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JPH08271580A - Method for testing bare chip - Google Patents

Method for testing bare chip

Info

Publication number
JPH08271580A
JPH08271580A JP7074963A JP7496395A JPH08271580A JP H08271580 A JPH08271580 A JP H08271580A JP 7074963 A JP7074963 A JP 7074963A JP 7496395 A JP7496395 A JP 7496395A JP H08271580 A JPH08271580 A JP H08271580A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
test
bare chip
test board
protective layer
pad
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7074963A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuo Otsuki
康雄 大槻
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Oki Electric Industry Co Ltd filed Critical Oki Electric Industry Co Ltd
Priority to JP7074963A priority Critical patent/JPH08271580A/en
Publication of JPH08271580A publication Critical patent/JPH08271580A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

PURPOSE: To obtain a method for testing a bare chip in which a bare chip IC can be fixed without requiring a vacuum pump while eliminating the cleaning process. CONSTITUTION: Resin is applied to the surface part 11a of an IC 11 except the part of IC pad 12 thus forming a protective layer 16. The IC 11 applied with the protective layer 16 is mounted on a test board 14 and pressed by an IC press board 17 through the protective layer 16. It is then secured to the test board 14 by means of IC press board securing screws 18 thus carrying out screening test at the actual operation speed level.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ベアチップテスト方法
に関し、特に仮封止パッケージ(TemporaryPackaging)
の技術を用いてベアチップのスクリーニングテストを行
うテスト方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a bare chip test method, and more particularly to a temporary encapsulation package (Temporary Packaging).
The present invention relates to a test method for performing a bare chip screening test using the above technology.

【0002】[0002]

【従来の技術】ベアチップのテスト方法としては、フラ
イングプローブによる方法が一般的に知られている。こ
のフライングプローブによるテスト方法は、プローブの
もつインダクタンスなどの影響から、ICの実動作スピ
ードレベルでのテストは不可能である。その解決策の一
つとして、仮封止パッケージの技術を用いたテスト方法
が、文献「Screening IC's on the Bare Chip Level:Te
mporary Packaging(IEEETRANSACTIONS ON COMPONENTS,H
YBRIDS,AND MANUFACTURING TECHNOLOGY.VOL.16,NO.4,JU
NE 1993) 」に開示されている。
2. Description of the Related Art As a bare chip test method, a method using a flying probe is generally known. The test method using the flying probe cannot test at the actual operation speed level of the IC because of the influence of the inductance of the probe. As one of the solutions, the test method using the technology of the temporary encapsulation package is described in the document "Screening IC's on the Bare Chip Level: Te.
mporary Packaging (IEEE TRANSACTIONS ON COMPONENTS, H
YBRIDS, AND MANUFACTURING TECHNOLOGY.VOL.16, NO.4, JU
NE 1993) ".

【0003】この仮封止パッケージの技術を用いたテス
ト方法を実現するには、図3にそのテスト装置の断面構
造を示すように、まず、テストボード36のIC搭載エ
リア36aに熱可塑性材料からなる接着剤35を塗布
し、そこにIC31を搭載して接着剤35にて仮固定す
る。その後、ICパッド32とテストボード36に設け
たW/B(ワイヤ・ボンディング)パッド34とをワイ
ヤ33にて接続する。その状態のまま、テストボード3
6のテストボード外部端子37をテスタ38のテスタパ
ッド39上に搭載する。そして、実動作スピードレベル
でのICテストを実行する。テスト終了後、ワイヤ33
を除去し、接着剤35にてダイボンドしたIC31を取
り外して仮固定状態を解除する。その後、IC31の裏
面に付着した接着剤35を除去すべく洗浄する。これら
の工程を経て、ベアチップIC単体を確保する。
In order to realize the test method using this temporary sealing package technology, as shown in the sectional structure of the test apparatus in FIG. 3, first, an IC mounting area 36a of the test board 36 is made of a thermoplastic material. The adhesive 35 is applied, the IC 31 is mounted thereon, and the adhesive 35 is temporarily fixed. After that, the IC pad 32 and the W / B (wire bonding) pad 34 provided on the test board 36 are connected by the wire 33. In that state, test board 3
The test board external terminal 37 of No. 6 is mounted on the tester pad 39 of the tester 38. Then, the IC test is executed at the actual operation speed level. After the test, wire 33
Then, the IC 31 die-bonded with the adhesive 35 is removed to release the temporarily fixed state. After that, cleaning is performed to remove the adhesive 35 attached to the back surface of the IC 31. Through these steps, a bare chip IC alone is secured.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来のテスト方法では、IC31のテストボード36
に対する固定が接着剤35によるダイボンドのため、I
C31をテストボード36から取り外した際に、IC3
1の裏面に付着した接着剤35を除去するための洗浄工
程が必要であるため工程数が増え、テスト工数が増大し
たり、洗浄により歩留りが低下したり、さらには洗浄だ
けでは接着剤35を完全に除去することは困難であるな
どの問題点があった。
However, in the above-mentioned conventional test method, the test board 36 of the IC 31 is used.
Since it is fixed by the die bond with the adhesive 35,
When C31 is removed from the test board 36, IC3
Since a cleaning process for removing the adhesive 35 attached to the back surface of No. 1 is required, the number of processes increases, the test man-hour increases, the yield decreases due to cleaning, and the adhesive 35 is removed only by cleaning. There was a problem that it was difficult to completely remove it.

