JPH0829713A - マルチビーム走査光学装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ビーム分離手段（ダイクロイックミラー）を
利用して合成画像を形成する際、該ビーム分離手段で発
生する被走査面上での走査線の湾曲を補正し良質なる合
成画像が得られるマルチビーム走査光学装置を得るこ
と。 【構成】 複数の光源から出射した波長の異なる複数の
光ビームを各々対応する光学部材を通してビーム合成手
段で合成し、合成した光ビームを偏向反射する複数の偏
向面を有する光偏向器を介して結像手段で集光し、合成
した光ビームを波長領域に応じて反射及び透過させるビ
ーム分離手段で複数の光ビームに分離した後、被走査面
上の異なった複数の領域に導光し、複数の光ビームで被
走査面上を光走査する際、ビーム分離手段を透過する光
ビームが主走査面と垂直な面内で該光偏向器の偏向面に
対して斜め方向から入射するように各要素を構成して、
該光ビームがビーム分離手段を透過する際に発生する被
走査面上での走査線の湾曲を補正したこと。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はマルチビーム走査光学装
置に関し、特に波長の異なる複数の光ビーム（レーザ
光）を利用して被走査面としての記録媒体（例えば感光
体ドラム）面上の複数位置に導光し光走査して画像の記
録をする、例えばマルチカラー複写機やマルチカラーレ
ーザープリンタ等の画像形成装置に好適なマルチビーム
走査光学装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より、マルチカラー複写機等に用い
られるマルチビーム走査光学装置においては光源として
波長の異なる複数の半導体レーザを用い、該複数の半導
体レーザから出射した複数の光ビーム（レーザ光）をビ
ーム合成手段としての合成用ダイクロイックミラーで１
つの光路に合成している。そして合成した光ビームを偏
向反射する光偏向器を介して結像レンズ（ｆθレンズ）
で集光し、ビーム分離手段としての分離用ダイクロイッ
クミラーで複数の光ビームに分離した後、同一の被走査
面（感光体ドラム面）上の異なった複数の領域に導光
し、該複数の光ビームで該被走査面上を光走査すること
により画像記録を行なっている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】一般に厚みのあるビー
ム分離手段としてのダイクロイックミラーを光路中に結
像レンズの光軸に対して斜め（例えば４５度）に傾けて
配置すると、該ダイクロイックミラーを透過した光ビー
ムは該ダイクロイックミラーへの入射角及び該ダイクロ
イックミラーのミラー基板の厚みに応じて感光体ドラム
面上での走査線の直線性が失われ湾曲が生じてしまうと
いう問題点がある。

【０００４】この状態のままで感光体ドラム面上を光走
査すると、この透過した光ビームは例えば図１０に示す
点線１９のように該感光体ドラム９面上で１ラインの走
査線が円弧を描いた状態（湾曲状態）となる。

【０００５】一方、分離ダイクロイックミラーで反射し
た光ビームは該分離ダイクロイックミラーで反射する際
に生じる湾曲は発生しない。この為感光体ドラム９面上
を光走査する１ラインの走査線は例えば図１０に示す実
線１８のように直線状態となって維持される。

【０００６】従って、このようなマルチビーム走査光学
装置を、例えばマルチカラー複写機に適用して複数色の
合成を行なった場合、合成画像上で色ズレや混色等が発
生し、良質なる複写画像が得られないという問題点があ
った。

【０００７】本発明はビーム分離手段としての分離用ダ
イクロイックミラーで分離した複数の光ビームを利用し
て被走査面（感光体ドラム面）上の異なる領域を光走査
する際、該分離用ダイクロイックミラーで分離した光ビ
ームのうち透過する光ビームを主走査面と垂直な面内
（副走査断面内）で光偏向器の偏向面に対して斜め方向
から入射するように各要素を構成することにより、該ビ
ーム分離手段を透過した際に発生する被走査面上での走
査線の湾曲を良好に補正し、良質なる合成画像（複写画
像）を得ることができるマルチビーム走査光学装置の提
供を目的とする。

