JPH0827990B2

JPH0827990B2 - 光記録媒体

Info

Publication number: JPH0827990B2
Application number: JP62072888A
Authority: JP
Inventors: 秀樹平田
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1987-03-26
Filing date: 1987-03-26
Publication date: 1996-03-21
Anticipated expiration: 2011-03-21
Also published as: JPH01165050A

Description

【発明の詳細な説明】Ｉ発明の背景技術分野本発明は、レーザー光等の熱および光を用いて情報の
記録、再生を行う光磁気記録媒体等の光記録媒体に関す
る。

先行技術とその問題点光記録媒体の一つとして、光磁気メモリ媒体がある。

光磁気メモリの記録媒体としては、 MnBi、MnAlGe、MnSb、 MnCuBi、GdFe、TbFe、 GdCo、PtCo、TbCo、 TbFeCo、GdFeCo、 TbFeO₃、GdIG、GdTbFe、 GdTbFeCoBi、CoFe₂O₄ 等の材料が知られている。これらは、真空蒸着法やス
パッタリング法等の方法で、プラスチックやガラス等の
透明基板上に薄膜として形成される。

これらの光磁気記録媒体に共通している特性として
は、磁化容易軸が膜面に垂直方向にあり、さらに、カー
効果やファラデー効果が大きいという点をあげることが
できる。

この性質を利用して、光磁気記録媒体の記録方法とし
ては、例えば次の方法がある。まず、最初に膜全体を
“0"すなわち一様に磁化しておく（これを消去とい
う）。つぎに、“1"を記録したい部分にレーザービーム
を照射する。レーザービームが照射されたところは温度
が上昇し、キューリー点に近づいた時、そしてさらにキ
ューリー点をこえた時には、保持力Hcに近づく。そし
て、レーザービームを消し室温にもどせば、反磁場のエ
ネルギーにしより磁化は反転し、さらには、レーザービ
ームの照射の際、外部磁場を初期と反対の方向に与えて
室温にもどすと、磁化反転し、“1"なる信号が記録され
る。また、記録は初期状態が“0"であるから、レーザー
ビームを照射しない部分に“0"のまま残る。

記録された光磁気メモリの読み取りは、同じようにレ
ーザービームを用いて、このレーザービーム照射光の磁
化の方向による反射光の偏光面の回転、すなわち磁気光
効果を利用して行われる。

このような媒体に要求されることは、第１に、キュー
リー点が100〜200℃程度で補償点が室温付近であるこ
と。

第２に、ノイズとなる結晶粒界などの欠陥が比較的少
ないこと。

第３に高温成膜や長時間成膜等の方法をとらずに、比
較的大面積にわたって磁気的、機械的に均一な膜が得ら
れることがあげられる。

このような要求にこたえ、上記材料のなかで、近年、
希土類−遷移金属の非晶質垂直磁性薄膜が大きな注目を
集めている。

しかし、このような希土類−遷移金属非晶質薄膜から
なる光磁気記録媒体は、大気に接したままで保存する
と、基板をとおして侵入する大気中の酸素や水により希
土類が選択的に腐食あるいは酸化されてしまい、情報の
記録、再生が不可能となる。

そこで、一般には、前記磁性薄膜層と基板との間およ
び／または磁性薄膜層上に保護層を設けた構成を有する
ものが多く研究されている。

従来、このような防湿性の保護層としては、一酸化ケ
イ素、二酸化ケイ素等の無機系の真空蒸着膜等を設ける
試み（特開昭58−80142号等）が開示されている。これ
らの保護層のうち、例えばSiO、などの無機系の保護層
は、スパッタ法および蒸着法等により形成される。

しかし、これらの方法によっては、均一かつ緻密で一
様におおわれた成膜が難しく、防湿性が十分な保護層は
えられない。そのため、光磁気記録媒体の磁性薄膜層の
経時劣化が改善されない。

また、常温硬化性の受支の塗布保護層でも、十分な防
湿性は得られず、保存中に、水分、酸素の透過等の影響
があり、これが劣化をうながす。

また、放射線硬化型化合物の塗膜を紫外線などにより
硬化させた有機保護コート層が提案されており（特開昭
61−133067号）、その中でオリゴエステルアクリレート
と光増感剤としてメチルベンゾイルフォーメート（スト
ーファージャパン社製バイキュア55）とを含む塗膜を硬
化させたものが開示されている。しかし、これらでは保
護層機能および硬化性の点で未だ十分でない。

