎ−ブチル）シリケートと、トリ
（ｎ−ブトキシ）ボランとを、それぞれの金属酸化物に
換算して８４：１３：３（重量比）の割合で含むｎ−ブ
タノール溶液を常温で加水分解して得られたゲル）をブ
レード法により塗布し、５０〜５００℃で５〜６０分間
加熱することにより、厚さ０．００３〜０．０１ｍｍの
透明な誘電体層７ａを形成した（図８（ｄ））。

【００７６】なお、５０〜８０℃で６０分間加熱したも
のについて、真空中での放出ガス分析を行なったとこ
ろ、水またはアルコールのガスが検出された。また、４
２０〜５００℃で１５分間加熱したものは、ソーダガラ
ス板４ａに訳０．１５ｍｍの反りが生じた。１００〜４
００℃の温度で５〜６０分間加熱したものは、真空中で
の放出ガスがなく、また、ソーダガラス板４ａに反りが
生じないため、良好であった。そこで、以下の工程で
は、１００〜４００℃の温度で５〜６０分間加熱したも
のを用いた。

【００７７】（３）保護膜の形成得られた誘電体層７ａ表面に、ＭｇとＯとを主成分とす
る加水分解コーティング剤（ジ（ｎ−ブトキシ）マグネ
シウムのｎ−ブタノール溶液を常温で加水分解して得ら
れたゲル）をスピンナー塗布し、上述の（２）と同様に
１００〜４００℃の温度で５分〜６０分間低温加熱する
ことにより、厚さ０．００１〜０．００５ｍｍのＭｇＯ
膜８ａを形成した（図８（ｅ））。誘電体層７ａおよび
保護膜８ａは、以上の方法に他に、スプレー法、ロール
法、ディップ法、印刷法などでも、同様に形成すること
ができる。

【００７８】以上の（１）〜（３）の工程により、ソー
ダガラス板４ａの歪・（４５０℃）以上の温度に加熱す
ることなく、前面基板１が得られた。なお、以上の工程
で、ソーダガラス４ａの寸法変化はなかった。

【００７９】Ｂ．背面基板の作製（４）補助放電用電極の形成つぎに、背面基板２の製造方法について説明する。ま
ず、図８（ｆ）に示す、中性洗剤等を用いて洗浄したソ
ーダガラスからなる背面基板用ガラス板４ｂ（幅：約８
５ｃｍ、奥行：約７０ｃｍ、厚さ：２．８ｍｍ）上に、
感光性樹脂組成物を塗布し、この感光性樹脂組成物塗膜
を、所定パターンのマスクを介して３ｋＷ（出力８ｋ
Ｗ）の超高圧水銀灯により露光量を２００〜２５０ｍＪ
／ｃｍ²として露光させ、０．２〜０．５％の炭酸ナト
リウム水溶液を用いて、現像温度２５℃、圧力１．２ｋ
ｇ／ｃｍ²の条件で、１０５秒間スプレー現像したの
ち、０．１％の希酸で中和して、水洗し、乾燥して、所
定パターンのレジスト膜を形成した。これにより、所定
のパターンのレジスト膜が形成された。

【００８０】つぎに、ガラス板４ｂ表面のレジスト膜に
覆われていない部分に、無電解めっき法により、幅：
０．１ｍｍ、厚さ：０．００３ｍｍの、銅からなるアド
レス電極９（９ａ，９ｂ）を形成した。このめっき処理
後、剥離液によってレジスト膜を剥離した（図８
（ｇ））。なお、補助放電用電極のパターン寸法および
厚さは、補助放電用電極に要求される抵抗値によって定
めれば良い。

【００８１】（５）誘電体層および保護膜の形成得られた補助放電用電極９を覆うように、ガラス板４ｂ
表面に、上述の工程（２）で用いたものと同じ加水分解
型コーティング剤をブレード法あるいはスプレー法によ
り塗布し、１００〜４００℃の温度で１〜６０分間加熱
して、厚さ０．００１〜０．０３ｍｍの誘電体層７ｂを
形成した（図８（ｈ））。さらに、上述の工程（３）と
同様にしてＭｇＯからなる保護層８ｂを形成した（図８
（ｉ））。これによって背面基板２が得られた。なお、
背面基板２には、パネル組み立て後に行う排気とガス導
入のためにチップ管（図示せず）を取り付けた。