【０００８】又、本発明はビーム分離手段としての分離
用ダイクロイックミラーで分離した複数の光ビームを利
用して被走査面（感光体ドラム面）上の異なる領域を光
走査する際、該被走査面上を光走査する複数の光ビーム
の走査線の状態がそれぞれ略一致するように該複数の光
ビームのうち少なくとも１つの光ビームを主走査面と垂
直な面内で光偏向器の偏向面に対して斜め方向から入射
するように各要素を構成することにより、良質なる合成
画像（複写画像）を得ることができるマルチビーム走査
光学装置の提供を目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明のマルチビーム走
査光学装置は、 （１−１）複数の光源から出射した波長の異なる複数の
光ビームを各々対応する光学部材を通してビーム合成手
段で合成し、該合成した光ビームを偏向反射する複数の
偏向面を有する光偏向器を介して結像手段で集光し、該
合成した光ビームを波長領域に応じて反射及び透過させ
るビーム分離手段で複数の光ビームに分離した後、被走
査面上の異なった複数の領域に導光し、該複数の光ビー
ムで該被走査面上を光走査する際、該ビーム分離手段を
透過する光ビームが主走査面と垂直な面内で該光偏向器
の偏向面に対して斜め方向から入射するように各要素を
構成して、該光ビームが該ビーム分離手段を透過する際
に発生する被走査面上での走査線の湾曲を補正したこと
を特徴としている。

【００１０】特に前記複数の光源のうち少なくとも１つ
の光源を主走査面と垂直な面内において前記対応する光
学部材の光軸からズラして配置することにより、前記ビ
ーム分離手段で透過する光ビームを主走査面と垂直な面
内で前記光偏向器の偏向面に対して斜め方向から入射さ
せたことや、前記ビーム合成手段を主走査面と垂直な面
内において前記光学部材の光軸に対して傾けて配置する
ことにより、前記ビーム分離手段で透過する光ビームを
主走査面と垂直な面内で前記光偏向器の偏向面に対して
斜め方向から入射させたことや、前記ビーム分離手段は
ダイクロイックミラーより成っていること等を特徴とし
ている。

【００１１】（１−２）複数の発光部をアレイ状に並置
した光源より出射した波長の異なる複数の光ビームを光
学部材を通して複数の偏向面を有する光偏向器に導光
し、該光偏向器で偏向反射させ、結像手段で集光した後
に、該複数の光ビームを波長領域に応じて反射及び透過
させるビーム分離手段により反射光と透過光の光ビーム
に分離した後、被走査面上の異なった複数の領域に各々
導光し、該複数の光ビームで該被走査面上を光走査する
際、該ビーム分離手段を透過する光ビームが主走査面と
垂直な面内で該光偏向器の偏向面に対して斜め方向から
入射するように各要素を構成して、該光ビームが該ビー
ム分離手段を透過する際に発生する被走査面上での走査
線の湾曲を補正したことを特徴としている。

【００１２】特に前記複数の発光部のうち少なくとも１
つの発光部を主走査面と垂直な面内において前記光学部
材の光軸からズラして配置することにより、前記ビーム
分離手段で透過する光ビームを主走査面と垂直な面内で
前記光偏向器の偏向面に対して斜め方向から入射させた
ことや、前記ビーム分離手段はダイクロイックミラーよ
り成っていること等を特徴としている。

【００１３】（１−３）複数の光源から出射した波長の
異なる複数の光ビームを各々対応する光学部材を通して
ビーム合成手段で合成し、該合成した光ビームを偏向反
射する複数の偏向面を有する光偏向器を介して結像手段
で集光し、該合成した光ビームを波長領域に応じて反射
及び透過させるビーム分離手段で複数の光ビームに分離
した後、被走査面上の異なった複数の領域に導光し、該
複数の光ビームで該被走査面上を光走査する際、該被走
査面上を光走査する複数の光ビームの走査線の状態がそ
れぞれ略一致するように該複数の光ビームのうち少なく
とも１つの光ビームを主走査面と垂直な面内で該光偏向
器の偏向面に対して斜め方向から入射するように各要素
を構成したことを特徴としている。