【0005】また、他の従来例として、バキュームポン
プによる吸着固定を用いたテスト方法もある。すなわ
ち、図4にそのテスト装置の断面構造を示すように、I
C搭載エリア45aに開口する空気吸入貫通孔49を形
成したテストボード45を用意し、そのIC搭載エリア
45aにIC41を搭載した後、テストボード45の裏
面側からバキュームポンプ50にて吸引することによっ
てIC41をテストボード45に仮固定する。その後、
テストボード45に設けたW/Bパッド44とICパッ
ド22とをワイヤ43にて接続する。その状態のまま、
テストボード45のテストボード外部端子46をテスタ
47のテスタパッド48上に搭載する。そして、実動作
スピードレベルでのICテストを実行する。テスト終了
後、ワイヤ43を除去し、バキュームポンプ50による
吸引を停止してIC41の仮固定状態を解除する。これ
らの工程を経て、ベアチップIC単体を確保する。
Further, as another conventional example, there is a test method using suction fixation by a vacuum pump. That is, as shown in the sectional structure of the test apparatus in FIG.
By preparing a test board 45 having an air intake through hole 49 opening in the C mounting area 45a, mounting the IC 41 in the IC mounting area 45a, and then sucking with a vacuum pump 50 from the back side of the test board 45. The IC 41 is temporarily fixed to the test board 45. afterwards,
The W / B pad 44 provided on the test board 45 and the IC pad 22 are connected by the wire 43. In that state,
The test board external terminal 46 of the test board 45 is mounted on the tester pad 48 of the tester 47. Then, the IC test is executed at the actual operation speed level. After the test is completed, the wire 43 is removed, the suction by the vacuum pump 50 is stopped, and the temporarily fixed state of the IC 41 is released. Through these steps, a bare chip IC alone is secured.

【0006】しかしながら、後者のテスト方法では、バ
キュームポンプ50にて吸引してIC41をテストボー
ド45に固定するためには、テストボード45のIC接
続領域に空気吸入貫通孔49を設ける必要があるため、
テストボード45の配線領域が制限され、さらにはバキ
ュームポンプ50を配することによってテスタ47の搭
載条件が制約されるという問題点があった。
However, in the latter test method, in order to fix the IC 41 to the test board 45 by sucking with the vacuum pump 50, it is necessary to provide the air suction through hole 49 in the IC connection region of the test board 45. ,
There is a problem that the wiring area of the test board 45 is limited, and further, the mounting condition of the tester 47 is restricted by disposing the vacuum pump 50.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記問題点を解消するた
めに、本発明によるベアチップテスト方法では、ベアチ
ップICのパッド部を除く表面に保護層を形成し、この
保護層が形成されたベアチップICをテストボード上に
搭載しかつ保護層を介して押圧しつつテストボードに対
して固定し、次いでベアチップICのパッド部をテスト
ボードに対して電気的に接続し、しかる後テストボード
の外部端子をテスタに対して電気的に接続してベアチッ
プICのテストを行うようにしている。
In order to solve the above problems, in the bare chip test method according to the present invention, a protective layer is formed on the surface of the bare chip IC excluding the pad portion, and the bare chip IC on which the protective layer is formed is formed. Is mounted on the test board and fixed to the test board while pressing it through the protective layer, then the pad portion of the bare chip IC is electrically connected to the test board, and then the external terminals of the test board are connected. The bare chip IC is tested by electrically connecting to the tester.

