JPH09274152A - マルチビーム書込光学系 - Google Patents
マルチビーム書込光学系Info
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Abstract
走査面上での複数ビームの走査線曲がりやピッチ偏差を
画像形成の忠実性が保てる範囲に低減させるマルチビー
ム書込光学系を得る。 【解決手段】 副走査方向に並んだ個別変調可能な複数
発光部1a,1bと、この発光部からの出射光を取り込
むカップリング光学系と、このカップリング光学系から
の複数光束を副走査方向で偏向器8近傍に結像させる第
1結像系7と、複数光束を偏向走査する偏向器8と、偏
向器8で偏向された複数光束を被走査面20に結像する
第2結像系9からなl、第1結像系7より発光部側に位
置する光学系によって作られる副走査方向の射出瞳と第
2結像系9を副走査方向で略共役関係にした。
Description
ンの光走査を行うマルチビーム走査装置に関するもの
で、例えば、レーザービームプリンタ等の画像形成装置
やレーザービーム走査を利用する計測やディスプレイ分
野等に適用可能なものである。
被走査面として例えば感光体面上を一括走査するように
したマルチビーム走査装置が画像形成装置などで用いら
れている。このような一走査で複数ラインの光走査を行
うマルチビーム走査装置においては、被走査面上の副走
査方向の複数走査線相互のピッチが不安定であると、形
成された画像の質が低下するので、複数走査線相互のピ
ッチを安定に保つための技術が提案されている。
ている「テレセントリックな主出口光線を有する多重ビ
ームラスタ出力スキャナ光学システム」はその一つであ
る。この公報記載の発明は、複数光源として発光部を副
走査方向に25μm隔てて配列した二つのレーザダイオ
ードを用い、同光源から出射した二つの光ビームを偏向
器である回転ポリゴンの同一ポリゴン面で同時に反射さ
せた後、同偏向器から被走査面への出射側で、副走査方
向には装置光軸とほぼ平行に出射させ、副走査方向には
テレセントリックとしたものである。
査装置」はマルチビーム走査装置の別の従来例である。
この公報記載の発明は、副走査方向に複数の発光部を有
する光源手段から複数光束を放射し、放射された複数光
束を開口を介して副走査方向にパワーを有するアナモフ
ィック光学系で偏向器に結像させ、さらにその偏向され
た光束を結像光学系により被走査面上を複数走査線とし
て一度に走査するマルチビーム走査装置において、前記
アナモフィック光学系により前記開口部と前記結像光学
系を共役にし、さらには開口部側が等倍もしくは縮小側
になるようにすることで、複数光束のうちの軸外を通る
光束が前記結像光学系の光軸から離れずに出射するよう
にしたものである。
596号公報中に記載されているように、被走査面への
出射側で出射主光線が副走査方向に装置光軸と平行でな
く、各出射光線が装置光軸となす角度(同公報中では
「角度偏差」と呼ぶ)が大きい場合には、各部品の取付
け誤差や回転ポリゴン面の回転中の面倒れにより、走査
線曲がりの差(同公報中では「差分曲がり」と呼ぶ)が
大きくなってしまう。特に上記公報記載のものでは被走
査面で3走査線分を飛び越して(3走査線分を間におい
て)走査しているので、上記角度偏差は隣接走査線を同
時走査する場合に比べはるかに大きくなり、その分走査
線曲がりの差も大きくなってしまう。そこで上記公報記
載の発明では、被走査面への出射光が副走査方向には装
置光軸とほぼ平行に出射するように副走査方向にはテレ
セントリックという特別な光学配置をとっている。
してしまう欠点がある。すなわち、出射側でテレセント
リックにするためには、出射側光学素子の物体側(光源
に近い側)焦点で2つのビームが交差するように、すな
わち、副走査方向で開口部と共役となるように、入力側
シリンドリカルレンズと開口部の距離を拡げなければな
らない。これは走査光学系の光源側を大型化してしまう
ことになり好ましくない。また、上記入力側シリンドリ
カルレンズと開口部の距離をできるだけ縮めるために
は、入力側シリンドリカルレンズのパワーを上げること
も考えられるが、収差を悪化させずにパワーを上げるに
は限界があり、小型化は難しい。また、上記公報記載の
発明のような飛び越し走査は、画像データの処理が複雑
になるという問題もある。
の発明では、光源側開口部と結像光学系を共役にしてい
るので、開口部と射出位置が異なる場合などには、効果