具体的には、硬化速度が小さいこと、薄膜にした際の
硬化膜の強度が十分に得られないこと、膜厚を大きくす
る必要性があること、などの問題が挙げられる。これら
の問題は主に光重合開始剤ないし光増感剤の光吸収性が
十分でなくラジカル開裂が進行しにくいことに起因す
る。

また、硬化が十分でないと、架橋密度が低くなり、未
硬化のモノマーやオリゴマーが記録層の方に浸透して記
録層に悪影響を及ぼす。このような現象は特に高温高湿
の保存によって顕著となる。

このため、このような硬化膜を用いた光記録媒体では
信頼性が十分とはいえない。

ところで、光記録媒体は、通常、片面記録型の場合に
は保護板と、両面記録型の場合には基板同士が接着剤層
を介して一体化される。

これらの場合に用いられる接着剤としては、エボキシ
系接着剤や溶剤型接着剤等が用いられていたが、エポキ
シ系接着剤は硬化時間が長くまた開始剤が記録層を侵す
等の問題があり、溶剤型接着剤は、樹脂製の基板を侵す
等の問題があった。

このため、硬化時間が短く、また、媒体構成材料を侵
さない接着剤として、ホットメルト型接着剤を用いる旨
の提案がされている（特開昭58−6536、特開昭58−1080
44号公報等）。

しかし、ホットメルト型接着剤により上記の問題点は
解決されるが、上記のようなホットメルト型接着剤を用
いて記録層の上に前述したような有機保護コート層を有
する基板を貼りあわせた場合、高温・高湿あるいは温湿
度変化の条件下で保存において、接着剤層と有機保護コ
ート層との間に剥離等が生じ、耐久性の点で問題があ
る。

なお、このような問題は、いわゆる相転移タイプの記
録層を有する光記録媒体においても同様である。

II 発明の目的本発明の目的は、一対の基板を有し、少なくとも一方
の基板上に記録層を有し、この記録層上に有機保護コー
ト層を有し、これら一対の基板が、記録層が内側になる
ように接着剤層を介して一体化されている光記録媒体に
おいて、高温・高湿あるいは温湿度変化の条件下の保存
においても有機保護コート層と接着剤層との剥離がな
く、耐久性および耐湿性に優れた光記録媒体を提供する
ことにある。

III 発明の開示このような目的は、以下の本発明によって達成され
る。

すなわち本発明は、一対の基板を有し、少なくとも一
方の基板上に記録層を有し、この記録層上に有機保護コ
ート層を有し、これら一対の基板が、記録層が内側にな
るように接着剤層を介して一体化されており、有機保護コート層が、放射線硬化型化合物および光重
合開始剤を含有する塗膜を放射線硬化したものであり、接着剤層がホットメルト型接着剤から形成されてお
り、有機保護コート層および接着剤層の硬度が、25℃にお
ける鉛筆硬度（JISK−5400）でそれぞれＨ〜3Hおよび3B
〜HBであり、光重合開始剤が下記一般式（Ｉ）で表わされる化合物
を含有する光記録媒体である。

一般式（Ｉ）｛上記一般式（Ｉ）においてＲはアルキル基を表わし、
Ｌは、アルキレン基を表わし、Ｙは複素環基を表わ
す。｝ IV 発明の具体的構成以下、本発明の具体的構成を、詳細に説明する。

本発明の光記録媒体は、一対の基板を有し、少なくと
も一方の基板上に記録層を有し、この記録層上に有機保
護コート層を有し、これら一対の基板が、記録層が内側
になるように接着剤層を介して一体化されて構成され
る。

有機保護コート層は、放射線硬化型化合物および光重
合増感剤を含有する塗膜を放射線硬化したものであり、
接着剤層はホットメルト型接着剤から形成される。

そして、有機保護コート層および接着剤層の硬度が、
25℃における鉛筆硬度（JISK−5400）でそれぞれＨ〜3H
および3B〜HBであるように構成される。

このように構成することにより、高温・高湿あるいは
温湿度変化条件下の保存においても、有機保護コート層
と接着剤層との剥離が生じない。

より具体的には、有機保護コート層の硬度がＨより軟
らかいと耐久性が不十分となり3Hり硬くなると塗膜がも
ろくなり膜形成能が低下する他、基板および記録層等の
スパッタ膜との接着力が低下する。