【0008】[0008]

【作用】上記のベアチップテスト方法において、ベアチ
ップICのパッド部を除く表面に保護層を形成すること
で、パターン配線などが露出しているIC表面を保護で
き、しかもこの保護層を介して押圧することで、ベアチ
ップICをテストボード上に仮固定できる。また、ベア
チップICのパッド部は露出しているので、テストボー
ドとの電気的接続は可能である。この電気的接続を終え
たら、テストボードの外部端子をテスタに対して電気的
に接続することで、ベアチップICのテストが可能とな
る。
In the bare chip test method described above, by forming a protective layer on the surface of the bare chip IC excluding the pad portion, it is possible to protect the IC surface where the pattern wiring and the like are exposed, and press through this protective layer. Thus, the bare chip IC can be temporarily fixed on the test board. Also, since the pad portion of the bare chip IC is exposed, it can be electrically connected to the test board. After this electrical connection is completed, the external terminals of the test board are electrically connected to the tester, so that the bare chip IC can be tested.

【0009】[0009]

【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
つつ詳細に説明する。図1は、本発明によるベアチップ
テスト方法が適用されるテスト装置の一実施例を示す断
面図であり、図2にその要部の平面図を示す。これらの
図において、ベアチップIC(以下、単にICと称す
る)11は、その表面の周縁部にICパッド12が1辺
当り複数個配置されている。このIC11のスクリーニ
ングテストを行うに当たっては、IC11はテストボー
ド14の上面に形成されたIC搭載用キャビティ14a
内に搭載される。
Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of a test apparatus to which the bare chip test method according to the present invention is applied, and FIG. 2 is a plan view of the main part thereof. In these figures, a bare chip IC (hereinafter, simply referred to as an IC) 11 has a plurality of IC pads 12 arranged on one side at the peripheral portion of its surface. In performing the screening test of the IC 11, the IC 11 is an IC mounting cavity 14 a formed on the upper surface of the test board 14.
Installed inside.

【0010】このIC11のテストボード14への搭載
に際し、IC11のICパッド12の部分を除く表面部
11aには、樹脂などの緩衝性を持つ材料を塗布するこ
とによって保護層16が形成される。そして、この保護
層16が形成されたIC11を、特に図2から明らかな
ように、W/B実装エリア窓17aが形成されたIC押
え板17を用いてテストボード14に仮固定する。具体
的には、IC押え板17の中心部の領域にて保護層16
を介してIC11を押圧しつつ、IC押え板17の例え
ば4隅にてIC押え板固定ねじ18をテストボード14
に締め付けることにより、IC11をテストボード14
に対して圧着固定する。
When the IC 11 is mounted on the test board 14, a protective layer 16 is formed on the surface 11a of the IC 11 excluding the IC pad 12 by applying a buffer material such as resin. Then, as is clear from FIG. 2, the IC 11 having the protective layer 16 formed thereon is temporarily fixed to the test board 14 using the IC holding plate 17 having the W / B mounting area window 17a formed therein. Specifically, the protective layer 16 is provided in the central region of the IC pressing plate 17.
While pressing the IC 11 through the IC holding plate 17, the IC holding plate fixing screws 18 are attached to the test board 14 at four corners of the IC holding plate 17, for example.
By tightening the IC11 to the test board 14
Crimped and fixed against.