がなく、適用できる光学系は限定される。
解消するためになされてもので、光学系を大型化させる
ことなく、実用上、被走査面上での複数ビームの走査線
曲がりや走査線曲がり差(以下「ピッチ偏差」と呼ぶ)
を画像形成の忠実性が保てる範囲に低減させることがで
きるマルチビーム書込光学系を提供することを目的とす
る。
最も影響を及ぼす面倒れ補正光学素子上で副走査方向で
の複数光束の通過位置の差が小さくなるようにすること
で走査線ピッチ偏差を小さくすることができるマルチビ
ーム書込光学系を提供することである。本発明のさらに
他の目的は、出射側光学素子である面倒れ補正光学素子
の物側焦点よりも被走査面側に近い位置で複数の光束を
交差させることにより、上記特開平7−209596号
公報記載の発明に比べ光学系を小型化することができる
マルチビーム書込光学系を提供することである。
レンズと発光部を副走査方向にそれぞれ独立にシフトさ
せることで、シリンダーレンズの前方の光学系による射
出瞳位置を、光源とシリンダーレンズの間隔を変えるこ
となく制御することができ、光学系の大型化を回避する
ことができるマルチビーム書込光学系を提供することで
ある。本発明のさらに他の目的は、被走査面上での複数
ビームの副走査線ピッチを隣接させることにより、出射
側の各ビームの副走査方向での装置光軸となす角度が、
飛び越し走査の場合のように大きくならず、光学系の変
動によるピッチ偏差を小さくすることができるマルチビ
ーム書込光学系を提供することである。
めに、請求項1記載の発明は、少なくとも、副走査方向
に並んだ個別変調可能な複数発光部と、この発光部から
の出射光を取り込むカップリング光学系と、このカップ
リング光学系からの複数光束を副走査方向で偏向器近傍
に結像させる第1結像系と、複数光束を偏向走査する偏
向器と、偏向器で偏向された上記複数光束を被走査面に
結像する第2結像系からなるマルチビーム書込光学系に
おいて、第1結像系より発光部側に位置する光学系によ
って作られる副走査方向の射出瞳と第2結像系を副走査
方向で略共役関係にすることを特徴とする。
査方向に並んだ個別変調可能な複数発光部と、この発光
部からの出射光を取り込むカップリング光学系と、この
カップリング光学系からの複数光束を副走査方向で偏向
器近傍に結像させる第1結像系と、複数光束を偏向走査
する偏向器と、偏向器で偏向された上記複数光束を被走
査面に結像する第2結像系からなり、この第2結像系は
主走査を等速化する等速光学素子と、この等速光学素子
と共働して前記偏向器と被走査面を副走査方向で略共役
にする面倒れ補正光学素子からなるマルチビーム書込光
学系において、第1結像系より発光部側に位置する光学
系によって作られる副走査方向の射出瞳の共役位置が、
第2結像系の面倒れ補正光学素子の副走査方向物側焦点
位置と前記面倒れ補正光学素子との中間位置よりも被走
査面側にあることを特徴とする。
項2記載の発明において、カップリング光学系が、複数
の光源からの光束を所定の光学系に結像させるためのも
ので、少なくとも複数発光部ごとに対応する複数のカッ
プリング光学素子を有し、この複数のカップリング光学
素子のそれぞれの光軸はカップリング光学系を出射側か
ら見て副走査方向で一致しないように配列し、少なくと
も一つの発光部は対応するカップリング光学素子の光軸
と略直交する方向へ光軸からシフトしていることを特徴
とする。
1と請求項3記載の発明に対応するもので、複数光束と
して2つの光束を用いた場合である。図1において、符
号1a、1bは、S偏光(図1(a)において紙面に垂
直な偏光方向)を有する2つの半導体レーザからなる2
つの発光部を示し、2a、2bはカップリングレンズを
示す。符号3a、3bは上記2つの発光部1a、1bか
らの各光束の径を決める開口部を示しており、各開口部
3a、3bはそれぞれカップリングレンズ2a、2bの
焦点位置に配置されている。符号4は1/2波長板を示
しており、この1/2波長板4は発光部1aからのS偏
光をP偏光に変換する。1/2波長板4を通ったP偏光
は偏光プリズム5に入射する。偏光プリズム5にはまた
発光部1bからの光束が開口部3bを経て入射する。偏
光プリズム5はP偏光を透過させS偏光を反射する。従
って、偏光プリズム5において各発光部1a、1bから
の光束が合成される。
には1/4波長板6が配置されている。1/4波長板6
は、PとSの直線偏光を円偏光に変換し、以降の光学系