また、接着剤層の硬度が3Bより軟らかいと耐久性が不
十分であり、HBより硬くなると基板の反り等のディスク
の歪の緩和力が低下する。

このような有機保護コート層形成に用いる放射線硬化
型化合物には、オリゴエステルアクリレートが含まれる
ことが好ましい。

なお、有機保護コート層および接着剤層を、例えばス
ピンコートにより塗設した場合、これらは、内周部およ
び外周部で、膜厚差を持つことがあり、この膜厚差によ
り硬度の違いが生じることもある。このような場合に
も、本発明では、両層とも全領域において上記の硬度を
持つことが必要である。

オリゴエステルアクリレートは、アクリレート基また
はメタクリレート基を複数有するオリゴエステル化合物
である。そして好ましいオリゴステルアクリレートとし
ては、分子量1000〜10000、好ましくは2000〜7000であ
って、重合度２〜10、好ましくは、３〜５のものが挙げ
られる。また、これらのうちアクリレート基またはメタ
クリレート基を２〜６個、好ましくは３〜６個有する多
官能オリゴエステルアクリレートが好ましい。

多官能オリゴエステルアクリレートとしてはアロニッ
クスＭ−7100、Ｍ−5400、Ｍ−5500、Ｍ−5700、Ｍ−62
50、Ｍ−6500、Ｍ−8030、Ｍ−8060、Ｍ−8100等（東亜
合成化学社製）として市販されているものを用いること
ができ、これらは下記式（Ａ）、（Ｂ）で示されるもの
である。

（Ｂ）Ａ−Ｍ−Ｎ_ｎ−Ｍ−Ａ A:アクリレート基またはメタクリレート基、M:2価ア
ルコール（例えば、エチレングリコール、ジエチレング
リコール、1,6−ヘキサングリコール、ビスフェノール
Ａ等）残基、N:2塩基酸（例えば、フレフタル酸、イソ
フタル酸、アジピン酸、コハク酸等）残基、 n:1〜10、好ましくは２〜５これらのうちでは、（Ａ）で示されるものが好まし
い。

このようなオリゴエステルアクリレートは単独で使用
してもよい。

また、他の放射線硬化型化合物を併用してもよい。そ
のような場合、オリゴエステルアクリレートは、放射線
硬化型化合物中20wt％以上存在することが好ましい。

上記のオリゴエステルアクリレートには、他の放射線
硬化型化合物を併用することができ、このようなものと
しては、イオン化エネルギーに感応し、ラジル重合性を
示す不飽和二重結合を有するアクリル酸、メタクリル
酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル
系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重
結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和二重結
合等の放射線照射による架橋あるいは重合する基を分子
中に含有または導入したモノマー、オリゴマーおよびポ
リマー等を挙げることができる。これらは多官能、特に
３官能以上であることが好ましい。

放射線硬化型モノマーとしては、分子量2000未満の化
合物が、オリゴマーとしては分子量2000〜10000のもの
が用いられる。

これらはスチレン、エチルアクリレート、エチレング
リコールジアクリレート、エチレングリコールジメタク
リレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエ
チレングリコールメタクリレート、1,6−ヘキサングリ
コールジアクリレート、1,6−ヘキサングリコールジメ
タクリレート等も挙げられるが、特に好ましいものとし
ては、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（メタ
クリレート）、ペンタエリスリトールアクリレート（メ
タクリレート）、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート（メタクリレート）、トリメチロールプロパンジア
クリレート（メタクリレート）、ウレタンエラストマー
（ニッポラン4040）のアクリル変性体、あるいはこれら
のものにCOOH等の官能基が導入されたものの、フェノー
ルエチレンオキシド付加物のアクリレート（メタクリレ
ート）、下記一般式で示されるペンタエリスリトール縮
合環にアクリル基（メタクリル基）またはε−カプロラ
クトン−アクリル基のついた化合物、１）(CH₂=CHCOOCH₂)₃−CCH₂OH （特殊アクリレートＡ）２）(CH₂=CHCOOCH₂)₃−CCH₂OH₃ （特殊アクリレートＢ）３）〔CH₂=CHCO(OC₃H₆)_n-OCH₂〕₃−CCH₂CH₃ （特殊アクリレートＣ）式中、ｍ＝１、ａ＝２、ｂ＝４の化合物（以下、特殊
ペンタエリスリトール縮合物Ａという）、ｍ＝１、ａ＝３、ｂ＝３の化合物（以下、特殊ペンタ
エリスリトール縮合物Ｂという）、ｍ＝１、ａ＝６、ｂ＝０の化合物（以下、特殊ペンタ
エリスリトール縮合物Ｃという）、ｍ＝２、ａ＝６、ｂ＝０の化合物（以下、特殊ペンタ
エリスリトール縮合物Ｄという）、および下記一般式で示される特殊アクリレート類等が
挙げられる。