【００１４】特に前記複数の光源のうち少なくとも１つ
の光源を主走査面と垂直な面内において前記対応する光
学部材の光軸からズラして配置することにより、前記複
数の光ビームのうち少なくとも１つの光ビームを主走査
面と垂直な面内で前記光偏向器の偏向面に対して斜め方
向から入射させたことや、前記ビーム合成手段を主走査
面と垂直な面内において前記光学部材の光軸に対して傾
けて配置することにより、前記複数の光ビームのうち少
なくとも１つの光ビームを主走査面と垂直な面内で前記
光偏向器の偏向面に対して斜め方向から入射させたこと
や、前記ビーム分離手段はダイクロイックミラーより成
っていること等を特徴としている。

【００１５】

【実施例】図１は本発明の実施例１の要部側面図（副走
査断面図）、図２は本発明の実施例１の要部平面図（主
走査断面図）である。

【００１６】図中、１ａ，１ｂは各々光源としての半導
体レーザであり、画像信号に基づき光変調された光ビー
ム（レーザ光）を出射している。各半導体レーザ１ａ，
１ｂから出射する光ビームの波長は各々異なり、例えば
半導体レーザ１ａから出射する光ビームの波長λ₁ は６
７０ｎｍ、半導体レーザ１ｂから出射する光ビームの波
長λ₂ は７８０ｎｍである。本実施例においては主走査
面と垂直な面内（副走査面内）において半導体レーザ１
ａを光学部材としてのコリメーターレンズ２ａの光軸か
ら所定量ズラして配置し、該半導体レーザ１ａから出射
した光ビームが偏向手段としての光偏向器５の偏向面５
ａへ入射する際、所定の角度θを持って斜め方向から入
射（斜入射）するように構成している。これにより後述
するようにビーム分離手段（分離用ダイクロイックミラ
ー）を透過した際に発生する光ビームの被走査面上での
走査線の湾曲を補正している。

【００１７】２ａ，２ｂは各々光学部材としてのコリメ
ーターレンズであり、各々対応する各半導体レーザ１
ａ，１ｂから出射した光ビームを略平行光束としてい
る。

【００１８】３はビーム合成手段であり、ダイクロイッ
クミラー（合成用ダイクロイックミラー）より成ってお
り、図３に示す分光透過率特性を有している。この合成
用ダイクロイックミラー３は半導体レーザ１ａから出射
した波長６７０ｎｍの光ビームを透過させ、半導体レー
ザ１ｂから出射した波長７８０ｎｍの光ビームを反射さ
せ１つの光路に合成している。

【００１９】４はシリンドリカルレンズであり、副走査
断面のみ所定の屈折力を有している。５は複数の偏向面
を有する光偏向器であり、回転多面鏡より成っており、
駆動手段（不図示）により矢印Ａ方向に所定の速度で回
転している。

【００２０】６は結像手段としてのｆθ特性を有する結
像レンズ（ｆθレンズ）であり、球面レンズ６ａとトー
リックンレンズ６ｂの２つのレンズより成っており、光
偏向器５の偏向面５ａで偏向反射した複数の光ビームを
集光し、後述するビーム分離手段（分離用ダイクロイッ
クミラー）と折り返しミラーを介して被走査面としての
感光体ドラム面上の異なった２つの露光位置Ｐ１，Ｐ２
にそれぞれ結像（集束）させている。

【００２１】ビーム分離手段としての分離用ダイクロイ
ックミラー７は上記の合成用ダイクロイックミラー３の
光学特性（図３に示す透過率特性）と同様に入射した光
ビームのうち波長６７０ｎｍの光ビームを透過させ、波
長７８０ｎｍの光ビームを反射させることにより２つの
光ビームに分離している。又本実施例における分離用ダ
イクロイックミラー７は結像レンズ６の光軸上の光ビー
ムの入射角が略４５度となるように該結像レンズ６の光
軸に対して所定方向へ傾けて配置している。