における反射率、透過率を複数の発光部1a、1bとも
ほぼ同じになるようにする。1/4波長板6を透過した
2つの光束の通路上には、2つの光束を副走査方向で偏
向器8の偏向反射面近傍に結像させる第一結像系をなす
シリンダーレンズ7が配置されている。偏向器8はポリ
ゴンミラーからなる。偏向器8で偏向された2つの光束
の通路上には、この2つの光束を被走査面20に結像さ
せる第二結像系9が配置されている。第二結像系9は、
主走査方向には等速走査性を、副走査方向には面倒れ補
正機能を有するアナモフィックレンズからなる。
プリングレンズ2bの光軸は、副走査方向にカップリン
グレンズ2aの光軸よりもピッチΔsoだけシフトし、
さらに発光部1bをカップリングレンズ2bの光軸より
δ1bだけ副走査方向にシフトさせることで、被走査面
上で必要な走査線ピッチを作りだしている。
a,1bを副走査方向にそれぞれ独立にシフトさせる
と、シリンダーレンズ7の前方光学系による合成の射出
瞳位置Aを光源とシリンダーレンズ7の間隔を変えるこ
となく制御することができる。このため前記特開平7−
209596号公報に記載されている従来例のように光
学系が大型化することはない。なお、これは射出瞳Aを
一方の共役点にしたことによりできるものであって、開
口部3a、3bを一方の共役点にしたのでは光学系が大
型化してしまう。
置Aと第二結像系9が副走査方向で略共役な関係になっ
ている。このため走査線ピッチ偏差に最も影響を及ぼす
面倒れ補正機能を持つ第二結像系9上で、副走査方向で
の2つの光束の通過位置の差を小さくすることができ、
被走査面20上の走査線ピッチ偏差を小さくすることが
できる。
ング光学系の別の例を示すものであり、請求項3に対応
するものである。このカップリング光学系は、光源部側
の光学系による合成の射出瞳位置を光源とシリンダーレ
ンズの間隔を変えることなく制御する。図2、図3に示
す例において、図1に示す例と同じ部品には同じ番号を
記す。図2は光学配置を副走査方向から見たもので、2
つの発光部1a、1bをなす半導体レーザはP偏光に設
定されている。符号4は1/2波長板を示しており、発
光部1bからのP偏光をS偏光に変換する。符号5は反
射ミラー面51と偏光反射面52を有する偏光プリズム
を示しており、上記偏光反射面52でP偏光を透過しS
偏光を反射する。上記反射ミラー面51は、上記1/2
波長板4を経て偏向プリズム5に入射した光束を上記偏
光反射面52に向かって反射する。従って、偏光プリズ
ム5において各発光部1a、1bからの光束が合成され
る。偏光プリズム5の合成光束の出射面には1/4波長
板6が配置され、この1/4波長板6でPとSの直線偏
光を円偏光に変換する。
チΔpとカップリングレンズ光軸ピッチΔcが一致して
いる場合を示しており、発光部1bは対応するカップリ
ングレンズ2bの光軸からδ1bだけシフトしている。
この時のカップリング光学系を出射側から見ると、図3
(a)のように2つのカップリングレンズ2a、2bは
副走査方向に一致して見え、2つの出射光30a、30
bは副走査方向に開き角を有し、出射側から見たときの
合成の射出瞳(2つの出射光の交差)位置A1はカップ
リング光学系を構成する1/4波長板6の端面より発光
部1a,1b側にS1の距離にある。
5の反射面ピッチΔpとカップリングレンズ光軸ピッチ
Δcを一致させない本発明の場合であり、2つのカップ
リングレンズ2a、2bは副走査方向にΔsoだけずれ
ている。また発光部1bは対応するカップリングレンズ
2bの光軸からδ1bだけシフトし、これにより出射側
で副走査方向に開き角を設定することができる。このカ
ップリング光学系を出射側から見ると、図3(b)のよ
うに2つのカップリングレンズ2a、2bは副走査方向
に一致することなくずれを生じ、2つの出射光30a、
30bは副走査方向に開き角を有し、出射側から見たと
きの合成の射出瞳(2つの出射光の交差)位置A2はカ
ップリング光学系の端面より発光部側にS2の距離にあ
る。
距離A2は、図2(a)、図3(a)の例における距離
A1に比べカップリング光学系から遠い位置にあり、|
S2|は|S1|より大きい。よってカップリングレン
ズ2a、2bの光軸をずらし、発光部1a,1bをその
光軸からシフトさせることで、合成の射出瞳位置を制御
できる。
学系を用いれば、第一結像系(図1の例におけるシリン
ダレンズ7が相当する)以降の光学系を変えることな
く、書込光学系の所望の位置に、前記第一結像系より発