８）CH₂＝CHCOO−(CH₂CH₂O)₄−COCH＝CH₂ （特殊アクリレートＨ）また、放射線硬化型オリゴマーとしては、ウレタンエ
ラストマーのアクリル変性体、あるいはこれらのものに
COOH等の官能基が導入されたもの等が挙げられる。

また、上記の化合物に加えて、あるいはこれにかえて
熱可塑性樹脂を放射線感応変性することによって得られ
る放射線硬化型化合物を用いてもよい。

このような放射線硬化性樹脂の具体例としては、ラジ
カル重合性を示す不飽和二重結合を有するアクリル酸、
メタクリル酸、あるいはそれらのエステル化合物のよう
なアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのようなア
リル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不
飽和結合等の、放射線照射による架橋あるいは重合する
基を熱可塑性樹脂の分子中に含有、または導入した樹脂
である。

放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例とし
ては、塩化ビニル系共重合体、飽和ポリエステル樹脂、
ポリビニルアルコール系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノ
キシ系樹脂、繊維素誘導体等を挙げることができる。

その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂と
しては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステ
ル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体（PVP
オレフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を
含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステルを
重合成分として少くとも一種含むアクリル系樹脂等も有
効である。

このような放射線硬化型化合物の有機保護コート層の
膜厚は0.1〜30μｍ、より好ましくは１〜10μｍであ
る。

この膜厚が0.1μｍ未満になると、一様な膜を形成で
きず、湿度が高い雰囲気中での防湿効果が十分でなく、
記録層の耐久性が向上しない。また、30μｍをこえる
と、樹脂膜の硬化の際に伴う収縮により記録媒体の反り
や保護膜中のクラックが生じ、実用に耐えない。

このような塗膜は、通常、スピンナーコート、グラビ
ア塗布、スプレーコート、ディッピング等、種々の公知
の方法を組み合わせて設層すればよい。この時の塗膜の
設層条件は、塗膜組成の混合物の粘度、目的とする塗膜
厚さ等を考慮して適宜決定すればよい。

本発明において塗膜に照射する放射線としては、紫外
線が好ましい。

紫外線を用いる場合には、前述したような放射線硬化
型化合物の中には、光重合増感剤が加えられる。

本発明に用いる光重合開始剤（後述のように「光重合
増感剤」ともいう。）は、下記の一般式（Ｉ）で表わさ
れる化合物。

このものを、多官能オリゴエステルアクリレートと用
いることにより、前記の硬度が容易に得られ、膜物性も
良好となる。

そして、接着剤層との剥離も少なくなり、耐久性、耐
湿性も良好となる。

一般式（Ｉ）上記一般式（Ｉ）において、Ｒは炭素数１〜４の置換
もしくは非置換のアルキル基、例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基等を表わし、なかでもメチル
基、エチル基等が好ましい。

Ｌは炭素数１〜３の置換もしくは非置換のアルキレン
基、例えば−CH₂−、等を表わし、なかでもが好ましい。

Ｙは、複素環基、例えばモルホリノ基、２−モルホリ
ニル基、、ピペリジノ基、４−ピペリジニル基、２−ピ
リジル基、２−キノリル基、１−ピロリジニル基、１−
ピロリル基、２−チエニル基、２−フリル基等を表わ
し、なかでもモルホリノ基が好ましい。