【００２２】８ａは折り返しミラーであり、分離用ダイ
クロイックミラー７で反射された波長７８０ｎｍの光ビ
ームを感光体ドラム９面上の第１の露光位置Ｐ１に導い
ている。８ｂ，８ｃは各々折り返しミラーであり、分離
用ダイクロイックミラー７を透過した波長６７０ｎｍの
光ビームを感光体ドラム９面上の第２の露光位置Ｐ２に
導いている。感光体ドラム９は図中矢印Ｂ方向（副走査
方向）に所定の速度で回転している。

【００２３】本実施例においてはこのような構成により
各半導体レーザ１ａ，１ｂから画像信号により光変調さ
れて出射した波長６７０ｎｍの光ビームと波長７８０ｎ
ｍの光ビームとをそれぞれのコリメーターレンズ２ａ，
２ｂにより略平行な光ビームに変換し、合成用ダイクロ
イックミラー３により１つの光路に合成した後、シリン
ドリカルレンズ４に入射させている。シリンドリカルレ
ンズ４は入射した光ビームのうち主走査断面においては
そのまま平行光ビームの状態で射出させ、副走査断面内
においては集束して光偏向器５の偏向面５ａにほぼ線像
として結像させている。

【００２４】本実施例においてはこのとき半導体レーザ
１ａから出射した波長６７０ｎｍの光ビームが主走査面
と垂直な面内（副走査面内）において光偏向器５の偏向
面５ａへ斜め方向から入射するように、該半導体レーザ
１ａをコリメーターレンズ２ａの光軸から所定量ズラし
て配置している。

【００２５】その後、光偏向器５の偏向面５ａによって
偏向反射した光ビームは結像レンズ６で集光され分離用
ダイクロイックミラー７に入射している。そして波長７
８０ｎｍの光ビームは分離用ダイクロイックミラー７に
より反射され折り返しミラー８ａを介して感光体ドラム
９面上の第１の露光位置Ｐ１に結像（集束）している。

【００２６】一方、波長６７０ｎｍの光ビームは分離用
ダイクロイックミラー７を透過し２つの折り返しミラー
８ｂ，８ｃを介して感光体ドラム９面上の第２の露光位
置Ｐ２に結像（集束）している。

【００２７】そして光偏向器５を矢印Ａ方向に回転させ
ることによって露光位置Ｐ１，Ｐ２の紙面に対して垂直
な方向（主走査方向）に光走査している。そして主走査
方向の露光と共に感光体ドラム９の矢印Ｂ方向（副走査
方向）の回転に伴ない露光位置Ｐ１，Ｐ２で感光体ドラ
ム９を順次露光し、各々に対応した現像器（不図示）に
より該感光体ドラム９面上に静電潜像を現像している。

【００２８】次に分離用ダイクロイックミラーを透過し
た際に発生する光ビームの走査線の湾曲を補正する方法
について説明する。

【００２９】一般に前述したように分離用ダイクロイッ
クミラーを透過した光ビームは該分離用ダイクロイック
ミラーへ入射する入射角及び該分離用ダイクロイックミ
ラーのミラー基板の厚みに応じ走査線の直線性が失われ
湾曲を生じてしまう。

【００３０】そこで本実施例においては図４、図５に示
す構成をとることによって分離用ダイクロイックミラー
を透過した際に発生する光ビームの走査線の湾曲を補正
している。ここで図４、図５は各々本発明の実施例１の
光源から光偏向器に至るまでの副走査断面図であり、図
４は半導体レーザ１ｂから光偏向器５に至るまでの副走
査断面図、図５は半導体レーザ１ａから光偏向器５に至
るまでの副走査断面図を示している。