光部側に位置する光学系によって作られる射出瞳との共
役関係を設定できる。
された走査光学系に本発明の技術思想を適用した例であ
り、請求項2記載の発明に対応するものである。図4
(a)は主走査方向に見た図、図4(b)、図4(c)
は副走査方向に見た図である。光源部は、これまで説明
した例と同じであるため省略する。複数光束として2つ
の光束を用いた場合である。
器近傍に結像させる第一結像系をなすシリンダーレン
ズ、8は回転ポリゴンからなる偏向器を示す。符号9と
10は上記偏向器8で偏向された2つの光束を被走査面
20に結像する第二結像系を示している。この第2結像
系は、主走査を等速走査する等速光学素子としてのfθ
レンズ9と、このfθレンズ9と共働して偏向器8と被
走査面20を副走査方向で略共役にする面倒れ補正光学
素子としての長尺トロイダルレンズ10で構成されてい
る。また、上記fθレンズ9は2枚のレンズ9aと9b
で構成されている。
ズ7より発光部側に位置する光学系によって作られる副
走査方向の射出瞳Aの共役位置Bを、長尺トロイダルレ
ンズ10の副走査方向物側焦点位置Cと長尺トロイダル
レンズ10との中間位置に設定している。このため長尺
トロイダルレンズ10を出射した2つの光束30a、3
0bは副走査方向にテレセントリックにはならず所定の
開き角を有する。しかし、2光束の交差位置は、面倒れ
補正光学素子としての長尺トロイダルレンズ10の物側
焦点位置C(焦点距離f10)とした前記特開平7−2
09596号公報記載の従来例に比べ、本発明にかかる
上記実施の形態の方が面倒れ補正光学素子10の位置に
近くなる。
ぼす面倒れ補正光学素子である長尺トロイダルレンズ1
0上での副走査方向の2光束の通過位置の差は上記特開
平7−209596号公報記載の従来例に比べ小さくす
ることができ、走査線ピッチ偏差も小さくできる。この
走査線ピッチ偏差を小さくできる範囲は、面倒れ補正光
学素子としての長尺トロイダルレンズ10を中心にその
焦点距離の半分以内(±f10/2内)に2光束の交差が
あれば最も望ましい。図4(c)はこの状態を示すもの
で、シリンダーレンズ7より発光部側に位置する光学系
によって作られる副走査方向の射出瞳位置Aを図4
(b)に比べシリンダーレンズ7側へ近づけている。こ
のため射出瞳位置Aの共役位置Bは面倒れ補正光学素子
である長尺トロイダルレンズ10上に移動している。
倒れ補正光学素子である長尺トロイダルレンズ10より
被走査面側に、f10/2の位置をさらに越えて被走査面
に近づいた場合でも、被走査面上での副走査方向走査ピ
ッチが隣接している場合などのように小さければ、走査
線ピッチ偏差を画像形成の忠実性が保てる範囲に収める
ことができる。
る別の実施の形態であり、特開平6−123844号公
報に示された走査光学系に本発明思想を適用したもので
ある。図5は斜視図、図6(a)、図6(b)、図6
(c)は副走査方向に見た図である。光源部は図2、図
3に示した例と同じであるから省略するが、複数光束と
して2光束の場合である。
を副走査方向で偏向器近傍に結像させる第一結像系をな
すシリンダーレンズ、8は回転ポリゴンからなる偏向器
を示す。符号9と10は偏向器8で偏向された2つの光
束を被走査面20に結像する第二結像系を示しており、
主走査を等速走査する等速光学素子としての反射型結像
素子(以下「fθミラー」と呼ぶ)9、このfθミラー
9と共働して偏向器8と被走査面20を副走査方向で略
共役にする面倒れ光学素子としての長尺トロイダルレン
ズ10で第二結像系を構成している。
いて、図6に示すように、シリンダーレンズ7より発光
部側に位置する光学系によって作られる副走査方向の射
出瞳Aを徐々にシリンダーレンズ7側に近づけると、そ
れに伴って共役位置Bも被走査面20へ向かって移動す
る。従って、書込光学系の所望の位置に、2光束の交差
位置を設定できる。
源部においてその諸元を以下のようにした。 カップリングレンズ 焦点距離 8mm 発光部位置 カップリングレンズ焦点位置 カップリングレンズの副走査方向の光軸差 Δso=0.168mm 発光部1bのカップリングレンズ2bの光軸からのシフト量 δ1b=0.0063mm この時 S2=−206.4mmの位置に射出瞳Aがあ
り、その共役点Bを図6(b)のようにちょうど長尺ト
ロイダルレンズ10に一致させた。この時隣接する走査
線を同時走査し、走査線ピッチは63.5μmである。
回転ポリゴンの面倒れによるピッチ偏差は従来のマルチ