【００８２】Ｃ．隔壁基板の作製（６）導通径路の形成次に、隔壁基板３を作製した。まず、幅：約８５ｃｍ、
奥行：約６５ｃｍ、厚さ：０．５ｍｍの金属アルミニウ
ム板３ａに感光性樹脂組成物を塗布し、この感光性樹脂
組成物塗膜を、所定パターンのマスクを介して３ｋＷ
（出力８ｋＷ）の超高圧水銀灯により露光量を２００〜
２５０ｍＪ／ｃｍ²として露光させ、０．２〜０．５％
の炭酸ナトリウム水溶液を用いて、現像温度２５℃、圧
力１．２ｋｇ／ｃｍ²の条件で、１０５秒間スプレー現
像したのち、０．１％の希酸で中和して、水洗し、乾燥
して、所定パターンのレジスト膜を形成した。これによ
り、所定のパターンのレジスト膜３１が形成された（図
８（ｊ）。

【００８３】つぎに、アルミニウム板３ａのレジスト膜
３１に覆われていない部分をエッチングし、導通径路３
ｅとして、開口部のサイズが０．１ｍｍ×０．１５ｍｍ
である貫通孔を形成した後、剥離液によってレジスト膜
を剥離した（図８（ｈ）。

【００８４】（７）バリアリブおよび隔壁の形成その後、金属アルミニウム板３ａの表裏両面に感光性樹
脂組成物を再度塗布し、上述と同様にして、所定のパタ
ーンのレジスト膜３２を形成し、両面エッチング法によ
りレジスト膜３２に覆われていない部分を、所定の深さ
だけ除去し、主放電空間および補助放電空間となる凹部
を形成した。これにより、前面基板１側のバリアリブ１
１および背面基板２側のバリアリブ１２と、主放電空間
と補助放電空間とを隔離する隔壁１３とが一体に形成さ
れた成形体が得られた（図８（ｍ））。

【００８５】（８）絶縁膜の形成得られた成形体の表面に、工程（２）で用いたものと同
じ加水分解型コーティング剤をディップ法で塗布し、誘
電体層７ａの形成と同様に１００〜４００℃の温度で５
〜６０分間低温加熱することにより、厚さ：０．００５
〜０．０１５ｍｍの絶縁材料８１を形成した。これによ
り、隔壁１３の絶縁層１３ａとバリアリブ１１，１２の
絶縁層１１ａ、１２ａが形成された（図８（ｎ））。

【００８６】（９）蛍光体層の形成さらに、この部品の前面基板側に、緑用、青用、赤用の
所定のパターンのマスクをそれぞれ介して、前面基板１
側から、緑、青、赤の各蛍光体をスプレーした後、１５
０℃〜３００℃の温度で５分〜６０分間乾燥させて、蛍
光体層１４を形成した（図８（ｏ））。なお、カラー表
示が不要な場合には、全セルに同一色の蛍光体層を形成
すればたりる。

【００８７】以上の（６）〜（９）の工程により、バリ
アリブ３ａと、隔壁１３と、蛍光体層１４とを有する部
品としての隔壁基板３が得られた。

【００８８】Ｄ．組立（１０）基板１〜３の組立以上のようにして得られた基板１〜３を位置合わせし、
その周囲を、封止材（フリットガラス）をディスペンサ
で塗布して覆った後、３００℃〜４００℃で熱処理して
封止材３３を固定した。これにより、基板１〜３に歪み
なく、精度良く表示パネルの組み立てを行うことができ
た（図８（ｐ））。

【００８９】（１１）ガスの注入最後に、チップ管（図示せず）を介してセル内部の空気
を抜いて真空にし、Ｈｅ−５％Ｘｅ混合ガスを、セル内
部の気圧が３００Ｔｏｒｒ〜５００Ｔｏｒｒ（３９．９
ｋＰａ〜６６．５ｋＰａ）になるまで導入した後、局部
加熱により、チップ管を加熱し、チップオフを行って、
図１に示したものと同様の構成を有するガス放電型カラ
ー表示パネルを得た。

【００９０】Ｅ．結果以上の工程（１）〜（１１）により、前面基板１および
背面基板２の間隙がバリアリブ３ａにより区画されて複
数のセルが形成され、各セル内は、補助放電を隠すため
の隔壁１３により主放電用空間３ｄと補助放電用空間３
ｃとに分けられており、主放電用空間３ｄと補助放電用
空間３ｃとは、導通経路３ｅにより連通されているガス
放電型カラー表示パネルを、安価に、精度よく作製する
ことができた。