RS−は、一般式（Ｉ）中のベンゼン環の置換可能ない
ずれの位置でベンゼン環と結合してもよいが、のｐ位であることが好ましい。

本発明において、一般式（Ｉ）で表わされる化合物の
うちで、最も好ましいものは以下のものである。

この化合物Ａは、IRGACURE907（日本チバガイギー社
製）として市販されているものである。

一般式（Ｉ）で表わされる化合物は、放射線硬化の際
光重合開始剤ないし光重合増感剤として作用するもので
ある。

このような化合物の有機保護コート層における含有量
は、0.1〜20wt％、好ましくは１〜10wt％とするのがよ
い。

0.1wt％未満では光重合開始剤ないし光重合増感剤と
しての作用が十分ではないからであり、20wt％をこえる
と残存する光重合開始剤ないし光重合増感剤が記録層に
浸透し、記録層に悪影響を与えるからである。

また、光重合増感剤としては、必要に応じ前記の一般
式（Ｉ）で表わされる化合物の他に、次のような公知の
ものが併用できる。

例えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチル
エーテル、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシ
ベンゾイン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセト
フェノン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケ
トン類、アセトラキノン、フェナントラキノン等のキノ
ン類、ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモ
ノスルフィド等のスルフィド類等を挙げることができ
る。

そして、このような光重合増感剤と放射線硬化型化合
物を含有する塗膜を紫外線によって硬化させるには、公
知の種々の方法に従えばよい。

たとえば、キセノン放電管、水素放電管などの紫外線
電球等を用いればよい。

また、場合によっては電子線を用いることもできる。

次に、接着剤層について説明する。

本発明の光記録媒体の接着剤層は、前述のようにホッ
トメルト型接着剤から形成される。

本発明に用いるホットメルト系接着剤としては、ポリ
オレフィン系樹脂、例えば、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリスチレンやこれらを含む共重合体等の１種ま
たは２種以上の混合物等があり、さらに、これらに他の
ポリオレフィン、ポリオレフィン系共重合体、合成ゴム
等を加えたものであってもよい。

そして、これらの100重量部に対し、粘着付与剤100〜
600重量部、軟化剤０〜100重量部等を添加することが好
ましい。

そしてこのようなホットメルト型接着剤の軟化温度
（R and B法による）は150℃以下、特に100〜145℃、ま
た、160℃における溶融粘度は1000ps以下であることが
接着作業上および記録層や基板への影響の点で好まし
い。

粘着付与剤としては、各種天然樹脂やその変性品ある
いは各種合成樹脂等が挙げられ、軟化剤としては、公知
の各種軟化剤が用いられる。

このような接着剤には、必要に応じ、紫外線防止材、
充填剤、老化防止剤が含有されてもよい。

このようなホットメルト系接着剤から形成される接着
剤層の層厚は10〜50μｍ、特に10〜30μｍとすることが
好ましい。

層厚が10μｍ未満であると接着力が不十分であり、ま
た、50μｍを越えると耐久性が低下する。

本発明の光記録媒体に用いられる基板は、樹脂や各種ガ
ラス等によって形成される。

好ましい樹脂としては、アクリル樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、エポキシ樹脂、ポリメチルペンテン樹脂等が
あげられる。

なお、記録は基板をとおして行なうので、書き込み光
ないし読み出し光に対する透過率は86％以上とする。

また、基板は、通常ディスク状とし、1.2〜1.5mm程度
の厚さとする。

このようなディスク状基板の記録層形成面には、トラ
ッキング用の溝ないしピットが形成されてもよい。

溝の深さは、λ/8n程度、特にλ/6n〜λ/12n（ここ
に、ｎは基板の屈折率である）とされる。また、溝の巾
は、トラック巾程度とされる。

そして、通常、この溝の凹部に位置する記録層を記録
トラック部として、書き込み光および読み出し光を基板
裏面側から照射することが好ましい。

このように較正することにより、書き込み感度と読み
出しのC/N比が向上し、しかもトラッキングの制御信号
は大きくなる。

また、その他の基板の形状として、テープ、ドラム等
としてもよい。

本発明に用いる層としては磁性薄膜層が挙げられる。

磁性薄膜層は、変調された熱ビームあるいは変調され
た磁界により、情報が磁気的に記録されるものであり、
記録情報は磁気−光変換して再生するものである。

このような磁性薄膜層の材質としては、Gd、Tb等の希
土類金属とFe、Co等の遷移金属の合金をスパッタ、蒸着
法等により、非晶質膜として形成したものであり、しか
もFeとCoを必須含有成分とするものである。