ビーム書込光学系では1.2μmほどであったものが、
上記実施の形態では約1/10の0.1μmに低減させ
ることができた。
共役点Bが長尺トロイダルレンズ10を越えて被走査面
20に近い場合であり、この時の面倒れによるピッチ偏
差量1.2μmは充分画像形成の忠実性が保てる範囲で
あるが、本発明では面倒れによるピッチ偏差量をさらに
低減できる。また、本実施の形態では、等速光学素子と
して反射型結像素子を用いているので、マルチビーム書
込光学系において問題となる複数光源の波長差による、
走査位置ずれやスポットのフォーカス位置ずれを小さく
できる効果がある。
示すもので、感光体ドラム等の被走査面20上を2つの
光束30a、30bで同時に走査する状態を副走査方向
に見た図である。符号21は露光された潜像を表す。図
8(a)は前記特開平7−209596号公報記載の従
来例で示されている3走査線分を飛び越し走査する場
合、すなわち間に2走査線分を挟んで走査する場合であ
り、図8(b)は隣接する走査線を同時走査する本発明
の場合である。本発明では隣接走査線を同時走査してい
るので、2つの光束30a、30bのなす角度αが飛び
越し走査の場合に比べ小さくなる。従って光学系の変動
によるピッチ偏差量も飛び越し走査の場合に比べ小さく
できる。
向に並んだ個別変調可能な複数の発光部と、この発光部
からの出射光を取り込むカップリング光学系と、このカ
ップリング光学系からの複数光束を副走査方向で偏向器
近傍に結像させる第1結像系と、複数光束を偏向走査す
る偏向器と、偏向器で偏向された上記複数光束を被走査
面に結像する第2結像系からなるマルチビーム書込光学
系において、第一結像系より発光部側に位置する光学系
によって作られる副走査方向の射出瞳と第二結像系を副
走査方向で略共役関係にして、走査線ピッチ偏差に最も
影響を及ぼす第二結像系上で副走査方向での複数光束の
通過位置の差が小さくなるようにしているので、走査線
ピッチ偏差を小さくすることができる。
チ偏差に最も影響を及ぼす面倒れ補正光学素子の周辺で
複数光束が交差するようにしているので、面倒れ補正光
学素子上で副走査方向での複数光束の通過位置の差が小
さくなり、走査線ピッチ偏差を小さくできる。また、上
記交差位置に共役な、第一結像系より発光部側に位置す
る光学系によって作られる副走査方向の射出瞳位置を第
一結像系に近づけることができるので、光学系が大型化
するのを回避することができる。また、等速光学素子と
しての反射型結像素子を用いた場合には上記効果に加え
て、半導体レーザのように複数発光部の間で波長差があ
る場合でも、ピッチ偏差や走査位置ずれやスポットのフ
ォーカス位置ずれを小さくできる効果がある。
グ光学系は、複数の光源からの光束を所定の光学系に結
像させるためのもので、少なくとも複数発光部ごとに対
応する複数のカップリング光学素子を有し、この複数の
カップリング光学素子のそれぞれの光軸はカップリング
光学系を出射側から見て副走査方向で一致しないように
配列し、少なくとも一つの発光部は対応するカップリン
グ光学素子の光軸と略直交する方向へ光軸からシフトし
ているため、第一結像系以降の光学系を変えることな
く、書込光学系の所望の位置に、第一結像系より発光部
側に位置する光学系によって作られる射出瞳との共役関
係を設定することができ、光学系を大型化させずに済
む。
てる走査線を同時に走査しているので、複数光束のなす
角度が飛び越し走査の場合に比べ小さくなる。従って光
学系の変動によるピッチ偏差量も飛び越し走査の場合に
比べ小さくできる。
の形態を示すもので、(a)は主走査方向に見た図、
(b)は副走査方向に見た図である。
副走査方向から見た光学配置図である。
の出射瞳位置を副走査方向に表した図である。
実施の形態を示すもので、(a)は主走査方向に見た
図、(b)(c)は副走査方向に見た図である。
に別の実施の形態を示す斜視図である。
種の例を副走査方向に見た図である。
ム書込光学系の例を副走査方向に見た図である。
すもので、(a)は従来の例を、(b)は本発明の例を
副走査方向に見た図である。
Claims (4)
- 【請求項1】 被走査面上で副走査方向に複数光束を並
べて主走査方向に同時走査するマルチビーム書込光学系
であって、副走査方向に並んだ個別変調可能な複数の発
光部と、この発光部からの出射光を取り込むカップリン
グ光学系と、このカップリング光学系からの複数光束を