【００３１】図４において半導体レーザ１ｂはコリメー
ターレンズ２ｂの光軸（不図示のｆθレンズの光軸に一
致）上に配置され、該半導体レーザ１ｂから出射した光
ビームを光偏向器５の偏向面５ａに垂直に入射させてい
る。一方図５において半導体レーザ１ａはコリメーター
レンズ２ａの光軸から図面上上方向にズラして配置さ
れ、該半導体レーザ１ａから出射した光ビームを光偏向
器５の偏向面５ａに角度θを持って入射（斜入射）させ
ている。

【００３２】このとき角度θで偏向面５ａに入射した半
導体レーザ１ａからの光ビームは該偏向面５ａで偏向反
射した後、ｆθレンズ６により感光体ドラム９面上に結
像するが、該光ビームは副走査断面内で偏向面５ａに対
して角度θをもって入射している為、該光偏向器５の回
転に応じて該偏向面５ａ上での反射点が上下にズレ、こ
の結果感光体ドラム９面上で該光ビームの走査線に湾曲
が発生する。

【００３３】そこで本実施例においてはこのときの湾曲
量が分離用ダイクロイックミラー７を透過する際に発生
する光ビームの湾曲量と略同量で湾曲する方向のみが異
なるように偏向面５ａに入射する光ビーム（波長６７０
ｎｍ）の入射角θを該分離用ダイクロイックミラー７へ
の入射角及び基板の厚み、又ｆθレンズの横倍率等に応
じて適宜設定することにより逆補正を掛けている。これ
により感光体ドラム９面を光走査する１ラインの走査線
の状態が図９に示す点線１７のように湾曲のない直線状
態となるように補正している。

【００３４】尚、図９において実線１６は分離用ダイク
ロイックミラー７で反射した光ビームの走査線、点線１
７は分離用ダイクロイックミラー７で透過した光ビーム
の走査線の状態を示している。

【００３５】このように本実施例においては分離用ダイ
クロイックミラー７を透過する際に発生する光ビームの
走査線の湾曲を前述の如く光偏向器５へ入射する際の光
ビームの入射角度を適切に設定することにより補正し、
これにより色ズレや混色等のない良質なる合成画像（複
写画像）を得ている。

【００３６】尚、本実施例においては複数の光ビームの
うち一方の光ビームの波長を７８０ｎｍ、他方の光ビー
ムの波長を６７０ｎｍとしたが、これらの光ビームの波
長はビーム合成手段あるいはビーム分離手段で合成ある
いは分離できる波長であれば特に限定することはない。

【００３７】図６は本発明の実施例２の一部分の要部平
面図（主走査断面図）である。図６において図２に示し
た要素と同一要素には同符番を付している。

【００３８】同図において１３はビーム合成手段であ
り、ダイクロイックミラー（合成用ダイクロイックミラ
ー）より成っており、図７に示す透過率特性を有してお
り、半導体レーザ１ａから出射した波長６７０ｎｍの光
ビームを反射させ、半導体レーザ１ｂから出射した波長
７８０ｎｍの光ビームを透過させ１つの光路に合成して
いる。

【００３９】本実施例におけるビーム合成手段１３は後
述するように主走査面と垂直な面内（副走査面内）にお
いてコリメーターレンズ２ａの光軸に対して所定方向へ
傾けて配置しており、半導体レーザ１ａから出射した光
ビームが光偏向器５の偏向面５ａへ所定の角度θを持っ
て斜め方向から入射（斜入射）するようにしている。
尚、ビーム分離手段としての分離用ダイクロイックミラ
ー（不図示）は前述したように図３に示した透過率特性
を有し、入射した光ビームのうち波長６７０ｎｍの光ビ
ームを透過させ、波長７８０ｎｍの光ビームを反射させ
ることにより２つの光ビームに分離している。