【0011】なお、IC11をテストボード14に対し
て圧着固定する手段として、本実施例では、W/B実装
エリア窓17aが形成されたIC押え板17とIC押え
板固定ねじ18とを用いたが、これに限定されるもので
はなく、要は、IC11をその表面にICパッド12の
部分を避けて形成された保護層16を介して押圧しつつ
テストボード14に圧着固定できる構成のものであれば
良い。
As the means for crimping and fixing the IC 11 to the test board 14, in this embodiment, the IC holding plate 17 having the W / B mounting area window 17a and the IC holding plate fixing screw 18 are used. However, the present invention is not limited to this, and the point is that the IC 11 can be pressure-bonded and fixed to the test board 14 while pressing the IC 11 through the protective layer 16 formed on the surface of the IC 11 while avoiding the IC pad 12. I wish I had it.

【0012】IC押え板17のW/B実装エリア窓17
aは、テストボード14上に圧着固定されたIC11の
ICパッド12の部分とテストボード14に設けられた
W/Bパッド15の部分とが露出し、かつIC押え板1
7の中心部の領域が残存するように形成される。したが
って、このW/B実装エリア窓17aを通してIC11
のICパッド12とテストボード14のW/Bパッド1
5とのワイヤ13による電気的接続が可能となる。この
電気的接続が終わると、テストボード14はその裏面に
設けられかつW/Bパッド15と電気的に接続されたテ
ストボード外部端子19が、テスタ20のテスタパッド
21上に電気的に接続された状態で搭載される。これに
より、IC11の実動作スピードレベルでのスクリーニ
ングテストが可能となる。
W / B mounting area window 17 of IC pressing plate 17
In a, the portion of the IC pad 12 of the IC 11 that is pressure-bonded and fixed on the test board 14 and the portion of the W / B pad 15 provided on the test board 14 are exposed, and the IC holding plate 1
It is formed so that the central region of 7 remains. Therefore, through the W / B mounting area window 17a, the IC 11
IC pad 12 and W / B pad 1 of test board 14
It is possible to make an electrical connection with the wire 5 by the wire 13. When this electrical connection is completed, the test board external terminal 19 provided on the back surface of the test board 14 and electrically connected to the W / B pad 15 is electrically connected to the tester pad 21 of the tester 20. It will be installed in the closed condition. This enables the screening test at the actual operation speed level of the IC 11.

【0013】次に、上記構成のテスト装置を用いての本
発明によるベアチップテスト方法の手順について説明す
る。まず、スクリーニングテストに先立って、IC11
のICパッド12の部分を除く表面部11aに、樹脂な
どを塗布することによって保護層16を形成する。そし
て、保護層16が施されたIC11を、テストボード1
4の上面に形成されたIC搭載用キャビティ14a内に
搭載し、W/B実装エリア窓17aが形成されたIC押
え板17を用いて、その中心部の領域にて保護層16を
介してIC11を押圧しつつIC押え板固定ねじ18に
よってIC11をテストボード14に対して圧着し、仮
固定する。
Next, the procedure of the bare chip test method according to the present invention using the test apparatus having the above configuration will be described. First, prior to the screening test, IC11
The protective layer 16 is formed by applying a resin or the like to the surface portion 11a except the portion of the IC pad 12. Then, the IC 11 provided with the protective layer 16 is attached to the test board 1
The IC holding plate 17 mounted in the IC mounting cavity 14a formed on the upper surface of the No. 4 and having the W / B mounting area window 17a formed is used, and the IC 11 is provided in the central region with the protective layer 16 interposed therebetween. While pressing, the IC 11 is pressure-bonded to the test board 14 by the IC pressing plate fixing screw 18 and temporarily fixed.

【0014】IC11のテストボード14への固定が終
了したら、IC押え板17のW/B実装エリア窓17a
を通してIC11のICパッド12とテストボード14
のW/Bパッド15とをワイヤ13にて電気的に接続す
る。その後、テスタ20上にテストボード14を搭載
し、その裏面に設けられたテストボード外部端子19と
テスタ20のテスタパッド21とを電気的に接続する。
そして、テスタ20にてIC11の実動作スピードレベ
ルでのスクリーニングテストを実行する。テストが終了
したら、IC押え板固定ねじ18を緩めてIC押え板1
7を取り外し、IC11の仮固定状態を解除する。これ
らの工程を経て、ベアチップIC単体を確保する。
When the fixing of the IC 11 to the test board 14 is completed, the W / B mounting area window 17a of the IC pressing plate 17 is completed.
Through IC pad 12 of IC 11 and test board 14
The W / B pad 15 of is electrically connected by the wire 13. Then, the test board 14 is mounted on the tester 20, and the test board external terminals 19 provided on the back surface of the test board 14 are electrically connected to the tester pads 21 of the tester 20.
Then, the tester 20 executes a screening test at the actual operation speed level of the IC 11. When the test is completed, loosen the IC retainer plate fixing screw 18 and remove the IC retainer plate 1
7 is removed, and the temporarily fixed state of the IC 11 is released. Through these steps, a bare chip IC alone is secured.