【００９１】本実施例の表示パネルにおいて、隔壁１３
の厚さは０．１ｍｍであり、各セル内の隔壁１３の中央
に導通径路３ｅが設けられている。また、主放電空間３
ｄのサイズは、図１（ａ）において、奥行き０．３３ｍ
ｍ、幅１．１ｍｍ、高さ０．３ｍｍであり、補助放電空
間３ｃのサイズは、図１（ａ）において、奥行き０．３
３ｍｍ、高さ０．１ｍｍである。

【００９２】本実施例の表示パネルでは、補助放電の発
光は、隔壁１３で遮光され、主放電による発光のみが観
察されることになるため、主放電の発生したセルと、主
放電の発生していないセルとの間に、充分なコントラス
ト（４００：１以上）を得ることができる。

【００９３】＜実施例２＞実施例１では、前面基板側バ
リアリブ１１および背面基板側バリアリブ１２を、両面
エッチング法により一括して形成したが、本実施例で
は、背面基板側バリアリブ１２は、背面基板２の保護膜
８ｂ上に形成した。本実施例の表示パネルの製造方法
は、バリアリブ１２の形成方法が異なる以外は、実施例
１と同様である。そこで、ここでは、実施例１と異なる
工程のみ説明し、残りの工程の説明は省略する。

【００９４】本実施例により作製した表示パネルの断面
図を、図２に示す。図１と同様に、図２（ａ）はアドレ
ス電極９に平行で、基板１，２表面に垂直な平面で本実
施例の表示パネルの一部を切断した場合の断面図であ
る。また、図２（ｂ）は、図２（ａ）のＡの位置での断
面図であり、その切断面は、アドレス電極９に垂直で、
基板１，２表面に垂直な平面である。図２（ｃ）は、図
２（ａ）のＢの位置での断面図であり、その切断面は、
アドレス電極９に垂直で、基板１，２表面に垂直な平面
である。なお、バリアリブ１１および１２を、前面基板
１の主表面（表裏各面のうち外部に露出した方の面）に
平行な平面で切断した断面を、図９（ａ）および（ｂ）
に示す。本実施例により作製した表示パネルの放電空間
のサイズは、実施例１と同様である。

【００９５】Ａ．背面基板の作製実施例１の工程（４）および（５）と同様にして作製し
た背面基板２の保護膜８ｂ上の所定の位置に、実施例１
の工程（２）で用いた加水分解型コーティング剤にバイ
ンダとして、アルミナ球状粒子およびチタン酸カリウム
繊維を混合したもの（バインダの混合率は８０重量％）
を、ブレード法または印刷法によって塗布し、工程
（２）と同様に加熱して、厚さ０．１〜０．２ｍｍのバ
リアリブ１２を形成した。

【００９６】Ｂ．隔壁基板の作製エッチングする基材３ａとして、本実施例では、幅：約
８５ｃｍ、奥行：約６５ｃｍ、厚さ：０．４ｍｍの金属
アルミニウム板３ａを用い、実施例１と同様にして隔壁
基板３を作製した。ただし、工程（７）において、アル
ミニウム板３ａの背面基板側になる面は前面をレジスト
膜３２で覆い、前面基板側になる面のみエッチングし
た。

【００９７】Ｃ．結果最後に、実施例１と同様にして作製した前面基板１と、
背面基板側バリアリブ１２を形成していない隔壁基板３
と、背面基板側バリアリブ１２を形成した背面基板２と
を、位置あわせして、この順に積層し、その周囲を実施
例１と同様にして封止したのち、Ｈｅ−５％Ｘｅガスを
封入して、チップ管をチップオフし、ガス放電型カラー
表示パネルを得たところ、実施例１と同様に、発色のコ
ントラストのよい表示パネルが得られた。

【００９８】＜実施例３＞本実施例では、前面基板側バ
リアリブ１１をセラミックにより形成した以外は、実施
例２と同様にして表示パネルを作製した。本実施例の表
示パネルの製造方法は、バリアリブ１１の形成方法が異
なる以外は、実施例２と同様である。そこで、ここで
は、実施例２と異なる工程のみ説明し、残りの工程の説
明は省略する。