副走査方向で偏向器近傍に結像させる第1結像系と、複
数光束を偏向走査する偏向器と、偏向器で偏向された上
記複数光束を被走査面に結像する第2結像系からなるマ
ルチビーム書込光学系において、前記第1結像系より発
光部側に位置する光学系によって作られる副走査方向の
射出瞳と前記第2結像系を副走査方向で略共役関係にす
ることを特徴とするマルチビーム書込光学系。 - 【請求項2】 被走査面上で副走査方向に複数光束を並
べて主走査方向に同時走査するマルチビーム書込光学系
であって、少なくとも、副走査方向に並んだ個別変調可
能な複数の発光部と、この発光部からの出射光を取り込
むカップリング光学系と、このカップリング光学系から
の複数光束を副走査方向で偏向器近傍に結像させる第1
結像系と、複数光束を偏向走査する偏向器と、偏向器で
偏向された上記複数光束を被走査面に結像する第2結像
系からなり、この第2結像系は主走査を等速化する等速
光学素子と、この等速光学素子と共働して前記偏向器と
被走査面を副走査方向で略共役にする面倒れ補正光学素
子からなるマルチビーム書込光学系において、前記第1
結像系より発光部側に位置する光学系によって作られる
副走査方向の射出瞳の共役位置が、前記第2結像系の面
倒れ補正光学素子の副走査方向物側焦点位置と前記面倒
れ補正光学素子との中間位置よりも被走査面側にあるこ
とを特徴とするマルチビーム書込光学系。 - 【請求項3】 カップリング光学系は、複数の光源から
の光束を所定の光学系に結像させるためのもので、少な
くとも複数発光部ごとに対応する複数のカップリング光
学素子を有し、この複数のカップリング光学素子のそれ
ぞれの光軸はカップリング光学系を出射側から見て副走
査方向で一致しないように配列し、少なくとも一つの発
光部は対応するカップリング光学素子の光軸と略直交す
る方向へ光軸からシフトしていることを特徴とする請求
項1又は2記載のマルチビーム書込光学系。 - 【請求項4】 被走査面上の隣接する走査線を同時に走
査することを特徴とする請求項1又は2記載のマルチビ
ーム書込光学系。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6833939B1 (en) | 2000-02-04 | 2004-12-21 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Light scanning method and light scanning device |
JP2009003393A (ja) * | 2007-06-25 | 2009-01-08 | Ricoh Printing Systems Ltd | 光走査装置及びこれを備えた画像形成装置 |
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---|---|---|---|---|
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US5883658A (en) * | 1997-09-29 | 1999-03-16 | Imation Corp. | Optical scanner assembly for use in a laser imaging system |
JP3679603B2 (ja) * | 1998-03-27 | 2005-08-03 | 株式会社リコー | マルチビーム走査装置の光源装置 |
US6163333A (en) * | 1998-03-27 | 2000-12-19 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Multi-beam scanning optical apparatus |
US6347004B1 (en) | 1998-08-31 | 2002-02-12 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanning apparatus and scanning image forming lens |
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JP4541523B2 (ja) * | 2000-10-10 | 2010-09-08 | キヤノン株式会社 | マルチビーム光走査光学系及びマルチビーム光走査装置及び画像形成装置 |