【0015】上述したように、IC11のICパッド1
2の部分を除く表面部11aに保護層16を形成し、こ
の保護層16が施されたIC11をテストボード14上
に搭載しかつ保護層16を介して押圧しつつテストボー
ド14に対して圧着固定し、スクリーニングテストを行
うようにしたことにより、従来のように、IC11のダ
イボンドを行ったり、あるいはバキュームポンプを用い
なくてもスクリーニングテストの実施が可能となる。し
たがって、テスト終了後、IC11を洗浄する必要がな
いため、洗浄工程の削減によるテスト工数を削減できる
とともに、洗浄によって歩留りが低下するということも
ない。また、バキュームポンプが不要であるため、テス
トボード14の配線領域が制限されたり、テスタ20の
搭載条件が制約されたりすることもない。さらに、IC
11の表面に樹脂などの緩衝性をもつ材料によって保護
層16を施したことにより、IC11の表面を破損など
から保護できるため、IC11の取扱いが容易になると
いう利点もある。
As described above, the IC pad 1 of the IC 11
The protective layer 16 is formed on the surface portion 11a except the portion 2, and the IC 11 provided with the protective layer 16 is mounted on the test board 14 and pressure-bonded to the test board 14 while pressing through the protective layer 16. By fixing and carrying out the screening test, it becomes possible to carry out the screening test without performing die bonding of the IC 11 or using a vacuum pump as in the conventional case. Therefore, since it is not necessary to clean the IC 11 after the test is completed, the number of test steps can be reduced by reducing the cleaning process, and the yield does not decrease due to cleaning. Further, since the vacuum pump is not necessary, the wiring area of the test board 14 is not restricted and the mounting conditions of the tester 20 are not restricted. Furthermore, IC
By providing the protective layer 16 on the surface of 11 with a material having a buffer property such as resin, the surface of the IC 11 can be protected from damage and the like, so that there is an advantage that the IC 11 can be easily handled.

【0016】なお、上記実施例では、保護層16を単に
緩衝性をもつ樹脂などによって形成するとしたが、熱伝
導性樹脂などの熱伝導性をもつ材料を塗布することによ
って保護層16を形成する一方、IC押え板17を金属
性の部材によって形成し、この金属性のIC押え板17
によって熱伝導性の保護層16を介してIC11を押圧
しつつテストボード14に対して圧着固定することによ
り、IC11で発せられる熱が保護層16を介してIC
押え板17に伝導され、IC押え板17がヒートシンク
として作用するため、IC11の放熱性を向上できる。
その結果、大電力タイプのICのベアチップテストに
も、特に放熱対策を施さなくても適用できることにな
る。
In the above embodiment, the protective layer 16 is formed of a resin having a buffer property, but the protective layer 16 is formed by applying a material having thermal conductivity such as a thermally conductive resin. On the other hand, the IC holding plate 17 is made of a metal member, and the metal IC holding plate 17 is made of metal.
By pressing the IC 11 through the protective layer 16 having thermal conductivity and pressing and fixing it to the test board 14, the heat generated by the IC 11 is transferred through the protective layer 16 to the IC.
Since the IC holding plate 17 is conducted to the holding plate 17 and acts as a heat sink, the heat dissipation of the IC 11 can be improved.
As a result, it can be applied to a bare chip test of a high power type IC without taking heat dissipation measures.