【００４０】次に本実施例において前述の実施例１と異
なる点を中心に説明する。

【００４１】前述の実施例１では副走査断面内において
半導体レーザ１ａをコリメーターレンズ２ａの光軸に対
して所定量ズラすことにより光偏向器５の偏向面５ａに
入射する該半導体レーザ１ａからの光ビームを斜め方向
から入射させていたが、本実施例では合成用ダイクロイ
ックミラー３を副走査断面内においてコリメーターレン
ズ２ａの光軸に対して所定方向へ傾けることにより、光
偏向器５の偏向面５ａに入射する半導体レーザ１ａから
の光ビームを斜め方向から入射させている。これにより
前述の実施例１と同様に分離用ダイクロイックミラーを
透過する際に発生する光ビームの走査線の湾曲を効果的
に補正している。

【００４２】即ち、本実施例においては図６に示すｘ−
ｙ座標系において合成用ダイクロイックミラー１３をｙ
軸を回転軸として任意の角度αだけ傾けることにより半
導体レーザ１ａから出射した波長６７０ｎｍの光ビーム
のみを光偏向器５の偏向面５ａに対して斜め方向から入
射させ、前述の如くこのとき発生する走査線の湾曲量が
分離用ダイクロイックミラー（不図示）を透過する際に
発生する光ビームの走査線の湾曲量と略同量で湾曲する
方向のみが異なるように補正している。

【００４３】このとき光偏向器５の偏向面５ａに入射す
る波長６７０ｎｍの光ビームの入射角度θは前述の実施
例１と同様に分離用ダイクロイックミラーへの入射角及
び基板の厚み、又ｆθレンズの横倍率等に応じて適宜設
定している。図８はこのときの様子を示した半導体レー
ザ１ａから光偏向器５に至るまでの副走査断面図であ
る。

【００４４】このように本実施例においては前述の如く
合成用ダイクロイックミラー１３を副走査断面内におい
てコリメーターレンズ２ａの光軸に対して所定方向へ傾
けることにより、分離用ダイクロイックミラーを透過す
る際に発生する光ビームの走査線の湾曲を効果的に補正
することができ、これにより前述の実施例１と同様な効
果を得ている。

【００４５】次に本発明の実施例３について説明する。

【００４６】前述の実施例１，２では光源として別個の
半導体レーザを２つ用いたが、本実施例においては波長
の異なる複数の光ビームを出射するモノリシックなマル
チレーザアレイ（複数の発光部をアレイ状に並置した光
源）を用いている。

【００４７】即ち、本実施例ではマルチレーザアレイを
構成する発光部のうち分離用ダイクロイックミラーで反
射する光ビームを出射する発光部をコリメーターレンズ
の光軸上に配置し、該分離用ダイクロイックミラーで透
過する光ビームを出射する発光部を該コリメーターレン
ズの光軸に対して所定量ズラして配置している。これに
より前述の実施例１，２と同様に分離用ダイクロイック
ミラーで透過する光ビームを副走査断面内で光偏向器の
偏向面へ斜め方向から入射させることによって、該分離
用ダイクロイックミラーを透過した際に発生する光ビー
ムの走査線の湾曲を効果的に補正している。

【００４８】本実施例においてはこのように光源として
マルチレーザアレイを用いることによってコリメーター
レンズを共用することができ、かつ合成用ダイクロイッ
クミラーを用いずに光学系を構成することができる為、
装置全体の小型化及び低コスト化が図れるといった利点
がある。

【００４９】尚、以上の各実施例においてはビーム分離
手段を透過した際に生じた波長６７０ｎｍの光ビームの
走査線の湾曲を補正したが、例えばその逆に該ビーム分
離手段で反射した波長７８０ｎｍの光ビームに該波長６
７０ｎｍの光ビームの湾曲量と同量で、かつ同一方向に
湾曲が発生するように構成しても本発明は２つの光ビー
ム間の相対的な湾曲量のズレを補正することができる。

【００５０】即ち、ビーム分離手段で反射する波長７８
０ｎｍの光ビームの走査線の状態を図１０の点線１９で
示すようにビーム分離手段で透過する波長６７０ｎｍの
光ビームの走査線の状態（湾曲状態）と略同一の状態に
なるように、例えば副走査断面内において該波長７８０
ｎｍの光ビームを出射する半導体レーザの位置をコリメ
ーターレンズの光軸よりズラして配置したり、あるいは
合成用ダイクロイックミラーを光軸に対して所定方向へ
傾けたりすることによって湾曲を発生させ、これにより
波長６７０ｎｍの光ビームの走査線の状態（湾曲状態）
と略同一の状態となるようにしている。