この場合、FeとCoの総含有量は、65〜85at％であるこ
とが好ましい。

そして、残部は実質的に希土類金属、特にGdおよび／
またはTbである。

そして、その好適例としては、TbFeCo、GdFeCo、GdTb
FeCo等がある。

なお、これら磁性薄膜層中には10at％以下の範囲でC
r、Al、Ti、Pt、Si、Mo、Mn、V,Ni、Cu、Zn、Ge、Au等
が含有されてもよい。

また、希土類元素として10at％以下の範囲でSc、Ｙ、
La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu
等を含有してもよい。

このような磁性薄膜層の膜厚は、0.01〜１μｍが好ま
しい。

この他記録層の材質としては、いわゆる相転移タイプ
のものとして、例えば、 Te−Se、Te−Se−Sn、 Te−Ge、Te−In、Te−Sn、 Te−Ge−Sb−Ｓ、 Te−Ge−As−Si、Te−Si、 Te−Ge−Si−Sb、 Te−Ge−Bi、 Te−Ge−In−Ga、 Te−Si−Bi−Tl、 Te−Ge−Bi−In−Ｓ、 Te−As−Ge−Sb、 Te−Ge−Se−Ｓ、 Te−Ge−Se、 Te−As−Ge−Ga、 Te−Ge−Ｓ−In、 Se−Ge−Tl、Se−Te−As、 Se−Ge−Tl−Sb、 Se−Ge−Bi、Se−Ｓ（以上、特公昭54−41902号、特許
第1004835号など） TeO_x（特開昭58−54338号、特許第974257号記載のTe
酸化物中に分散されたTe）、 TeO_x＋PbO_x（特許大974258号）、 TeO_x＋VO_x（特許第974257号）、その他、Te−Tl、Te
−Tl−Si、Se−Zn−Sb、Te−Se−Ga、TeN_x等のTe、Seを
主体とするカルコゲン系 Ge−Sn、Si−Sn等の非晶質−結晶質転移を生じる合金 Ag−Zn、Ag−Al−Cu、Cu−Al等の結晶構造変化によっ
て色変化を生じる合金、In−Sb等の結晶粒径の変化を生
じる合金などがある。

本発明においては基板と記録層との間に中間層を設け
てもよい。

中間層の材質としては、酸素、炭素、窒素、硫黄等を
含む化合物、例えば、SiO₂,SiO、AlN、Al₂O₃、Si₃N₄、Z
nS、BN、TiO₂、TiN等ないしこれらの混合物などの各種
誘導体物質：ガラス、例えばホウケイ酸ガラス、バリウ
ムホウケイ酸ガラス、アルミニウムホウケイ酸ガラス等
あるいはこのものにSi₃N₄等を含むものなどを用いれば
よい。なかでも、SiO₂40〜80wt％のホウケイ酸ガラス、
バリウムホウケイ酸ガラス、アルミニウムホウケイ酸ガ
ラスや、これらのSiO₂の一部をSi₃N₄等で置換したもの
が好ましい。

これらのうちで特に好ましいものとしては、下記のも
のが挙げられる。

（１）酸化ケイ素40〜60wt％と、BaO,CaO,SrO,MgO,ZnO,
PbO等の２価金属酸化物50wt％以下および／またはアル
カリ金属酸化物10wt％以下と、酸化ホウ素および／また
は酸化アルミニウムとを含有するもの。

（２）Siと他の金属または半金属元素としてBa,Ca,Sr,M
g,Zn,Pb等の１種以上、Al,Bの１種以上およびアルカリ
金属元素の１種以上のうちの少なくとも１つとを含み、
全金属ないし半金属中のSi原子比が0.3〜0.9であり、さ
らにＯおよびＮを含み、O/（Ｏ＋Ｎ）が0.4〜0.8である
もの。