【0017】[0017]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ベアチップICのパッド部を除く表面に保護層を形成
し、この保護層が施されたベアチップICをテストボー
ド上に搭載しかつ保護層を介して押圧しつつテストボー
ドに対して固定し、ベアチップICのテストを行うよう
にしたことにより、従来のように、ベアチップICのダ
イボンドを行ったり、あるいはバキュームポンプを用い
なくてもテストが実施可能となるので、洗浄工程の削減
によるテスト工数を削減できるとともに、洗浄による歩
留りの低下という問題も解消でき、しかもバキュームポ
ンプが不要であるため、テストボードの配線領域が制限
されたり、テスタの搭載条件が制約されたりすることも
なくなる。
As described above, according to the present invention,
A bare chip IC is formed by forming a protective layer on the surface excluding the pad portion of the bare chip IC, mounting the bare chip IC on the test board, and fixing the bare chip IC to the test board while pressing it through the protective layer. Since the test can be performed without performing die bonding of the bare chip IC or using a vacuum pump as in the conventional case, the number of test steps can be reduced by reducing the cleaning process. The problem of reduction in yield due to cleaning can be solved, and since the vacuum pump is not necessary, the wiring area of the test board is not restricted and the mounting conditions of the tester are not restricted.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明によるベアチップテスト方法が適用され
るテスト装置の一実施例を示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of a test apparatus to which a bare chip test method according to the present invention is applied.

【図2】図1の要部の平面図である。FIG. 2 is a plan view of a main part of FIG.

【図3】一従来例に係るテスト装置を示す断面図であ
る。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a test device according to a conventional example.

【図4】他の従来例に係るテスト装置を示す断面図であ
る。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a test apparatus according to another conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 ベアチップIC 13 ワイヤ 14 テストボード 16 保護層 17 IC押え板 18 IC押え板固定ねじ 20 テスタ 11 Bare Chip IC 13 Wire 14 Test Board 16 Protective Layer 17 IC Holding Plate 18 IC Holding Plate Fixing Screw 20 Tester

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ベアチップICのパッド部を除く表面に
保護層を形成し、 前記保護層が形成されたベアチップICをテストボード
上に搭載しかつ前記保護層を介して押圧しつつ前記テス
トボードに対して固定し、 次いで前記ベアチップICのパッド部を前記テストボー
ドに対して電気的に接続し、 しかる後前記テストボードの外部端子をテスタに対して
電気的に接続して前記ベアチップICのテストを行うこ
とを特徴とするベアチップテスト方法。
1. A protective layer is formed on the surface of the bare chip IC excluding the pad portion, the bare chip IC having the protective layer formed thereon is mounted on a test board, and the bare chip IC is pressed onto the test board while being pressed through the protective layer. Then, the pad portion of the bare chip IC is electrically connected to the test board, and then the external terminal of the test board is electrically connected to the tester to test the bare chip IC. A bare chip test method characterized by being performed.
【請求項2】 前記保護層は熱伝導性材料からなり、 前記保護層を金属性の部材を介して押圧することを特徴
とする請求項1記載のベアチップテスト方法。
2. The bare chip test method according to claim 1, wherein the protective layer is made of a heat conductive material, and the protective layer is pressed via a metallic member.
JP7074963A 1995-03-31 1995-03-31 Method for testing bare chip Pending JPH08271580A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7074963A JPH08271580A (en) 1995-03-31 1995-03-31 Method for testing bare chip

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7074963A JPH08271580A (en) 1995-03-31 1995-03-31 Method for testing bare chip

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JPH08271580A true JPH08271580A (en) 1996-10-18

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JP7074963A Pending JPH08271580A (en) 1995-03-31 1995-03-31 Method for testing bare chip

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JP (1) JPH08271580A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005093442A1 (en) * 2004-03-26 2005-10-06 Renesas Technology Corp. Method for manufacturing semiconductor integrated circuit device
CN113567713A (en) * 2021-07-22 2021-10-29 昆山沃得福自动化设备有限公司 Chip Test Socket

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005093442A1 (en) * 2004-03-26 2005-10-06 Renesas Technology Corp. Method for manufacturing semiconductor integrated circuit device
CN113567713A (en) * 2021-07-22 2021-10-29 昆山沃得福自动化设备有限公司 Chip Test Socket

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