【００９９】本実施例により作製した表示パネルの断面
図を、図３に示す。図１と同様に、図３（ａ）はアドレ
ス電極９に平行で、基板１，２表面に垂直な平面で本実
施例の表示パネルの一部を切断した場合の断面図であ
る。また、図３（ｂ）は、図３（ａ）のＡの位置での断
面図であり、その切断面は、アドレス電極９に垂直で、
基板１，２表面に垂直な平面である。図３（ｃ）は、図
３（ａ）のＢの位置での断面図であり、その切断面は、
アドレス電極９に垂直で、基板１，２表面に垂直な平面
である。なお、バリアリブ１１および１２を、前面基板
１の主表面に平行な平面で切断した断面を、図１０
（ａ）および（ｂ）に示す。本実施例により作製した表
示パネルの放電空間のサイズは、実施例１と同様であ
る。

【０１００】本実施例では、隔壁基板３用の基材３ａと
して、幅：約８５ｃｍ、奥行：約６５ｃｍ、厚さ：０．
２ｍｍの金属アルミニウム板３ａを用い、実施例１と同
様にして隔壁基板３を作製した。ただし、工程（６）で
導通径路を作製したのち、工程（７）は実施せずに、工
程（８）と同様にして成形体を絶縁膜で覆い、この絶縁
膜表面の所定の位置に、実施例１の工程（２）で用いた
加水分解型コーティング剤にバインダとして、アルミナ
球状粒子およびチタン酸カリウム繊維を混合したもの
（バインダの混合率は８０重量％）を、ブレード法また
は印刷法によって塗布し、工程（２）と同様に加熱し
て、厚さ０．１５〜０．２５ｍｍのバリアリブ１１を形
成した。

【０１０１】最後に、実施例１と同様にして作製した前
面基板１と、前面基板側バリアリブ１１および背面基板
側バリアリブ１２を形成していない隔壁基板３と、実施
例２と同様にして作製した背面基板側バリアリブ１２を
備える背面基板２とを、位置あわせして、この順に積層
し、その周囲を実施例１と同様にして封止したのち、Ｈ
ｅ−５％Ｘｅガスを封入して、チップ管をチップオフ
し、ガス放電型カラー表示パネルを得たところ、実施例
１と同様に、発色のコントラストのよい表示パネルが得
られた。

【０１０２】＜実施例４＞隔壁基板３用の基材３ａとし
て、上述の実施例１〜３ではアルミニウム板を用いた
が、本実施例では、ニッケル、コバール、ステンレス、
４２６アロイ、銅、マグネシウム、鉄、コバルト、クロ
ム、チタン、タンタル、タングステン、または、モリブ
デンを用い、実施例１〜３と同様にして表示パネルを作
製したところ、実施例１と同様の効果が得られた。

【０１０３】＜実施例５＞本実施例では、工程（６）お
よび（７）においてエッチング法の代わりに、レーザ加
工法、金型成形法、または、機械加工法で加工した以外
は、実施例１〜３と同様にして表示パネルを作製したと
ころ、実施例１〜３と同様の効果が得られた。

【０１０４】＜実施例６＞実施例１〜３では、加水分解
型コーティング剤として、表１のＮｏ．１１の組成のゲ
ルを用いて絶縁層８１を形成したが、本実施例では、Ｎ
ｏ．１〜１０または１２の組成のコーティング剤を用
い、実施例１〜３と同様にして表示パネルを作製したと
ころ、実施例１〜３と同様の効果が得られた。

【０１０５】＜実施例７＞実施例１〜３では、加水分解
型コーティング剤として、表１のＮｏ．１１の組成のゲ
ルを用いて絶縁層８１を形成したが、本実施例では、表
２のＮｏ．１〜１１または１２の組成の水ガラスをコー
ティング剤として用い、実施例１〜３と同様にして表示
パネルを作製したところ、実施例１〜３と同様の効果が
得られた。

【０１０６】＜実施例８＞実施例１〜３では、絶縁膜８
１の形成において、加水分解型コーティング剤の膜をデ
ィップ法により形成したが、本実施例では、スプレー法
または電着法により形成したところ、実施例１〜３と同
様の効果が得られた。

【０１０７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、画素と
なる各セル間をバリアリブにより隔離して放電セルを形
成し、各セル内に前面基板及び背面基板の面に平行に補
助放電による光を隠すための隔壁を形成して表示パネル
が構成されている。このため、本発明によれば、背面基
板上に形成されたセル位置で平行な２つの電極により補
助放電を発生させ、導通経路を通して前面基板に形成さ
れた平行した２つの電極間に交流電圧を印加し主放電を
発生させ、この放電により生じる紫外線で蛍光体を発光
させて前面基板を透過する光を観察する場合に、補助放
電による発光を隔壁で遮光し、主放電による発光のみを
観察することができるため、表示される画像に充分なコ
ントラストを得ることができ、また、駆動電圧も低くす
ることができ、さらに、寿命を長くすることができる。