US7206014B2 (en) * | 2001-07-24 | 2007-04-17 | Ricoh Company, Ltd. | Multi-beam pitch adjusting apparatus and image forming apparatus |
US20030063663A1 (en) * | 2001-10-01 | 2003-04-03 | Bryant Paul Henry | Multistage equalizer that corrects for linear and nonlinear distortion in a digitally-modulated signal |
US7034973B2 (en) * | 2002-03-22 | 2006-04-25 | Ricoh Company, Ltd. | Scanning optical system, optical scanning device, and image forming apparatus |
JP3930409B2 (ja) * | 2002-09-25 | 2007-06-13 | 三星電子株式会社 | 光走査装置 |
JP4883795B2 (ja) * | 2007-06-28 | 2012-02-22 | キヤノン株式会社 | マルチビーム光走査装置及びそれを用いた画像形成装置 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5475415A (en) * | 1992-06-03 | 1995-12-12 | Eastman Kodak Company | Optical head and printing system forming interleaved output laser light beams |
JPH0618802A (ja) * | 1992-06-29 | 1994-01-28 | Canon Inc | 光走査装置 |
US5371526A (en) * | 1992-09-22 | 1994-12-06 | Xerox Corporation | Raster output scanner for a single pass printing system which separates plural laser beams by wavelength and polarization |
US5512949A (en) * | 1993-12-29 | 1996-04-30 | Xerox Corporation | Multiple beam raster output scanner optical system having telecentric chief exit rays |
-
1996
- 1996-04-03 JP JP10850296A patent/JP3549666B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1997
- 1997-03-27 US US08/835,024 patent/US5805199A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6833939B1 (en) | 2000-02-04 | 2004-12-21 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Light scanning method and light scanning device |
JP2009003393A (ja) * | 2007-06-25 | 2009-01-08 | Ricoh Printing Systems Ltd | 光走査装置及びこれを備えた画像形成装置 |
US8773489B2 (en) | 2011-11-21 | 2014-07-08 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanning apparatus and image forming apparatus |
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US5805199A (en) | 1998-09-08 |
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