【００５１】このように光学系を構成することによって
も２つの光ビーム間の相対的な湾曲量のズレは補正され
るので、本発明が解決しようとしている課題については
適応された構成をとることができる。

【００５２】尚、以上の各実施例においては互いに波長
の異なる２つの光ビームを用いて例えば２色画像を得る
ように構成したが、これに限定されることなく、例えば
互いに波長の異なる３つ以上の光ビームを用いて多色画
像を得るようにした走査光学装置においても本発明は前
述の実施例と同様に適用することができる。

【００５３】

【発明の効果】本発明によれば前述の如くビーム分離手
段で分離される複数の光ビームのうち透過する光ビーム
が主走査面と垂直な面内（副走査断面内）で光偏向器の
偏向面に対して斜め方向から入射（斜入射）するように
各要素を構成することにより、該ビーム分離手段を透過
する際に発生する被走査面上での走査線の湾曲を効果的
に補正することができ、これにより色ズレや混色等のな
い良質なる合成（多色）画像を得ることができるマルチ
ビーム走査光学装置を達成することができる。

【００５４】又、本発明によれば前述の如くビーム分離
手段で分離した複数の光ビームのうち少なくとも１つの
光ビームを主走査面と垂直な面内で光偏向器の偏向面に
対して斜め方向から入射するように各要素を構成するこ
とにより、被走査面上を光走査する複数の光ビームの走
査線の状態をそれぞれ略一致させることができ、これに
より色ズレや混色等のない良質なる合成（多色）画像を
得ることができるマルチビーム走査光学装置を達成する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の実施例１の要部側面図

【図２】 本発明の実施例１の要部平面図

【図３】 本発明の実施例１の分離用ダイクロイックミ
ラーの特性図

【図４】 本発明の実施例１の要部側面図

【図５】 本発明の実施例１の要部側面図

【図６】 本発明の実施例２の要部側面図

【図７】 本発明の実施例２の分離用ダイクロイックミ
ラーの特性図

【図８】 本発明の実施例２の要部平面図

【図９】 本発明の実施例１の感光体ドラム面上での走
査線の状態を示した説明図

【図１０】 従来のマルチビーム走査光学装置の感光体
ドラム面上での走査線の状態を示した説明図

【符号の説明】

１ａ，１ｂ 光源（半導体レーザ） ２ａ，２ｂ コリメーターレンズ ３，１３ ビーム合成手段 ４ シリンドリカルレンズ ５ 光偏向器 ６ 結像手段 ７ ビーム分離手段 ８ａ，８ｂ，８ｃ 折り返しミラー ９ 被走査面（感光体ドラム） １６，１７ 走査線