【０１０８】また、本発明によれば、各セル間のバリア
リブと、各セル内の前面基板及び背面基板の面に平行に
設けた補助放電を隠すための隔壁とを隔壁基板とし、１
つの部品として扱うことができるように構成することが
できるので、厚膜印刷法等による複数回の印刷を不要と
することができ、位置精度の向上及び製造歩留まりの向
上を図ることができる。

【０１０９】また、本発明によるガス放電型カラー表示
パネルの製造方法によれば、隔壁基板に、絶縁材料で被
覆された金属材料を用いることにより、低コストで、高
精度の隔壁が形成でき、さらに、発光した光を金属表面
で反射することができるため高輝度のパネルが得られ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１のガス放電型カラー表示パネルの構
造を示す部分拡大断面図である。

【図２】実施例２のガス放電型カラー表示パネルの構
造を示す部分拡大断面図である。

【図３】実施例３のガス放電型カラー表示パネルの構
造を示す部分拡大断面図である。

【図４】従来技術によるガス放電型カラー表示パネル
の構造を示す部分斜視図である。

【図５】従来技術によるガス放電型カラー表示パネル
の構造を示す部分拡大断面図である。

【図６】従来技術によるガス放電型カラー表示パネル
のバリアリブの構造を示す部分拡大断面図である。

【図７】実施例１のガス放電型カラー表示パネルのバ
リアリブの構造を示す部分拡大断面図である。

【図８】実施例１のガス放電型カラー表示パネルの製
造工程を示す説明図である。

【図９】実施例２のガス放電型カラー表示パネルのバ
リアリブの構造を示す部分拡大断面図である。

【図１０】実施例３のガス放電型カラー表示パネルの
バリアリブの構造を示す部分拡大断面図である。

【符号の説明】

１…前面基板、２…背面基板、３…隔壁基板、３ａ…バ
リアリブ、３ｃ…補助放電空間、３ｄ…主放電空間、３
ｅ…導通経路、４ａ，４ｂ…ソーダガラス板、５…ＩＴ
Ｏ膜、５ａ，５ｂ…ＩＴＯ電極（透明電極）、６ａ，６
ｂ…バス電極、７ａ，７ｂ…誘電体層、８ａ，８ｂ…保
護膜（ＭｇＯ膜）、９，９ａ，９ｂ…アドレス電極、１
１…前面基板側のバリアリブ、１１ａ…前面基板側のバ
リアリブの金属部分、１１ｂ…前面基板側のバリアリブ
の絶縁膜、１２…背面基板側のバリアリブ、１２ａ…背
面基板側のバリアリブの金属部分、１２ｂ…背面基板側
のバリアリブの絶縁膜、１３…補助放電空間と主放電空
間との隔壁、１３ａ…隔壁の金属部分、１３ｂ…隔壁の
絶縁膜、１４…蛍光体層、、３０…隔壁基板用セラミッ
ク板、３２…レジスト膜、３３…封止材、８１…絶縁
膜。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者高井輝男神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地株式会社日立製作所情報映像事業部内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】間隔を保って対向して配設された、主放電
用電極を備えた前面基板と、補助放電用電極を備えた背
面基板とを備え、上記前面基板と上記背面基板との間に、少なくとも一端が上記前面基板および／または上記背面
基板に接続し、該両基板の間隙を区画するバリアリブ
と、蛍光体層と、上記バリアリブによる区画内の空間を、前面基板側の主
放電用空間および背面基板側の補助放電用空間に分離す
る放電空間分離用隔壁とを、さらに備え、上記放電空間分離用隔壁は、絶縁物で被覆された金属材料からなり、上記主放電用空間と上記補助放電用空間とを連通させる
ための貫通孔を有することを特徴とするガス放電型表示
パネル。
【請求項２】請求項１において、上記バリアリブは、少なくとも上記放電用空間に露出し
た表面が絶縁物で被覆された金属材料からなることを特
徴とするガス放電型表示パネル。
【請求項３】請求項１において、上記バリアリブと、上記放電空間分離用隔壁とは、一体
になっていることを特徴とするガス放電型表示パネル。
【請求項４】請求項１において、上記金属材料は、表面が酸化されると絶縁性の酸化被膜