このような中間層は、500〜3000Å、好ましくは800〜
2500Åの厚さとするのがよい。

500Å未満となると、耐候性が十分でないからであ
り、1500Åをこえると、厚すぎて媒体とした場合感度が
低下してしまうからである。

なお、これら中間層としては、上記のガラス層を中間
層下地として300〜1000Å程度に設層し、この上にSi
O₂、SiO、Si₃N₄、AlN、Al₂O₃、ZnS等、あるいはこれら
の混合物などを誘電体物質を誘電体層として500〜1500
Å程度に設層したものが好ましい。

この場合、誘電体層は、800nmにおける屈折率1.8〜3.
0のものが好ましく、Siと希土類金属および／またはAl
とを含み、ＯおよびＮを含むものが好適である。

このような中間層と同材質の層は、記録層と前記した
保護層との間に保護中間層として設層してもよい。厚さ
も同程度とすればよい。

本発明の光記録媒体は、以上のような記録層、有機保
護コート層等を有する基板をさらに１セット用いて、両
記録層を内側にして対向させて、前記の接着剤層を用い
て貼り合せて、両基板の裏面側から書き込みを行なう、
いわゆる両面記録タイプとすることができる。

また、前記層を一方の基板のみに設けたいわゆる片面
記録タイプの場合にも、本発明は適用できる。

記録層を設けない方の基板の樹脂材質は特別に透明性
等を要求されることはなく、種々の樹脂、例えば、ポリ
エチレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリプロピ
レン、ポリビニルアルコール、メタクリル樹脂、ポリア
ミド、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリア
セタール、ふっ素樹脂等の各種熱可塑性樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、不飽和ポリエステル樹
脂、ポリウレタン、アルキド樹脂、メラミン樹脂、エポ
キシ樹脂、ケイ素樹脂等の各種熱可塑性樹脂等が使用可
能である。

なお、ガラス、セラミック等の各種無機材質を用いて
もよい。

このものの形状、寸法等は記録層を設けた基板のそれ
とほぼ同様とされる。

さらに、これらの基板の裏面（記録層を設けていない
側の面）には各種保護膜としてのハードコート層を設け
ることが好ましい。ハードコート層の材質としては、前
述した有機保護コート層の材質と同様なものとしてよ
い。

Ｖ発明の具体的作用効果本発明の光記録媒体は、一対の基板を有し、少なくと
も一方の基板上に記録層を有し、この記録層上に有機保
護コート層を有し、これら一対の基板が記録層が内側に
なるようにホットメルト型接着剤で形成された接着剤層
を介して一体化されている。

そして、上記の有機保護コート層が、放射線硬化型化
合物を含有する塗膜を放射線硬化させたものであり、こ
の有機保護コート層の硬度が上記の接着剤層の硬度より
も大きくなるように構成しているため、高温、高湿ある
いは温湿度変化の条件下の保存においても有機保護コー
ト層と接着剤層との剥離や特性、外観の変化がなく、耐
久性および耐湿性に優れた光記録媒体が実現する。

VI 発明の具体的実施例以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに
詳細に説明する。

［実施例１］直径13cm、厚さ1.2mmのビスフェノールＡ系のポリカ
ーボネート樹脂（分子量15000）からなる基板上にガラ
ス（SiO₂ 48wt％，Al₂O₃ 15wt％，B₂O₃ 14wt％，Na₂O 3
wt％，K₂O 2wt％,BaO 5wt％,CaO 9wt％,MgO 4wt％）の
中間層を高周波マグネトロンスパッタによって膜厚900
Åに設層した。

この中間層の上に21at％Tb、68at％Fe、7at％Co、4at
％Cr合金薄膜をスパッタリングによって、厚さ800Åに
設層し、磁性薄膜層とした。なお、磁性薄膜層は、基板
の内周部および外周部を除いて設層した。また、ターゲ
ットは、FeターゲットにTb、Co、Crチップをのせたもの
を用いた。

この磁性薄膜層上にガラス（中間層の場合と同じ）の
保護中間層を膜厚1000Åにスパッタリングで設層し、こ
の保護中間層の上に下記の放射線硬化型化合物および光
重合増感剤を含む塗布組成物を有機保護コート層として
スピンナーコートで設層した。