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の光源から出射した波長の異なる複
   数の光ビームを各々対応する光学部材を通してビーム合
   成手段で合成し、該合成した光ビームを偏向反射する複
   数の偏向面を有する光偏向器を介して結像手段で集光
   し、該合成した光ビームを波長領域に応じて反射及び透
   過させるビーム分離手段で複数の光ビームに分離した
   後、被走査面上の異なった複数の領域に導光し、該複数
   の光ビームで該被走査面上を光走査する際、 該ビーム分離手段を透過する光ビームが主走査面と垂直
   な面内で該光偏向器の偏向面に対して斜め方向から入射
   するように各要素を構成して、該光ビームが該ビーム分
   離手段を透過する際に発生する被走査面上での走査線の
   湾曲を補正したことを特徴とするマルチビーム走査光学
   装置。
2. 【請求項２】 前記複数の光源のうち少なくとも１つの
   光源を主走査面と垂直な面内において前記対応する光学
   部材の光軸からズラして配置することにより、前記ビー
   ム分離手段で透過する光ビームを主走査面と垂直な面内
   で前記光偏向器の偏向面に対して斜め方向から入射させ
   たことを特徴とする請求項１のマルチビーム走査光学装
   置。
3. 【請求項３】 前記ビーム合成手段を主走査面と垂直な
   面内において前記光学部材の光軸に対して傾けて配置す
   ることにより、前記ビーム分離手段で透過する光ビーム
   を主走査面と垂直な面内で前記光偏向器の偏向面に対し
   て斜め方向から入射させたことを特徴とする請求項１の
   マルチビーム走査光学装置。
4. 【請求項４】 前記ビーム分離手段はダイクロイックミ
   ラーより成っていることを特徴とする請求項１のマルチ
   ビーム走査光学装置。
5. 【請求項５】 複数の発光部をアレイ状に並置した光源
   より出射した波長の異なる複数の光ビームを光学部材を
   通して複数の偏向面を有する光偏向器に導光し、該光偏
   向器で偏向反射させ、結像手段で集光した後に、該複数
   の光ビームを波長領域に応じて反射及び透過させるビー
   ム分離手段により反射光と透過光の光ビームに分離した
   後、被走査面上の異なった複数の領域に各々導光し、該
   複数の光ビームで該被走査面上を光走査する際、 該ビーム分離手段を透過する光ビームが主走査面と垂直
   な面内で該光偏向器の偏向面に対して斜め方向から入射
   するように各要素を構成して、該光ビームが該ビーム分
   離手段を透過する際に発生する被走査面上での走査線の
   湾曲を補正したことを特徴とするマルチビーム走査光学
   装置。
6. 【請求項６】 前記複数の発光部のうち少なくとも１つ
   の発光部を主走査面と垂直な面内において前記光学部材
   の光軸からズラして配置することにより、前記ビーム分
   離手段で透過する光ビームを主走査面と垂直な面内で前
   記光偏向器の偏向面に対して斜め方向から入射させたこ
   とを特徴とする請求項５のマルチビーム走査光学装置。
7. 【請求項７】 前記ビーム分離手段はダイクロイックミ
   ラーより成っていることを特徴とする請求項５のマルチ
   ビーム走査光学装置。
8. 【請求項８】 複数の光源から出射した波長の異なる複
   数の光ビームを各々対応する光学部材を通してビーム合
   成手段で合成し、該合成した光ビームを偏向反射する複
   数の偏向面を有する光偏向器を介して結像手段で集光
   し、該合成した光ビームを波長領域に応じて反射及び透
   過させるビーム分離手段で複数の光ビームに分離した
   後、被走査面上の異なった複数の領域に導光し、該複数
   の光ビームで該被走査面上を光走査する際、 該被走査面上を光走査する複数の光ビームの走査線の状
   態がそれぞれ略一致するように該複数の光ビームのうち
   少なくとも１つの光ビームを主走査面と垂直な面内で該
   光偏向器の偏向面に対して斜め方向から入射するように
   各要素を構成したことを特徴とするマルチビーム走査光
   学装置。
9. 【請求項９】 前記複数の光源のうち少なくとも１つの
   光源を主走査面と垂直な面内において前記対応する光学
   部材の光軸からズラして配置することにより、前記複数
   の光ビームのうち少なくとも１つの光ビームを主走査面
   と垂直な面内で前記光偏向器の偏向面に対して斜め方向
   から入射させたことを特徴とする請求項８のマルチビー
   ム走査光学装置。
10. 【請求項１０】 前記ビーム合成手段を主走査面と垂直
    な面内において前記光学部材の光軸に対して傾けて配置
    することにより、前記複数の光ビームのうち少なくとも
    １つの光ビームを主走査面と垂直な面内で前記光偏向器
    の偏向面に対して斜め方向から入射させたことを特徴と
    する請求項８のマルチビーム走査光学装置。
11. 【請求項１１】 前記ビーム分離手段はダイクロイック
    ミラーより成っていることを特徴とする請求項８のマル
    チビーム走査光学装置。