が形成される物質であることを特徴とするガス放電型表
示パネル。
【請求項５】請求項２において、上記バリアリブを構成する金属材料は、表面が酸化され
ると絶縁性の酸化被膜が形成される物質であることを特
徴とするガス放電型表示パネル。
【請求項６】請求項４または５において、上記金属材料は、Ａｌ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、
Ｃｕ、Ｍｇ、Ｎｉ、Ｃｏ、およびＣｒのうちの少なくと
も一種の金属、または、該金属を含む合金であることを
特徴とするガス放電型表示パネル。
【請求項７】請求項４または５において、上記絶縁物は、上記金属材料表面に形成された、上記金属材料の酸化物
からなる第１の絶縁膜を有することを特徴とするガス放
電型表示パネル。
【請求項８】請求項４または５において、上記絶縁物は、有機金属化合物を加水分解して得られるゲル、または、
アルカリケイ酸塩の水溶液を、加熱することにより得ら
れる無機酸化物であることを特徴とするガス放電型表示
パネル。
【請求項９】請求項７において、上記絶縁物は、上記第１の絶縁膜表面に形成された、有機金属化合物を加水分解して得られるゲル、または、
アルカリケイ酸塩の水溶液を、加熱することにより得ら
れる無機酸化物からなる第２の絶縁膜をさらに備えるこ
とを特徴とするガス放電型表示パネル。
【請求項１０】請求項１において、上記蛍光体層表面に、絶縁材料からなる絶縁層をさらに
備え、上記蛍光体層は、上記主放電用空間の内壁を構成する上記バリアリブ側面
および上記放電空間分離用隔壁表面に備えられることを
特徴とするガス放電型表示パネル。
【請求項１１】主放電用電極を備える前面基板を形成す
る前面基板形成工程と、補助放電用電極を備える背面基板を形成する背面基板形
成工程と、上記前面基板および上記背面基板の間の空間を、前面基
板側の主放電用空間および背面基板側の補助放電用空間
に分離する放電空間分離用隔壁を備える隔壁基板を形成
する隔壁基板形成工程と、上記背面基板、上記隔壁基板、および上記前面基板を、
この順で積層し、積層体側面を封止材で固定する組み立
て工程とを備え、上記隔壁基板形成工程は、金属材料からなる基材を成形して、貫通孔を有する上記
放電空間分離用隔壁と、該隔壁に接続した、上記主放電
用空間および／または補助放電用空間を分画するバリア
リブとの形状に加工して成形体を得る成形工程と、上記成形体の少なくとも一部を絶縁材により被覆して、
上記放電空間分離用隔壁および上記バリアリブを形成す
る絶縁工程と、上記放電空間分離用隔壁および上記バリアリブの表面の
少なくとも一部に、蛍光体層を形成する蛍光体層形成工
程とを備えることを特徴とするガス放電型表示パネルの
製造方法。
【請求項１２】請求項１１において、上記成形工程は、上記基材を、エッチング法、レーザ加工法、金型成形
法、および機械加工法の内の少なくとも一つの方法で加
工する工程を含むことを特徴とするガス放電型表示パネ
ルの製造方法。
【請求項１３】請求項１１において、上記絶縁工程は、上記成形体表面を、有機金属化合物を加水分解して得ら
れるゲル、または、アルカリケイ酸塩の水溶液により被
覆し、熱処理して、上記絶縁材である金属酸化物の被膜
を形成する工程を含むことを特徴とするガス放電型表示
パネルの製造方法。
【請求項１４】請求項１１において、上記絶縁工程は、上記成形体表面に、上記絶縁材として、上記金属材料の
酸化物である酸化被膜を形成する工程であることを特徴
とするガス放電型表示パネルの製造方法。
【請求項１５】請求項１４において、上記絶縁工程は、上記成形体表面に形成された上記酸化被膜の表面を、有
機金属化合物を加水分解して得られるゲル、または、ア
ルカリケイ酸塩の水溶液により被覆し、熱処理して、金
属酸化物の被膜を形成する工程をさらに含むことを特徴
とするガス放電型表示パネルの製造方法。
【請求項１６】請求項１１において、上記蛍光体層形成工程は、上記隔壁基板の表面のうち、少なくとも上記蛍光体層の
表面を、有機金属化合物を加水分解して得られるゲル、
または、アルカリケイ酸塩の水溶液により被覆し、熱処
理して、金属酸化物の被膜を形成する工程をさらに含む
ことを特徴とするガス放電型表示パネルの製造方法。