（塗布組成物）多官能オリゴエステルアクリレート［オリゴエステル
アクリレート（３官能以上）30重量％、トリメチルプロ
パンアクリレート70重量％、商品名アロニックスＭ−80
30;東亜合成社製］ 100重量部光重合増感剤（前記化合物A:商品名IRGACURE907;日本チ
バガイギー社製）５重量部このような塗布組成物を設層後、120w/cmの紫外線を1
5sec照射し架橋硬化させ、硬化膜とした。

この時の膜厚は５μｍであった。

この有機保護コート層上に、ポリプロピレン系ホット
メルト型接着剤XW−13（東亜合成製）（160℃での溶融
粘度250ps）をロールコーターで塗布し、この上に上記
の基板と同材質、同サイズの保護板を貼りあわせた。

このようにして形成された接着剤層の厚さは30μｍで
あった。

以上のようにして片面記録型の光記録媒体を得、これ
をサンプルNo.1とした。

サンプルNo.1の有機保護コート層に用いた100重量部
の多官能オリゴエステルアクリレートのアロニックスＭ
−8030をアロニックスＭ−400（６官能以上のモノマ
ー）50重量部およびアロニックスＭ−309（３官能モノ
マー）50重量部に替えた他はサンプルNo.1と同様にして
サンプルNo.2を作製した。

また、サンプルNo.1の100重量部のアロニックスＭ−8
030のうち50重量部をアロニックスＭ−111（単官能モノ
マー）に替え、接着剤層として合成ゴム系ホットメルト
型接着剤HM−1275（HBフーラージャパン社製）をロール
コーターで30μｍ厚に設層した他はサンプルNo.1と同様
にしてサンプルNo.3を作製した。

さらに、サンプルNo.1のアロニックスＭ−8030（100
重量部）を、アロニックスＭ−6100（２官能オリゴエス
テルアクリレート）50重量部と上記アロニックスＭ−11
1 50重量部とに替え、その他はサンプルNo.1と同様にし
てサンプルNo.4を作製した。

さらにまた、接着剤層として１液型のエポキシ樹脂系
のアラルダイトAT−１（日本チバガイギー社製）をスピ
ンナーコートで層厚30μｍに設層し、その他はサンプル
No.1と同様してサンプルNo.5を作製した。

また、接着剤層を、上記のHM−1275で形成し、その他
はサンプルNo.1と同様にしてサンプルNo.6を作製した。

さらに、光重合増感剤をBIQURE−55（ストーファージ
ャパン製）５重量部に替えた他はサンプルNo.1と同様に
してサンプルNo.7を作製した。

これらのサンプルについて、下記の試験を行なった。

耐久性試験高温・高湿（80℃ 80％RH）条件下で保存し媒体の特
性（C/N比およびビットエラーレート）および外観変化
を観察した。

結果を表１に示す。

なお、各サンプルの有機保護コート層および接着剤層
の25℃における鉛筆硬度は、表１に示されるものであっ
た。また、サンプルNo.7の有機保護コート層の鉛筆硬度
は、有機保護コート層の内周部でHB、外周部でＨであっ
た。

以上の結果より、本発明の効果は明らかである。

なお、このような効果は、いわゆる相転移型のTe−G
e、TeO_x、Te−Se等の記録層でも同様に実現した。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一対の基板を有し、少なくとも一方の基板
上に記録層を有し、この記録層上に有機保護コート層を
有し、これら一対の基板が、記録層が内側になるように
接着剤層を介して一体化されており、有機保護コート層が、放射線硬化型化合物および光重合
開始剤を含有する塗膜を放射線硬化したものであり、接着剤層がホットメルト型接着剤から形成されており、有機保護コート層および接着剤層の硬度が、25℃におけ
る鉛筆硬度（JISK−5400）でそれぞれＨ〜3Hおよび3B〜
HBであり、光重合開始剤が下記一般式（Ｉ）で表わされる化合物を
含有する光記録媒体。一般式（Ｉ）｛上記一般式（Ｉ）においてＲはアルキル基を表わし、
Ｌは、アルキレン基を表わし、Ｙは複素環基を表わ
す。｝
【請求項２】放射線硬化型化合物が、オリゴエステルア
クリレートを含有するものである特許請求の範囲第１項
に記載の光記録媒体。